JP7445178B2 - 発光装置、及び、光学装置 - Google Patents

発光装置、及び、光学装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7445178B2
JP7445178B2 JP2023030593A JP2023030593A JP7445178B2 JP 7445178 B2 JP7445178 B2 JP 7445178B2 JP 2023030593 A JP2023030593 A JP 2023030593A JP 2023030593 A JP2023030593 A JP 2023030593A JP 7445178 B2 JP7445178 B2 JP 7445178B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
semiconductor laser
emitting device
light emitting
plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2023030593A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2023067918A (ja
Inventor
一真 ▲高▼鶴
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nichia Corp
Original Assignee
Nichia Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nichia Corp filed Critical Nichia Corp
Priority to JP2023030593A priority Critical patent/JP7445178B2/ja
Publication of JP2023067918A publication Critical patent/JP2023067918A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7445178B2 publication Critical patent/JP7445178B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02253Out-coupling of light using lenses
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14Details
    • G03B21/20Lamp housings
    • G03B21/2006Lamp housings characterised by the light source
    • G03B21/2033LED or laser light sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14Details
    • G03B21/20Lamp housings
    • G03B21/2073Polarisers in the lamp house
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02255Out-coupling of light using beam deflecting elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031Edge-emitting structures
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N9/00Details of colour television systems
    • H04N9/12Picture reproducers
    • H04N9/31Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
    • H04N9/3141Constructional details thereof
    • H04N9/315Modulator illumination systems
    • H04N9/3161Modulator illumination systems using laser light sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/005Projectors using an electronic spatial light modulator but not peculiar thereto
    • G03B21/006Projectors using an electronic spatial light modulator but not peculiar thereto using LCD's
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/02208Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02257Out-coupling of light using windows, e.g. specially adapted for back-reflecting light to a detector inside the housing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/023Mount members, e.g. sub-mount members
    • H01S5/02325Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/30Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H01S5/32Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
    • H01S5/323Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
    • H01S5/32308Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm
    • H01S5/32341Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm blue laser based on GaN or GaP

