JP6692904B2 - シロキサン樹脂組成物 - Google Patents
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Description
− 良好な表面硬度;
− 可撓性と相まって;
− 良好な光堅牢度;
− 良好な耐候性;
− 良好な熱安定性;
− 低ガス透過性、したがって腐食の回避;
− 高い透明度;
− 高い屈折率;
− 黄変しないこと(熱による変色);
− 例えば、良好な成形性、成形品への迅速かつ制御可能な硬化、堅牢でエラーを起こしても悪影響を及ぼさない加工特性、処理適合粘度等の加工における良好な技術特性;
− コスト効率;
全ての用途でこれらの特性の全てが同等に高度に開発されなければならないわけではない。
(A) 以下の式の少なくとも3単位で形成されるオルガノポリシロキサン
R1 aR2 bR3 cHd(RO)eSiO(4−a−b−c−d−e)/2 (I)
式中、
R1は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R2は、1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R3は、同一又は異なる1価のSiC結合した芳香族部分を表し、
Rは、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい1価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
aは0、1、2又は3、好ましくは0又は1であり、
bは0、1、2又は3、好ましくは0又は2であり、
cは0、1、2又は3、好ましくは0又は1であり、
dは0、1又は2、好ましくは0又は1であり、
eは0、1又は2、好ましくは0又は1、特に0であり、
ただし、a+b+c+d+eの合計は3以下であり、a+b+c+dの合計は、式(I)の単位の5モル%以下、好ましくは0において2に等しく、1分子当たりのSi結合した水素原子及びR1部分の合計が少なくとも3であり、a+b+c+dの合計は、式(I)の単位の少なくとも10モル%において0又は1に等しく、cは少なくとも1つの単位において0以外であり、
(B) 以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサン
R4 fR5 gR6 h(R7O)iSiO(4−f−g−h−i)/2 (VI)
式中、
R4は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R5は、1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R6は、同一又は異なる1価のSiC結合した芳香族部分を表し、
R7は、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい1価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
fは0、1、2又は3、好ましくは0又は1であり、
gは0、1、2又は3、好ましくは1又は2であり、
hは0、1又は2、好ましくは0又は1であり、
iは0又は1、好ましくは0であり、
ただし、f+g+h+iの合計は3以下であり、シロキサン(B)は1分子当たり少なくとも2個のR4部分を有し、f+g+h+iの合計は、式(VI)の単位の4モル%以下において0又は1に等しく、hは式(VI)の少なくとも1つの単位において0以外であり、
任意に(C) 以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサン
R8 kR9 lR10 m(R11O)nSiO(4−k−l−m−n)/2 (X)
式中、
R8は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R9は、1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R10は、同一又は異なる1価のSiC結合した芳香族部分を表し、
R11は、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい1価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
kは0、1、2又は3、好ましくは0又は1であり、
lは0、1、2又は3、好ましくは0、1又は2であり、
mは0、1又は2、好ましくは0又は1であり、
nは0又は1、好ましくは0であり、
ただし、k+l+m+nの合計は3以下であり、シロキサン(C)は1分子当たり少なくとも2個のR8部分を有し、k+l+m+nの合計は、式(X)の単位の少なくとも10モル%において0又は1に等しく、mは式(X)の少なくとも1つの単位において0以外であり、
及び
任意に(D) 脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進する触媒
を含む組成物を提供する。
R1 aR2 bR3 cHd(RO)eSiO1/2(式中、(a+b+c+d+e)=3) (II)、
R2 bR3 c(RO)SiO2/2(式中、(b+c)=1) (IIIa)、
R2 bR3 cSiO2/2(式中、(b+c)=2) (IIIb)、
R2 bR3 c(RO)eSiO3/2(式中、(b+c+e)=1) (IV)、及び
SiO4/2 (V)、
式中、R、R1、R2、R3、a、b、c、d及びeは、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン(A)中の単位の5モル%以下、好ましくは2モル%以下が式(IIIb)に一致し、1分子当たりのSi結合した水素原子及びR1部分の合計は少なくとも3であり、1分子当たり少なくとも1つのR3部分が存在し、式(IV)及び/又は(V)の少なくとも1つの単位が存在する。
