JP7156037B2 - 撥水処理剤、撥水構造体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
Q:1個のケイ素原子に結合した酸素原子が4個の含ケイ素結合単位。
T:1個のケイ素原子に結合した酸素原子が3個と水素原子又は1価の有機基が1個の含ケイ素結合単位。
D:1個のケイ素原子に結合した酸素原子が2個と水素原子又は1価の有機基が2個の含ケイ素結合単位。
[ただし、前記有機基とはケイ素原子に結合する原子が炭素原子である1価の有機基である。]
本明細書において、「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値又は下限値は、他の段階の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。本明細書に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。「A又はB」とは、A及びBのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。本明細書に例示する材料は、特に断らない限り、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。本明細書において、組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。
本実施形態の撥水処理剤としては、例えば、下記第一~第四の態様が挙げられる。各々の態様を採用することで、各々の態様に応じた撥水性及び密着性を得ることができる。
一実施形態の撥水処理剤は、(分子内に)加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物、及び、該加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種(以下、場合により「ポリシロキサン化合物群」という)を含有する液状組成物の縮合物を含む。撥水処理剤は、また、加水分解性の官能基又は縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物、及び、該加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種を含有する液状組成物を含んでいてもよい(撥水処理剤が当該液状組成物であってもよい)。このような撥水処理剤によれば、対象物の被処理面に優れた撥水性を付与することができる。上記撥水処理剤は、対象物の被処理面に撥水部を形成するために用いられてもよい。上記撥水処理剤から形成される撥水部は、優れた撥水性を有すると共に、被処理面との密着性にも優れる。上記撥水部は、例えば、膜状の撥水部(以下、「撥水膜」ともいう)及び粒子状の撥水部(以下、「撥水粒子」ともいう)の少なくとも一方を含む形態であってもよい。すなわち、本実施形態に係る撥水処理剤は、対象物の被処理面に撥水膜及び/又は撥水粒子を形成するものであってもよい。
本実施形態の撥水処理剤は、シロキサン結合(Si-O-Si)を含む主鎖を有するポリシロキサンを含有する撥水成分を含むことかできる。当該撥水成分は、構造単位として、下記M単位、D単位、T単位又はQ単位を有することができる。
T:1個のケイ素原子に結合した酸素原子が3個と水素原子又は1価の有機基が1個の含ケイ素結合単位。
D:1個のケイ素原子に結合した酸素原子が2個と水素原子又は1価の有機基が2個の含ケイ素結合単位。
本実施形態の撥水処理剤は、下記式(1)で表される構造を有する化合物を含む撥水成分を含有していてもよい。本実施形態に係る撥水成分は、式(1)で表される構造を含む構造として、下記式(1a)で表される構造を有する化合物を含むことができる。例えば、上記式(A)で表される構造を有するポリシロキサン化合物を含む液状組成物の縮合物には、式(1)及び式(1a)で表される構造を骨格中に有する化合物を含む撥水成分が含まれ得る。
本実施形態の撥水処理剤は、支柱部及び橋かけ部を備えるラダー型構造を有し、前記橋かけ部が下記式(2)で表される化合物、を含む撥水成分、を含有していてもよい。撥水成分が、骨格中にこのようなラダー型構造を有する化合物を含むことにより、撥水性を更に向上させると共に、機械的強度を向上させることができる。すなわち、本実施形態の撥水処理剤は、ラダー型構造に起因する優れた撥水性及び耐久性を有している。例えば、上記式(B)で表される構造を有するポリシロキサン化合物を含む液状組成物の縮合物には、式(2)で表される橋かけ部を有するラダー型構造を骨格中有する化合物を含む撥水成分が含まれ得る。なお、本実施形態において「ラダー型構造」とは、2本の支柱部(struts)と支柱部同士を連結する橋かけ部(bridges)とを有するもの(いわゆる「梯子」の形態を有するもの)である。本態様において、ラダー型構造は、化合物の一部に含まれる態様であってもよい。
次に、上記撥水処理剤を用いて得られる撥水構造体について説明する。本実施形態の撥水構造体は、被処理面に撥水部が形成されており、撥水部が、上記撥水処理剤の乾燥物を含む。なお、撥水処理剤が上記の液状組成物の縮合物を含む場合であれば、撥水部が形成される際に縮合反応がさらに進むと考えられ、また撥水処理剤が上記の液状組成物そのものである場合であれば、撥水部が形成される際に縮合反応が生じると考えられる。そのため、撥水部は撥水処理剤の反応物を含むと言うこともできる。
次に、撥水処理剤の製造方法について説明する。撥水処理剤の製造方法は、特に限定されないが、例えば、以下の方法により製造することができる。
配合工程は、上記のポリシロキサン化合物、及び必要に応じシリカ粒子、シランモノマー、溶媒等を混合する工程である。この工程により、ポリシロキサン化合物等のケイ素化合物の加水分解反応を行うことができる。なお、シリカ粒子は、溶媒に分散された分散液の状態で混合してもよい。本工程においては、加水分解反応を促進させるため、溶媒中に更に酸触媒を添加してもよい。また、溶媒中に界面活性剤を添加することもできる。縮合性の官能基を有するケイ素化合物を用いる場合、加水分解反応は必ずしも必須ではない。
縮合反応工程により、縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びシランモノマー、配合工程で得られた加水分解反応物等の縮合反応を行うことができる。本工程では、縮合反応を促進させるため、塩基触媒を用いることができる。また、本工程において、熱加水分解により塩基触媒を発生する熱加水分解性化合物を添加することもできる。
次に、撥水構造体の製造方法について説明する。撥水構造体の製造方法は、特に限定されないが、例えば、以下の方法により製造することができる。
塗布工程は、例えば、上記撥水処理剤を被処理面に塗布する工程である。また、場合により、塗布後に被処理面を乾燥して溶媒を揮発させてもよい。例えば、本工程によって、被処理面に撥水部(撥水膜及び/又は撥水粒子)を形成することができる。撥水処理剤は、被処理面全体に塗布してもよく、被処理面の一部に選択的に塗布してもよい。
洗浄工程は、例えば、塗布工程で得られた構造体を洗浄する工程である。本工程を施すことにより、撥水部中の未反応物、副生成物等の不純物を低減し、より純度の高い撥水部を得ることができる。
予備乾燥工程は、例えば、洗浄工程により洗浄された構造体を予備乾燥させる工程である。