Description

本発明は、発光装置、及び、発光装置を有する光学装置に関する。
特許文献1には、半導体レーザ素子を基板とキャップによって気密封止し、半導体レーザ素子からの光が通る領域に透光性部材を設けた半導体レーザ装置が開示されている。また、特許文献2に開示される液晶プロジェクターのように、光源から出射される光を利用する際に、その光の偏光特性が考慮される光学装置がある。
特開2012-94728 特開2019-3209
本発明は、偏光比の良好な発光装置を実現することを課題とする。
本明細書により開示される発光装置は、基部と、前記基部に配置される半導体レーザ素子と、前記基部に配置されるコリメートレンズと、前記基部と接合し、前記半導体レーザ素子、及び、コリメートレンズ、が配置される閉空間を形成し、前記半導体レーザ素子から出射され、前記コリメートレンズによってコリメートされたレーザ光が透過する領域が少なくともサファイアで構成される透光性部材と、を有し、前記透光性部材は、前記レーザ光が入射する入射面がサファイアのc面である。
また、本明細書により開示される発光装置は、半導体レーザ素子と、少なくとも前記半導体レーザ素子から出射されたレーザ光が下面から上面へと透過する領域がサファイアで構成される透光性部材と、を有し、前記透光性部材は、前記レーザ光が入射する入射面がサファイアのc軸に平行な平面であり、かつ、上面視で前記入射面に入射する前記レーザ光の偏光方向がサファイアのc軸と平行または垂直となる向きで設けられる。
また、本明細書により開示される発光装置は、半導体レーザ素子と、少なくとも前記半導体レーザ素子から出射されたレーザ光が下面から上面へと透過する領域がサファイアで構成される透光性部材と、を有し、前記半導体レーザ素子から出射されたレーザ光は、ファーフィールドパターンが楕円形状であり、前記透光性部材は、前記レーザ光が入射する入射面がサファイアのc軸に平行な平面であり、かつ、上面視で前記レーザ光の楕円形状の長径方向に対応する方向がサファイアのc軸と平行または垂直となる向きで設けられる。
また、本明細書により開示される発光装置は、半導体レーザ素子と、コリメートレンズと、少なくとも前記半導体レーザ素子から出射され、前記コリメートレンズによってコリメートされたレーザ光が透過する領域がサファイアで構成される透光性部材と、を有し、前記透光性部材は、前記レーザ光が入射する入射面がサファイアのc面である。
また、本明細書により開示される光学装置は、本明細書により開示される発光装置と、前記発光装置から出射された光が入射する偏光素子と、前記発光装置から出射され、前記偏光素子を介した光が入射する液晶パネルと、前記発光装置から出射された光に基づいて作成された投影画像を投影させる投影レンズと、を有する。
本開示によれば、偏光比の良好な発光装置を実現することができる。
図1は、実施形態に係る発光装置の斜視図である。 図2は、実施形態に係る発光装置の構成要素を説明するための斜視図である。 図3は、実施形態に係る発光装置の上面図である。 図4は、実施形態に係る発光装置の構成要素を説明するための上面図である。 図5は、図3のV-V線における実施形態に係る発光装置の断面図である。 図6は、図5の断面図に基づき、実施形態に係る発光装置の光の出射領域を示す断面図である。 図7は、実施形態に係る発光装置の透光性部材における光の出射領域を示す上面図である。 図8は、実施形態に係る発光装置のレンズ部材における光の出射領域を示す上面図である。 図9は、サファイアの透光性部材の平面方向の角度を変えて偏光比を測定した実験データである。 図10は、サファイアの透光性部材の平面方向の角度を変えて偏光比を測定した実験データである。 図11は、サファイアの透光性部材の平面方向の角度を変えて偏光比を測定した実験データである。 図12は、図9乃至図11の実験条件の模式図である。 図13は、サファイアの透光性部材の高さ方向の角度を変えて偏光比を測定した実験データである。 図14は、サファイアの透光性部材の高さ方向の角度を変えて偏光比を測定した実験データである。 図15は、サファイアの透光性部材の高さ方向の角度を変えて偏光比を測定した実験データである。 図16は、図12乃至図15の実験条件の模式図である。 図17は、サファイアの透光性部材の厚みを変えて偏光比を測定した実験データである。 図18は、別の実施形態に係る発光装置の断面図である。 図19は、実施形態に係る発光装置が搭載された液晶プロジェクターの模式図である。
本明細書または特許請求の範囲において、三角形や四角形などの多角形に関しては、多角形の隅に角丸め、面取り、角取り、丸取り等の加工が施された形状も含めて、多角形と呼ぶものとする。また、隅(辺の端)に限らず、辺の中間部分に加工が施された形状も同様に、多角形と呼ぶものとする。つまり、多角形をベースにして加工が施された形状は、本明細書及び特許請求の範囲で記載される“多角形”の解釈に含まれるものとする。
また、多角形に限らず、台形や円形や凹凸など、特定の形状を表す言葉についても同様である。また、その形状を形成する各辺を扱う場合も同様である。つまり、ある辺において、隅や中間部分に加工が施されていたとしても、“辺”の解釈は加工された部分も含む。なお、意図的な加工が加えられていない“多角形”や“辺”を、加工された形状と区別する場合は“厳密な”を付して、例えば、“厳密な四角形”などと記載するものとする。
また、本明細書または特許請求の範囲において、ある構成要素に関し、これに該当するものが複数あり、それぞれを区別して表現する場合に、その構成要素の頭に“第1”、“第2”と付記して区別することがある。このとき、本明細書と特許請求の範囲とで区別する対象や観点が異なっていれば、本明細書における付記の態様と、特許請求の範囲における付記の態様と、が一致しないことがある。
以下に、図面を参照しながら、本明を実施するための形態を説明する。ただし、示される形態は、本発明の技術思想が具体化されたものではあるが、本発明を限定するものではない。また、以下の説明において、同一の名称、符号については同一もしくは同質の部材を示しており、重複した説明は適宜省略することがある。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするために誇張していることがある。
<実施形態>
図1は、実施形態に係る発光装置1の斜視図である。図2は、発光装置1における半導体レーザ素子20などの構成要素の配置を示すために、一部の構成要素が省略された斜視図である。図2において、透光性部材60を波線で記し、透過図としている。図3は、発光装置1の上面図である。図4は、図2の斜視図に対応する上面図である。図5は、図3のV-V線における発光装置1の断面図である。図6は、図5の断面図に基づき、半導体レーザ素子20から出射された光の出射領域を示す断面図である。図6において、図5で発光装置1の構成要素に記したハッチングは除き、光の出射領域を矢印とハッチングで表している。図7は、発光装置1のレンズ部材70における光の出射領域を示す上面図である。図8は、発光装置1の透光性部材60における光の出射領域を示した上面図である。図7及び図8において、主要部分の光の出射領域を波線で囲まれたハッチング領域で表している。
発光装置1は、構成要素として、基部10、4つの半導体レーザ素子20、4つのサブマウント30、4つの光反射部材40、4つの保護素子50、透光性部材60、及びレンズ部材70を有する。また、透光性部材60とレンズ部材70の間に接着剤による接着部80が形成される。
基部10は、上面視で外形が矩形であり、外形の内側において凹形状を形成する。この凹形状は、上面から下面の方向に向かって窪んだ凹部を有する。また、基部10は、上面、底面、下面、内側面、及び、外側面を有する。上面視で、上面が枠を形成し、枠の内側に凹部が形成される。また、基部10は、凹部において段差部13を形成し、そのため、段差部13を構成する段差上面及び段差側面を有する。
上面は、内側面及び外側面と交わり、下面は外側面と交わる。上面視で、内側面は矩形の形状を形成する。また、この矩形の各辺に対応した4つの側面で構成される。底面は、下面よりも上方かつ上面よりも下方で、凹部の底となる上面を形成する。
段差部13は、内側面を構成する4つの側面のうちの対向する2つの側面の全長に亘って設けられる。残りの2つの側面は、交差部分を除いて段差部13はない。なお、交差部分とは側面と側面とが交わる端の部分である。
ここで、前者の2つの側面を第1側面14、後者の2つの側面を第2側面15と呼ぶものとする。また、それぞれ上面視で、第1側面14に平行な方向を第1方向X、第2側面15に平行な方向を第2方向Yと呼ぶものとする(図4参照)。基部10の外形は、第1方向Xよりも第2方向Yの方が長い矩形である。また、発光装置1において、第1方向X及び第2方向Yを平面方向、第1方向X及び第2方向Yに垂直な方向を高さ方向、と呼ぶものとする。
段差部13が形成される領域では、段差側面が底面と交わり、段差上面が内側面と交わる。段差部13が形成されない領域では、底面と内側面とが交わる。なお、段差部13を設ける領域はこれに限らない。1つの側面にのみ設けてもよく、また、3つ以上の側面に設けてもよい。
基部10は、底面を含む底部12と、内側面や段差部13を含み底部12または底面を囲う枠を形成する枠部11と、を有し、底部12と枠部11とを接合することで形成される。また、底部12と枠部11とは、異なる主材料によって形成される。例えば、枠部11にはセラミックを主材料に用い、底部12にはセラミックよりも熱伝導率の高い金属を主材料に用いて、基部10を形成できる。
セラミックとしては、例えば、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、炭化ケイ素を用いることができる。金属としては、例えば、銅、アルミニウム、鉄、複合物として銅モリブデン、銅タングステン、銅-ダイヤモンドを用いることができる。
なお、基部10は、底部12と枠部11とに分かれたパーツを用いて形成されなくてもよい。例えば、セラミックを主材料とした1つの部材によって基部10を形成してもよい。なお、セラミックに限らず金属で形成してもよい。
基部10の下面と段差上面にはそれぞれ金属膜が設けられる。また、下面側の金属膜と、段差上面側の金属膜とは、基部10の内部を通る金属で繋がっており、電気的に接続することができる。なお、金属膜は、基部10の別の領域に設けられてもよい。例えば、段差上面に代えて底面に、下面に代えて基部10の上面や外側面に設けられてもよい。
