JP6743341B2 - ベゼルパターン用感光性着色インク組成物、これを用いて形成されたベゼルパターン及びこれを含むディスプレイ基板 - Google Patents

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Description

本出願は、2014年12月11日付けの韓国特許出願第10−2014−0178523号及び2015年12月10日付けの韓国特許出願第10−2015−0175947号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は、本明細書の一部として含まれている。
本発明は、ディスプレイ素子のベゼルパターンを印刷するためのベゼル用感光性着色インク組成物、この組成物を用いてベゼルパターンを形成する方法、これを用いて形成されたベゼルパターン、及びこれを含むディスプレイ基板に関する。
最近、ディスプレイ機器において、軽量化及び薄化を達成することが重要な目標となっており、そのために、ディスプレイ機器の外郭にベゼルがない、いわゆる「ベゼルレス」タイプのディスプレイ機器が生産されている。この際、基板の外郭に位置した回路配線が機器の前面に透過して見える問題が生じるので、基板上に薄い薄膜形態のベゼルパターンを印刷する方法が使用できる。前記ベゼルパターンの形成のためにフォトリソグラフィー方法やスクリーン印刷方法が使用できるが、フォトリソグラフィー方法の場合は、パターン形成のための製造コストが高く、工程が複雑であり、スクリーン印刷方法の場合は、インク組成物の高い粘度により膜厚10ミクロン以上のパターンが形成されやすくて段差が発生するだけでなく、複雑で微細なパターンの形成に制約があり、他の方法の使用が求められている。
特に、更なる薄化のために、ディスプレイ基板とベゼルを1つの基材に構成することができるが、この際、図1のように基材の下端(内側面)にはディスプレイピクセル回路部が位置し、上端(外側面)にはベゼルが印刷され、印刷後にベゼルを硬化させるとき、材料の収縮が進行してベゼルの内部に応力が残留することにより、ガラス基材との接着力が弱くなるおそれがある。したがって、ベゼルの保護または他の付加的な機能のためにベゼルの上面に別途のフィルムを付着させるが、この際、ベゼルとフィルムとの接着力がベゼルと基材との接着力よりも一層大きい場合、図2に示すようにベゼル/基材面から剥離が発生することがある。これを防止するために、通常、シランカップリング剤などの密着増進剤を投入することができるが、高温焼成が必要であるため、ディスプレイにダメージ(damage)を与える可能性があるので、常温で薄膜ベゼルと基材との付着力を増加させる方法が求められている。
上述した従来技術の問題点を解決するために、本発明は、基材上に付着信頼性に優れたベゼルパターンを形成するためのベゼル用感光性着色インク組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、前記組成物を使用することにより、通常100℃またはそれ以上の温度で行う高温処理工程なしでも、基材上に付着信頼性に優れたベゼルを製造する方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明は、(A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体、(B)カチオン重合性脂肪族エポキシ単量体、(C)オキセタン単量体、(D)光重合開始剤、及び(E)着色剤を含む、ベゼル用感光性着色インク組成物を提供する。
また、本発明は、前記インク組成物を用いて基材上にベゼルパターンを形成することを特徴とする、ディスプレイ基板のベゼルの製造方法を提供する。
また、本発明は、前記ベゼル用感光性着色インク組成物が硬化されて基材上に形成されたディスプレイ基板用ベゼルパターンを提供する。
また、本発明は、前記ベゼルパターンを含むディスプレイ基板を提供する。
本発明に係るベゼル用感光性着色インク組成物は、有機シラン及びグリシジルエーテル樹脂を3〜25%含むことにより形成されたベゼルが高温焼成なしでも基材に対して優れた付着性を示す。
本発明に係るベゼル用感光性着色インク組成物で形成されたベゼルは、高温高湿条件下でもベゼルが破壊されない優れた信頼性を示すことにより、ベゼルパターンが外部に露出する場合に有利であるという長所がある。
ベゼルパターンが形成されたディスプレイ基板の模式図である。 図1のディスプレイ基板においてベゼル/フィルムの接着力がベゼル/基材の接着力よりも大きくてベゼル/基材面から剥離が発生することを示す模式図である。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明は、(A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体、(B)カチオン重合性脂肪族エポキシ単量体、(C)オキセタン単量体、(D)光重合開始剤、及び(E)着色剤を含む、ベゼル用感光性着色インク組成物を提供する。
本発明のインク組成物はカチオン重合型樹脂を含む。ラジカル重合型樹脂は、硬化収縮が大きいため、基材との付着力が低く、反応速度が速いという長所があるが、酸素による硬化障害が発生するので、本発明で目的とする薄膜形態(<5μm)のベゼルパターンの形成には好ましくない。これに対し、カチオン重合型樹脂は、通常、硬化収縮率が小さいため、基材との付着力が高く、酸素硬化障害を受けないので、薄膜型ベゼルに適している。
具体的に、本発明のインク組成物は、カチオン重合型樹脂として(A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体を含む。前記カチオン重合性脂環式エポキシ単量体は、脂環式エポキシ化合物の中から選択される1種または2種の混合物でありうる。
また、前記脂環式エポキシ化合物は、エポキシ化脂肪族環基を1個または2個含む化合物でありうる。
前記エポキシ化脂肪族環基は、例えば、脂環式環に形成されたエポキシ基を有する化合物を意味することもできる。前記脂環式環を構成する水素原子は、任意にアルキル基などの置換基によって置換されてもよい。前記脂環式エポキシ化合物としては、例えば、以下で具体的に例示される化合物を使用することができるが、使用可能なエポキシ化合物が下記の種類に制限されるものではない。