エージング工程は、例えば、予備乾燥工程により乾燥された撥水部をエージング(加熱エージング等)する工程である。これにより、最終的な撥水構造体を得ることができる。エージング工程を施すことにより、撥水構造体の撥水性と密着性とが更に向上する。なお、洗浄工程及び予備乾燥工程を省略する場合には、例えば、塗布工程で形成された撥水部をエージングすればよい。
[撥水処理剤1]
ポリシロキサン化合物としてカルビノール変性シロキサン「XF42-5277」(モメンティブ社製、製品名)を40.0質量部、カチオン系界面活性剤として臭化セチルトリメチルアンモニウム(和光純薬工業株式会社製:以下『CTAB』と略記)を6.4質量部及び100mM 酢酸水溶液を51.6質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム2.0質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤1を得た。
上記撥水処理剤1に、スライドグラスS7213(松浪硝子工業株式会社製、製品名)をディップし、60℃で2時間かけて処理した。その後、処理したスライドグラスをメタノールにディップし、25℃で5分洗浄を行った。次にメチルエチルケトンにディップし、25℃で5分洗浄を行った。洗浄されたスライドグラスを、常圧下にて、120℃で1時間乾燥し、その後、150℃で6時間エージングすることで、撥水構造体1を得た。
[撥水処理剤2]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを20.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを3.2質量部及び100mM 酢酸水溶液を75.8質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム1.0質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤2を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤2を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体2を得た。
[撥水処理剤3]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Bを10.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを1.6質量部及び100mM 酢酸水溶液を87.9質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム0.5質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤3を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤3を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体3を得た。
ポリシロキサン化合物としてXF42-5277を20.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを3.2質量部及びシリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したPL-2L溶液(PL-2Lの詳細については表1に記載。シリカ粒子含有原料について以下同様。)を75.0質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム2.0質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤4を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤4を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体4を得た。
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを20.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを3.2質量部及び100mM 酢酸水溶液を24.8質量部、並びにシリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したPL-2L溶液を50.0質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム2.0質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤5を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤5を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体5を得た。
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Bを20.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを3.2質量部及び100mM 酢酸水溶液を49.8質量部、並びにシリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したPL-5溶液を25.0質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム2.0質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤6を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤6を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体6を得た。
ポリシロキサン化合物としてXF42-5277を20.0質量部、シランモノマーとしてメチルトリメトキシシランKBM-13(信越化学工業株式会社製、製品名:以下『MTMS』と略記)を30.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを8.0質量部及び100mM 酢酸水溶液を39.5質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム2.5質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤7を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤7を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体7を得た。
