JP6929266B2 - 光電変換装置、光電変換システム、移動体 - Google Patents
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Description
以下、図1から図5を参照しながら第1の実施形態の光電変換装置100について説明する。図1は、光電変換装置100のブロック図である。図2は、光電変換装置100の画素領域1に含まれる3行3列分の画素10の等価回路図である。図3は、光電変換装置100の動作の一例を示す駆動タイミング図である。図4は、図2の画素の配置図である。図5は、図4のA−Bにおける断面模式図である。
図6及び図7に、第1の実施形態の変形例の一例を示す。図6は平面図であり、図7は図6のC−D断面図である。
図8、図9を用いて第2の実施形態の光電変換装置について説明する。図8の画素領域の回路図において第1の実施形態の図2と異なる点は、フローティングディフュージョンFDとリセットトランジスタRSとに接続された容量付加トランジスタAD(第3トランジスタ)が追加されている点である。
図10及び図11を用いて第3の実施形態の光電変換装置について説明する。図10の画素回路図において第1の実施形態の図2と異なる点は、1つの画素が複数の光電変換部PDA、PDB及び複数の電荷保持部MEMA、MEMBを含む点である。そして、複数の電荷保持部MEMAとMEMBとがフローティングディフュージョンFD以降の回路要素を共有する構成を採用している。光電変換装置の解像度を向上させる目的として、複数の光電変換部PDを含む場合に画素のサイズを縮小することがある。この場合は、画素の読み出し回路の配置面積を低減するために、複数の光電変換部PDでフローティングディフュージョンFD以降の各トランジスタを共有する手法がしばしば取られる。
図12に、第4の実施形態に係る光電変換装置の断面図を示す。本実施形態に係る光電変換装置は、図4に示す画素回路と回路構成は同じであるが、半導体基板の第1面に対向する第2面から光が入射する点で第1の実施形態に係る光電変換装置と異なる。また、本実施形態に係る光電変換装置は、半導体基板のコンタクトが接続される側の面とは反対側の面の側にも遮光部材70が配されている点で異なる。遮光部材70は平面視で光電変換部PDに重なる領域に開口が設けられている。
本実施形態による光電変換システムについて、図13を用いて説明する。図13は、本実施形態による光電変換システムの概略構成を示すブロック図であり、光電変換装置201には、上記第1乃至第4の実施形態のいずれかに記載の光電変換装置を用いることができる。
図14を参照しながら、本実施形態に係る移動体について説明する。
本発明は、上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。例えば、いずれかの実施形態の一部の構成を他の実施形態に追加した例や、他の実施形態の一部の構成と置換した例も、本発明の実施形態である。
MEM 電荷保持部
FD フローティングディフュージョン
RS リセットトランジスタ
SF 増幅トランジスタ
SL 選択トランジスタ
U4 部分領域
LS 遮光部材
Claims (10)
- 光電変換部と、平面視で前記光電変換部と並んで配され且つ前記光電変換部の電荷を保持する電荷保持部と、前記電荷保持部から電荷が転送されるフローティングディフュージョンと、共通の活性領域に形成された第1トランジスタおよび第2トランジスタと、をそれぞれが含む複数の画素を備え、
前記活性領域は、前記第1トランジスタの一部および前記第2トランジスタの一部である部分領域を含み、
前記部分領域は、平面視で第1方向に延在する第1領域と、前記第1領域に接続され、平面視で前記第1方向に交わる第2方向に延在する第2領域と、前記第2トランジスタの一部であって、前記第2領域に接続され、平面視で前記第1方向とは反対の第3方向に延在する第3領域とを備え、
平面視で、前記複数の画素のうちの第1画素の前記部分領域は、前記第1画素の前記第1トランジスタのゲートと前記複数の画素のうちの前記第1画素に隣り合う第2画素の前記電荷保持部との間と、前記第1画素の前記第2トランジスタのゲートと前記第2画素の前記電荷保持部との間に配され、
前記部分領域は、前記第2画素の前記電荷保持部の第1の辺に隣接して配され、
前記第1トランジスタに接続される第1コンタクトプラグと、前記第2トランジスタに接続される第2コンタクトプラグと、を有し、