例えば、ジシクロペンタジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3−ビニルシクロヘキセンオキサイド、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルアルコール、(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレングリコールビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エーテル、3,4−エポキシシクロヘキセンカルボン酸エチレングリコールジエステル、(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどを使用することができる。
前記脂環式エポキシ単量体の含有量は、前記インク組成物の総重量に対して10〜40重量%であることが好ましく、より好ましくは10〜30重量%である。40重量%を超える場合にはコーティング性が低下し、10重量%未満である場合には感度が低下する。
また、前記インク組成物は、他のカチオン重合型樹脂として(B)カチオン重合性脂肪族エポキシ単量体を含む。
前記脂肪族エポキシ単量体としてネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルまたは1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルを使用することができるが、必ずしもこれに限定されない。
前記脂肪族エポキシ単量体の含有量は、前記インク組成物の総重量に対して3〜25重量%であることが好ましく、より好ましくは10〜20重量%である。25重量%を超える場合にはコーティング性が低下し、3重量%未満である場合には感度が低下する。
一例として、本発明に係るベゼル用感光性着色インク組成物は、グリシジルエーテル樹脂を3〜25%含むことにより形成されたベゼルが高温焼成なしでも基材に対して優れた付着性を示すことができる。
また、前記インク組成物は、カチオン重合性単量体としてオキセタン単量体を含む。
オキセタン単量体は、分子構造内に四員環環状エーテル基を有する化合物であって、カチオン硬化型インク組成物の粘度を下げる(例えば、25℃で50cPs未満)作用をすることができる。
具体的には、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、ジ[(3−エチル−3−オキセタニル)メチル]エーテル、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−シクロヘキシルオキシメチルオキセタンまたはフェノールノボラックオキセタンなどが例示できる。オキセタン化合物としては、例えば、東亜合成株式会社製の「アロンオキセタンOXT−101」、「アロンオキセタンOXT−121」、「アロンオキセタンOXT−211」、「アロンオキセタンOXT−221」または「アロンオキセタンOXT−212」などを使用することができる。これらは単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
前記オキセタン単量体の含有量は、前記インク組成物の総重量に対して、30〜70重量%であることが好ましく、より好ましくは40〜60重量%である。前記オキセタン単量体の含有量が70重量%を超える場合には硬化度が低く、前記オキセタン単量体の含有量が30重量%未満である場合には粘度が上昇してコーティング性が低下する。
前記(A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体:(C)オキセタン単量体の含有量比が1:0.5〜1:6であることが好ましい。前記含有量比が1:6を超える場合には、組成物の粘度が低いことにより組成物のコーティング性には優れるが、硬化感度が低下するおそれがあり、前記含有量比が1:0.5未満である場合には、組成物の粘度が高いことによりコーティング性が低下するおそれがある。
また、前記(A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体:(B)カチオン重合性脂肪族エポキシ単量体の含有量比が1:0.1〜1:2であることが好ましい。前記含有量比が1:2を超える場合には、低い硬化感度により反応速度が遅いおそれがあり、前記含有量比が1:0.1未満である場合には、所定の付着力増加効果を得ることができない。
前記インク組成物は、光重合開始剤としてカチオン重合性開始剤を使用することができ、具体的には、紫外線の照射によってカチオン(cation)種またはブレンステッド酸を作り出す化合物、例えばヨードニウム塩及びスルホニウム塩の少なくとも1種を含む。
前記ヨードニウム塩またはスルホニウム塩は、紫外線硬化過程で、インクに含有された不飽和二重結合を有するモノマーが反応して高分子を形成する硬化反応が起こるようにし、重合効率に応じて光増感剤を使用することもできる。
一例として、前記光重合開始剤は、SbF 、AsF 、BF 、(C、PF 、或いはRfnF6−nで表示されるアニオンを有するものでありうるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
前記光重合開始剤の含有量は、インク組成物の総重量に対して、0.5〜15重量%であることが好ましく、より好ましくは5〜10重量%である。光重合開始剤の含有量が0.5重量%未満である場合には、硬化反応が十分ではなく、光重合開始剤の含有量が15重量%を超える場合には、すべて溶解されないか或いは粘度が増加してコーティング性が低下するおそれがある。
前記インク組成物は着色剤を含む。前記着色剤としては、1種以上の顔料、染料、またはこれらの混合物を使用することができ、必要に応じる色を発現することができれば特に限定しない。
本発明の一具体例としては、黒色顔料としてカーボンブラック、黒鉛、金属酸化物、有機ブラック顔料などを使用することができる。