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを10.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを15.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを4.0質量部及び100mM 酢酸水溶液を69.8質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム1.2質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤8を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤8を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体8を得た。
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを5.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを15.0質量部、及びジメチルジメトキシシランKBM-22(信越化学工業株式会社製、製品名:以下『DMDMS』と略記)を5.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを4.0質量部並びに100mM 酢酸水溶液を69.8質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム1.2質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤9を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤9を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体9を得た。
ポリシロキサン化合物としてXF42-5277を10.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを15.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを4.0質量部及び100mM 酢酸水溶液を18.5質量部、並びにシリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したHL-3L溶液を50.0質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム2.5質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤10を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤10を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体10を得た。
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを10.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを15.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを4.0質量部及び100mM 酢酸水溶液を54.2質量部、並びにシリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したST-OZL-35L溶液を14.3質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム2.5質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤11を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤11を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体11を得た。
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを1.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを3.0質量部、及びDMDMSを1.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを0.8質量部、100mM 酢酸水溶液を88.7質量部、並びにシリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したPL-2L溶液を5.0質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム0.5質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤12を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤12を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体12を得た。
[撥水構造体13]
上記撥水処理剤12に、スライドグラスS7213(松浪硝子工業株式会社製、製品名)を25℃で5分ディップし、その後、スライドグラスを150℃で2時間乾燥して、溶媒を揮発させた。乾燥したスライドグラスをメタノールにディップし、25℃で5分洗浄を行った。次にメチルエチルケトンにディップし、25℃で5分洗浄を行った。洗浄されたスライドグラスを、常圧下にて、120℃で1時間乾燥し、その後、150℃で6時間エージングすることで、撥水構造体13を得た。
[撥水構造体14]
25℃の上記撥水処理剤12をウエット厚さが500μmになるようにスプレーガン(アネスト岩田株式会社製、製品名:W-50-124BPG)を用いて、スライドグラスS7213(松浪硝子工業株式会社製、製品名)の被処理面に対して塗布し、150℃で2時間乾燥して、溶媒を揮発させた。乾燥したスライドグラスをメタノールにディップし、25℃で5分洗浄を行った。次にメチルエチルケトンにディップし、25℃で5分洗浄を行った。洗浄されたスライドグラスを、常圧下にて、120℃で1時間乾燥し、その後、150℃で6時間エージングすることで、撥水構造体14を得た。
[撥水処理剤13]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを0.1質量部、シランモノマーとしてMTMSを0.3質量部、及びDMDMSを0.1質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを0.1質量部、100mM 酢酸水溶液を98.2質量部、並びにシリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したPL-2L溶液を1.0質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム0.2質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤13を得た。
撥水処理剤12に代えて撥水処理剤13を用いたこと以外は、実施例13と同様にして、撥水構造体15を得た。