半導体レーザ素子20は、上面視で長方形の外形を有する。また、長方形の2つの短辺のうちの一辺と交わる側面が、半導体レーザ素子20から放射される光の出射端面となる。また、半導体レーザ素子20の上面及び下面は、出射端面よりも面積が大きい。
半導体レーザ素子から放射される光(レーザ光)は拡がりを有し、光の出射端面と平行な面において楕円形状のファーフィールドパターン(以下「FFP」という。)を形成する。なお、FFPとは、出射端面から離れた位置における出射光の形状や光強度分布のことである。この光強度分布において、ピーク強度値に対して1/e以上の強度を有する光を、主要部分の光と呼ぶものとする。
楕円形状のFFPは、半導体レーザ素子における活性層を含む複数の半導体層の層方向よりも、それに垂直な積層方向の方が長い楕円である。なお、層方向(楕円形状の短径方向)をFFPの水平方向、積層方向(楕円形状の長径方向)をFFPの垂直方向というものとする。
また、FFPの光強度分布に基づき、光強度分布の半値全幅に相当する角度を、その半導体レーザ素子の光の拡がり角とする。FFPの垂直方向における光の拡がり角を垂直方向の拡がり角、FFPの水平方向における光の拡がり角を水平方向の拡がり角というものとする。
半導体レーザ素子20には、例えば、青色の光を放射する半導体レーザ素子を採用することができる。また、これ以外にも、緑色の光や赤色の光、あるいは、その他の色の光を放射する半導体レーザ素子を採用してもよい。
ここで、青色の光は、その発光ピーク波長が420nm~494nmの範囲内にある光をいうものとする。緑色の光は、その発光ピーク波長が495nm~570nmの範囲内にある光をいうものとする。赤色の光は、その発光ピーク波長が605nm~750nmの範囲内にある光をいうものとする。
青色の光を発する半導体レーザ素子としては、例えば、窒化物半導体を含む半導体レーザ素子が挙げられる。また、窒化物半導体としては、例えば、GaN、InGaN、及びAlGaNを用いることができる。
サブマウント30は、直方体の平板形状で形成され、上面と、下面と、側面とを有する。また、サブマウント30は上下方向の幅が最も小さい。なお、形状は直方体に限らなくてよい。サブマウント30は、例えば、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、又は炭化ケイ素を用いて形成される。また、これに限らず他の材料を用いることも出来る。
光反射部材40は、光を反射する光反射面を有する。また、光反射面は、下面に対して傾斜している。つまり、光反射面は、下面からみて垂直でも平行でもない。例えば、光反射面として、下面に対して45度の傾斜角を成す平面(傾斜面)が設けられる。なお、光反射面は曲面であってもよい。
光反射部材40は、その外形を形成する主材料に、ガラスや金属などを用いることができる。主材料は熱に強い材料がよく、例えば、石英若しくはBK7(硼珪酸ガラス)等のガラス、アルミニウム等の金属、又はSiを用いることができる。
また、光反射面は、反射させるレーザ光のピーク波長に対する光反射率を99%以上とすることができる。このような光反射面は、例えば、Ag、Al等の金属やTa/SiO、TiO/SiO、Nb/SiO等の誘電体多層膜を用いて形成することができる。なお、光反射率は100%を超えない値である。
保護素子50は、特定の素子(例えば半導体レーザ素子20)に過剰な電流が流れて破壊されるのを防ぐ。保護素子50としては、例えば、Siで形成されたツェナーダイオードを用いることができる。
透光性部材60は、直方体の平板形状で形成され、上面と、下面と、側面とを有する。また、透光性部材60は上下方向の幅が最も小さい。ここで、透光性とは、光に対する透過率が80%以上であることとする。なお、形状は直方体に限らなくてよい。また、一部に非透光性の領域を有していてもよい。
透光性部材60は、サファイアを主材料に用いて形成される。また、透光性を有する部分は、サファイアで構成される。サファイアは、比較的屈折率が高く、比較的強度も高い材料である。また、透光性部材60にはアンドープのものが用いられる。
また、透光性部材60の下面または上面は、サファイアの面方位におけるc軸と平行な面となっている。具体的には、a面となっている。なお、m面であってもよい。またあるいは、透光性部材60の下面または上面は、サファイアの面方位におけるc面となっている。
透光性部材60は、上面から下面までの幅(厚み)が、0.2mm以上から1.0mm以下の範囲で形成することができ、好ましくは0.3mm以上から0.6mm以下の範囲で形成されるとよい。また、上面または下面の面積が、2.0mmから100mmで形成することができ、好ましくは9.0mmから50mmで形成されるとよい。これにより、発光装置1としての十分な強度を保ちつつ、小型化にも寄与できる。なお、透光性部材60の大きさはこの範囲に限らなくてもよい。
接着部80は、接着剤を硬化させて形成される。接着部80を形成する接着剤としては、紫外線硬化型の樹脂を用いることができる。紫外線硬化型の樹脂は加熱せずに比較的短い時間で硬化することができる。
レンズ部材70は、平板の上面にレンズが配された形状で形成され、上面と、下面と、側面とを有する。そのため、下面は平面であるが、上面は、側面と交わり下面と平行な平面領域71と、レンズ面を形成するレンズ領域72を有する。レンズ領域72は、平面領域71に囲まれており、この平面に対して上方に、レンズ形状が形成される。
レンズ領域72では、複数のレンズが一方向に連なった形状が形成される。具体的には、4つのレンズが、上面視で1つの側面方向に連結している。レンズ部材70では、上面視で、この側面方向(連結方向P)の幅がこれに垂直な方向の幅よりも大きい(図3参照)。また、上面視で4つ全てのレンズと交わる直線方向の幅が、これに垂直な直線方向の幅よりも大きい。
また、平面領域71において、側面と交わる位置からレンズ領域72に到達するまでの最短距離(幅)は、連結方向Pにおける幅W1の方が、これに垂直な方向における幅W2よりも大きい(図3参照)。少なくとも、連結方向Pに平行な2つの側面のうちの一方の側面においてこの関係が満たされるのが、発光装置1の小型化の観点から好ましい。レンズ部材70には、例えば、BK7等のガラスを用いることができる。
次に、これらの構成要素を用いて製造される発光装置1について説明する。
まず、半導体レーザ素子20及び保護素子50が、サブマウント30に配置される。1つのサブマウント30に対して、1つの半導体レーザ素子20と1つの保護素子50とが配置される。従って、4つの半導体レーザ素子20に対して4つのサブマウント30が用意される。
なお、1つのサブマウント30に複数の半導体レーザ素子20または複数の保護素子50を配置してもよい。また、保護素子50は、サブマウント30以外のところに設けられてもよい。また、発光装置1において保護素子50は設けなくてもよい。
サブマウント30の上面には金属膜が設けられ、この金属膜の上に半導体レーザ素子20及び保護素子50は配置され接合される。半導体レーザ素子20は、出射端面が、サブマウント30の側面と揃うか、あるいは、側面から突出するように、所定の位置でその下面を接合させる。このように配置することで、半導体レーザ素子20から出射された光がサブマウント30の上面に照射されることを回避できる。
なお、突出する場合は、側面から僅かな距離だけ離すとよい。距離が空きすぎると接合が不安定になるためである。例えば、0.05mm以下とするとよい。またあるいは、光がサブマウント30の上面に照射されない位置で、出射端面がサブマウント30の側面の内側にくるように配置してもよい。
サブマウント30は、半導体レーザ素子20から発生した熱を逃がす役割を果たすことができる。具体的には、半導体レーザ素子20よりも熱伝導率の良い材料でサブマウント30を形成すればよい。従って、この役割を果たす場合は、サブマウント30を放熱部材として捉えることができる。
また、放熱性の観点でみれば、サブマウント30には、その熱伝導率が基部10の底面よりも高いものを用いるとよい。例えば、基部10の底面が窒化アルミニウムである場合、サブマウント30に炭化ケイ素を用いるとよい。
また、サブマウント30は、半導体レーザ素子20の光の出射位置を調整する役割を果たすことができる。他の構成要素の配置位置に基づいて光の出射位置を決める場合に、サブマウント30の厚みを所定の値にし、その上に半導体レーザ素子20を配置する。例えば、発光装置1では光反射部材40との位置関係から出射位置が決定される。この役割を果たす場合は、サブマウント30を調整部材として捉えることができる。
次に、サブマウント30が、基部10の底面に配置される。つまり、半導体レーザ素子20または保護素子50が、基部10の底面側に配置される。4つのサブマウント30は、それぞれにおける半導体レーザ素子20の出射端面が、同じ平面上にくるように並んで配置される。なお、出射端面を同じ平面上に揃えずに、個々に配置位置を調整してもよい。
4つのサブマウント30は、対向する第1側面14、または、対向する段差部13を挟んで並べられる。また、4つのサブマウント30は、第2方向Yに並んで配置される。また、配置された半導体レーザ素子20から出射された光は、対向する第2側面15のうちの一方の第2側面15がある方向へ、または、第1方向Xへと向かって進む。
4つの半導体レーザ素子20の間で、出射された光のFFPの垂直方向同士、及び、水平方向同士は同じである。ここでの同じは、3度以内の差を含む。また、半導体レーザ素子20から出射された光軸を通る光は第1方向Xに進む。また、楕円形状のFFPの長径を構成する光は、底面と垂直な方向の直線上に写像され、FFPの短径を構成する光は、第2方向Yの直線上に写像される。
ここで、FFPの長径を構成する光が写像される直線の方向を、FFPの垂直方向に対応する方向M、FFPの短径を構成する光が写像される直線の方向を、FFPの水平方向に対応する方向N、というものとする。従って、半導体レーザ素子20から出射された光のFFPの垂直方向が底面と垂直な方向に対応し、水平方向が第2方向Yに対応するといえる。
次に、光反射部材40が、基部10の底面に配置される。1つのサブマウント30、または、1つの半導体レーザ素子20に対して、1つの光反射部材40が配置される。なお、複数のサブマウント30、または、複数の半導体レーザ素子20に対して、1つの光反射部材40を配してもよい。