カーボンブラックの例としては、シースト5HIISAF−HS、シーストKH、シースト3HHAF−HS、シーストNH、シースト3M、シースト300HAF−LS、シースト116HMMAF−HS、シースト116MAF、シーストFMFEF−HS、シーストSOFEF、シーストVGPF、シーストSVHSRF−HS及びシーストSSRF(東海カーボン(株));ダイヤグラムブラックII、ダイヤグラムブラックN339、ダイヤグラムブラックSH、ダイヤグラムブラックH、ダイヤグラムLH、ダイヤグラムHA、ダイヤグラムSF、ダイヤグラムN550M、ダイヤグラムM、ダイヤグラムE、ダイヤグラムG、ダイヤグラムR、ダイヤグラムN760M、ダイヤグラムLR、#2700、#2600、#2400、#2350、#2300、#2200、#1000、#980、#900、MCF88、#52、#50、#47、#45、#45L、#25、#CF9、#95、#3030、#3050、MA7、MA77、MA8、MA11、MA100、MA40、OIL7B、OIL9B、OIL11B、OIL30B及びOIL31B(三菱化学(株));PRINTEX−U、PRINTEX−V、PRINTEX−140U、PRINTEX−140V、PRINTEX−95、PRINTEX−85、PRINTEX−75、PRINTEX−55、PRINTEX−45、PRINTEX−300、PRINTEX−35、PRINTEX−25、PRINTEX−200、PRINTEX−40、PRINTEX−30、PRINTEX−3、PRINTEX−A、SPECIAL BLACK−550、SPECIAL BLACK−350、SPECIAL BLACK−250、SPECIAL BLACK−100およびLAMP BLACK−101(デグサ(株));RAVEN−1100ULTRA、RAVEN−1080ULTRA、RAVEN−1060ULTRA、RAVEN−1040、RAVEN−1035、RAVEN−1020、RAVEN−1000、RAVEN−890H、RAVEN−890、RAVEN−880ULTRA、RAVEN−860ULTRA、RAVEN−850、RAVEN−820、RAVEN−790ULTRA、RAVEN−780ULTRA、RAVEN−760ULTRA、RAVEN−520、RAVEN−500、RAVEN−460、RAVEN−450、RAVEN−430ULTRA、RAVEN−420、RAVEN−410、RAVEN−2500ULTRA、RAVEN−2000、RAVEN−1500、RAVEN−1255、RAVEN−1250、RAVEN−1200、RAVEN−1190ULTRAおよびRAVEN−1170(コロンビアカーボン(株))、またはこれらの混合物などを挙げることができる。
前記有機ブラック顔料としてアニリンブラック、ラクタムブラックまたはペリレンブラック系などを使用することができるが、これに限定されるものではない。
本発明におけるインク組成物は、長波長の紫外線(一例として365または395nm)の照射によって硬化して一定レベルのOD(Optical Density)を有することを特徴とする。このため、前記着色剤の含有量は、紫外線硬化型インク組成物の全重量に対して0.1〜10重量%であることが好ましく、より好ましくは3〜10重量%である。着色剤の含有量が0.1重量%未満である場合には、ベゼルに適用すべきレベルのODが示されず、着色剤の含有量が10重量%を超える場合には、過剰量の着色剤がインクに分散されず、沈殿物が形成できる。
前記着色剤の含有量が上記の範囲内である場合、ODは0.2〜5の範囲に維持することができる。
本発明のベゼル用感光性着色インク組成物は、(F)有機シラン、(G)溶媒、及び(H)添加剤をさらに含むことができる。
まず、本発明のインク組成物は、密着増進剤として(F)有機シランをさらに含むことができる。ベゼルの保護または他の付加的な機能のために、ベゼルの上面に別途のフィルムを付着させるが、この際、ベゼルとフィルムとの接着力がベゼルと基材との接着力よりも遥かに大きい場合、ベゼル/基材面から剥離が発生するおそれがある。これを防止するために、密着促進剤としてアルコキシシラン系化合物、エポキシシラン系化合物、アミノフェニルシラン系化合物、アミノシラン系化合物、メルカプトシラン系化合物及びビニルシラン系化合物よりなる群から選択される1種以上の有機シラン化合物を使用する場合、上述したような問題点を解決することができる。
この中でも、アミノシラン系化合物またはエポキシシラン系化合物が本発明の密着増進剤としてさらに好ましい。
本発明の一実施例では、密着増進剤としてエポキシシラン系化合物である3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−403、信越化学工業株式会社)を用いてベゼルパターンと基材との優れた接着力を示した。
前記密着増進剤の含有量は、インク組成物の総重量に対して、0.1〜15重量%であることが好ましく、より好ましくは2〜10重量%である。前記密着増進剤の含有量が0.1重量%未満である場合には、ベゼルパターンが基材から剥離することを防止することができず、前記密着増進剤の含有量が15重量%を超える場合には、インク溶液の粘度が上昇して分散性が低いという問題点がある。
また、本発明のインク組成物は、インクの粘度を低下させて流動性を増加させることによりコーティング性を改善するために、(G)溶媒をさらに含むことができる。
前記溶媒としては、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、2−エトキシプロパノール、2−メトキシプロパノール、2−エトキシエタノール、3−メトキシブタノール、2−ブトキシエタノール、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、エチル3−エトキシプロピオネート、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ブチルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキセンオキサイド及びプロピレンカーボネートよりなる群から選ばれた1種以上を使用することができるが、必ずしもこれに限定されない。
前記溶媒の含有量は、インク組成物の総重量に対して、5〜30重量%であることが好ましく、より好ましくは8〜20重量%である。前記溶媒の含有量が30重量%を超える場合には、反応に参加しない溶媒の含有量があまり高いため重合を妨げて硬化感度が低下したり空隙が形成されたりするおそれがあり、前記溶媒の含有量が5重量%未満である場合には、希釈剤の含有量が不十分であるためコーティング性が低下するおそれがある。
また、本発明のインク組成物は(H)添加剤をさらに含むことができ、具体的には、残量の界面活性剤及び様々な波長での活性エネルギー線における硬化性を補完するために、光増感剤の少なくとも一つをさらに含むことができる。
