JP7024785B2 - 封止用の組成物 - Google Patents

Description

本発明は封止用の組成物に関し、特に有機ＥＬ（Electroluminescence）素子等の発光素子や太陽電池等の受光素子等の封止に好適な封止用の組成物に関する。

有機ＥＬ素子は発光材料に有機物質を使用した発光素子であり、低電圧で高輝度の発光を得ることができるため近年脚光を浴びている。しかしながら、有機ＥＬ素子は水分に極めて弱く、発光材料（発光層）が水分によって変質して、輝度が低下したり、発光しなくなったり、電極と発光層との界面が水分の影響で剥離したり、金属が酸化して高抵抗化してしまったりする問題がある。このため、素子内部を外気中の水分から遮断するために、例えば、基板上に形成された発光層の全面を覆うように組成物によって封止層を形成して有機ＥＬ素子を封止することが行われる。このような有機ＥＬ素子の封止層には高い水分遮断性が求められる。更に、ディスプレイやタッチパネル、照明等の用途で、封止面から光を取り出す構造や透過型の構造の場合、封止層にも高い透明性も求められる。このように、高い水分遮断性と透明性を両立する封止層を形成し得る組成物が求められている。

特許文献１には、水素添加環状オレフィン系ポリマーおよびポリイソブチレン樹脂を含む接着性封入用組成物が記載されている。特許文献１には、前記組成物に、さらに光硬化型樹脂および光重合開始剤を配合させることが記載されている。また、特許文献２には、硬化性化合物と、重合開始剤と、吸水率が３０重量％以上である第１の吸湿剤と、吸水率が５重量％以上３０重量％未満である第２の吸湿剤とを含有する硬化性組成物が記載されている。しかし、特許文献１および２のいずれにも、高い水分遮断性と透明性を両立する封止層については記載されていない。

特表２００９－５２４７０５号公報 特開２０１６－５１７００号公報

本発明は、水分遮断性および透明性の両方に優れる封止層（硬化物層）を形成し得る封止用の組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究をした結果、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、半焼成ハイドロタルサイト、およびラジカル重合開始剤を含む組成物が、水分遮断性および透明性の両方に優れる封止層（硬化物層）を形成し得ることを見出した。このような知見に基づく本発明は、以下の通りである。

［１］ １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、半焼成ハイドロタルサイトおよびラジカル重合開始剤を含む封止用の組成物。
［２］ １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物が、１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を含む前記［１］に記載の組成物。
［３］ １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物が、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基および脂環式構造を有する化合物を含む前記［１］または［２］に記載の組成物。
［４］ さらに希釈剤を含む前記［１］～［３］のいずれか一つに記載の組成物。
［５］ 希釈剤が、１分子中に１個のエチレン性不飽和基を有する化合物である前記［４］に記載の組成物。
［６］ エチレン性不飽和基が（メタ）アクリロイル基である前記［１］～［５］のいずれか一つに記載の組成物。
［７］ １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物の量が、組成物全体あたり、２０～７８質量％である前記［１］～［６］のいずれか一つに記載の組成物。
［８］ 半焼成ハイドロタルサイトの量が、組成物全体あたり、１０～７０質量％である前記［１］～［７］のいずれか一つに記載の組成物。
［９］ ラジカル重合開始剤が、光ラジカル重合開始剤および／または熱ラジカル重合開始剤である前記［１］～［８］のいずれか一つに記載の組成物。
［１０］ ラジカル重合開始剤の量が、エチレン性不飽和基を有する化合物１００質量部に対して、０．５～１０質量部である前記［１］～［９］のいずれか一つに記載の組成物。
［１１］ さらにシランカップリング剤を含む前記［１］～［１０］のいずれか一つに記載の組成物。
［１２］ 厚さが２０μｍである組成物の硬化物層のＤ６５光での全光線透過率が、８５％以上である前記［１］～［１１］のいずれか一つに記載の組成物。
［１３］ 厚さが２０μｍである組成物の硬化物層のヘーズが、３．０％未満である前記［１］～［１２］のいずれか一つに記載の組成物。
［１４］ 液状である前記［１］～［１３］のいずれか一つに記載の組成物。
［１５］ 有機ＥＬ素子の封止用である前記［１］～［１４］のいずれか一つに記載の組成物。
［１６］ 前記［１］～［１５］のいずれか一つに記載の組成物の硬化物で有機ＥＬ素子が封止された有機ＥＬデバイス。

本発明の組成物から、水分遮断性および透明性の両方に優れる封止層を形成することができる。

＜組成物＞
本発明の組成物は、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、半焼成ハイドロタルサイト、およびラジカル重合開始剤を含む。ここで「エチレン性不飽和基」とは、エチレン性二重結合を有する官能基を意味する。本発明の組成物は、上記成分、および必要に応じて他の成分を混練ローラーや回転ミキサーなどを用いて混合することによって製造することができる。

本発明の組成物は、例えば、半導体、太陽電池、高輝度ＬＥＤ、ＬＣＤ、ＥＬ素子等の電子部品、好ましくは有機ＥＬ素子、太陽電池等の光学半導体の封止に使用される。本発明の組成物は、特に有機ＥＬ素子の封止に好適に使用される。具体的には、有機ＥＬ素子の発光部の上部および／または周囲（側部）に適用して有機ＥＬ素子の発光部を外部から保護するために、本発明の組成物を用いることができる。

本発明の組成物は、好ましくは、液状の封止用組成物である。ここで「液状の封止用組成物」とは、常温（２５℃）および常圧（１気圧）で流動性を有する封止用組成物を意味する。例えば、無機充填剤を含む封止用組成物も、常温および常圧で流動性を有すれば、本発明における液状の封止用組成物に該当する。液状の封止材（封止用組成物）はフィルム状の封止材と比較して、一般に、回路を有する発光素子面の埋め込み性、封止面が大面積である場合のボイドの抑制、封止層の膜厚の調整の容易さ、封止前にダムを形成し、位置合わせすることによって達成される高いアライメント精度等の点で有利となる場合が多い。

本発明の組成物は、溶剤等の揮発分を含まないことが望ましい。なお、本発明の組成物が溶剤等の揮発分を含む場合、各成分の量の基準には、溶剤等の揮発分は含まれない。即ち、本発明の組成物が揮発分を含む場合、各成分の量の基準である「組成物全体あたり」とは、「組成物の不揮発分全体あたり」を意味する。

＜１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物＞
本発明の組成物は、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（以下「多官能エチレン性不飽和化合物」と略称することがある）を含む。多官能エチレン性不飽和化合物は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。多官能エチレン性不飽和化合物は本発明の効果が発揮される範囲で、エポキシ基等の他の官能基を含んでいてもよい。なお、エポキシ基を含む多官能エチレン性不飽和化合物は、本発明では、エポキシ樹脂ではなく、多官能エチレン性不飽和化合物に分類される。

多官能エチレン性不飽和化合物は、本発明の封止用組成物を液状とするために、液状であることが好ましい。ここで「液状」とは、常温（２５℃）および常圧（１気圧）での多官能エチレン性不飽和化合物の状態である。多官能エチレン性不飽和化合物が２種以上の化合物の混合物である場合、これらの混合物が液状であることが好ましい。例えば、固形の多官能エチレン性不飽和化合物と液状の多官能エチレン性化合物とを使用する場合、これら化合物の混合物が液状であることが好ましい。

多官能エチレン性不飽和化合物は、高密度な架橋構造を形成し、高い水分遮断性を発揮する観点から、好ましくは１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、より好ましくは１分子中に４個以上のエチレン性不飽和基、さらに好ましくは１分子中に５個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、特に好ましくは１分子中に６個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を含む。多官能エチレン性不飽和化合物において、１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数の上限は特に限定されないが、その数は、好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは１０以下である。

１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を使用する場合、その量は、高い水分遮断性を発揮する観点から、組成物全体あたり、好ましくは２質量％以上、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは４質量％以上であり、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６５質量％以下、さらに好ましくは６０質量％以下である。

多官能エチレン性不飽和化合物は、水分遮断性を高める観点から、好ましくは１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基および脂環式構造を有する化合物、より好ましくは１分子中に２個のエチレン性不飽和基および脂環式構造を有する化合物を含む。脂環式構造としては、例えば、炭素原子数５～１２の脂環式炭化水素環を有する構造を挙げることができる。脂環式炭化水素環としては、例えばトリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン環、ボルナン環、イソボルナン環、シクロヘキサン環、ビシクロオクタン環、ノルボルナン環、シクロデカン環、アダマンタン環、シクロペンタン環等が挙げられる。脂環式構造中にヘテロ原子を有していてもよい。また脂環式構造は、アルキル基、アルコキシ基、アルキレン基等の置換基が結合していてもよい。

１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基および脂環式構造を有する化合物（特に、１分子中に２個のエチレン性不飽和基および脂環式構造を有する化合物）を使用する場合、その量は、組成物全体あたり、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、さらに好ましくは１５質量％以上であり、好ましくは７５質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、さらに好ましくは６５質量％以下である。

エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。即ち、エチレン性不飽和基を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートが好ましい。本明細書中、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基および／またはメタクリロイル基」を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレートおよび／またはメタクリレート」を意味する。なお、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートを、以下「多官能（メタ）アクリレート」と略称することがある。また１分子中に２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートを「２官能（メタ）アクリレート」と略称することがある。

多官能（メタ）アクリレートとしては、オリゴマーを用いても良い。オリゴマーとしては、例えば、ポリエステルポリオールとアクリル酸との反応で合成されるポリエステルオリゴマー、ウレタン結合を有するウレタンオリゴマー、グリシジルエーテルとアクリル酸またはカルボキシ基を有するアクリレートとの反応で合成されるエポキシオリゴマー等が挙げられる。

２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ダイセル・オルネクス社製「ＤＰＧＤＡ」（ジプロピレングリコール ジアクリレート）、「ＨＤＤＡ」（１、６－ヘキサンジオール ジアクリレート）、「ＴＰＧＤＡ」（トリプロピレングリコール ジアクリレート）、「ＥＢＥＣＲＹＬ１４５」（ＰＯ変性ネオペンチルグリコール ジアクリレート）、「ＥＢＥＣＲＹＬ１５０」（変性ビスフェノールＡ ジアクリレート）、「ＩＲＲ２１４－Ｋ」（トリシクロデカンジメタノール ジアクリレート）、「ＥＢＥＣＲＹＬ１１」（ＰＥＧ６００ ジアクリレート）、「ＨＰＮＤＡ」（ネオペンチルグリコール ヒドロキシピバリン酸エステル ジアクリレート）、共栄社化学社製「ライトエステルＥＧ」（エチレングリコール ジメタクリレート）、「ライトエステルＮＰ－Ａ」（ネオペンチルグルコール ジメタクリレート）、「ライトエステル２ＥＧ」（ジエチレングリコール ジメタクリレート）、「ライトエステル１．６ＨＸ」（１、６－ヘキサンジオール ジメタクリレート）、「ライトエステル１．９ＮＤ」（１、９－ノナンジオール ジメタクリレート）、「ライトエステルＧ－１０１Ｐ」（グリセリン ジメタクリレート）、「ライトエステルＢＰ－２ＥＭＫ」（ビスフェノールＡのＥＯ付加物 ジメタクリレート）、「ライトアクリレートＮＰ－Ａ」（ネオペンチルグリコール ジアクリレート）、「ライトアクリレート１．９ＮＤ－Ａ」（１、９－ノナンジオール ジアクリレート）、「ライトアクリレートＢＰ－４ＥＡＬ」（ビスフェノールＡのＥＯ付加物 ジアクリレート）、「ライトアクリレートＢＰ－４ＰＡ」（ビスフェノールＡのＰＯ付加物 ジアクリレート）、新中村化学工業社製「ＮＫエステル７０１Ａ」（２－ヒドロキシ－３－メタクリルプロピルアクリレート）、「ＮＫエステルＡ－２００」（ポリエチレングリコール＃２００ ジアクリレート）、「ＮＫエステルＡＰＧ－４００」（ポリプロピレングリコール＃４００ ジアクリレート）、「ＮＫエステルＡ－ＰＴＭＧ－６５」（ポリテトラメチレングリコール＃６５０ ジアクリレート）、「ＮＫエステルＡ－１２０６ＰＥ」（ポリエチレンポリプロピレングリコール ジアクリレート）、「ＮＫエステルエステルＡ－ＢＰＥＦ」（９，９－ビス[４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン ジアクリレート）、「ＮＫエステルエステルＡ－ＢＰＥ３０」（エトキシ化ビスフェノールＡ ジアクリレート）、「ＮＫエステルＡ－ＢＰＰ－３」(プロポキシ化ビスフェノールＡ ジアクリレート)、「ＮＫエステルＢＧ」（１，３－ブタンジオール ジメタクリレート）、「ＮＫエステル７０１」（２－ヒドロキシ－１，３－ジメタクリロキシプロパン）、「ＮＫエステル３ＰＧ」（トリプロピレングリコール ジメタクリレート）、「ＮＫエステルエステルエステル１２０６ＰＥ」（ポリエチレンポリプロピレングリコール ジメタクリレート）、「ＮＫエステルＤＣＰ」（トリシクロデカンジメタノール ジメタクリレート）、日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＦＭ－４００」、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ－２２０」、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ－６２０」（ネオペンチル変性 ジアクリレート）、「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－６０４」、（ジオキサングリコール ジアクリレート）、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＵＸ－３２０４」（１分子中に２個のアクリロイル基を有するオリゴマー）、大阪有機化学工業社製「ビスコート＃１９５」（１，４－ブタンジオール ジアクリレート）、「ビスコート＃５４０」（ビスフェノールＡジグリシジルエーテル アクリル酸付加物）、アルケマ社製「ＣＤ４０６」（シクロヘキサンジメタノール ジアクリレート）、「ＳＲ５６２」（アルコキシ化ヘキサンジオール ジアクリレート）、ダイセル・オルネクス社製「ＥＢＥＣＲＹＬ６００」（１分子中に２個のアクリロイル基を有するビスフェノールＡ型エポキシアクリレート）、「ＥＢＥＣＲＹＬ２１０」（１分子中に２個のアクリロイル基を有する芳香族ウレタンオリゴマー）、「ＥＢＥＣＲＹＬ２３０」（１分子中に２個のアクリロイル基を有する脂肪族ウレタンオリゴマー）、「ＥＢＥＣＲＹＬ４３６」（１分子中に２個のアクリロイル基を有するエステルオリゴマー）、アルケマ社製「ＣＮ９５９」（１分子中に２個のアクリロイル基を有するウレタンオリゴマー）、根上工業社製「アートレジンＵＮ－９０００ＰＥＰ」（１分子中に２個のアクリロイル基を有するウレタンオリゴマー）、「アートレジンＵＮ－３３３」（１分子中に２個のアクリロイル基を有するオリゴマー）等が挙げられる。

１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、共栄社化学社製「ライトエステルＴＭＰ」（トリメチロールプロパン トリメタクリレート）、ライトアクリレートＰＥ－３Ａ」（ペンタエリスリトール トリアクリレート）、「ライトアクリレートＰＥ－４Ａ」（ペンタエリスリトール テトラアクリレート）、「ライトアクリレートＤＧＥ－４Ａ」（ＥＯ付加物変性ジグリセリン テトラアクリレート）、ダイセル・オルネクス社製「ＰＥＴＩＡ」（ペンタエリスリトール （トリ／テトラ）アクリレート）、ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパン トリアクリレート）、ＴＭＰＥＯＴＡ（トリメチロールプロパンエトキシ トリアクリレート）、「ＥＢＥＣＲＹＬ１３５」（トリメチロールプロパンプロポキシ トリアクリレート）、「ＰＥＴＡ」（ペンタエリスリトール （トリ／テトラ）アクリレート）、「ＤＰＨＡ」（ジペンタエリスリトール ヘキサアクリレート）、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ」(トリメチロールプロパン トリアクリレート)、「ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ－３ＰＯ」（プロポキシ化トリメチロールプロパン トリアクリレート）、「ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－６Ｅ」（エトキシ化グリセリン トリアクリレート）、「ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－６Ｐ」（プロポキシ化グリセリン トリアクリレート）、「ＮＫエステルＡ－９３００」（トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート）、「ＮＫエステルＡ－９２００」（ビス／トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート）、「ＮＫエステルＡ－９３００－１ＣＬ」（カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート）、「ＮＫエステルＡＴＭ－４ＥＬ」（エトキシ化ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート）、日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ－２０」（６官能アクリレート）、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ－６０」（６官能アクリレート）、「Ｔ－１４２０（Ｔ）」（４官能アクリレート）、「ＤＰＥＡ－１２」（６官能アクリレート）、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ－４０Ｈ」（１分子中に１０個のアクリロイル基を有するオリゴマー）、大阪有機化学工業社製「ビスコート＃８０２」（ペンタエリスリトールアクリレート）、「ビスコート＃１０００」（デンドリマーアクリレート）、アルケマ社製「ＣＮ９８９ＮＳ」（１分子中に３個のアクリロイル基を有する脂肪族ウレタンオリゴマー）、「ＣＮ９０３９」（１分子中に６個のアクリロイル基を有する脂肪族ウレタンオリゴマー）、根上工業社製「ＵＮ－３３２０ＨＡ」、「ＵＮ－３３２０ＨＣ」、「ＵＮ－９０６Ｓ」（１分子中に６個のアクリロイル基を有する脂肪族ウレタンオリゴマー）、ＤＩＣ社製「ＤＩＣＬＩＴＥ ＵＥ－８７４０」（１分子中に３個のアクリロイル基を有するフェノールノボラック型エポキシアクリレート）等が挙げられる。なお、「ペンタエリスリトール （トリ／テトラ）アクリレート」とは、ペンタエリスリトール トリアクリレートおよびペンタエリスリトール テトラアクリレートの混合物を意味する。他の「（トリ／テトラ）」等も同様の意味である。

脂環式構造を有する多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン環構造を有する、ダイセル・オルネクス社製「ＩＲＲ２１４－Ｋ」（トリシクロデカンジメタノール ジアクリレート）、三菱ガス化学社製の１，３－アダマンタンジオール ジアクリレート等が挙げられる。