ただし、シロキサン(A)は少なくとも3個のシロキシ単位を有し、1分子当たりのSi結合した水素原子及びR1部分の合計は少なくとも3であり、1分子当たり少なくとも1個のR3部分が存在し、最大5モル%の式(IIIb)の単位が含まれる。
ただし、シロキサン(A)は3〜50個のシロキシ単位を有し、1分子当たりのSi結合した水素原子及びビニル部分の合計は少なくとも3であり、1分子当たり少なくとも1個のフェニル部分が存在する。
ただし、シロキサン(A)は3〜50個のシロキシ単位からなり、1分子当たりのSi結合した水素原子及びR1部分の合計は少なくとも3であり、1分子当たり少なくとも1つのR3部分が存在し、
ケイ素に結合したOH基の含有量が1000重量ppm以下であり、シロキサン(A)はRが水素ではないR基を500重量ppm以下しか含まず、好ましくは含まない。
R4 fR5 gR6 h(R7O)iSiO1/2(式中、(f+g+h+i)=3) (VII)、
R5 gR6 h(R7O)SiO2/2(式中、(g+h)=1) (VIIIa)、
R5 gR6 hSiO2/2(式中、(g+h)=2) (VIIIb)、
R5 gR6 h(R7O)iSiO3/2(式中、(g+h+i)=1) (IX)、及び
SiO4/2 (V)、
式中、R4、R5、R6、R7、f、g、h及びiは、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン(B)は1分子当たり少なくとも2つのR4部分を有し、単位の4モル%以下が式(IX)又は(V)に一致し、1分子当たり少なくとも1つのR6部分が存在する。
(R4R5 2SiO1/2)(R6R5SiO)1−100(R5 2SiO)0−70(R4R5 2SiO1/2)、
式中、R4、R5及びR6はそれぞれ上記で定義されたとおりであり,(R6R5SiO)単位及び(R5 2SiO)単位は、分子中にランダム分布を形成することができる。
R8 kR9 lR10 m(R11O)nO1/2(式中、(k+l+m+n)=3) (XI)、
R9 lR10 m(R11O)SiO2/2(式中、(l+m)=1) (XIIa)、
R9 lR10 mSiO2/2(式中、(l+m)=2) (XIIb)、
R9 lR10 m(R11O)nSiO3/2(式中、(l+m+n)=1) (XIII)、及び
SiO4/2 (V)、
式中、R8、R9、R10、R11、k、l、m及びnは、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン(C)は1分子当たり少なくとも2つのR8部分を有し、1分子当たり少なくとも1つのR10部分が存在し、式(XIII)及び/又は(V)の少なくとも1つの単位が存在する。
ただし、少なくとも2つのR8部分及び少なくとも1つのR10部分が一分子当たりに存在する。
ただし、少なくとも2個のビニル部分及び1分子当たり少なくとも1個のフェニル部分が存在する。
(A)式(I)の単位で形成されるシロキサン、
(B)式(VI)の単位で形成されるシロキサン、
任意に(C)式(X)の単位で形成されるシロキサン、
(D)脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進する触媒、
任意に(E)充填剤、
任意に(F)接着促進剤、
任意に(G)阻害剤、
任意に(H)可塑剤、
任意に(K)添加剤、及び
任意に(L)溶媒
を含有するものを含む。
(A)式(I)の単位で形成されるシロキサン、
(B)式(VI)の単位で形成されるシロキサン、
任意に(C)式(X)の単位で形成されるシロキサン、
(D)脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進する触媒、
任意に(E)充填剤、
(F)接着促進剤、
任意に(G)阻害剤、
任意に(H)可塑剤、
任意に(K)添加剤、及び
任意に(L)溶媒
を含有するものを含む。
(A)式(I)の単位で形成されるシロキサン、
(B)式(VI)の単位で形成されるシロキサン、
(D)脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進する触媒、
(F)接着促進剤、
任意に(G)阻害剤、
任意に(H)可塑剤、
任意に(K)添加剤、及び
任意に(L)溶媒
を含有するものを含む。
(A)式(I)の単位で形成されるシロキサン、
(B)式(VI)の単位で形成されるシロキサン、
(C)式(X)の単位で形成されるシロキサン、
(D)脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進する触媒、
(F)接着促進剤、
任意に(G)阻害剤、
任意に(H)可塑剤、
任意に(K)添加剤、及び
任意に(L)溶媒
を含有するものを含む。
(A)式(I)の単位で形成されるシロキサン、
(B)式(VI)の単位で形成されるシロキサン、
任意に(C)式(X)の単位で形成されるシロキサン、
(D)脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進し、白金−ビニルシロキサン錯体の群から選択される触媒、
任意に(E)充填剤、
(F)接着促進剤、
任意に(G)阻害剤、
任意に(H)可塑剤、
任意に(K)添加剤、及び
任意に(L)溶媒
を含有するものを含む。
(A)式(I)の単位で形成されるシロキサン、
(B)式(VI)の単位で形成されるシロキサン、
任意に(C)式(X)の単位で形成されるシロキサン、
(D)脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進し、シクロペンタジエニルトリメチル白金(IV)及びその誘導体からなる群から選択される触媒、
任意に(E)充填剤、
(F)接着促進剤、
任意に(G)阻害剤、
任意に(H)可塑剤、
任意に(K)添加剤、及び
任意に(L)溶媒
を含有するものを含む。