本発明で使用するインク組成物は、インクジェット印刷直後の短い時間内に広がり現象が発生して優れた塗膜特性を示し、硬化して優れた接着特性を示す。よって、前記インク組成物を適用する際には、インクジェット印刷と同時に硬化が行われるようにするために、インクジェットヘッドのすぐ後ろにUVランプを設置することが好ましい。
前記インク組成物は、360nm〜410nmの波長範囲で電磁気線を吸収して硬化する。
前記インク組成物は、硬化ドーズ量が1〜10,000mJ/cm、好ましくは80〜2,000mJ/cmである。
前記インク組成物の粘度は、25℃で5cP〜50cP、好ましくは工程温度で10cP〜25cP以下の粘度を有することにより、インクジェット工程に適している。
また、本発明は、前記インク組成物を用いて基材上にベゼルパターンを形成することを特徴とする、ディスプレイ基板のベゼルの製造方法を提供する。
前記基材としては、例えば、ガラス、金属、酸化物、ポリマーを使用することができるが、必ずこれに限定されるものではない。
前記基材上にベゼルパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー及びスクリーン印刷の代わりにインクジェット(Inkjet)印刷、グラビア(Gravure)印刷及びリバースオフセット(Reverse offset)印刷の中から選択された方法を使用することができる。この中でも、インクジェット工程を使用する場合、薄膜ベゼルの厚さ調節が容易であり、非接触方式で実現可能であるので、インクジェット印刷が好ましい。
前記ベゼルパターンと基材との付着力は10gf/mm〜200gf/mmであって、高温焼成なしても基材に対して優れた付着性を示し、高温高湿条件下でもベゼルが破壊されない優れた信頼性を示すことができる。
本発明のベゼルの製造方法は、基材上にベゼルパターンを形成するために、前記インク組成物を1〜20μm、より具体的には1〜5μmの高さに塗布する。塗布された前記組成物は、紫外線を含む露光によって硬化し、その結果、0.5〜10μm、より具体的には0.5〜3.0μmの薄い膜厚を有するベゼルパターンが製造できる。
前記インク組成物を硬化させるための光源として、例えば波長250〜450nmの光を発散する水銀蒸気アーク(arc)、炭素アーク、Xeアーク、LED硬化器などを使用することができるが、必ずしもこれに限定されない。
前記ベゼルパターンの光学密度は、膜厚2.0μmを基準に0.1〜5であり、必要に応じて0.5〜2でありうる。この場合、ベゼルパターンによる遮蔽特性に優れるという長所がある。光学密度が5を超える場合には投入すべき顔料の要求含有量が非常に高くなるため、インクの製造およびインクジェット工程に悪影響を及ぼすおそれがあり、工程が進むといっても硬化感度の低下を引き起こすおそれがある。
本発明は、上述の方法によって製造されたディスプレイ基板のベゼルパターンを提供する。本発明において、ベゼルパターンは、時計、ディスプレイ装置などの各種装置の枠部分に形成されるパターンをいう。
また、本発明は、前記ベゼルパターンを含むディスプレイ基板を提供する。
前記ディスプレイは、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel、PDP)、発光ダイオード(Light Emitting Diode、LED)、有機発光素子(Organic Light Emitting Diode、OLED)、液晶表示装置(Liquid Crystal Display、LCD)、薄膜トランジスタ液晶表示装置(Thin Film Transistor−Liquid Crystal Display、LCD−TFT)及び陰極線管(Cathode Ray Tube、CRT)のいずれかに使用できる。
以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。これらの実施例は本発明を説明するためのものである。本発明の範囲は、下記の特許請求の範囲に記載された範囲及びその置換および変更を含み、これらの実施例に限定されない。
<実施例1>
商用のカーボンブラック顔料5重量部、光重合化合物として3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3',4−エポキシシクロヘキサン15重量部、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル10重量部、3−エチル−3−[(2−エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタン40重量部、溶媒として2−ブトキシエタノール13重量部、光重合開始剤として4−イソブチルフェニル−4'−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート8重量部、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5重量部、その他の添加剤を混合し、3時間攪拌してベゼルパターン形成用組成物を製造した。
<実施例2>
光重合化合物のうち、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルを20重量部、3−エチル−3−[(2−エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを30重量部使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<実施例3>
光重合化合物のうち、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルを5重量部、エチレングリコールを5重量部使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<実施例4>
光重合化合物のうち、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルの代わりに1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルを使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<実施例5>