多官能エチレン性不飽和化合物の量は、組成物全体あたり、好ましくは２０～７８質量％、より好ましくは２５～７５質量％、さらに好ましくは３０～７０質量％である。

＜１分子中に１個のエチレン性不飽和基を有する化合物＞
本発明の封止用組成物は、１分子中に１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（以下「単官能エチレン性不飽和化合物」と略称する場合がある）を含有していてもよい。「単官能エチレン性不飽和化合物」は、後述するように、希釈剤として本発明の封止用組成物に含まれる場合がある。単官能エチレン性不飽和化合物は、本発明の効果が発揮される範囲で、エポキシ基等の他の官能基を含んでいてもよい。このような化合物としては、例えば、１分子中に１個以上のエポキシ基および１個のエチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。なお、エポキシ基を含む単官能エチレン性不飽和化合物は、本発明では、エポキシ樹脂ではなく、単官能エチレン性不飽和化合物に分類される。

エポキシ基および１分子中に１個のエチレン性不飽和基を有する化合物の市販品としては、例えばダイセル・オルネクス社製「サイクロマーＭ１００」（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート）、「ＵＶＡＣＵＲＥ１５６１」（エポキシ基および１分子中に１個のアクリロイル基を有する化合物（含有量：７８～８２質量％）とビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（含有量：１８～２２質量％）との混合物）、日本化成社製「４ＨＢＡＧＥ」（４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル）などが挙げられる。

本発明の封止用組成物が単官能エチレン性不飽和化合物を含む場合、その量は、組成物全体あたり、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上、さらに好ましくは１．５質量％以上であり、好ましくは５５質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。

＜エチレン性不飽和基を有する化合物＞
上述の「多官能エチレン性不飽和化合物」および「単官能エチレン性不飽和化合物」をまとめて「エチレン性不飽和基を有する化合物」と記載する。このエチレン性不飽和基を有する化合物の量は、組成物全体あたり、好ましくは３０～８０質量％、より好ましくは３５～８０質量％、さらに好ましくは４０～８０質量％である。

＜希釈剤＞
本発明の封止用組成物は、液状封止用組成物として適当な粘度を達成する上で希釈剤を含有していてもよい。Ｂ型粘度計で２５℃の温度条件下で測定した希釈剤の粘度は、好ましくは０．１～５０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは０．１～２５００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは０．１～１０００ｍＰａ・ｓである。

希釈剤としては、反応性希釈剤が好ましい。反応性希釈剤としては、１分子中に１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（以下「単官能エチレン性不飽和化合物」と略称する場合がある）が好ましい。

なお、本発明において「多官能エチレン性不飽和化合物」に分類される１分子中に２個のエチレン性不飽和基を有する化合物（以下「２官能エチレン性不飽和化合物」と略称する場合がある）は、上記粘度範囲のものであれば反応性希釈剤としても機能する場合がある。反応性希釈剤としても機能する２官能エチレン性不飽和化合物を配合する場合、希釈剤を配合しないか、または配合する場合も配合量をその分減じることができる。希釈剤としても機能する２官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、「ＤＰＧＤＡ」（ジプロピレングリコール ジアクリレート）、「ＨＤＤＡ」（１、６－ヘキサンジオール ジアクリレート）、「ＴＰＧＤＡ」（トリプロピレングリコール ジアクリレート）、「ＥＢＥＣＲＹＬ１４５」（ＰＯ変性ネオペンチルグリコール ジアクリレート）、「ＨＰＮＤＡ」（ネオペンチルグリコール ヒドロキシピバリン酸エステル ジアクリレート）、共栄社化学社製「ライトエステルＮＰ」（ネオペンチルグルコール ジメタクリレート）、「ライトエステルＥＧ」（エチレングリコール ジメタクリレート）、「ライトエステル２ＥＧ」（ジエチレングリコール ジメタクリレート）、「ライトエステル１．６ＨＸ」（１、６－ヘキサンジオール ジメタクリレート）、「ライトエステル１．９ＮＤ」（１、９－ノナンジオール ジメタクリレート）、「ライトアクリレートＮＰ－Ａ」（ネオペンチルグリコール ジアクリレート）、「ライトアクリレート１．９ＮＤ－Ａ」（１、９－ノナンジオール ジアクリレート）、新中村化学工業社製「ＮＫエステル７０１Ａ」（２－ヒドロキシ－３－メタクリルプロピルアクリレート）、「ＮＫエステルＡ－２００」（ポリエチレングリコール＃２００ ジアクリレート）、「ＮＫエステルＡＰＧ－４００」（ポリプロピレングリコール＃４００ ジアクリレート）、「ＮＫエステルＢＧ」（１，３－ブタンジオール ジメタクリレート）、「ＮＫエステル７０１」（２－ヒドロキシ－１，３－ジメタクリロキシプロパン）、「ＮＫエステル３ＰＧ」（トリプロピレングリコール ジメタクリレート）、大阪有機化学工業社製「ビスコート＃１９５」（１，４－ブタンジオール ジアクリレート）、アルケマ社製「ＳＲ５６２」（アルコキシ化ヘキサンジオール ジアクリレート）等が挙げられる。 エチレン性不飽和基としては（メタ）アクリロイル基が好ましく、反応性希釈剤は特に１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートがより好ましい（以下「単官能（メタ）アクリレート」略称する場合がある）。

希釈剤として使用する単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ダイセル・オルネクス社製、「ＯＤＡ－Ｎ」（オクチル／デシルアクリレート、即ち、長鎖アルキル基を有する単官能アクリレート）、「ＥＢＥＣＲＹＬ １１０」、「ＥＢＥＣＲＹＬ１１１４」（エトキシ化フェニルアクリレート）、共栄社化学社製「ライトエステルＥ」（エチルメタクリレート）、「ライトエステルＮＢ」（ｎ－ブチルメタクリレート）、「ライトエステルＩＢ」（イソブチルメタクリレート）、「ライトエステルＴＢ」（ｔ－ブチルメタクリレート）、「ライトエステルＥＨ」（２－エチルヘキシルメタクリレート）、「ライトエステルＩＤ」（イソデシルメタクリレート）、「ライトエステルＬ」（ｎ－ラウリルメタクリレート）、「ライトエステルＳ」（ｎ－ステアリルメタクリレート）、「ライトエステルＣＨ」（シクロヘキシルメタクリレート）、「ライトエステルＴＨＦ（１０００）」（テトラヒドロフルフリルメタクリレート）、「ライトエステルＢＺ」（ベンジルメタクリレート）、「ライトエステルＰＯ」（ベンジルフェノキシエチルメタクリレート）、「ライトエステルＩＢ－Ｘ」（イソボルニルメタクリレート）、「ライトエステルＨＯ－２５０」（２－ヒドロキシエチルメタクリレート）、「ライトエステルＨＯＡ」（ヒドロキシエチルアクリレート）、「ライトエステルＧ」（グリシジルメタクリレート）、「ライトアクリレートＩＡＡ」（イソアミルアクリレート、即ち、分岐アルキル基を有する単官能アクリレート）、「ライトアクリレートＳ－Ａ」（ステアリルアクリレート）、「ライトアクリレートＥＣ－Ａ」（エトキシ－ジエチレングリコールアクリレート）、「ライトアクリレートＥＨＤＧ－ＡＴ」（２－エチルヘキシル－ジグリコールアクリレート）、「ライトアクリレートＤＰＭ－Ａ」（メトキシジプロピレングリコールアクリレート）、「ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ」（イソボルニルメタクリレート、即ち、脂環式基を有する単官能メタクリレート）、「ライトアクリレートＰＯ－Ａ」（フェノキシエチルアクリレート、即ち、芳香環を有する単官能アクリレート）、「ライトアクリレートＰ２Ｈ－Ａ」（フェノキシジエチレングリコールアクリレート）、「ライトアクリレートＰ－２００Ａ」（フェノキシ－ポリエチレングリコールアクリレート）、「ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ」（ｍ－フェノキシベンジルアクリレート）、「ライトアクリレートＴＦＨ－Ａ」（テトラヒドロフルフリルアクリレート）、「ライトエステルＨＯＰ－Ａ（Ｎ）」（２－ヒドロキシプロピルアクリレート）、「ＨＯＡ－ＭＳ（Ｎ）」（２－アクリロイロキシエチル－コハク酸）、「エポキシエステルＭ－６００Ａ」（２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート）、大阪有機化学工業社製「ＩＤＡＡ」（イソデシルアクリレート）、「ビスコート＃１５５」（シクロヘキシルアクリレート）、「ビスコート＃１６０」（ベンジルアクリレート）、「ビスコート＃１５０」（テトラヒドロフルフリルアクリレート）、「ビスコート＃１９０」（エチルカルビトールアクリレート）、「ＯＸＥ－１０」（３－エチル－３－オキセタニルメチルアクリレート、即ち、オキセタン環を有するアクリレート）、「ＭＥＤＯＬ－１０」（２－メチル－２－エチル－１、３－ジオキソラン－４－イル）メチルアクリレート、即ち、ジオキソラン環を有するアクリレート）、東亞合成社製「アロニックスＭ－１０１Ａ」（フェノールＥＯ変性アクリレート）、新中村化学工業社製「ＮＫエステルＡ－ＬＥＮ－１０」（エトキシ化ｏ－フェニルフェノールアクリレート）、「ＮＫエステルＥＨ－４Ｅ」（エトキシ化エチルヘキシルポリエチレングリコールメタクリレート）、日立化成社製「ＦＡ－５１１ＡＳ」（ジシクロペンテニルアクリレート）、「ＦＡ－５１２ＡＳ」（ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート）、「ＦＡ－５１３ＡＳ」（ジシクロペンタニルアクリレート）、アルケマ社製「ＳＲ２１７ＮＳ」（４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキサノールアクリレート）、「ＳＲ４２０ＮＳ」（３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールアクリレート）、「ＳＲ５３１」（環状トリメチロールプロパンフォルマルアクリレート）、「ＣＤ４２１」（３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールメタクリレート）、「ＣＤ５３５」（ジシクロペンタジエニルメタクリレート）、日本触媒社製「ＶＥＥＡ」（アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル）、「ＶＥＥＭ」（メタクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル）等が挙げられる。なお、「オクチル／デシルアクリレート」とは、オクチルアクリレートおよびデシルアクリレートの混合物を意味する。