別段の記載がない限り、粘度は、DIN EN ISO 3219に従い、測定のプレート−コーンシステムを備えた回転式D−オストフィルダーンのアントン・パール(Anton Paar)のMCR302レオメーターで測定する。測定はサンプルのニュートン領域で行う。サンプルが非ニュートン挙動を示す場合、せん断速度もまた報告する。別段の指示がない限り、報告された粘度は全て25℃及び1013mbarにおける標準圧力に関連する。
別段の記載がない限り、屈折率は、規格DIN 51423のとおりに、589nm及び25℃(nD 25)及び1013mbarにおける標準圧力で可視光の波長範囲で測定する。D−ハンブルグ及び日本の愛宕のアー・クルス・オプトロニクス(A.Kruss Optronics)から、タイプDR−M2のアベ(Abbe)屈折計を使用した。
分子組成は、1H核及び29Si核を測定することによって核磁気共鳴分光法(用語については、ASTM E386:高分解能核磁気共鳴(High−Resolution Nuclear Magnetic Resonance)(NMR)分光法:用語及び記号を参照)を使用して決定する。
溶媒:CDCl3、99.8%d
サンプル濃度:5mm NMRバイアル中の約50mg/1ml CDCl3。
TMSを混合しない測定において、7.24ppmのCDCl3中の残留CHCl3のピークを参照。
プローブヘッド:5 mm BBOプローブヘッド又はSMARTプローブヘッド(ブルカー(Bruker)製)
測定パラメータ:
Pulprog=zg30
TD=64k
NS=64又は128(プローブヘッドの感度に依存)
SW=20.6ppm
AQ=3.17秒
D1=5秒
SFO1=500.13MHz
O1=6.175ppm
処理パラメータ:
SI=32k
WDW=EM
LB=0.3Hz
使用する分光器の種類に応じて、測定パラメータの個別の調整が必要となることがある。
溶媒:緩和試薬として1重量%のCr(acac)3を含むC6D699.8%d/CCl4 1:1 v/v
サンプル濃度:10mmNMRバイアル中の約2g/1.5ml溶媒
分光器:Bruker Avance 300
プローブヘッド:10mm 1H/13C/15N/29SiガラスフリーQNPプローブヘッド(ブルカー製)
測定パラメータ:
Pulprog=zgig60
TD=64k
NS=1024(プローブヘッドの感度に依存)
SW=200ppm
AQ=2.75秒
D1=4秒
SFO1=300.13MHz
O1=−50ppm
処理パラメータ:
SI=64k
WDW=EM
LB=0.3Hz
使用する分光器の種類に応じて、測定パラメータの個別の調整が必要となることがある。
分子量分布を、ポリスチレン標準及び屈折率(RI)検出器を用いたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC又はサイズ排除クロマトグラフィー(SEC))の方法を使用して、Mw重量平均及びMn数平均として決定する。別段の記載がない限り、THFを移動相として使用し、DIN 55672−1を適用する。多分散度は、Mw/Mnの商である。
CH−グライフェンゼーのメトラー・トレド(Mettler Toledo)のDSC1熱量計で10K/分の加熱速度で有孔るつぼ中でDIN53765に従う示差走査熱量測定(DSC)によって、ガラス転移温度を決定する。
D−オーベルディスシンゲンのバライス(Bareiss)の硬度測定装置(モデルHPE IIショアA及びショアD)でDIN(ドイツ工業規格)53505(2000年8月時点)で、ショア硬度A及びDをそれぞれ決定する。
加硫物及び/又は使用可能な封入された構成部品の交互温度試験を、日本のエスペックの機器(Thermecock Chamber TSE−11、エレベータタイプ)を用いて行う。別段の記載がない限り、熱サイクルは、−45℃の最低温度及び125℃の最高温度を有する。サンプルをいずれかの温度で15分間維持する。したがって、1サイクルに30分かかる。
ガラス容器の水で覆われた基部は、K2Sが水と接触しないように、その上に載せたK2Sを入れた皿を有する。使用可能な構成部品(例えば、LED)を、K2Sを入れた皿の上方のガス空間に配置し、容器を密閉する。ガラス容器を水浴中で85℃に加熱する。構成部品の測定を、典型的には8時間の間隔で行う。測定の手順は次のとおりである。まず、未処理LEDの光効率を測定する。次いで、上述したように、K2Sを入れた上記ガラス容器内の条件にLEDを暴露する。その後、LEDの光効率を再び測定し、初期値と比較する。次に、これに、ガラス容器内でのさらなる暴露サイクルとその後の光効率の測定が続くことがある。
光効率を、LEDの放射強度測定のためにCIE127に従って、ISP 250(内径250mm)型のUlbricht球体上の、日本のインストルメント・システムズ(Instrument Systems)のコンパクトアレイ分光計CAS 140CT型の機器を用いて決定する。
Phはフェニル=C6H5−であり、
Viはビニル=CH2=CH−であり、
Meはメチル=CH3−である。
反応を実施するために使用した装置は、出口、KPG攪拌器、強力凝縮器及び計量容器(滴下漏斗)を備えた1Lの4首ガラスフラスコである。300gの量の完全にイオンを含まない水をガラスフラスコに導入する。磁気攪拌器を用いて、1Lガラスビーカー中でビニルジメチルクロロシラン(分子量120.5g/モル)60g(0.5モル)、フェニルトリクロロシラン(分子量211.5g/モル)135g(0.63モル)及びジメチルクロロシラン(分子量94g/モル)30g(0.31モル)を混合し、次いで混合物を計量容器に移す。
29Si NMRによれば、モル組成は、
ViMe2SiO1/2:27.4%
Me2(H)SiO1/2:26.3%
Me2SiO2/2:1.2%
Ph(OH)2SiO1/2:0.0%
Ph(OH)SiO2/2:8.3%及び
PhSiO3/2:36.8%である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。