溶媒として2−ブトキシエタノールの代わりに2−ブトキシエタノールアセテートを使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<実施例6>
光重合化合物のうち、3−エチル−3−[(2−エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを35重量部使用し、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを使用しない以外は、実施例2と同様にして組成物を製造した。
<実施例7>
光重合化合物のうち、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルを1重量部、3−エチル−3−[(2−エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを49重量部使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<比較例1>
光重合化合物のうち、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルを0重量部、3−エチル−3−[(2−エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを50重量部使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<比較例2>
光重合化合物のうち、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルの代わりにプロピレングリコールジグリシジルエーテルを使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<比較例3>
光重合化合物のネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルを40重量部、3−エチル−3−[(2−エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを10重量部使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<比較例4>
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりに3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
<比較例5>
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを0重量部、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルを0重量部、3−エチル−3−[(2−エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを55重量部使用した以外は、実施例1と同様にして組成物を製造した。
実施例1〜7および比較例1〜5で製造した組成物の組成は、下記表1〜表2のとおりである。
<実験例1>:粘度の測定
実施例1〜7及び比較例1〜5で製造した組成物に対して、ブルックフィールド(Brookfield)粘度計DV−II+で、円筒スピンドルを用いてサンプル量0.5ml、温度25℃の環境下で回転数を回転トルクが90%となるように調整して粘度を測定した。
−粘度<20cP:○
−粘度20〜25cP:△
−粘度>25cP:×
<実験例2>:硬化感度の測定
前記各製造した組成物をスピンコーティング方法でガラス基板上に塗布した後、直ちに紫外線を照射した。紫外線光源は、波長395nmのLEDランプ(4W/cm、Phoseon)を用いて1000mJ/cmの露光量で露光した。露光の後、ラテックス手袋を着用した後、指触で圧痕を観察することにより、指紋粘着(tackiness)が残らない時間までの時間を判別して指触乾燥時間(tack−free time)を選定した。
−指触乾燥時間<10sec:◎
−指触乾燥時間<30sec:○
−指触乾燥時間30sec〜2min:△
−指触乾燥時間>2min:×
<実験例3>:付着性の測定
前記各組成物をスピンコーティング方法でガラス基板上に塗布した後、直ちに紫外線を露光した。露光の後、1分間隔でクロスカットテスト(ASTM−D3359)を行い、4分となる時点でのクロスカット結果に基づいて評価した。
−ASTM 3B以上:○
−ASTM 2B〜1B:△
−ASTM 0B:×
<実験例4>:付着信頼性の測定
実施例1〜7及び比較例1〜5で製造した組成物を洗浄されたLCDガラス基材上に硬化させた後、厚さが2μmとなるようにインクジェットコーティング方法でコートし、紫外線露光で硬化させてベゼル薄膜を製造した。製造されたベゼル薄膜に幅25mmの偏光板フィルムを付着させた後、60℃/5気圧のオートクレーブで90秒間脱泡工程を行った。脱泡の後、直ちに、または60℃/90%の高温高湿条件で3日経過した後に、180°付着力テストによってpolをベゼルから剥離するときの剥離強度(peel−strength)を介して、ベゼルと基材との付着性を間接的に評価した。通常、当日のpolとベゼル間の剥離強度は900〜1000gf、3日経過後のpolとベゼル間の剥離強度は1800〜2000gfの値を持つ。polをベゼルから剥離する間、ベゼルと基材間の剥離がなければ、ベゼルと基材間の剥離強度がpolとベゼル間の剥離強度よりも大きいと評価できる。
−7日後、ベゼル/基材剥離なし:◎
−3日後、ベゼル/基材剥離なし:○
−当日、ベゼル/基材の剥離がないが、3日後は剥離する:△
−当日からベゼル/基材の剥離が発生する:×
実験例で測定された実験結果を下記表3及び表4に示す。
実施例1〜7のインク組成物は、すべて脂環式エポキシ化合物と脂肪族エポキシ単量体とオキセタン単量体と光重合開始剤を含有する硬化型インク組成物であって、粘度、感度、付着性および付着信頼性の良い薄膜を得ることができた。
特に、実施例2のインク組成物は、脂肪族エポキシ単量体の含有量が比較的20%と高い場合であって、硬化感度の観点から多少緩和した結果を得るが、付着信頼性の面では特に優れている。
また、実施例6の場合、有機シラン化合物を含まないため、類似する組成の実施例2に比べて付着信頼性がやや劣ることが分かった。