希釈剤として使用する単官能（メタ）アクリレートとしては、特に脂環式構造を有する単官能メタクリレートが好ましい。脂環式構造は前述したのと同義である。市販の脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ボルナン環構造を有する共栄社化学社製「ライトエステルＩＢ－Ｘ」（イソボルニルメタクリレート）、「ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ」（イソボルニルメタクリレート）、シクロヘキシル構造を有する共栄社化学社製「ライトエステルＣＨ」（シクロヘキシルメタクリレート）、大阪有機化学工業社製「ビスコート＃１５５」（シクロヘキシルアクリレート）、アルケマ社製「ＳＲ２１７ＮＳ」（４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキサノールアクリレート）、「ＳＲ４２０ＮＳ」（３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールアクリレート）、「ＣＤ４２１」（３，３，５－トリメチルシクロヘキサノールメタクリレート）、「ＣＤ５３５」（ジシクロペンタジエニルメタクリレート）、ジシクロ環構造を有する日立化成社製「ＦＡ－５１１ＡＳ」（ジシクロペンテニルアクリレート）、「ＦＡ－５１２ＡＳ」（ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート）、「ＦＡ－５１３ＡＳ」（ジシクロペンタニルアクリレート）、アルケマ社製「ＣＤ５３５」（ジシクロペンタジエニルメタクリレート）、日本触媒社製「ＶＥＥＡ」（アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル）、「ＶＥＥＭ」（メタクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル）等が挙げられる。

希釈剤を使用する場合、その量（希釈剤として機能する「２官能エチレン性不飽和化合物」を含む場合は、その量も含む）は、組成物全体あたり、好ましくは２質量％以上、より好ましくは５質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上であり、好ましくは６０質量％以下、より好ましくは５５質量％以下、さらに好ましくは５０質量％以下である。

＜半焼成ハイドロタルサイト＞
本発明の組成物は、半焼成ハイドロタルサイトを含む。半焼成ハイドロタルサイトは、１種のみでもよく、２種以上でもよい。

ハイドロタルサイトは、未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイト、および焼成ハイドロタルサイトに分類することができる。

未焼成ハイドロタルサイトは、例えば、天然ハイドロタルサイト（Ｍｇ_６Ａｌ_２（ＯＨ）_１６ＣＯ_３・４Ｈ_２Ｏ）に代表されるような層状の結晶構造を有する金属水酸化物であり、例えば、基本骨格となる層［Ｍｇ_１－ＸＡｌ_Ｘ（ＯＨ）_２］^Ｘ＋と中間層［（ＣＯ_３）_Ｘ／２・ｍＨ_２Ｏ］^Ｘ－からなる。本発明における未焼成ハイドロタルサイトは、合成ハイドロタルサイト等のハイドロタルサイト様化合物を含む概念である。ハイドロタルサイト様化合物としては、例えば、下記式（Ｉ）および下記式（ＩＩ）で表されるものが挙げられる。

［Ｍ^２＋ _１－ｘＭ^３＋ｘ（ＯＨ）_２］^ｘ＋・［（Ａ^ｎ－）_ｘ／ｎ・ｍＨ_２Ｏ］^ｘ－ （Ｉ）
（式中、Ｍ^２＋はＭｇ_２＋、Ｚｎ^２＋などの２価の金属イオンを表し、Ｍ^３＋はＡｌ^３＋、Ｆｅ^３＋などの３価の金属イオンを表し、Ａ^ｎ－はＣＯ_３ ^２－、Ｃｌ^－、ＮＯ_３ ^－などのｎ価のアニオンを表し、０＜ｘ＜１であり、０≦ｍ＜１であり、ｎは正の数である。）
式（Ｉ）中、Ｍ^２＋は、好ましくはＭｇ^２＋であり、Ｍ^３＋は、好ましくはＡｌ^３＋であり、Ａ^ｎ－は、好ましくはＣＯ_３ ^２－である。

Ｍ^２＋ _ｘＡｌ_２（ＯＨ）_{２ｘ＋６－ｎｚ}（Ａ^ｎ－）_ｚ・ｍＨ_２Ｏ （ＩＩ）
（式中、Ｍ^２＋はＭｇ^２＋、Ｚｎ^２＋などの２価の金属イオンを表し、Ａ^ｎ－はＣＯ_３ ^２－、Ｃｌ^－、ＮＯ^３－などのｎ価のアニオンを表し、ｘは２以上の正の数であり、ｚは２以下の正の数であり、ｍは正の数であり、ｎは正の数である。）
式（ＩＩ）中、Ｍ^２＋は、好ましくはＭｇ^２＋であり、Ａ^ｎ－は、好ましくはＣＯ_３ ^２－である。

半焼成ハイドロタルサイトは、未焼成ハイドロタルサイトを焼成して得られる、層間水の量が減少または消失した層状の結晶構造を有する金属水酸化物をいう。「層間水」とは、組成式を用いて説明すれば、上述した未焼成の天然ハイドロタルサイトおよびハイドロタルサイト様化合物の組成式に記載の「Ｈ_２Ｏ」を指す。本発明は、この半焼成ハイドロタルサイトを使用することを特徴の一つとする。

一方、焼成ハイドロタルサイトは、未焼成ハイドロタルサイトまたは半焼成ハイドロタルサイトを焼成して得られ、層間水だけでなく、水酸基も縮合脱水によって消失した、アモルファス構造を有する金属酸化物をいう。

未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトおよび焼成ハイドロタルサイトは、飽和吸水率により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、１質量％以上２０質量％未満である。一方、未焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、１質量％未満であり、焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、２０質量％以上である。

本発明における「飽和吸水率」とは、未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトまたは焼成ハイドロタルサイトを天秤にて１．５ｇ量り取り、初期質量を測定した後、大気圧下、６０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）に設定した小型環境試験器（エスペック社製ＳＨ－２２２）に２００時間静置した場合の、初期質量に対する質量増加率を言い、下記式（ｉ）：
飽和吸水率（質量％）
＝１００×（吸湿後の質量－初期質量）／初期質量 （ｉ）
で求めることができる。

半焼成ハイドロタルサイトの飽和吸水率は、好ましくは３質量％以上２０質量％未満、より好ましくは５質量％以上２０質量％未満である。

また、未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトおよび焼成ハイドロタルサイトは、熱重量分析で測定される熱重量減少率により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトの２８０℃における熱重量減少率は１５質量％未満であり、かつその３８０℃における熱重量減少率は１２質量％以上である。一方、未焼成ハイドロタルサイトの２８０℃における熱重量減少率は、１５質量％以上であり、焼成ハイドロタルサイトの３８０℃における熱重量減少率は、１２質量％未満である。

熱重量分析は、日立ハイテクサイエンス社製ＴＧ／ＤＴＡ ＥＸＳＴＡＲ６３００を用いて、アルミニウム製のサンプルパンにハイドロタルサイトを５ｍｇ秤量し、蓋をせずオープンの状態で、窒素流量２００ｍＬ／分の雰囲気下、３０℃から５５０℃まで昇温速度１０℃／分の条件で行うことができる。熱重量減少率は、下記式（ｉｉ）：
熱重量減少率（質量％）
＝１００×（加熱前の質量－所定温度に達した時の質量）／加熱前の質量 （ｉｉ）
で求めることができる。