光反射部材40は、半導体レーザ素子20から放射された光の主要部分が、光反射面に照射されるように配置される。従って、半導体レーザ素子20から出射された光の進行方向に光反射部材40があり、光反射面が設けられる。また、4つの光反射部材40は、それぞれの光反射面が、同じ平面上にくるように配置される。なお、同じ平面上に揃えなくてもよい。
4つの光反射部材40は、対向する第1側面14、または、対向する段差部13を挟んで並べられる。また、4つの光反射部材40は、第2方向Yに並んで配置される。また、4つの光反射部材40は、半導体レーザ素子20と、半導体レーザ素子20から出射された光の進む先にある第2側面15との間に配置される。
また、光反射部材40は、サブマウント30または半導体レーザ素子20から所定の距離をあけて配置される。従って、1つの半導体レーザ素子20と、その半導体レーザ素子20から出射された光の主要部分が照射される1つの光反射部材40を1組の光出射ユニットとすると、4つの光出射ユニット間で、サブマウント30と光反射部材40の距離、または、半導体レーザ素子20と光反射部材40の距離は、一定である。
発光装置1では、光軸を進む光は、サブマウント30の上面と平行な方向に進み、光反射面によって反射され、底面から垂直に、上方へと進行する。また、図7に示すように、光反射面に反射されることで、FFPの垂直方向に対応する方向Mは、底面と垂直な方向から第1方向Xに変わる。FFPの水平方向に対応する方向Nは、光反射面による反射の前後で変わらず、第2方向Yである。
次に、半導体レーザ素子20及び保護素子50を電気的に接続するために配線が接合される。配線により、半導体レーザ素子20及び保護素子50は、段差上面に設けられた金属膜と電気的に接続することができる。従って、基部10の下面に設けられた金属膜を介して、外部からの電源供給を受けることができる。
次に、透光性部材60が、基部10の上面に配置される。また、透光性部材60の下面と、基部10の上面とが接合される。透光性部材60の下面において、外縁の近傍に基部10との接合のための金属膜が設けられ、Au-Sn等を介して基部10に固定される。
また、透光性部材60は、上面視で基部10の外側面の近傍にまで達する大きさを有する。具体的には、例えば、基部10の上面における外側面から内側面までの幅の70%以上が重なる大きさを有する。これにより、基部10の上面との接合面積を大きくできる。また、後述するように、レンズ部材70との接合面積を大きくすることができる。
半導体レーザ素子20から出射され、光反射部材40の光反射面により反射された光は、拡がりながら透光性部材60の下面に入射する。つまり、透光性部材60の下面は、光の入射面といえる。また、光軸を通る光は、透光性部材60の下面に対して垂直に入射する。
また、透光性部材60の下面または上面において、FFPの垂直方向に対応する方向Mは第1方向Xであり、FFPの水平方向に対応する方向Nは第2方向Yである。なお、入射した光の80%以上が透過して、透光性部材60の上面から出射される。つまり、透光性部材60において光の通る領域は、透光性を有している。
透光性部材60が基部10に接合されることで、半導体レーザ素子20が配された閉空間が形成される。このように凹部のような開いた空間に蓋がされ、閉空間が形成される場合、透光性部材60は蓋部材として捉えることができる。
また、半導体レーザ素子20が配された閉空間は、気密封止された状態で形成される。気密封止をすることで、半導体レーザ素子20の光の出射端面に有機物等が集塵することを抑制することができる。
次に、レンズ部材70が、透光性部材60の上方に配置され、透光性部材60に固定される。レンズ部材70は、透光性部材60から出射された光が、レンズによって適当に制御される位置に調整されて固定される。固定すべき位置に配置されたレンズ部材70と透光性部材60との間を接着剤が補う。この接着剤によりレンズ部材70は固定され、接着剤が硬化した接着部80が形成される。
レンズ部材70は、連結されたレンズの1つが、1つの半導体レーザ素子20からの光を制御するように配置される。従って、連結された4つのレンズによって、4つの半導体レーザ素子20からの光が制御される。
具体的には、発光装置1では、レンズ部材70のレンズを通過した光はコリメート光となってレンズ部材70から出射される。つまり、レンズ部材70はコリメートレンズを有しており、透光性部材60に入射する時点でコリメートされていない光が拡がりながら透光性部材60を通過し、レンズ部材70を通過することでコリメート光となって出射される。なお、制御の態様は、コリメートに限らず、集光や拡散などであってもよい。
レンズ部材70は、上面視で、レンズの連結方向Pと、半導体レーザ素子20が並ぶ方向(第2方向Y)とが、同じになるように配置される。また、レンズの連結方向Pと、レンズ部材70に入射するFFPの水平方向に対応する方向Nとが同じ方向になり、上面視で連結方向Pに垂直な方向(第1方向X)と、レンズ部材70に入射するFFPの垂直方向に対応する方向Mとが同じ方向になるように配置される。
また、半導体レーザ素子20から出射された光軸を通る光が、レンズの頂点(レンズの上下方向に最も高い位置)を通るように配置される。また、レンズ領域72の第1方向Xにおける幅の両端は、上面視で、一端が基部10の上面に、他端が内側面の内側(凹部内)に設けられる。より多くの光を制御し、かつ、発光装置1の小型化を図るため、一端が基部10の上面にまで及んでいる。
一方で、レンズ部材70は、第2方向Yにおいては、レンズ領域72の幅の両端が、上面視で基部10の上面にはなく、内側面の内側にくるように設けられる。つまり、レンズ領域72が、上面視で、対向する第1側面14の間にくるように配置される。第1側面14に段差部13が設けられる配置になっているため第1側面14の内側に設けることができる。
接着剤が設けられる領域(接着部80が形成される領域)は、上面視で、レンズ部材70の平面領域71と重なり、かつ、レンズ領域72とは重ならない。そのため、接着剤は、レンズ部材70の下面の外縁近傍に設けられる。また、レンズ部材70の下面における4つの辺のうち、第1方向Xに伸びる辺の近傍に設けられる。
レンズ部材70の平面領域71は、連結方向Pの幅W1がこれに垂直な方向の幅W2よりも大きくなるように設けており、これにより透光性部材60との接合面積を大きくすることができる。以上のようにして、発光装置1は製造される。
ここで、サファイアの面方位及び光の入射方向と、光の偏光比との関係を測定した実験データについて説明する。
図9乃至図11は、入射面がa面の場合とc面の場合とで、サファイアの透光性部材60を平面方向の角度を変えて偏光比を測定した実験データである。また、図9は、半導体レーザ素子20として青色の光を出射するTEモードの半導体レーザ素子を用いた場合、図10は緑色の光を出射するTEモードの半導体レーザ素子を用いた場合、図11は赤色の光を出射するTMモードの半導体レーザ素子を用いた場合の実験データである。図12は、図9乃至図11の実験データを得たときの実験条件の模式図である。
図12に示すように、この実験では、半導体レーザ素子20から出射された光軸を通る光が、透光性部材60の入射面に垂直に入射するようにして測定を行った。また、垂直に入射する状態を保ったまま、光軸を軸にして透光性部材60を回転し、いくつかの異なる角度で測定を行った。以下では、この角度を平面回転角αと呼ぶものとする。
入射面がa面の場合おいては、FFPの垂直方向に対応する方向とサファイアのc軸とが平行になっている状態の平面回転角αを0度、FFPの垂直方向に対応する方向とサファイアのc軸とが垂直になっている状態の平面回転角αを90度とした。図8には、発光装置1の透光性部材60の入射面がサファイアのa面であり、c軸が図の矢印の向きであった場合の平面回転角αの値を記している。
入射面がc面の場合おいては、FFPの垂直方向に対応する方向とサファイアのa軸とが平行になっている状態の平面回転角αを0度、FFPの垂直方向に対応する方向とサファイアのa軸とが垂直(m軸に平行)になっている状態の平面回転角αを90度とした。
入射面がa面の透光性部材60もc面の透光性部材60も、厚みは500μmで揃えた。また、透光性部材60を配置しない状態で測定したときの偏光比は、青色が3134TE/TM、緑色が2487TE/TM、赤色が36TM/TEであった。図9乃至図11には、比較のため、透光性部材を配置しないときの光の偏光比を直線で記している。
なお、測定には、偏光子E2として、ソーラボ社製のグランレーザ解石偏光子を、NDフィルタE3として、メレスグリオ株式会社製の金属膜NDフィルタを、検出器フォトダイオードE4として、浜松ホトニクス製の検出器フォトダイオードを使用した。
図9乃至図11の測定結果から、入射面をc面とした場合には、角度が変化しても偏光比に大きな変化は見られないことがわかる。つまり、c面は、平面方向の回転に対する偏光比依存がないか、非常に小さいことが考察される。
一方で、入射面をa面とした場合には、平面回転角αが変化すると偏光比も変化することがわかる。また、平面回転角αが0度から45度にかけて偏光比は減少し、45度から90度にかけて増加しており、0度または90度で偏光比は最大に、45度で偏光比は最小になっていることがわかる。
また、平面回転角αが45度のときには、偏光比は著しく低い値となる。図9乃至図11のいずれにおいても、平面回転角αが30度以上から60度以下の範囲では良好な偏光比は得られず、偏光比の値は1以上から5以下の範囲となった。
一方で、平面回転角αが0度と90度とにおいては、高い偏光比が得られている。つまり、TEモードの光に対してもTMモードの光に対しても、平面回転角αが0度または90度で、良好な偏光比が得られることが考察される。そのため、TEモードとTMモードの半導体レーザ素子が混在した発光装置であっても良好な偏光比が得られることが考察される。
また、上面視で、入射面におけるFFPの垂直方向に対応する方向あるいは水平方向に対応する方向が、互いに90度異なる発光装置であっても良好な偏光比が得られることが考察される。例えば、上面視で、光軸を通る光の進行方向が互いに90度異なるように2つの半導体レーザ素子20を配置し、光軸を通る光がそれぞれ垂直上方に進行するように光反射部材40を配置した発光装置1であっても良好な偏光比が得られることが考察される。