この手順は樹脂(A1)の調製と同様である。使用した装置は4Lのフラスコである。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水:1350g
ビニルジメチルクロロシラン(分子量120.5g/モル):188.9g(1.57モル)
フェニルトリクロロシラン(分子量211.5g/モル):674.85g(3.19モル)
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン:115.48g(1.23モル)
後の用量のためのジメチルクロロシラン:73.22g(0.78モル)。
洗浄は45℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで100℃及び6mbarで液化して、548mPasの粘度及び1.502の屈折率nD 25を有する透明な生成物470gを得る。
シラノール含量は394ppmとして1H NMRによって決定される。
ビニル含量は2.15ミリモル/gであり、Si結合した水素含量は2.52ミリモル/gである。
29Si NMRによれば、モル組成は、
ViMe2SiO1/2:23.0%
Me2(H)SiO1/2:27.2%
Ph(OH)SiO2/2:9.8%及び
PhSiO3/2:40.0%である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。
この手順は樹脂(A1)の調製と同様である。使用した装置は4Lのフラスコである。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水:1320g
ビニルジメチルクロロシラン:107.38g(0.89モル)
フェニルトリクロロシラン(分子量211.5g/モル):674.85g(3.19モル)
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン:156.63g(1.65モル)
後の用量のためのジメチルクロロシラン:96.00g(1.01モル)。
洗浄は45℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで100℃及び6mbarで液化して、861mPasの粘度及び1.504の屈折率nD 25を有する透明な生成物413gを得る。
ビニル含量は1.3ミリモル/gであり、Si結合した水素含量は3.18ミリモル/gである。
29Si NMRによれば、モル組成は、
ViMe2SiO1/2:14.4%
Me2(H)SiO1/2:34.1%
Ph(OH)SiO2/2:10.2%及び
PhSiO3/2:41.3%である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。
この手順は樹脂(A1)の調製と同様である。使用した装置は1Lのフラスコである。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水:255g
ビニルジメチルクロロシラン:60.00g(0.497モル)
フェニルトリクロロシラン:135.36g(0.64モル)
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン:5.23g(0.055モル)
洗浄は45℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで100℃及び6mbarで液化して、1390mPasの粘度及び1.511の屈折率nD 25を有する透明な生成物84gを得る。
シラノール含量は3373ppmとして1H NMRによって決定される。ビニル含量は3.33ミリモル/gであり、Si結合した水素含量は0.46ミリモル/gである。
29Si NMRによれば、モル組成は、
ViMe2SiO1/2:38.6%
Me2(H)SiO1/2:5.8%
Ph(OH)SiO2/2:20.2%及び
PhSiO3/2:35.4%である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。
この手順は樹脂(A1)の調製と同様である。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水:260g
ビニルジメチルクロロシラン:6.87g(0.057モル)
フェニルトリクロロシラン:135.36g(0.64モル)
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン:48.52g(0.513モル)
洗浄は45℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで100℃及び6mbarで液化して、611mPasの粘度及び1.506の屈折率nD 25を有する透明な生成物74gを得る。
29Si NMRによれば、モル組成は、
ViMe2SiO1/2:6.0%
Me2(H)SiO1/2:40.7%
Ph(OH)SiO2/2:14.9%及び
PhSiO3/2:38.4%である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。
この手順は樹脂(A1)の調製と同様である。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水:270.00g
ビニルジメチルクロロシラン:18.89g(0.157モル)
フェニルトリクロロシラン:134.97g(0.638モル)
シランPM2:26.73g(0.156モル)
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン:23.10g(0.24モル)
後の用量のためのジメチルクロロシラン:14.64g(0.15モル)。