また、未焼成ハイドロタルサイト、半焼成ハイドロタルサイトおよび焼成ハイドロタルサイトは、粉末Ｘ線回折で測定されるピークおよび相対強度比により区別することができる。半焼成ハイドロタルサイトは、粉末Ｘ線回折により２θが８～１８°付近に二つにスプリットしたピーク、または二つのピークの合成によりショルダーを有するピークを示し、低角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度（＝低角側回折強度）と、高角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度（＝高角側回折強度）の相対強度比（低角側回折強度／高角側回折強度）は、０．００１～１，０００である。一方、未焼成ハイドロタルサイトは８～１８°付近で一つのピークしか有しないか、または低角側に現れるピークまたはショルダーと高角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度の相対強度比が前述の範囲外となる。焼成ハイドロタルサイトは８°～１８°の領域に特徴的ピークを有さず、４３°に特徴的なピークを有する。粉末Ｘ線回折測定は、粉末Ｘ線回折装置（PANalytical社製、Empyrean）により、対陰極ＣｕＫα（１．５４０５Å）、電圧：４５Ｖ、電流：４０ｍＡ、サンプリング幅：０．０２６０°、走査速度：０．０６５７°／ｓ、測定回折角範囲（２θ）：５．０１３１～７９．９７１１°の条件で行った。ピークサーチは、回折装置付属のソフトウエアのピークサーチ機能を利用し、「最小有意度：０．５０、最小ピークチップ：０．０１°、最大ピークチップ：１．００°、ピークベース幅：２．００°、方法：２次微分の最小値」の条件で行うことができる。

半焼成ハイドロタルサイトのＢＥＴ比表面積は、１～２５０ｍ^２／ｇが好ましく、５～２００ｍ^２／ｇがより好ましい。半焼成ハイドロタルサイトのＢＥＴ比表面積は、ＢＥＴ法に従って、比表面積測定装置（Ｍａｃｓｏｒｂ ＨＭ Ｍｏｄｅｌ １２１０ マウンテック社製）を用いて試料表面に窒素ガスを吸着させ、ＢＥＴ多点法を用いて算出することができる。

半焼成ハイドロタルサイトの平均粒子径は、１～１，０００ｎｍが好ましく、１０～８００ｎｍがより好ましい。半焼成ハイドロタルサイトの平均粒子径は、レーザー回折散乱式粒度分布測定（ＪＩＳ Ｚ ８８２５）により粒度分布を体積基準で作成したときの該粒度分布のメディアン径である。

半焼成ハイドロタルサイトは、表面処理剤で表面処理したものを用いることができる。表面処理に使用する表面処理剤としては、例えば、高級脂肪酸、アルキルシラン類、シランカップリング剤等を使用することができ、なかでも、高級脂肪酸、アルキルシラン類が好適である。表面処理剤は、１種または２種以上を使用できる。

高級脂肪酸としては、例えば、ステアリン酸、モンタン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸などの炭素数１８以上の高級脂肪酸が挙げられ、中でも、ステアリン酸が好ましい。これらは、１種または２種以上を使用できる。

アルキルシラン類としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ｎ－オクタデシルジメチル（３－（トリメトキシシリル）プロピル）アンモニウムクロライド等が挙げられる。これら、１種または２種以上を使用できる。

シランカップリング剤としては、例えば、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシランおよび２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ系シランカップリング剤；３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシランおよび１１－メルカプトウンデシルトリメトキシシランなどのメルカプト系シランカップリング剤；３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルジメトキシメチルシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランおよびＮ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルジメトキシメチルシランなどのアミノ系シランカップリング剤；３－ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド系シランカップリング剤、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルメチルジエトキシシランなどのビニル系シランカップリング剤；ｐ－スチリルトリメトキシシランなどのスチリル系シランカップリング剤；３－アクリルオキシプロピルトリメトキシシランおよび３－メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリレート系シランカップリング剤；３－イソシアネートプロピルトリメトキシシランなどのイソシアネート系シランカップリング剤、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィドなどのスルフィド系シランカップリング剤；フェニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、イミダゾールシラン、トリアジンシラン等を挙げることができる。これらは、１種または２種以上を使用できる。

半焼成ハイドロタルサイトの表面処理は、例えば、未処理の半焼成ハイドロタルサイトを混合機で常温にて攪拌分散させながら、表面処理剤を添加噴霧して５～６０分間攪拌することによって行なうことができる。混合機としては、公知の混合機を使用することができ、例えば、Ｖブレンダー、リボンブレンダー、バブルコーンブレンダー等のブレンダー、ヘンシェルミキサーおよびコンクリートミキサー等のミキサー、ボールミル、カッターミル等が挙げられる。又、ボールミルなどで半焼成ハイドロタルサイトを粉砕する際に、前記の高級脂肪酸、アルキルシラン類またはシランカップリング剤を添加し、表面処理を行うこともできる。表面処理剤の使用量は、半焼成ハイドロタルサイトの種類または表面処理剤の種類等によっても異なるが、表面処理されていない半焼成ハイドロタルサイト１００質量部に対して１～１０質量部が好ましい。本発明においては、表面処理された半焼成ハイドロタルサイトも、本発明における「半焼成ハイドロタルサイト」に包含される。

本発明の組成物における半焼成ハイドロタルサイトの量は、本発明の効果が発揮されれば、特に限定されるものではないが、組成物全体あたり、１０～７０質量％が好ましく、２５～６０質量％がより好ましく、３０～５０質量％がさらに好ましい。半焼成ハイドロタルサイトは吸湿性能に優れるため、その量が増えれば、得られる硬化物の水分遮断性は向上する。しかし、その量が７０質量％を超えると、組成物の粘度が上昇する、濡れ性の低下により封止対象である基板等と組成物との密着性が低下する、硬化物の強度が低下して脆くなる等の問題が生じる傾向となる。また、半焼成ハイドロタルサイトの層間水により、封止層（即ち、硬化物）中の水分量が多くなるため、例えば、有機ＥＬデバイスの製造において、封止層中の水分による発光材料（発光層）や電極層への悪影響が顕在化し、初期段階のダークスポット発生が多くなるといった懸念がある。

本発明の組成物は、本発明の効果が阻害されない限り、未焼成ハイドロタルサイトを含んでいてもよい。その量は、組成物全体あたり、０～２０質量％が好ましく、０がより好ましい。即ち、本発明の組成物が、未焼成ハイドロタルサイトを含まないことが最も好ましい。未焼成ハイドロタルサイトは、組成物の硬化物の透過率に影響を及ぼさないが、水分含有量が大きいため、増量することにより水分遮蔽性の低下がみられ、例えば、その量が質量％を超えると、半焼成ハイドロタルサイトと同様に初期段階のダークスポット発生が多くなるといった懸念がある。半焼成ハイドロタルサイト：未焼成ハイドロタルサイトの質量比は、好ましくは７０：３０～１００：０である。

半焼成ハイドロタルサイトとしては、例えば「ＤＨＴ－４Ｃ」（協和化学工業社製、平均粒子径：４００ｎｍ）、「ＤＨＴ－４Ａ－２」（協和化学工業社製、平均粒子径：４００ｎｍ）等が挙げられる。一方、焼成ハイドロタルサイトとしては、例えば「ＫＷ－２２００」（協和化学工業社製、平均粒子径：４００ｎｍ）等が挙げられ、未焼成ハイドロタルサイトとしては、例えば「ＤＨＴ－４Ａ」（協和化学工業社製、平均粒子径：４００ｎｍ）等が挙げられる。

＜ラジカル重合開始剤＞
本発明の組成物は、ラジカル重合開始剤を含む。ラジカル重合開始剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。ラジカル重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤でもよく、熱ラジカル重合開始剤でもよい。即ち、ラジカル重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤および／または熱ラジカル重合開始剤である。ラジカル重合開始剤は、好ましくは光ラジカル重合開始剤または熱ラジカル重合開始剤である。光ラジカル重合開始剤および熱ラジカル重合開始剤は、いずれも、１種のみでもよく、２種以上でもよい。

光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２－［４－（メチルチオ）メチル－１－フェニル］－２－モルフォリノプロパノン、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、２－エチルアントラキノン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルエトキシホスフィンオキシド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２－メチル－２－モルフォリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン、Ｎ，Ｎ’－オクタメチレンビスアクリジン、アクリロイルベンゾフェノン、２－（ベンゾイルオキシイミノ）－１－［４’－（フェニルチオ）フェニル］－１－オクタノン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２－メチル－１－[４－（メチルチオ）フェニル]－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モリフォリン－４－イルフェニル）－ブタノン、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（η^５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）フェニル）チタニウム、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン ２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、１－［６－（２－メチルベンゾイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン Ｏ－アセチルオキシム等が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製「Ｏｍｎｉｒａｄ６５１」、「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ１１７３」、「Ｏｍｎｉｒａｄ５００」、「Ｏｍｎｉｒａｄ２９５９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ１２７」、「Ｏｍｎｉｒａｄ７５４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ９０７」「Ｏｍｎｉｒａｄ３６９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ３７９」、「Ｏｍｎｉｒａｄ８１９」、「ＯｍｎｉｒａｄＴＰＯ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ７８４」、ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ－０１」、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ－０２」等が挙げられる。

熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物、有機過酸化物等が挙げられる。
アゾ化合物としては、例えば、２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、４，４’－アゾビス（４－シアノ吉草酸）、２，２’－アゾビス（２－メチル）二塩酸塩、１，１’－アゾビス（１－アセトキシ－１－フェニルエタン、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、ジメチル２，２’－アゾビス（イソブチレート）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオニトリル）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１－［（１－シアノ－１－メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２－フェニルアゾ－４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル、ジメチル ２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド等が挙げられる。