また、実施例7の場合、脂肪族エポキシ単量体の含有量が1%と低い場合であって、脂肪族エポキシ単量体の含有量が3%に及ばないだけでなく、脂環式エポキシ:脂肪族エポキシの比も1:0.1に及ばないため、付着信頼性が他の実施例に比べて劣ることを確認することができた。
比較例1のインク組成物は、脂肪族エポキシ単量体を含まず、脂環式エポキシ単量体のみを含む場合であって、硬化感度は実施例1と同等のレベルであるが、脂環式エポキシ単量体と脂肪族エポキシ単量体を一緒に使用しないため、相対的に速く重合反応が起こってエポキシ鎖が長い時間にわたって十分に長く成長せず、短いエポキシ鎖が形成され、異なる構造の重合体間で架橋結合(cross−linking)がなされないので、付着性及び付着信頼性に劣るという問題があった。
比較例2のインク組成物が含むプロピレングリコールジグリシジルエーテルは、それ自体の高い粘度および内部における流動性妨害により活性種の動きが遅いため硬化感度が低くなり、同じ時間帯に薄膜の内部硬化がより少なくなされるので、付着性が特に不足した。
比較例3のインク組成物は、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルを40%含むことにより、粘度が高く、オキセタン化合物の不足により十分な硬化感度を得ることができなかった。また、所定の時間内に硬化していないため、付着性および付着信頼性は測定することができなかった。
比較例4のインク組成物は、有機シランのうち、メタクリロキシシランである3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを使用する場合、十分な付着性を得ることができなかった。
比較例5のインク組成物は、有機シラン化合物を含まないため、類似する組成の比較例1に比べて付着性および付着信頼性にさらに劣ることが分かった。

Claims (12)

  1. ディスプレイ基板であって、
    前記ディスプレイ基板は、ベゼルパターン用感光性着色インク組成物が硬化して基材上に形成された、ディスプレイ基板用ベゼルパターンを含み、
    前記ディスプレイ基板用ベゼルパターンのある面に付着した、偏光板フィルムをさらに備え、
    前記ディスプレイ基板用ベゼルパターンのもう1つの面は、前記基材に付着し、
    前記ディスプレイ基板用ベゼルパターンと前記基材との付着力は、前記ディスプレイ基板用ベゼルパターンと前記偏光板フィルムの付着力よりも大きく、
    前記ディスプレイ基板用ベゼルパターンは、0.5から3μmの厚さを有し、
    前記ベゼルパターン用感光性着色インク組成物は、
    (A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体、
    (B)カチオン重合性脂肪族エポキシ単量体、
    (C)オキセタン単量体、
    (D)光重合開始剤、及び
    (E)着色剤
    を含み、
    前記(B)カチオン重合性脂肪族エポキシ単量体は、前記ベゼルパターン用感光性着色インク組成物の総重量に対して3から20重量%の含有量で含まれ、
    前記(A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体は、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートであり、
    前記(B)カチオン重合性脂肪族エポキシ単量体は、1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルであり、
    前記(C)オキセタン単量体は、3−エチル−3−[(2−エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンである、
    ディスプレイ基板。
  2. 前記ベゼルパターン用感光性着色インク組成物は、
    (F)有機シラン、
    (G)溶媒、及び
    (H)添加剤
    をさらに含む、
    請求項1に記載のディスプレイ基板。
  3. 前記(F)有機シランはアミノシラン系化合物またはエポキシシラン系化合物である、
    請求項2に記載のディスプレイ基板。
  4. 前記(H)添加剤は界面活性剤及び光増感剤の少なくとも一つである、
    請求項2または3に記載のディスプレイ基板。
  5. 前記(A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体:(C)オキセタン単量体の含有量比が1:0.5から1:6である、
    請求項1から4のいずれか一項に記載のディスプレイ基板。
  6. 前記(A)カチオン重合性脂環式エポキシ単量体:(B)カチオン重合性脂肪族エポキシ単量体の含有量比が1:0.1から1:2である、
    請求項1から5のいずれか一項に記載のディスプレイ基板。
  7. 前記(D)光重合開始剤はヨードニウム塩及びスルホニウム塩の少なくとも1種である、
    請求項1から6のいずれか一項に記載のディスプレイ基板。
  8. 前記ベゼルパターン用感光性着色インク組成物の粘度は25℃で5cPから50cPである、
    請求項1から7のいずれか一項に記載のディスプレイ基板。
  9. 前記ベゼルパターン用感光性着色インク組成物の硬化ドーズ量は1から10,000mJ/cmである、
    請求項1から8のいずれか一項に記載のディスプレイ基板。
  10. 前記ディスプレイ基板用ベゼルパターンと基材との付着力は10gf/mmから200gf/mmである、
    請求項1から9のいずれか一項に記載のディスプレイ基板。
  11. 前記ディスプレイ基板用ベゼルパターンは、膜厚2.0μmを基準に0.1から5の光学密度を有する、
    請求項1から10のいずれか一項に記載のディスプレイ基板。
  12. 前記基材の、前記ディスプレイ基板用ベゼルパターンとは反対側の面には、回路配線を備える、
    請求項1から11のいずれか一項に記載のディスプレイ基板。
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KR102226800B1 (ko) * 2016-12-16 2021-03-10 주식회사 엘지화학 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