また、図11に示すように、透光性部材60を透過する前の偏光比の値が低い光(偏光比の値が2桁の光)に対しては、平面回転角αが0度または90度において、透過後の方が偏光比の値は高くなった。なお、図9乃至図10のように透過前の偏光比の値が高い光(偏光比が4桁の光)に対しては、平面回転角αが0度または90度で、おおよそ同じ程度かあるいは低くなっていることがわかる。
図9及び図10では、平面回転角αが0度で2000以上あった偏光比が、5度になると200程度にまで下がり、10度になると50程度にまで下がった。また、図11では、平面回転角αが10度になると、透光性部材60を透過する前よりも偏光比が低い値となった。
このことから、a面を入射面とする偏光比の平面回転角αに対する角度依存性の高さが窺える。また、良好な偏光比を得るには、平面回転角αが0度以上から10度以下、または、80度以上から90度以下の範囲にあるのが好ましいと考察される。なお、平面回転角αが90度から180度、180度から270度、270度から360度の範囲でも、同様の原理がいえる。
また、a面とc面とでは、a面の方が偏光比の最大値が大きい。つまり、平面回転角αが0度または90度においては、c面よりもa面の方が、より高い偏光比を得ることができる。
次に、図13乃至図15は、入射面がa面の場合とc面の場合とで、サファイアの透光性部材60の入射面に光が入射する角度を変えて偏光比を測定した実験データである。以下では、この角度を平面傾斜角βと呼ぶものとする。図13は平面回転角αが0度、図14は平面回転角αが45度、図15は平面回転角αが90度の状態での実験データである。図16は、図13乃至図15の実験データを得たときの実験条件の模式図である。
図16に示すように、この実験では、図12のようにFFPの拡がりを有したままの光を透光性部材60に入射させるのではなく、半導体レーザ素子20から出射された光軸を通る光を、コリメートレンズE1によりコリメートさせ、さらに絞りE5で絞ってから透光性部材60に入射させた。
なお、図13乃至図15のグラフにおける平面傾斜角βが0度とは、光軸を通る光が入射面に対して垂直に入射する状態を示している。つまり、発光装置1における透光性部材60の配置は、0度の状態に相当する。そのため、平面傾斜角βが90度のときは、光が透光性部材60の下面から入射せず、側面から入射することになる。また、透光性部材60が斜めに傾いた配置されている例(平面傾斜角βが0°<β<90°の例)は図18に記されている。
なお、透光性部材60の厚みや、使用した偏光子E2、NDフィルタE3、及び、検出器フォトダイオードE4は、図12と同様である。また、図13乃至15はいずれも、半導体レーザ素子20として、図9の測定のときと同じ青色の光を出射する半導体レーザ素子を使用して測定を行った。
図13乃至図15の測定結果から、a面とc面とでは、c面の方が角度の変化に対する偏光比の変化が大きいことがわかる。また、a面は、角度を変化させても偏光比の変化が小さいことがわかる。つまり、a面の方が、光の平面傾斜角βに対する偏光比依存がなく、あったとしても小さい。
なお、a面であってもc面であっても、平面傾斜角βの角度によって、例えば、1000以上あった偏光比が2桁や1桁の値になるなどといった、著しく変化はなかった。
また、図13と図15の結果では、角度が大きくなるほど、c面の偏光比の値がa面の偏光比の値に近付いている。この結果から、c軸に平行な面については、偏光比の特性に大きな変化がないことが考察される。
つまり、c面から平面傾斜角βを90度回転させた面は、c軸に平行な面であり、FFPの垂直方向に対応する方向とサファイアのc軸とが平行になっている。また、a面もc軸に平行な面であり、平面回転角αが90度の状態(図15)では、平面傾斜角βをどの角度にしてもc軸に平行な面である(例えば、90度傾斜した面はm面である。)。従って、c軸に平行な面であれば、a面の測定結果と似た測定結果が得られると考察できる。
また、図9と比べると、c面については、コリメートしたことで、偏光比が飛躍的に大きくなっていることがわかる。つまり、c面を透過させる場合、透過する光のコリメート性(どれくらいコリメートされた光であるか)が、偏光比に大きく影響するものと考察される。一方で、a面については、拡がる光が入射するか、拡がらない光(コリメート光)が入射するか、によって偏光比は大きく変わらない。
コリメート光で比較すれば、平面回転角αが0度の状態において、c面の方がa面よりも偏光比の値が大きい。従って、コリメート光を入射させるのであれば、入射面がc面の透光性部材の方が、a面の透光性部材よりも高い偏光比を得られると考察される。
以上の実験結果から、サファイアの透光性部材に関して、入射面にc軸に平行な面を用いる場合と、c面を用いる場合と、で以下のことがいえるものと考察される
<c軸に平行な面を入射面に用いる場合>
入射面において、レーザ光のFFPの垂直方向(楕円形状の長径方向)に対応する方向が、c軸と平行または垂直となる向きで設けると、良好な偏光比が得られる。
入射面に入射するレーザ光の偏光方向が、c軸と平行または垂直となる向きで設けると、良好な偏光比が得られる。言い換えると、s偏光またはp偏光がc軸と平行となる向きで設けると、良好な偏光比が得られる。
偏光比の値が小さな光を透過させると、透過前よりも偏光比を高くすることができる。ここで、偏光比の値が小さな光とは、例えば、偏光比が1以上から50以下の光である。
光軸を通る光が入射面に垂直に入射せず斜めに入射したとしても、偏光比の値が大きく変化することはなく、安定した偏光比が得られる。言い換えると、光軸を通る光の入射面に対する入射角(平面傾斜角β)が0度以上から90度以下の間で、安定した偏光比が得られる。従って、発光装置1において、半導体レーザ素子20からのレーザ光のFFPの垂直方向に対応する方向あるいは偏光方向と、サファイアの透光性部材60におけるc軸の方向とが、上面視(または下面視)で平行または垂直となる向きであれば、良好な偏光比が得られる、といえる。
コリメート光と、拡がる光との間で、偏光比に大きな差がない。
<c面を入射面に用いる場合>
入射面に垂直な軸を中心に回転させても、偏光比の値が大きく変化することはなく安定した偏光比が得られる。
光をコリメートしてから入射させることで、コリメートされていない光よりも優れた偏光比が得られる。
このように、サファイアのa面やm面といったc軸に平行な面、または、c面を、適切な条件で配置することで、良好な偏光比を得ることができる。なお、良好な偏光比とは、本質的には光学装置2が要求する偏光比を満たすことである。
図17は、発光装置の他の実施形態を示す断面図である。図17に示す発光装置1Aでは、基部10Aの枠部11Aにおいて、透光性部材60よりも下方にレンズ部材70Aが配置される形状となっている。そのため、レンズ部材70Aによってコリメートされた光が透光性部材60に入射する。このような発光装置1Aでは、入射面にサファイアのc面を用いて透光性部材60を形成するとよい。なお、a面を用いてもよい。
図18は、発光装置の他の実施形態を示す断面図である。図18に示す発光装置1Bでは、基部10Bの枠部11Bの上面が傾斜しているため、透光性部材60も傾斜して配置される。そのため、光軸を通る光は透光性部材60の入射面に垂直に入射しない。また、透光性部材60に入射するレーザ光はコリメートされておらず、拡がりながら透光性部材60を通過する。このような発光装置1Bでは、入射面にサファイアのc軸に平行な面であるa面を用いて透光性部材60を形成するとよい。
次に、実施形態に係る発光装置を有する光学装置2の一例として、液晶プロジェクターについて説明する。液晶プロジェクターの基本的な構造については、例えば、特開2018-92112、特開2018-141994、特開2019-3209などの特許公開公報に記載されている。これらの記載や、その他の従来技術からもわかるように、液晶プロジェクターは、構成要素に、光源201、偏光素子202、液晶パネル203、投影レンズ204などを有する。
また、光源201から出射された光は、液晶パネル203に到達する前に、偏光素子202を通る。この偏光素子202としては、例えば、ビームスプリッタ―が用いられ、これにより、光源201から出射された光の一方の偏光成分が反射され、他方の偏光成分が透過する。つまり、液晶プロジェクターの機構は、液晶パネル203に特定の偏光成分のみが入射するように構成されている。このような構成から、液晶プロジェクターでは偏光比の良好な光が求められ、例えば、偏光比の値が100以上の光を出射する光源201が求められる。
従って、図19に示すように、実施形態に係る発光装置を光源201に用いた液晶プロジェクターにより、効率よく、特定の偏光成分の光を液晶パネル203に入射させることができる。具体的には、液晶プロジェクターは、発光装置1を有する。また、発光装置1から出射された光が入射する偏光素子202を有する。また、発光装置1から出射され、偏光素子202を介した光が入射する液晶パネル203を有する。また、発光装置1から出射された光に基づき作成された投影画像を投影させる投影レンズ204を有する。また、これ以外の構成要素を有してよい。
以上、実施形態に係る発光装置及び光学装置を説明してきたが、本発明に係る発光装置及び光学装置は実施形態に厳密に限定されるものではない。つまり、本発明は、実施形態により開示された発光装置及び光学装置の外形や構造に限定されなければ実現できないものではない。また、全ての構成要素を必要十分に備えることを必須とせずに適用され得るものである。例えば、特許請求の範囲に、実施形態により開示された発光装置の構成要素の一部が記載されていなかった場合、その一部の構成要素については、代替、省略、形状の変形、材料の変更などの当業者による設計の自由度を認め、その上で特許請求の範囲に記載された発明が適用されることを特定するものである。
実施形態に記載の発光装置は、プロジェクター、車載ヘッドライト、照明、ディスプレイ等の光源に使用することができる。
1(1A)(1B) 発光装置
10(10A)(10B) 基部
11(11A)(11B) 枠部
12 底部
13 段差部
14 第1側面
15 第2側面
20 半導体レーザ素子
30 サブマウント
40 光反射部材
50 保護素子
60 透光性部材
70(70A) レンズ部材
71 平面領域
72 レンズ領域
80 接着部
2 光学装置
201 光源
202 偏光素子
203 液晶パネル
204 投影レンズ
E1 コリメートレンズ
E2 偏光子
E3 NDフィルタ
E4 検出器フォトダイオード
E5 絞り