有機過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、１，１－ジ（ｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、ｎ－ブチル ４，４－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）バレート、２，２－ジ（４，４－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキシル）プロパン、ｐ－メンタンヒドロパーオキサイド、ジイソプロポキシルベンゼンパーオキサイド、１，１，３，３－テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ｔ－ブチルヒドロパーオキサイド、ジ（２－ｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジ－ｔ－ヘキシルパーオキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン－３、ジイソブチリルパーオキサイド、ジ（３，５，５－ｔ－メチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジサクシニック酸パーオキサイド、ジ（３－メチルベンゾイル）パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ－ｎ－プロピルパーオキシカーボネート、ジ－イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシカーボネート、ジ（２－エチルヘキシル）パーオキシカーボネート、ジ－ｓｅｃ－ブチルパーオキシカーボネート、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ－ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ－ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ－ブチルパーオキシピバレート、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシー２－エチルヘキサノエート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ヘキシルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシ－３，５，５－トリメチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシラウレート、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ－ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔ－ブチルパーオキシ－３－メチルベンゾエートとｔ－ブチルパーオキシベンゾエートの混合物、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ－ブチルパーオキシアリルモノカーボネート、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボル）ベンゾフェノン等が挙げられる。

熱ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、和光純薬工業社製「ＡＩＢＮ」（２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル））、「Ｖ－４０」（１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、「ＶＡｍ－１１０」（２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、「Ｖ－６０１」（ジメチル２，２’－アゾビス（イソブチレート））、大塚化学社製「ＯＴＡＺＯ－１５」（１，１’－アゾビス（１－アセトキシ－１－フェニルエタン）、「ＭＡＩＢ」（ジメチル２，２’－アゾビスイソブチレート）等が挙げられる。

ラジカル重合開始剤の量は、「エチレン性不飽和基を有する化合物」１００質量部に対して、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは０．５～８質量部、さらに好ましくは０．５～６質量部である。ここで、「エチレン性不飽和基を有する化合物」は、前述のとおり、「多官能エチレン性不飽和化合物」および「単官能エチレン性不飽和化合物」を含む。

光ラジカル重合開始剤を使用する場合、その量は、「エチレン性不飽和基を有する化合物」１００質量部に対して、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは０．５～８質量部、さらに好ましくは０．５～６質量部である。

熱ラジカル重合開始剤を使用する場合、その量は、「エチレン性不飽和基を有する化合物」１００質量部に対して、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは０．５～８質量部、さらに好ましくは０．５～６質量部である。

＜他の成分＞
本発明の組成物は、その効果を損なわない範囲で、上述の成分とは異なる他の成分を含有してもよい。

本発明の組成物は、硬化物の収縮を抑制する等の目的で、エポキシ樹脂を含有していてもよい。エポキシ樹脂は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。１分子中に１個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を「単官能エポキシ樹脂」と、１分子中に２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を「２官能エポキシ樹脂」と略称することがある。１分子中に３個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂も同様に略称することがある。

上述したように、１分子中に１個以上のエポキシ基および２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物は、本発明における多官能エチレン性不飽和化合物として機能し得るため、本発明では、上述の多官能エチレン性不飽和化合物に分類される。また、上述したように、１分子中に１個以上のエポキシ基および１個のエチレン性不飽和基を有する化合物は、本発明では、単官能エチレン性不飽和化合物に分類される。

エポキシ樹脂としては、例えば、水素添加エポキシ樹脂（水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等）、フッ素含有エポキシ樹脂、鎖状脂肪族型エポキシ樹脂、環状脂肪族型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂（例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル－ｐ－アミノフェノール、ジグリシジルトルイジン、ジグリシジルアニリン等）、脂環式エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のジグリシジルエーテル化物、およびアルコール類のジグリシジルエーテル化物、並びにこれらのエポキシ樹脂のアルキル置換体等が挙げられる。

エポキシ樹脂のエポキシ当量は、反応性等の観点から、好ましくは５０～１，０００、より好ましくは５０～７５０、さらに好ましくは１００～７５０、特に好ましくは１００～５００である。なお、「エポキシ当量」とは、１グラム当量のエポキシ基を含む樹脂のグラム数（ｇ／ｅｑ）であり、ＪＩＳ Ｋ ７２３６に規定された方法に従って測定される。

エポキシ樹脂は、好ましくは水素添加エポキシ樹脂、フッ素含有エポキシ樹脂、鎖状脂肪族型エポキシ樹脂、および環状脂肪族型エポキシ樹脂から選ばれる１種以上であり、より好ましくは水素添加エポキシ樹脂、フッ素含有エポキシ樹脂、および環状脂肪族型エポキシ樹脂から選ばれる１種以上であり、さらに好ましくは水素添加エポキシ樹脂および環状脂肪族型エポキシ樹脂から選ばれる１種以上である。ここで、「水素添加エポキシ樹脂」とは、芳香環含有エポキシ樹脂を水素添加して得られるエポキシ樹脂を意味する。水素添加エポキシ樹脂の水添化率は、好ましくは５０％以上、より好ましくは７０％以上である。「鎖状脂肪族型エポキシ樹脂」とは、直鎖状または分岐状のアルキル鎖、またはアルキルエーテル鎖を持つエポキシ樹脂を意味し、「環状脂肪族型エポキシ樹脂」とは、分子内に環状脂肪族骨格、例えばシクロアルカン骨格を持つエポキシ樹脂を意味する。

水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、例えば、液状水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（例えば、「ＹＸ８０００」（三菱化学社製、エポキシ当量：約２０５）、「デナコールＥＸ－２５２」（ナガセケムテックス社製、エポキシ当量：約２１３））、固形水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（例えば、「ＹＸ８０４０」（三菱化学社製、エポキシ当量：約１０００））が挙げられる。

フッ素含有エポキシ樹脂は、例えば、ＷＯ２０１１／０８９９４７に記載のフッ素含有エポキシ樹脂を用いることができる。

鎖状脂肪族型エポキシ樹脂としては、例えば、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－５１２」、「デナコールＥＸ－５２１」、ナガセケムテックス社製）、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－４１１」、ナガセケムテックス社製）、ジグリセロールポリグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－４２１」、ナガセケムテックス社製）、グリセロールポリグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－３１３」、「デナコールＥＸ－３１４」、ナガセケムテックス社製）、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－３２１」、ナガセケムテックス社製）、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－２１１」、ナガセケムテックス社製）、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－２１２」、ナガセケムテックス社製）、エチレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－８１０」、「デナコールＥＸ－８１１」、ナガセケムテックス社製）、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－８５０」、「デナコールＥＸ－８５１」、ナガセケムテックス社製）、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－８２１」、「デナコールＥＸ－８３０」、「デナコールＥＸ－８３２」、「デナコールＥＸ－８４１」、「デナコールＥＸ－８６１」、ナガセケムテックス社製）、プロピレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－９１１」、ナガセケムテックス社製）、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、「デナコールＥＸ－９４１」、「デナコールルＥＸ－９２０」、「デナコールＥＸ－９３１」、ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。

環状脂肪族型エポキシ樹脂としては、例えば、ダイセル化学工業社製「ＥＨＰＥ－３１５０」等が挙げられる。

エポキシ樹脂を使用する場合、その量は、組成物全体あたり、好ましくは５～４０質量％、より好ましくは５～３５質量％、さらに好ましくは５～３０質量％である。

本発明の組成物は、光カチオン重合開始剤を含有していてもよい。光カチオン重合開始剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。

光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族アンモニウム塩、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）（（１－メチルエチル）ベンゼン）－Ｆｅ塩等が挙げられる。

芳香族スルホニウム塩としては、例えば、ビス（４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ビス（４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドビステトラフルオロボレート、ビス（４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（４－（ジ（４－（２－ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ビス（４－（ジ（４－（２－ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４－（ジ（４－（２－ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドビステトラフルオロボレート、ビス（４－（ジ（４－（２－ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル）スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。

芳香族ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。

芳香族ジアゾニウム塩としては、例えば、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニルジアゾニウムテトラフルオロボレート、フェニルジアゾニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。

芳香族アンモニウム塩としては、例えば、１－ベンジル－２－シアノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウムテトラフルオロボレート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウムテトラフルオロボレート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。

（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）（（１－メチルエチル）ベンゼン）－Ｆｅ塩としては、例えば、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）（（１－メチルエチル）ベンゼン）－Ｆｅ（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）（（１－メチルエチル）ベンゼン）－Ｆｅ（ＩＩ）ヘキサフルオロアンチモネート、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）（（１－メチルエチル）ベンゼン）－Ｆｅ（ＩＩ）テトラフルオロボレート、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）（（１－メチルエチル）ベンゼン）－Ｆｅ（ＩＩ）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。

光カチオン重合開始剤の市販品としては、例えば、ＡＤＥＫＡ社製「ＳＰ－１５０」、「ＳＰ－１７０」、「ＳＰ－０８２」、「ＳＰ－１０３」、サンアプロ社製「ＣＰＩ－１００Ｐ」、「ＣＰＩ－１０１Ａ」、「ＣＰＩ－２００Ｋ」、ＩＧＭ ｒｅｓｉｎｓ社製「Ｏｍｎｉｒａｄ２７０」、「Ｏｍｎｉｒａｄ２９０」等が挙げられる。