[撥水処理剤14]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを10.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを15.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを4.0質量部、100mM 酢酸水溶液を69.8質量部及び塩基触媒として炭酸ナトリウム1.2質量部を混合し、25℃で6時間攪拌し、撥水処理剤14を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤14を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体16を得た。
[撥水処理剤15]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを5.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを15.0質量部、及びDMDMSを5.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを4.0質量部、100mM 酢酸水溶液を69.8質量部、並びに塩基触媒として炭酸ナトリウム1.2質量部を混合し、25℃で6時間攪拌し、撥水処理剤15を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤15を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体17を得た。
[撥水処理剤16]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを1.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを3.0質量部、及びDMDMSを1.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを0.8質量部、100mM 酢酸水溶液を88.7質量部、シリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したPL-2L溶液を5.0質量部、並びに塩基触媒として炭酸ナトリウム0.5質量部を混合し、25℃で6時間攪拌し、撥水処理剤16を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤16を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体18を得た。
[撥水処理剤17]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを0.1質量部、シランモノマーとしてMTMSを0.3質量部、及びDMDMSを0.1質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを0.1質量部、100mM 酢酸水溶液を98.2質量部、シリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したPL-2L溶液を1.0質量部、並びに塩基触媒として炭酸ナトリウム0.2質量部を混合し、25℃で6時間攪拌し、撥水処理剤17を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤17を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体19を得た。
[撥水処理剤18]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを5.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを15.0質量部、及びDMDMSを5.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを4.0質量部、100mM 酢酸水溶液を69.8質量部、並びにエアロゲル粒子としてIC3100(キャボット社製、製品名)を1.0質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム1.2質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、撥水処理剤18を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤18を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体20を得た。
[撥水処理剤19]
ポリシロキサン化合物としてポリシロキサン化合物Aを1.0質量部、シランモノマーとしてMTMSを3.0質量部、及びDMDMSを1.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを0.1質量部、100mM 酢酸水溶液を98.2質量部、シリカ粒子含有原料として酢酸濃度100mMに調整したPL-2L溶液を1.0質量部、エアロゲル粒子としてIC3100(キャボット社製、製品名)を1.0質量部、並びに塩基触媒として炭酸ナトリウム0.2質量部を混合し、25℃で6時間攪拌し、撥水処理剤19を得た。
撥水処理剤1に代えて撥水処理剤19を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、撥水構造体21を得た。
[比較撥水処理剤1]
シランモノマーとしてMTMSを30.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを2.4質量部及び100mM 酢酸水溶液を66.1質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム1.5質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、比較撥水処理剤1を得た。
撥水処理剤1に代えて比較撥水処理剤1を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、比較撥水構造体1を得た。
[比較撥水処理剤2]
シランモノマーとしてMTMSを20.0質量部、及びDMDMSを15.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを2.8質量部及び100mM 酢酸水溶液を60.5質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム1.7質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、比較撥水処理剤2を得た。
撥水処理剤1に代えて比較撥水処理剤2を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、比較撥水構造体2を得た。
[比較撥水構造体3]
撥水処理剤12に代えて比較撥水処理剤2を用いたこと以外は、実施例13と同様にして、比較撥水構造体3を得た。
[比較撥水処理剤3]
シランモノマーとしてフルオロアルキルシランXC98-B2472(モメンティブ社製、製品名)を30.0質量部、カチオン系界面活性剤としてCTABを2.4質量部及び100mM 酢酸水溶液を66.1質量部混合し、25℃で2時間攪拌した。これに塩基触媒として炭酸ナトリウム1.5質量部を加え、60℃で2時間攪拌し、比較撥水処理剤3を得た。