洗浄は45℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで100℃及び6mbarで液化して、314mPasの粘度及び1.512の屈折率nD 25を有する透明な生成物89gを得る。
シラノール含量は474ppmとして1H NMRによって決定される。
ビニル含量は1.00ミリモル/gであり、Si結合した水素含量は2.48ミリモル/gである。29Si NMRによれば、モル組成は、
ViMe2SiO1/2:12.2%
Me2(H)SiO1/2:27.1%
Me2PhSiO1/2:11.6%
Ph(OH)SiO2/2:11.9%及び
PhSiO3/2:37.2%である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。
フェニルトリエトキシシラン700g(2.91モル)、ジメチルジエトキシシラン61.6g(0.415モル)及び1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン77.6g(0.416モル)を2Lのフラスコ中で均質に混合する。この混合物に、撹拌しながら、水550g、次いで20%HCl 3.0gを加える。混合物を撹拌しながら2時間加熱還流する。冷却後、20%水酸化ナトリウム水溶液4.5gを混合し、30分間還流させる。50mbarの圧力で、形成されたエタノールを留去し、トルエン800mlを混合する。水相を分離し、有機相を500mlの水で3回洗浄する。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥させ、生成物をロータリーエバポレーターで140℃及び5mbarで液化して、ガラス転移温度が5℃の透明で極めて粘稠な生成物470gを得る。
29Si NMRによれば、モル組成は、
ViMe2SiO1/2:17.9%
Me2SiO2/2:11.0%
Ph(OR)SiO2/2:18.0%(R=H:3%、R=エチル:15%)及び
PhSiO3/2:53.1%である。
フェニルトリクロロシラン600g(2.84モル)及びビニルジメチルクロロシラン113g(0.936モル)を均質に混合し、水600g、トルエン310g及び酢酸エチル190gの混合物に50℃で滴下した。続いて混合物を2時間還流する。混合物を室温まで冷却した後、トルエン700mlを混合し、水相を分離し、有機相を1Lの水で2回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去する。これにより、ガラス転移温度が10℃の極めて粘稠な生成物450gを得る。
29Si NMRによれば、モル組成は、
ViMe2SiO1/2:31.2%
Ph(OR)SiO2/2:30.2%(R=H:5%、R=エチル 25%)及び
PhSiO3/2:38.6%である。
スピードミキサー中で、樹脂(A2)100gを白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0005部(白金基準)と混合する。混合物を排気し、150℃で1時間加硫する。加硫物は48というショアD硬度を有する。
遊星型混合機中で、樹脂(A2)55部を式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)60(Me2SiO2/2)12のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.538、粘度η=7800mPas)45部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で1時間加硫する。加硫物は65というショアA硬度を有する。
スピードミキサー中で、樹脂(A3)80部を式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)10(Me2SiO2/2)2のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.5216、粘度η=220mPas)20部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で1時間加硫する。加硫物は59というショアA硬度を有する。
スピードミキサー中で、樹脂(A3)70部を式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)60(Me2SiO2/2)12のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.538、粘度η=7800mPas)25部、1,5−ジビニル−3,3−ジフェニル−1,1,5,5−テトラメチルトリシロキサン5部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で1時間加硫する。加硫物は62というショアA硬度を有する。
スピードミキサー中で、樹脂(A5)30部を式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)10(Me2SiO2/2)2のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.5216、粘度η=220mPas)70部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で1時間加硫する。加硫物は47というショアA硬度を有する。
スピードミキサー中で、樹脂(A4)25部を式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)10(Me2SiO2/2)2のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.5216、粘度η=220mPas)25部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で1時間加硫する。加硫物は31というショアD硬度を有する。