光カチオン重合開始剤を使用する場合、その量は、エポキシ基を有する化合物の合計（例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリレートおよびエポキシ樹脂の合計）１００質量部に対して、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは１．０～８量部、さらに好ましくは２．０～６質量部である。

本発明の組成物は、シランカップリング剤を含有していてもよい。シランカップリング剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。

シランカップリング剤としては、例えば、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシランおよび２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ系シランカップリング剤；３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシランおよび１１－メルカプトウンデシルトリメトキシシランなどのメルカプト系シランカップリング剤；３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルジメトキシメチルシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランおよびＮ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルジメトキシメチルシランなどのアミノ系シランカップリング剤；３－ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド系シランカップリング剤；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルメチルジエトキシシランなどのビニル系シランカップリング剤；ｐ－スチリルトリメトキシシランなどのスチリル系シランカップリング剤；３－アクリルオキシプロピルトリメトキシシランおよび３－メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリレート系シランカップリング剤；３－イソシアネートプロピルトリメトキシシランなどのイソシアネート系シランカップリング剤；ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィドなどのスルフィド系シランカップリング剤；フェニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、イミダゾールシラン、トリアジンシラン等を挙げることができる。これらの中で、アクリレート系シランカップリング剤が好ましい。

シランカップリング剤の市販品としては、例えば、信越化学社製「ＫＢＭ－５０２」、「ＫＢＭ－５０３」、「ＫＢＥ－５０２」、「ＫＢＥ－５０３」、「ＫＢＭ－５１０３」、「ＫＢＭ－５８０３」等が挙げられる。

シランカップリング剤を使用する場合、その量は、組成物全体あたり、好ましくは０．１０～５．００質量％、より好ましくは０．２５～３．００質量％、さらに好ましくは０．３０～２．００質量％である。

本発明の組成物は、重合禁止剤を含有していてもよい。重合禁止剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。

重合禁止剤としては、例えば、ｔ－ブチルヒドロキノン、ｐ－ベンゾキノン、ヒドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、Ｎ，Ｎ－ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩等が挙げられる。重合禁止剤の市販品としては、例えば、和光純薬工業社製「Ｑ－１３０１」、「ＴＢＨＱ」、「ＰＢＱ２」、「ＤＥＨＡ」、「ＭＥＨＱ」、川崎化成工業社製「ＱＳ－１０」等が挙げられる。

重合禁止剤を使用する場合、その量は、「エチレン性不飽和基を有する化合物」１００質量部に対して、好ましくは１０～２００ｐｐｍ、より好ましくは５０～１００ｐｐｍである。なお、前記「ｐｐｍ」は質量基準である。ここで、「エチレン性不飽和基を有する化合物」は、前述のとおり、「多官能エチレン性不飽和化合物」および「単官能エチレン性不飽和化合物」を含む。

＜硬化物層の全光線透過率＞
本発明の組成物の硬化物層（厚さ：２０μｍ）のＤ６５光での全光線透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。

硬化物層のＤ６５光での全光線透過率は、後述する実施例に記載するように、ガラス板の間に組成物の硬化物が挟まれた積層体を形成し、空気をリファレンスとすることによって算出される。なお、上述したＤ６５光での全光線透過率の値は、厚さが２０μｍである硬化物層の測定値であるが、硬化物層の厚さは、一般には３～２００μｍである。

＜硬化物層のヘーズ＞
本発明の組成物の硬化物層（厚さ：２０μｍ）のヘーズは、好ましくは３．０％未満である。

硬化物層のヘーズは、後述する実施例に記載するように、ガラス板の間に組成物の硬化物が挟まれた積層体を形成し、空気をリファレンスとすることによって算出される。なお、上述したヘーズの値は、厚さが２０μｍである硬化物層の測定値であるが、硬化物層の厚さは、一般には３～２００μｍである。

全光線透過率が８５％以上でヘーズが３．０％未満である硬化物層は、目視において透明であると認識できる。

＜有機ＥＬデバイス＞
本発明の組成物の硬化物で有機ＥＬ素子が封止された有機ＥＬデバイスは、例えば、基板上の有機ＥＬ素子の上から本発明の組成物を塗布した後、該組成物を硬化させることによって製造することができる。

本発明の組成物が光ラジカル重合開始剤を含む場合、硬化は、該組成物に紫外線を照射することによって行うことができる。紫外線照射のための装置としては、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルはライドランプ、低圧水銀灯、ＬＥＤ光源等が挙げられる。紫外線照射時の組成物の温度は、好ましくは２０～１２０℃、より好ましくは２５～１１０℃である。紫外線の積算照射量は、好ましくは５００～４０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１０００～３５００ｍＪ／ｃｍ^２である。

本発明の組成物が熱ラジカル重合開始剤を含む場合、硬化は、乾燥機等を用いて該組成物を加熱することによって行うことができる。加熱温度は、好ましくは８０～１２０℃、より好ましくは１００～１１０℃であり、加熱時間は、好ましくは１５～１２０分、より好ましくは３０～９０分である。この加熱は、大気雰囲気下で行ってもよく、不活性ガス（例えば、窒素ガス）雰囲気下で行ってもよい。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、上記・下記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
なお、以下に記載の量における「部」、並びに飽和吸水率および熱重量減少率における「％」は、特段の記載が無い限り、それぞれ「質量部」および「質量％」を意味する。また、「室温」とは、２０～３０℃を意味する。

以下の実施例および比較例で希釈剤として使用した単官能アクリレート（協栄社化学社製「ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ」）の粘度を、２５℃の温度条件下Ｂ型粘度計で測定した。その結果、粘度は１０ｍＰａ・ｓであった。

＜実施例１＞
６官能アクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ－６０」）２０部と、脂環式骨格を有する２官能アクリレート（ダイセル・オルネクス社製「ＩＲＲ２１４－Ｋ」）１００部と、２官能アクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート、ダイセル・オルネクス社製「ＥＢＥＣＲＹＬ６００」）５０部と、シランカップリング剤（信越シリコーン社製「ＫＢＭ－５１０３」）２部と、市販の半焼成ハイドロタルサイト（ＢＥＴ比表面積：１５ｍ^２／ｇ、平均粒子径：４００ｎｍ）９６部とを混練した後、３本ロールミルにて分散を行い、混合物を得た。次いで得られた混合物に、脂環式骨格を有する単官能アクリレート（協栄社化学社製「ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ」）（希釈剤）５０部と２官能アクリレート（共栄社化学社製「ライトアクリレートＮＰ－Ａ」）（希釈剤としても機能する）５０部と熱ラジカル重合開始剤（和光純薬工業社製「Ｖ－６０１」）２部とを配合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、組成物を得た。

＜実施例２＞
半焼成ハイドロタルサイトの量を１７０部に変更したこと以外は実施例１と同様にして、組成物を得た。

＜実施例３＞
６官能アクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ－６０」）２０部と、脂環式骨格を有する２官能アクリレート（ダイセル・オルネクス社製「ＩＲＲ２１４－Ｋ」）８０部と、ＵＶＡＣＵＲＥ１５６１（ダイセル・オルネクス社製、エポキシ基および１分子中に１個のアクリロイル基を有する化合物（含有量：７８～８２％）とビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（含有量：１８～２２％）との混合物）２０部と、液状水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製「ＹＸ８０００」）３０部と、シランカップリング剤（信越シリコーン社製「ＫＢＭ－５１０３」）２部と、市販の半焼成ハイドロタルサイト（ＢＥＴ比表面積：１５ｍ^２／ｇ、平均粒子径：４００ｎｍ）１５０部とを混練した後、３本ロールミルにて分散を行い、混合物を得た。次いで、得られた混合物に、脂環式骨格を有する単官能アクリレート（共栄社化学社製「ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ」）１００部と、熱ラジカル重合開始剤（和光純薬工業社製「Ｖ－６０１」）とを配合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、組成物を得た。

＜実施例４＞
半焼成ハイドロタルサイトの量を９６部に変更したことと、熱ラジカル重合開始剤２部を光ラジカル重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「Ｏｍｎｉｒａｄ ＯＸＥ－０１」）２部に変更したこと以外は実施例３と同様にして、組成物を得た。

＜実施例５＞
光カチオン重合開始剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＳＰ－１５２」）２部をさらに添加したこと以外は実施例４と同様にして、組成物を得た。

＜比較例１＞
半焼成ハイドロタルサイト９６部を酸化マグネシウム（ＢＥＴ比表面積：８．９ｍ^２／ｇ、平均粒子径：５００ｎｍ）９６部に変更したこと以外は実施例１と同様にして、組成物を得た。