遮光部材は、平面視で、前記第1コンタクトプラグおよび前記第2コンタクトプラグに重なる領域に開口を有し、
平面視で、前記第1画素の前記開口と前記第2画素の前記電荷保持部との間に前記第1画素の前記部分領域が配され、
前記第1トランジスタは、リセットトランジスタであり、
前記第2トランジスタは、増幅トランジスタであり、
前記部分領域に平面視で重なる領域に前記遮光部材が配されていることを特徴とする光電変換装置。 - 光電変換部と、平面視で前記光電変換部と並んで配され且つ前記光電変換部で生じた電荷を保持する電荷保持部と、前記電荷保持部から電荷が転送されるフローティングディフュージョンと、共通の活性領域に形成された第1トランジスタおよび第2トランジスタと、前記フローティングディフュージョンに接続され、前記フローティングディフュージョンの容量値を変更する第3トランジスタと、をそれぞれが含む複数の画素を備え、
前記活性領域は、前記第1トランジスタの一部および前記第2トランジスタの一部である部分領域を含み、
前記部分領域は、平面視で第1方向に延在する第1領域と、前記第1領域に接続され、平面視で前記第1方向に交わる第2方向に延在する第2領域と、前記第2トランジスタの一部であって、前記第2領域に接続され、平面視で前記第1方向とは反対の第3方向に延在する第3領域とを備え、
平面視で、前記複数の画素のうちの第1画素の前記部分領域は、前記第1画素の第1トランジスタのゲートと前記複数の画素のうちの前記第1画素に隣り合う第2画素の前記電荷保持部との間と、前記第1画素の前記第2トランジスタのゲートと前記第2画素の前記電荷保持部との間に配され、
前記部分領域は、前記第2画素の前記電荷保持部の第1の辺に隣接して配され、
前記第1トランジスタに接続される第1コンタクトプラグと、前記第2トランジスタに接続される第2コンタクトプラグと、を有し、
遮光部材は、平面視で、前記第1コンタクトプラグおよび前記第2コンタクトプラグに重なる領域に開口を有し、
平面視で、前記第1画素の前記開口と前記第2画素の前記電荷保持部との間に前記第1画素の部分領域が配され、
前記部分領域に平面視で重なる領域に前記遮光部材が配されていることを特徴とする光電変換装置。 - 前記光電変換部、前記電荷保持部、前記フローティングディフュージョン、前記第1トランジスタのチャネル、および前記第2トランジスタのチャネルは、半導体基板に含まれ、
前記半導体基板の第1面に前記第1トランジスタのゲートが配され、
前記遮光部材は、前記半導体基板の前記第1面の側に配され、
平面視における前記開口から前記第2画素の電荷保持部までの距離は、前記遮光部材から前記半導体基板の前記第1面までの距離の15倍以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の光電変換装置。 - 前記複数の画素のそれぞれは、選択トランジスタを含み、
前記遮光部材の前記開口は、平面視で、前記選択トランジスタに接続される第3コンタクトプラグに重なる領域に配されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 1つの前記開口に重なる領域に、前記第1コンタクトプラグ、前記第2コンタクトプラグ、および前記第3コンタクトプラグが配されていることを特徴とする請求項4に記載の光電変換装置。
- 前記第1トランジスタのチャネルと前記第2トランジスタのチャネルとの間には絶縁体が配されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記第1の辺に隣接して前記第1画素の前記光電変換部が配されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 平面視で前記電荷保持部は前記光電変換部に重ならない領域に配されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光電変換装置と、
前記光電変換装置からの信号を処理する処理装置と、を有する光電変換システム。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光電変換装置と、
前記光電変換装置からの信号に基づく視差情報から、対象物までの距離情報を取得する距離情報取得手段と、
前記距離情報に基づいて移動体を制御する制御手段と、を有する移動体。
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