Claims (8)

  1. 基部と、
    前記基部に配置される半導体レーザ素子と、
    前記基部に配置されるコリメートレンズと、
    前記基部と接合し、前記半導体レーザ素子、及び、コリメートレンズ、が配置される閉空間を形成し、前記半導体レーザ素子から出射され、前記コリメートレンズによってコリメートされたレーザ光が透過する領域が少なくともサファイアで構成される透光性部材と、
    を有し、
    前記透光性部材は、前記レーザ光が入射する入射面がサファイアのc面である発光装置。
  2. 前記基部は、底部と、枠部とを有し、
    前記半導体レーザ素子は、前記底部に配置され、
    前記枠部は、上面視で、前記底部に配置された前記半導体レーザ素子を囲み、
    前記コリメートレンズは、前記枠部に配置される、請求項1に記載の発光装置。
  3. 前記基部は、金属を主材料とする底部と、セラミックを主材料とする枠部とを有し、
    前記半導体レーザ素子は、前記底部に配置される、請求項1に記載の発光装置。
  4. 前記入射面において、半導体レーザ素子から出射された光のFFPの垂直方向に対応する方向と、前記透光性部材のサファイアのa軸とのなす角が、10度以上80度以下である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の発光装置。
  5. 前記基部に配置され、前記半導体レーザ素子から出射された光を反射する光反射部材をさらに有し、
    前記光反射部材は、前記閉空間に配置される、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の発光装置。
  6. 前記透光性部材は、前記半導体レーザ素子、コリメートレンズ、及び、光反射部材の上方に配置され、
    前記光反射部材は、前記半導体レーザ素子の出射端面から側方に出射された光を上方に反射する、請求項5に記載の発光装置。
  7. 前記透光性部材は、前記半導体レーザ素子から出射された光が入射する入射面から、当該光が出射する出射面までの厚みが、0.3mm以上から1.0mm以下である請求項1乃至6のいずれか一項に記載の発光装置。
  8. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の発光装置と、
    前記発光装置から出射された光が入射する偏光素子と、
    前記発光装置から出射され、前記偏光素子を介した光が入射する液晶パネルと、
    前記発光装置から出射された光に基づいて作成された投影画像を投影させる投影レンズと、
    を有する光学装置。
JP2023030593A 2019-02-15 2023-03-01 発光装置、及び、光学装置 Active JP7445178B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023030593A JP7445178B2 (ja) 2019-02-15 2023-03-01 発光装置、及び、光学装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019025353A JP7244745B2 (ja) 2019-02-15 2019-02-15 発光装置、及び、光学装置
JP2023030593A JP7445178B2 (ja) 2019-02-15 2023-03-01 発光装置、及び、光学装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019025353A Division JP7244745B2 (ja) 2019-02-15 2019-02-15 発光装置、及び、光学装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023067918A JP2023067918A (ja) 2023-05-16
JP7445178B2 true JP7445178B2 (ja) 2024-03-07