WO2019035595A1 (ko) * 2017-08-18 2019-02-21 주식회사 엘지화학 잉크젯용 적외선 투과 잉크 조성물, 이를 이용한 베젤 패턴의 형성방법, 이에 따라 제조한 베젤 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 기판
KR102178853B1 (ko) 2017-08-18 2020-11-13 주식회사 엘지화학 잉크젯용 적외선 투과 잉크 조성물, 이를 이용한 베젤 패턴의 형성방법, 이에 따라 제조한 베젤 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 기판
EP3683278B1 (en) * 2017-10-20 2024-06-05 LG Chem, Ltd. Ink composition
KR102210938B1 (ko) 2017-11-28 2021-02-01 주식회사 엘지화학 부착력이 우수한 도파관 엣지 차광용 조성물
KR102248518B1 (ko) 2017-12-27 2021-05-04 주식회사 엘지화학 베젤패턴 형성용 광중합성 조성물, 이를 이용한 베젤패턴의 형성방법 및 이에 의해 제조된 베젤패턴
JP2019137727A (ja) * 2018-02-06 2019-08-22 株式会社Adeka コーティング組成物
CN110305527A (zh) * 2018-03-20 2019-10-08 常州格林感光新材料有限公司 一种辐射固化凹印油墨组合物
US11787959B2 (en) 2018-03-20 2023-10-17 Changzhou Green Photosensitive Materials Co., Ltd. Radiation curable gravure ink
JP6445198B1 (ja) * 2018-03-28 2018-12-26 太陽インキ製造株式会社 インクジェット用黒色遮蔽材およびその硬化物
KR102284638B1 (ko) 2018-08-17 2021-07-30 주식회사 엘지화학 필름 인쇄 가능한 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 베젤패턴의 제조방법, 이에 따라 제조한 베젤패턴 및 이를 포함하는 폴더블 디스플레이 기판
KR102333186B1 (ko) 2018-08-17 2021-11-29 주식회사 엘지화학 필름 인쇄 가능한 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 베젤패턴의 제조방법, 이에 따라 제조한 베젤패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 기판
JP2020076945A (ja) * 2018-09-21 2020-05-21 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物
GB2577693B (en) 2018-10-01 2022-06-22 Janssen Pharmaceuticals Inc Reset connector for an injection device and an injection device trainer
CN112996867A (zh) * 2018-11-20 2021-06-18 爱克发-格法特公司 用于制造印刷电路板的可辐射固化的喷墨油墨
CN113956710A (zh) * 2020-07-21 2022-01-21 杭州科望特种油墨有限公司 阳离子uv固化型玻璃油墨、采用其生产的产品及生产工艺
CN117285706A (zh) * 2022-06-24 2023-12-26 常州正洁智造科技有限公司 阳离子型光固化组合物、涂料、具有光固化涂层的制品、油墨

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6232361B1 (en) 1998-12-11 2001-05-15 Sun Chemical Corporation Radiation curable water based cationic inks and coatings
JP4350832B2 (ja) 1999-04-19 2009-10-21 Jsr株式会社 立体造形用光硬化性樹脂組成物およびこれを硬化してなる造形物
JP2001181385A (ja) * 1999-12-24 2001-07-03 Kansai Paint Co Ltd カチオン重合性着色組成物
US20030215196A1 (en) 2000-11-22 2003-11-20 Dsm N.V. Coated optical fibers
US6916855B2 (en) * 2000-11-22 2005-07-12 Dsm Ip Assets B.V. Radiation curable compositions
CN1486349A (zh) 2000-11-22 2004-03-31 Dsm 辐射固化组合物
JP3712960B2 (ja) * 2001-07-12 2005-11-02 関西ペイント株式会社 紫外線硬化型塗料組成物
CN100361815C (zh) 2002-04-24 2008-01-16 东芝泰格有限公司 喷墨记录设备
JP4382364B2 (ja) 2002-04-24 2009-12-09 株式会社東芝 液体インク
JP2004359715A (ja) 2003-06-02 2004-12-24 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 光硬化型インク並びにこれを用いる画像記録装置及び画像記録方法
US7795744B2 (en) * 2003-12-19 2010-09-14 Henkel Corporation Cationically curable epoxy resin composition
JP2006008791A (ja) 2004-06-24 2006-01-12 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 活性光線硬化型組成物、活性光線硬化型インク、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