スピードミキサー中で、樹脂(A6)50部を式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)10(Me2SiO2/2)2のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.5216、粘度η=220mPas)50部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で1時間加硫する。加硫物は46というショアA硬度を有する。
遊星型混合機中で、樹脂(A2)60部を、樹脂(C1)30部、式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)60(Me2SiO2/2)12のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.538、粘度η=7800mPas)10部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で1時間加硫する。加硫物は40というショアD硬度を有する。
遊星型混合機中で、樹脂(A2)75部を、式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)60(Me2SiO2/2)12のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.538、粘度η=7800mPas)25部及びメチルシクロペンタジエニルトリメチル白金(IV)0.002部(白金基準)と混合する。混合物を脱気し、直径35mm、高さ6mmの開放鋼鋳型に注ぎ、D−グレーフェルフィングのヘンレ(Honle)の鉄照射器(「D−バルブ」)で140mW/cm2で15秒間照射する。加硫物は26というショアD硬度を有する。
遊星型混合機中で、樹脂(A2)60部を、樹脂(C1)30部、式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)60(Me2SiO2/2)12のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.538、粘度η=7800mPas)10部、(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン0.5部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で1時間加硫する。加硫物は40というショアD硬度を有する。
遊星型混合機中で、樹脂(C2)70部を、式(Me2ViSiO1/2)2(MePhSiO2/2)60(Me2SiO2/2)12のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン(屈折率nD 25=1.538、粘度η=7800mPas)10部、1,1,5,5−テトラメチル−3,3−ジフェニルトリシロキサン20部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で2時間加硫する。加硫物は60というショアA硬度を有する。
遊星型混合機中で、樹脂(C2)65部を1,1,5,5−テトラメチル−3,3−ジフェニルトリシロキサン35部及び白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体0.0002部(白金基準)と混合する。混合物を150℃で4時間加硫する。加硫物は38というショアD硬度を有する。
Claims (10)
- (A)以下の式の少なくとも3単位で形成されるオルガノポリシロキサン
R1 aR2 bR3 cHd(RO)eSiO(4−a−b−c−d−e)/2 (I)
式中、
R1は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R2は、1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R3は、同一又は異なる1価のSiC結合した芳香族部分を表し、
Rは、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい1価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
aは0、1、2又は3であり、
bは0、1、2又は3であり、
cは0、1、2又は3であり、
dは0、1又は2であり、
eは0、1又は2であり、
ただし、a+b+c+d+eの合計は3以下であり、a+b+c+dの合計は、式(I)の単位の5モル%以下において2に等しく、1分子当たりのSi結合した水素原子及びR1部分の合計が少なくとも3であり、a+b+c+dの合計は、式(I)の単位の少なくとも10モル%において0又は1に等しく、cは少なくとも1つの単位において0以外であり、オルガノポリシロキサン(A)中のSi結合したR1部分に対するSi結合した水素原子の比が0.1〜9であり、Si結合した水素原子及びSi結合したR1部分は、a+b+c+d+eの合計が3に等しい単位上のみに存在し、オルガノポリシロキサン(A)は、多くとも20モル%の式(V)の単位を含み、
SiO4/2 (V)
(B)以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサン
R4 fR5 gR6 h(R7O)iSiO(4−f−g−h−i)/2 (VI)
式中、
R4は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R5は、1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R6は、同一又は異なる1価のSiC結合した芳香族部分を表し、