Family

ID=72042003

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019025353A Active JP7244745B2 (ja) 2019-02-15 2019-02-15 発光装置、及び、光学装置
JP2023030593A Active JP7445178B2 (ja) 2019-02-15 2023-03-01 発光装置、及び、光学装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019025353A Active JP7244745B2 (ja) 2019-02-15 2019-02-15 発光装置、及び、光学装置

Country Status (4)

Country Link
US (3) US11500275B2 (ja)
JP (2) JP7244745B2 (ja)
CN (2) CN117293649A (ja)
TW (1) TWI818146B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112021007142T5 (de) * 2021-02-25 2023-12-07 Nichia Corporation Lichtemittierendes modul
WO2023229017A1 (ja) * 2022-05-27 2023-11-30 京セラ株式会社 レーザ装置及び光学部品搭載用パッケージ
WO2024085205A1 (ja) * 2022-10-20 2024-04-25 日亜化学工業株式会社 発光装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020018578A (ko) 2000-09-01 2002-03-08 오카야마 노리오 광 모듈
JP2011008105A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光スイッチモジュール
JP2011222734A (ja) 2010-04-09 2011-11-04 Mitsubishi Electric Corp 光半導体素子モジュール
JP2012094728A (ja) 2010-10-28 2012-05-17 Nichia Chem Ind Ltd 半導体レーザ装置及びその製造方法
US20130265770A1 (en) 2012-04-04 2013-10-10 Osram Gmbh Light emitter and method for manufacturing the same
US20130272329A1 (en) 2012-04-16 2013-10-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Laser diode devices
JP2017207732A (ja) 2016-05-17 2017-11-24 セイコーエプソン株式会社 光源装置およびプロジェクター
JP2017208288A (ja) 2016-05-20 2017-11-24 セイコーエプソン株式会社 光源装置およびプロジェクター