JP5117002B2 (ja) * 2006-07-10 2013-01-09 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
GB0622284D0 (en) * 2006-11-09 2006-12-20 Xennia Technology Ltd Inkjet printing
JPWO2008090789A1 (ja) 2007-01-24 2010-05-20 Jsr株式会社 インクジェット方式により黒色層を形成するための樹脂組成物および黒色層の形成方法
JP2008189821A (ja) * 2007-02-05 2008-08-21 Fujifilm Corp 光硬化性組成物
JP2008266473A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Nitto Denko Corp 透明粘着シート及びフラットパネルディスプレイ
JP2009175328A (ja) * 2008-01-23 2009-08-06 Dic Corp 遮光反射テープ及びlcdモジュール
JP2009227826A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Dic Corp 両面粘着テープおよび画像表示モジュール
WO2009130993A1 (ja) 2008-04-22 2009-10-29 コニカミノルタIj株式会社 活性光線硬化型インクジェットインク組成物
JP2009280672A (ja) 2008-05-21 2009-12-03 Konica Minolta Ij Technologies Inc 活性光線硬化型インク組成物
JP2010013557A (ja) 2008-07-03 2010-01-21 Konica Minolta Ij Technologies Inc カチオン重合性インクジェットインク組成物及びその製造方法
JP2010013596A (ja) 2008-07-07 2010-01-21 Konica Minolta Ij Technologies Inc 活性光線硬化型インクジェットインク組成物
JP2010106254A (ja) * 2008-09-30 2010-05-13 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型インク及び活性エネルギー線硬化型インクを使用したインクジェット記録方法
JP5219280B2 (ja) 2009-02-10 2013-06-26 旭化成ケミカルズ株式会社 感光性組成物、コーティング剤、及び塗膜、並びに感光性組成物の製造方法
JP5457078B2 (ja) 2009-06-05 2014-04-02 株式会社ダイセル カチオン重合性樹脂組成物、及びその硬化物
US20110165387A1 (en) 2009-06-25 2011-07-07 Konica Minolta Ij Technologies, Inc. Actinic energy radiation curable ink-jet ink, image forming method using the same, and printed matter obtained thereby
JP5419605B2 (ja) 2009-09-15 2014-02-19 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2011153255A (ja) 2010-01-28 2011-08-11 Tokyo Printing Ink Mfg Co Ltd 光カチオン硬化性組成物および硬化物
JP5706177B2 (ja) 2010-02-09 2015-04-22 パナソニック インテレクチュアル プロパティ コーポレーション オブアメリカPanasonic Intellectual Property Corporation of America 超解像処理装置及び超解像処理方法
JP2011213934A (ja) 2010-04-01 2011-10-27 Seiko Epson Corp 放射線硬化型インクジェット印刷用インク組成物
KR101072371B1 (ko) 2010-09-20 2011-10-11 주식회사 엘지화학 편광판용 접착제 및 이를 포함하는 편광판
EP2439240A1 (en) * 2010-10-06 2012-04-11 Henkel AG & Co. KGaA Radiation curable composition
JP5712665B2 (ja) * 2011-02-18 2015-05-07 東洋インキScホールディングス株式会社 光学フィルム用接着剤
JP6038430B2 (ja) 2011-03-09 2016-12-07 コニカミノルタ株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェット用インクセット及び画像形成方法
JP5957831B2 (ja) * 2011-09-08 2016-07-27 Tdk株式会社 ホログラム記録用フォトポリマー組成物及びホログラム記録媒体
KR101560033B1 (ko) * 2011-10-14 2015-10-16 주식회사 엘지화학 양면형 편광판 및 이를 포함하는 광학 장치
CN104335120B (zh) 2012-05-25 2018-04-03 株式会社Lg化学 光敏树脂组合物、使用其形成的图案以及包含其的显示面板
KR20140081315A (ko) 2012-12-21 2014-07-01 삼성전기주식회사 터치패널
KR20140086584A (ko) 2012-12-28 2014-07-08 삼성전기주식회사 터치스크린 모듈의 베젤용 감광성 수지 조성물 및 이로 제조된 터치스크린 모듈용 베젤
JP6136286B2 (ja) * 2013-01-17 2017-05-31 大日本印刷株式会社 表示装置用前面保護板、及び表示装置
JP5946417B2 (ja) * 2013-01-31 2016-07-06 オリジン電気株式会社 紫外線硬化型接着剤組成物及び接着方法
WO2014163196A1 (ja) 2013-04-04 2014-10-09 コニカミノルタ株式会社 インクジェット印刷方法

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