R7は、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい1価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
fは0、1、2又は3であり、
gは0、1、2又は3であり、
hは0、1又は2であり、
iは0又は1であり、
ただし、f+g+h+iの合計は3以下であり、シロキサン(B)は1分子当たり少なくとも2個のR4部分を有し、f+g+h+iの合計は、式(VI)の単位の4モル%以下において0又は1に等しく、hは式(VI)の少なくとも1つの単位において0以外であり、
任意に(C)以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサン
R8 kR9 lR10 m(R11O)nSiO(4−k−l−m−n)/2 (X)
式中、
R8は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R9は、1価のSiC結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
R10は同一又は異なる1価のSiC結合した芳香族部分を表し、
R11は、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい1価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
kは0、1、2又は3であり、
lは0、1、2又は3であり、
mは0、1又は2であり、
nは0又は1であり、
ただし、k+l+m+nの合計は3以下であり、シロキサン(C)は1分子当たり少なくとも2個のR8部分を有し、k+l+m+nの合計は、式(X)の単位の少なくとも10モル%において0又は1に等しく、mは式(X)の少なくとも1つの単位において0以外であり、
及び
任意に(D)脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進する触媒
を含む組成物。 - 成分(A)が、以下の式の単位から選択される少なくとも3つの単位を有するシロキサンを含むことを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
R1 aR2 bR3 cHd(RO)eSiO1/2(式中、(a+b+c+d+e)=3) (II)、
R2 bR3 c(RO)SiO2/2(式中、(b+c)=1) (IIIa)、
R2 bR3 cSiO2/2(式中、(b+c)=2) (IIIb)、
R2 bR3 c(RO)eSiO3/2(式中、(b+c+e)=1) (IV)、及び
SiO4/2 (V)
[式中、R、R1、R2、R3、a、b、c、d及びeが、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン(A)中の単位の5モル%以下が式(IIIb)に一致し、1分子当たりのSi結合した水素原子及びR1部分の合計は少なくとも3であり、1分子当たり少なくとも1つのR3部分が存在し、式(IV)及び/又は(V)の少なくとも1つの単位が存在する。] - 成分(B)が、以下の式の単位から選択される単位からなるシロキサンを含むことを特徴とする、請求項1又は2に記載の組成物。
R4 fR5 gR6 h(R7O)iSiO1/2(式中、(f+g+h+i)=3) (VII)、
R5 gR6 h(R7O)SiO2/2(式中、(g+h)=1) (VIIIa)、
R5 gR6 hSiO2/2(式中、(g+h)=2) (VIIIb)、
R5 gR6 h(R7O)iSiO3/2(式中、(g+h+i)=1) (IX)、及び
SiO4/2 (V)
[式中、R4、R5、R6、R7、f、g、h及びiが、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン(B)が1分子当たり少なくとも2つのR4部分を有し、単位の4モル%以下が式(IX)又は(V)に一致し、1分子当たり少なくとも1つのR6部分が存在する。] - 組成物が、100重量部の成分(A)を基準として、1〜200重量部のシロキサン(B)を含むことを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の組成物。
- 組成物が、
(A)式(I)の単位で形成されたシロキサン、
(B)式(VI)の単位で形成されたシロキサン、
任意に(C)式(X)の単位で形成されたシロキサン、
(D)脂肪族炭素−炭素多重結合へのSi結合した水素の付加を促進する触媒、
任意に(E)充填剤、
任意に(F)接着促進剤、
任意に(G)阻害剤、
任意に(H)可塑剤、
任意に(K)添加剤、及び
任意に(L)溶媒
を含むことを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。 - 個々の成分を任意の順序で混合することにより、請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物を製造する方法。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物又は請求項6に従って得られた組成物を架橋して得られた成形品。
- コーティング、封入又はレンズが関係していることを特徴とする、請求項7に記載の成形品。
- 電気及び電子用途における封入化合物としての請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物又は請求項6に従って得られた組成物の使用。
- LEDの製造における封入化合物としての請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物又は請求項6に従って得られた組成物の使用。
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