＜比較例２＞
脂環式骨格を有する２官能エポキシ樹脂（アデカ社製「ＥＰ４０８８ＳＳ」）１００部と、４官能エポキシ樹脂（三菱化学社製「ｊＥＲ６０４」）２０部と、２官能エポキシ樹脂（新日鉄住金化学社製「ＺＸ－１０５９」）１００部と、シランカップリング剤（信越シリコーン社製「ＫＢＭ－４０３」）２部と、市販の半焼成ハイドロタルサイト（ＢＥＴ比表面積：１５ｍ^２／ｇ、平均粒子径：４００ｎｍ）９６部とを混練した後、３本ロールミルにて分散を行い、混合物を得た。次いで、得られた混合物に、単官能エポキシ樹脂（ナガセケムテックス社製「ＥＸ－１２１」）５０部と、熱アニオン重合開始剤（北興化学工業社製「ＴＢＰＤＡ」）２部とを配合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、組成物を得た。

＜ハイドロタルサイトの吸水率＞
実施例および比較例で用いたハイドロタルサイトを天秤にて１．５ｇ量りとり、初期質量を測定した。大気圧下、６０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）に設定した小型環境試験器（エスペック社製 ＳＨ－２２２）に２００時間静置して、吸湿後の質量を測定し、上記式（ｉ）を用いて飽和吸水率を求めた。結果を表１に示す。

＜ハイドロタルサイトの熱重量減少率＞
日立ハイテクサイエンス社製ＴＧ／ＤＴＡ ＥＸＳＴＡＲ６３００を用いて、実施例および比較例で用いたハイドロタルサイトの熱重量分析を行った。アルミニウム製のサンプルパンにハイドロタルサイトを１０ｍｇ秤量し、蓋をせずオープンの状態で、窒素流量２００ｍＬ／分の雰囲気下で、３０℃から５５０℃まで１０℃／分で昇温した。上記式（ｉｉ）を用いて、２８０℃および３８０℃における熱重量減少率を求めた。結果を表１に表す。

＜粉末Ｘ線回折＞
粉末Ｘ線回折の測定は、粉末Ｘ線回折装置（ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社製，Ｅｍｐｙｒｅａｎ）により、対陰極ＣｕＫα（１．５４０５Å）、電圧：４５Ｖ、電流：４０ｍＡ、サンプリング幅：０．０２６０°、走査速度：０．０６５７°／ｓ、測定回折角範囲（２θ）：５．０１３１～７９．９７１１°の条件で行った。ピークサーチは、回折装置付属のソフトウエアのピークサーチ機能を利用し、「最小有意度：０．５０、最小ピークチップ：０．０１°、最大ピークチップ：１．００°、ピークベース幅：２．００°、方法：２次微分の最小値」の条件で行った。２θが８～１８°の範囲内で現れたスプリットした二つのピーク、または二つのピークの合成によりショルダーを有するピークを検出し、低角側に現れたピークまたはショルダーの回折強度（＝低角側回折強度）と、高角側に現れるピークまたはショルダーの回折強度（＝高角側回折強度）を測定し、相対強度比（＝低角側回折強度／高角側回折強度）を算出した。結果を表１に表す。

飽和吸水率、熱重量減少率および粉末Ｘ線回折の結果より、実施例および比較例で用いたハイドロタルサイトが「半焼成ハイドロタルサイト」であることを確認した。

＜組成物の硬化物層の全光線透過率およびヘーズ＞
実施例および比較例で作製した組成物を無アルカリガラス板（長さ５０ｍｍ、幅５０ｍｍ、厚さ７００μｍ、日本電気硝子社製ＯＡ－１０Ｇ）に滴下した後、同サイズの無アルカリガラス板を重ねて積層体（無アルカリガラス板／樹脂組成物層／無アルカリガラス板）を調製した。次いで実施例１～３並びに比較例１および２では、該積層体を１００℃３０分間加熱することで組成物を硬化させることによって、評価用サンプル（硬化物の厚さ：２０μｍ）を作製した。また、実施例４および５では、室温で、ＵＶ－ＬＥＤ（ウシオ社製、波長３６５ｎｍ）を用いて積算照射量が３,０００ｍＪ／ｃｍ^２になるまで紫外線を該積層体に照射して組成物を硬化させることによって、評価用サンプル（硬化物の厚さ：２０μｍ）を作製した。

スガ試験機社製ヘーズメーター ＨＺ－Ｖ３（ハロゲンランプ）を用いて、空気をリファレンスとして、Ｄ６５光にて、評価用サンプルの全光線透過率およびヘーズを測定し、以下の基準で評価した。結果を表２に示す。
（全光線透過率の基準）
良好（○）：９０％以上
可（△）：９０％未満、８５％以上
不良（×）：８５％未満
（ヘーズの基準）
良好（○）：２．５％未満
可（△）：２．５％以上、３．０％未満
不良（×）：３．０％以上

＜デバイス信頼性試験（残存発光面積率）＞
有機ＥＬ素子を用いて、組成物の封止性を評価した。詳しくは、まず酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）付ガラス基板（ジオマテック社製）に発光面積が４ｍｍ^２となるように有機ＥＬ素子（有機膜の厚さ：１１０ｎｍ、Ａｌ陰極の厚さ：１００ｎｍ）を形成した。次に有機ＥＬ素子上に化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いて窒化膜（厚さ：５００ｎｍ）を形成した。

次いで、実施例２～５で作製した組成物を、窒化膜付の有機ＥＬ素子に滴下した後、その上から無アルカリガラス板を重ねて積層体（無アルカリガラス板／組成物層／窒化膜付の有機ＥＬ素子／ＩＴＯ付ガラス基板）を調製した。実施例２および３では、該積層体を１００℃３０分間加熱して組成物を硬化させることで、有機ＥＬ素子を封止した積層体を製造した（硬化物の厚さ：１００μｍ）。実施例４および５では、室温でＵＶ－ＬＥＤ（ウシオ社製、３６５ｎｍ）を用いて積算照射量が３,０００ｍＪ／ｃｍ^２になるまで紫外線を該積層体に照射して組成物を硬化させることによって、有機ＥＬ素子を封止した積層体を製造した（硬化物の厚さ：１００μｍ）。

封止した有機ＥＬ素子に電圧を印加し、恒湿恒温槽中で保管する前の初期発光面積を測定した。次いで、有機ＥＬ素子を封止した積層体を温度８５℃および湿度８５％ＲＨに設定した恒湿恒温槽中で保管した。保管してから１０００時間後に積層体を恒湿恒温槽から取り出し、有機ＥＬ素子に電圧を印加し、保管後の発光面積を測定した。

封止層（硬化物）のバリア性を比較する指標として、残存発光面積率を下記式：
残存発光面積率（％）＝１００×（保管後の発光面積）／（初期発光面積）
から算出し、以下の基準で評価した。結果を表２に示す。
（残存発光面積率の基準）
非常に良好（◎）：９５％以上
良好（○）：８５％以上９５％未満
可（△）：７５％以上８５％未満
不良（×）：７５％未満

本発明の封止用の組成物によれば、水分遮断性および透明性の両方に優れる封止層を形成することができる。そのため、本発明の封止用の組成物は、有機ＥＬ素子等の水分に弱い素子の封止に好適に用いることができる。

本願は、日本で出願された特願２０１７－０７１９８５号を基礎としており、その内容は本願明細書に全て包含される。

Claims (16)

1. １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、半焼成ハイドロタルサイトおよびラジカル重合開始剤を含む封止用の組成物。
2. １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物が、１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を含む請求項１に記載の組成物。
3. １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物が、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基および脂環式構造を有する化合物を含む請求項１または２に記載の組成物。
4. さらに１分子中に１個のエチレン性不飽和基を有する化合物を含む請求項１～３のいずれか一項に記載の組成物。
5. １分子中に１個のエチレン性不飽和基を有する化合物のエチレン性不飽和基が（メタ）アクリロイル基である請求項４に記載の組成物。
6. １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物のエチレン性不飽和基が（メタ）アクリロイル基である請求項１～５のいずれか一項に記載の組成物。
7. １分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物の量が、組成物全体あたり、２０～７８質量％である請求項１～６のいずれか一項に記載の組成物。
8. 半焼成ハイドロタルサイトの量が、組成物全体あたり、１０～７０質量％である請求項１～７のいずれか一項に記載の組成物。
9. ラジカル重合開始剤が、光ラジカル重合開始剤および／または熱ラジカル重合開始剤である請求項１～８のいずれか一項に記載の組成物。
10. ラジカル重合開始剤の量が、エチレン性不飽和基を有する化合物１００質量部に対して、０．５～１０質量部である請求項１～９のいずれか一項に記載の組成物。
11. さらにシランカップリング剤を含む請求項１～１０のいずれか一項に記載の組成物。
12. 厚さが２０μｍである組成物の硬化物層のＤ６５光での全光線透過率が、８５％以上である請求項１～１１のいずれか一項に記載の組成物。
13. 厚さが２０μｍである組成物の硬化物層のヘーズが、３．０％未満である請求項１～１２のいずれか一項に記載の組成物。
14. ２５℃および１気圧で流動性を有する請求項１～１３のいずれか一項に記載の組成物。
15. 有機ＥＬ素子の封止用である請求項１～１４のいずれか一項に記載の組成物。
16. 請求項１～１５のいずれか一項に記載の組成物の硬化物で有機ＥＬ素子が封止された有機ＥＬデバイス。