撥水処理剤1に代えて比較撥水処理剤3を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、比較撥水構造体4を得た。
[比較撥水構造体5]
撥水処理剤12に代えて比較撥水処理剤3を用いたこと以外は、実施例13と同様にして、比較撥水構造体5を得た。
各実施例及び比較例で得られた撥水構造体について、以下の条件に従って測定又は評価をした。水接触角測定、耐摩耗性試験(水中、有機溶媒中)、含ケイ素結合単位Q、T及びDに係るシグナル面積比の測定の評価結果をまとめて表3に示す。
各実施例及び比較例で得られた撥水構造体を、105℃で1時間乾燥し、測定サンプルとした。次に、協和界面科学株式会社製の接触角計DMs-401を使用して、超純水の液滴2μLを滴下し、5秒後の接触角を、室温で測定した。測定は5回行い、平均値を水接触角とした。
耐磨耗試験(水中)は、水中で日本製紙クレシア株式会社製キムタオルをサンプル表面に複数回擦りつけ、その後、105℃で1時間乾燥し、測定サンプルとした。ここでのキムタオルの接触面積は、20mm×50mm、加重0.1Kg/cm2とした。次に、協和界面科学株式会社製の接触角計DMs-401を使用して、超純水の液滴2μLを滴下し、5秒後の接触角を、室温で測定した。測定は5回行い、平均値を水接触角とした。
耐摩耗試験(有機溶媒中)は、メチルエチルケトン中で日本製紙クレシア株式会社製キムタオルをサンプル表面に複数回擦りつけ、その後、105℃で1時間乾燥し、測定サンプルとした。ここでのキムタオルの接触面積は、20mm×50mm、加重0.1Kg/cm2とした。次に、協和界面科学株式会社製の接触角計DMs-401を使用して、超純水の液滴2μLを滴下し、5秒後の接触角を、室温で測定した。測定は5回行い、平均値を水接触角とした。
固体29Si-NMR装置として「FT-NMR AV400WB」(ブルカー・バイオスピン株式会社製、製品名)を用いて測定を行った。測定条件は、測定モード:DD/MAS法、プローブ:4mmφのCPMASプローブ、磁場:9.4T、共鳴周波数:79Hz、MAS回転数:4kHz、遅延時間:150秒とした。標準試料としては、3-トリメチルシリルプロピオン酸ナトリウムを用いた。
熱伝導率は、熱拡散率と定圧比熱容量と密度の積から求めた。熱拡散率は、NETZSCH社製のNano Flash LFA447を用いて測定し、定圧比熱容量は、TAインスツルメント社製のDSC Q200を用いて測定し、密度はアルファミラージュ社製の電子比重計MSD-300を用いて測定した。熱拡散率、密度は25℃で測定し、定圧比熱容量測定についても25℃の比熱容量を測定により導いた。
Claims (18)
- 対象物と、該対象物の被処理面上に撥水部と、を備え、
前記撥水部が、加水分解性の官能基若しくは縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物、及び、該加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種を含有する液状組成物又は前記液状組成物の縮合物を含む、撥水処理剤の乾燥物を含み、
前記ポリシロキサン化合物が、下記式(A)で表される化合物を含み、
前記撥水部がエアロゲルを含まない、撥水構造体。
[式(A)中、R 1a はヒドロキシアルキル基を示し、R 2a はアルキレン基を示し、R 3a 及びR 4a はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、nは1~50の整数を示す。] - 対象物と、該対象物の被処理面上に撥水部と、を備え、
前記撥水部が、加水分解性の官能基若しくは縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物、及び、該加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種を含有する液状組成物又は前記液状組成物の縮合物を含む、撥水処理剤の乾燥物を含み、
前記ポリシロキサン化合物が、下記式(B)で表される化合物を含み、
前記撥水部がエアロゲルを含まない、撥水構造体。
[式(B)中、R 1b はアルキル基、アルコキシ基又はアリール基を示し、R 2b 及びR 3b はそれぞれ独立にアルコキシ基を示し、R 4b 及びR 5b はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、mは1~50の整数を示す。] - 前記液状組成物がシリカ粒子を更に含有する、請求項1又は2に記載の撥水構造体。
- 前記シリカ粒子の1g当りのシラノール基数が、10×10 18 ~1000×10 18 個/gである、請求項3に記載の撥水構造体。
- 前記撥水処理剤がシリカ粒子を更に含有する、請求項5~7のいずれか一項に記載の撥水構造体。
- 前記シリカ粒子の1g当りのシラノール基数が、10×10 18 ~1000×10 18 個/gである、請求項8に記載の撥水構造体。
- 加水分解性の官能基若しくは縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物、及び、該加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種を含有する液状組成物又は前記液状組成物の縮合物を含む、撥水処理剤を塗布することで、対象物の被処理面に撥水部を形成する工程を備え、
前記ポリシロキサン化合物が、下記式(A)で表される化合物を含み、
前記撥水部がエアロゲルを含まない、撥水構造体の製造方法。
[式(A)中、R 1a はヒドロキシアルキル基を示し、R 2a はアルキレン基を示し、R 3a 及びR 4a はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、nは1~50の整数を示す。] - 加水分解性の官能基若しくは縮合性の官能基を有するポリシロキサン化合物、及び、該加水分解性の官能基を有するポリシロキサン化合物の加水分解生成物からなる群より選択される少なくとも一種を含有する液状組成物又は前記液状組成物の縮合物を含む、撥水処理剤を塗布することで、対象物の被処理面に撥水部を形成する工程を備え、
前記ポリシロキサン化合物が、下記式(B)で表される化合物を含み、
前記撥水部がエアロゲルを含まない、撥水構造体の製造方法。
[式(B)中、R 1b はアルキル基、アルコキシ基又はアリール基を示し、R 2b 及びR 3b はそれぞれ独立にアルコキシ基を示し、R 4b 及びR 5b はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を示し、mは1~50の整数を示す。] - 前記液状組成物がシリカ粒子を更に含有する、請求項10又は11に記載の製造方法。
- 前記シリカ粒子の1g当りのシラノール基数が、10×10 18 ~1000×10 18 個/gである、請求項12に記載の製造方法。
- 前記撥水処理剤がシリカ粒子を更に含有する、請求項14~16のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記シリカ粒子の1g当りのシラノール基数が、10×10 18 ~1000×10 18 個/gである、請求項17に記載の製造方法。
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