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5783080A (en) 1980-11-10 1982-05-24 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Semiconductor laser module device
JP2001272513A (ja) * 2000-03-24 2001-10-05 Seiko Epson Corp 光学部品およびこれを用いたプロジェクタ
US7208393B2 (en) * 2002-04-15 2007-04-24 The Regents Of The University Of California Growth of planar reduced dislocation density m-plane gallium nitride by hydride vapor phase epitaxy
JP4486506B2 (ja) * 2002-12-16 2010-06-23 ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア ハイドライド気相成長方法による転位密度の低い無極性窒化ガリウムの成長
US7186302B2 (en) * 2002-12-16 2007-03-06 The Regents Of The University Of California Fabrication of nonpolar indium gallium nitride thin films, heterostructures and devices by metalorganic chemical vapor deposition
US7808011B2 (en) * 2004-03-19 2010-10-05 Koninklijke Philips Electronics N.V. Semiconductor light emitting devices including in-plane light emitting layers
US7285799B2 (en) * 2004-04-21 2007-10-23 Philip Lumileds Lighting Company, Llc Semiconductor light emitting devices including in-plane light emitting layers
US7504274B2 (en) * 2004-05-10 2009-03-17 The Regents Of The University Of California Fabrication of nonpolar indium gallium nitride thin films, heterostructures and devices by metalorganic chemical vapor deposition
US7956360B2 (en) * 2004-06-03 2011-06-07 The Regents Of The University Of California Growth of planar reduced dislocation density M-plane gallium nitride by hydride vapor phase epitaxy
US7432531B2 (en) * 2005-02-07 2008-10-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor device
JP4212105B2 (ja) * 2005-03-24 2009-01-21 ローム株式会社 酸化亜鉛系化合物半導体素子
JP4988179B2 (ja) * 2005-09-22 2012-08-01 ローム株式会社 酸化亜鉛系化合物半導体素子
JP5113330B2 (ja) * 2005-11-30 2013-01-09 ローム株式会社 窒化ガリウム半導体発光素子
JP5380796B2 (ja) 2006-07-07 2014-01-08 ソニー株式会社 偏光素子及び液晶プロジェクター
JP5142371B2 (ja) * 2007-11-15 2013-02-13 国立大学法人東北大学 紫外線窒化物半導体発光素子およびその製造方法
JP5004989B2 (ja) * 2009-03-27 2012-08-22 シャープ株式会社 窒化物半導体発光素子及びその製造方法、並びに、半導体光学装置
JP4815013B2 (ja) * 2009-04-09 2011-11-16 パナソニック株式会社 窒化物系半導体発光素子、照明装置、液晶表示装置および照明装置の製造方法
WO2011070760A1 (ja) * 2009-12-09 2011-06-16 パナソニック株式会社 半導体素子の製造方法
WO2011077704A1 (ja) * 2009-12-25 2011-06-30 パナソニック株式会社 窒化物系半導体素子およびその製造方法
WO2012020559A1 (ja) * 2010-08-09 2012-02-16 パナソニック株式会社 半導体発光デバイス
US20120045661A1 (en) * 2010-08-19 2012-02-23 Raveen Kumaran Rare-earth-doped aluminum-gallium-oxide films in the corundum-phase and related methods
JP5319628B2 (ja) * 2010-08-26 2013-10-16 シャープ株式会社 窒化物半導体素子および半導体光学装置
JP5468517B2 (ja) * 2010-10-19 2014-04-09 パナソニック株式会社 半導体発光デバイス
WO2012144212A1 (ja) * 2011-04-20 2012-10-26 パナソニック株式会社 半導体積層基板、半導体チップおよび半導体積層基板の製造方法
JP5439669B2 (ja) * 2011-05-19 2014-03-12 株式会社エス・エム・エムプレシジョン 偏波無依存型光アイソレータ
CN103081136A (zh) * 2011-07-14 2013-05-01 松下电器产业株式会社 氮化物类半导体发光元件
EP2752894A3 (en) * 2011-08-09 2014-10-22 Panasonic Corporation Semiconductor light-emitting device and light source device including the same
JP5535150B2 (ja) * 2011-08-25 2014-07-02 株式会社エス・エム・エムプレシジョン 偏波無依存型光アイソレータ
JP5672254B2 (ja) * 2012-02-21 2015-02-18 ウシオ電機株式会社 コヒーレント光源装置およびプロジェクタ
JP2013254889A (ja) * 2012-06-08 2013-12-19 Idec Corp 光源装置および照明装置
JP5891390B2 (ja) * 2012-10-05 2016-03-23 パナソニックIpマネジメント株式会社 窒化物半導体構造、積層構造、および窒化物半導体発光素子
US9008139B2 (en) * 2013-06-28 2015-04-14 Jds Uniphase Corporation Structure and method for edge-emitting diode package having deflectors and diffusers
JP6361333B2 (ja) * 2013-07-31 2018-07-25 日亜化学工業株式会社 光源装置及び光学エンジン
JP6136744B2 (ja) * 2013-08-15 2017-05-31 ソニー株式会社 光源装置、及び画像表示装置
US9151473B2 (en) * 2013-12-24 2015-10-06 Kyocera Corporation Electronic apparatus, light-transmissive cover plate, and portable device
US20220018632A1 (en) * 2014-12-23 2022-01-20 Jm Acquisitions Inc Aiming device for a firearm
US20160231084A1 (en) * 2014-12-23 2016-08-11 Jm Acquisitions, Inc. Triple wavelength pointing device
CN112503405B (zh) * 2015-05-20 2023-01-17 日亚化学工业株式会社 发光装置
JP6217706B2 (ja) * 2015-07-29 2017-10-25 日亜化学工業株式会社 光学部材の製造方法、半導体レーザ装置の製造方法及び半導体レーザ装置
US11437774B2 (en) * 2015-08-19 2022-09-06 Kyocera Sld Laser, Inc. High-luminous flux laser-based white light source
US10320147B2 (en) * 2015-09-08 2019-06-11 Sharp Kabushiki Kaisha Wavelength conversion member and light emitting device
JP6880725B2 (ja) 2016-12-27 2021-06-02 日亜化学工業株式会社 発光装置
US11355901B1 (en) * 2019-09-18 2022-06-07 Facebook Technologies, Llc Compact vertical cavity surface emitting laser package
JP2021174933A (ja) * 2020-04-28 2021-11-01 日亜化学工業株式会社 レーザ光源の製造方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020018578A (ko) 2000-09-01 2002-03-08 오카야마 노리오 광 모듈
US20020044748A1 (en) 2000-09-01 2002-04-18 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical module
JP2002148492A (ja) 2000-09-01 2002-05-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 光モジュール
JP2011008105A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光スイッチモジュール
JP2011222734A (ja) 2010-04-09 2011-11-04 Mitsubishi Electric Corp 光半導体素子モジュール
JP2012094728A (ja) 2010-10-28 2012-05-17 Nichia Chem Ind Ltd 半導体レーザ装置及びその製造方法
US20130265770A1 (en) 2012-04-04 2013-10-10 Osram Gmbh Light emitter and method for manufacturing the same
US20130272329A1 (en) 2012-04-16 2013-10-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Laser diode devices
JP2017207732A (ja) 2016-05-17 2017-11-24 セイコーエプソン株式会社 光源装置およびプロジェクター
JP2017208288A (ja) 2016-05-20 2017-11-24 セイコーエプソン株式会社 光源装置およびプロジェクター

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023067918A (ja) 2023-05-16
US11500275B2 (en) 2022-11-15
US20230022563A1 (en) 2023-01-26
JP7244745B2 (ja) 2023-03-23
JP2020136386A (ja) 2020-08-31
CN111585163A (zh) 2020-08-25
US20240097398A1 (en) 2024-03-21
CN111585163B (zh) 2023-09-01
US20200264500A1 (en) 2020-08-20
CN117293649A (zh) 2023-12-26
TW202034598A (zh) 2020-09-16
TWI818146B (zh) 2023-10-11
US11848533B2 (en) 2023-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7445178B2 (ja) 発光装置、及び、光学装置
JP7417174B2 (ja) 発光装置
US11630380B2 (en) Polarization control member and light emitting device
JP2020126992A (ja) 載置部材、及び、発光装置
US11557873B2 (en) Light emitting device
JP7332960B2 (ja) 偏光制御部材及び発光装置
JP7428914B2 (ja) 発光装置
US20220262996A1 (en) Light-emitting device
JP2024015956A (ja) 複数の発光装置、及び、発光モジュール
JP2024022575A (ja) 発光装置
JP2023046198A (ja) 発光モジュール
JP2022150155A (ja) 発光装置
JP2023126612A (ja) 発光装置
JP2022145467A (ja) 基部材、又は、発光装置
JP2022191035A (ja) 発光装置、及び、発光装置の製造方法
JP2020136659A (ja) 発光装置の製造方法、発光装置、又は、基部

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230301

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240111

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240123

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240205

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7445178

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151