JP2019505603A - シロキサン樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

本発明は、（Ａ）以下の式の少なくとも３単位で形成されるオルガノポリシロキサンＲ１ａＲ２ｂＲ３ｃＨｄ（ＲＯ）ｅＳｉＯ（４−ａ−ｂ−ｃ−ｄ−ｅ）／２（Ｉ）ただし、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの合計は３以下であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの合計は、式（Ｉ）の単位の５モル％以下において２に等しく、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びＲ１部分の合計が少なくとも３であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの合計は、式（Ｉ）の単位の少なくとも１０モル％において０又は１に等しく、ｃは少なくとも１つの単位において０以外であり、（Ｂ）以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサンＲ４ｆＲ５ｇＲ６ｈ（Ｒ７Ｏ）ｉＳｉＯ（４−ｆ−ｇ−ｈ−ｉ）／２（ＶＩ）ただし、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉの合計は３以下であり、シロキサン（Ｂ）は１分子当たり少なくとも２個のＲ４部分を有し、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉの合計は、式（ＶＩ）の単位の４モル％以下において０又は１に等しく、ｈは式（ＶＩ）の少なくとも１つの単位において０以外であり、任意に（Ｃ）以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサンＲ８ｋＲ９ｌＲ１０ｍ（Ｒ１１Ｏ）ｎＳｉＯ（４−ｋ−ｌ−ｍ−ｎ）／２（Ｘ）ただし、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎの合計は３以下であり、シロキサン（Ｃ）は１分子当たり少なくとも２個のＲ８部分を有し、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎの合計は、式（Ｘ）の単位の少なくとも１０モル％において０又は１に等しく、ｍは式（Ｘ）の少なくとも１つの単位において０以外であり、部分及び添え字は各々請求項１に定義されたとおりであり及び任意に（Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進する触媒を含むシロキサン樹脂組成物に関する。シロキサン樹脂組成物の製造方法、及び電気絶縁性成形品及び光学半導体素子の製造におけるその使用に関する。

Description

本発明は、シロキサン樹脂組成物、その製造方法、及び電気絶縁性成形品及び光半導体素子の製造におけるその使用に関する。

電気絶縁性構成部品の製造に使用されるべき結合剤及び調製物は、例えば、以下を含む広範かつ厳しい要件を満たさなければならない。
− 良好な表面硬度；
− 可撓性と相まって；
− 良好な光堅牢度；
− 良好な耐候性；
− 良好な熱安定性；
− 低ガス透過性、したがって腐食の回避；
− 高い透明度；
− 高い屈折率；
− 黄変しないこと（熱による変色）；
− 例えば、良好な成形性、成形品への迅速かつ制御可能な硬化、堅牢でエラーを起こしても悪影響を及ぼさない加工特性、処理適合粘度等の加工における良好な技術特性；
− コスト効率；
全ての用途でこれらの特性の全てが同等に高度に開発されなければならないわけではない。

既に多くの先行技術提案がなされている。ＷＯ−Ａ１５０１４８９０号及びＵＳ−Ａ７，５２７，８７１号は、例として参照され得る。

ＬＥＤの製造のための付加架橋性シリコーン組成物の使用は既に知られている。それらは、分子中に少なくとも２つの脂肪族不飽和基を有する少なくとも１つのオルガノポリシロキサンと、分子中に２つ以上のＳｉ−Ｈ基を有する少なくとも１つのオルガノヒドロポリシロキサンと、少なくとも１つのヒドロシリル化触媒と、通常はさらなる配合成分からなる多成分系であることが多い。大部分の調製物において、ヒドロシリル化反応に必要な２つの補完的Ｓｉ−Ｈ官能基及びＳｉ−ビニル官能基は、調製物中の種々のポリオルガノシロキサンの間で分配される。

国際公開第１５０１４８９０号 米国特許第７，５２７，８７１号明細書

本発明は、
（Ａ） 以下の式の少なくとも３単位で形成されるオルガノポリシロキサン

Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＲ^３ _ｃＨ_ｄ（ＲＯ）_ｅＳｉＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ−ｄ−ｅ）／２} （Ｉ）

式中、
Ｒ^１は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
Ｒ^２は、１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
Ｒ^３は、同一又は異なる１価のＳｉＣ結合した芳香族部分を表し、
Ｒは、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい１価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
ａは０、１、２又は３、好ましくは０又は１であり、
ｂは０、１、２又は３、好ましくは０又は２であり、
ｃは０、１、２又は３、好ましくは０又は１であり、
ｄは０、１又は２、好ましくは０又は１であり、
ｅは０、１又は２、好ましくは０又は１、特に０であり、
ただし、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの合計は３以下であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの合計は、式（Ｉ）の単位の５モル％以下、好ましくは０において２に等しく、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びＲ^１部分の合計が少なくとも３であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの合計は、式（Ｉ）の単位の少なくとも１０モル％において０又は１に等しく、ｃは少なくとも１つの単位において０以外であり、
（Ｂ） 以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサン

Ｒ^４ _ｆＲ^５ _ｇＲ^６ _ｈ（Ｒ^７Ｏ）_ｉＳｉＯ_{（４−ｆ−ｇ−ｈ−ｉ）／２} （ＶＩ）

式中、
Ｒ^４は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
Ｒ^５は、１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
Ｒ^６は、同一又は異なる１価のＳｉＣ結合した芳香族部分を表し、
Ｒ^７は、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい１価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
ｆは０、１、２又は３、好ましくは０又は１であり、
ｇは０、１、２又は３、好ましくは１又は２であり、
ｈは０、１又は２、好ましくは０又は１であり、
ｉは０又は１、好ましくは０であり、
ただし、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉの合計は３以下であり、シロキサン（Ｂ）は１分子当たり少なくとも２個のＲ^４部分を有し、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉの合計は、式（ＶＩ）の単位の４モル％以下において０又は１に等しく、ｈは式（ＶＩ）の少なくとも１つの単位において０以外であり、
任意に（Ｃ） 以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサン

Ｒ^８ _ｋＲ^９ _ｌＲ^１０ _ｍ（Ｒ^１１Ｏ）_ｎＳｉＯ_{（４−ｋ−ｌ−ｍ−ｎ）／２} （Ｘ）

式中、
Ｒ^８は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
Ｒ^９は、１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
Ｒ^１０は、同一又は異なる１価のＳｉＣ結合した芳香族部分を表し、
Ｒ^１１は、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい１価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
ｋは０、１、２又は３、好ましくは０又は１であり、
ｌは０、１、２又は３、好ましくは０、１又は２であり、
ｍは０、１又は２、好ましくは０又は１であり、
ｎは０又は１、好ましくは０であり、
ただし、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎの合計は３以下であり、シロキサン（Ｃ）は１分子当たり少なくとも２個のＲ^８部分を有し、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎの合計は、式（Ｘ）の単位の少なくとも１０モル％において０又は１に等しく、ｍは式（Ｘ）の少なくとも１つの単位において０以外であり、
及び
任意に（Ｄ） 脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進する触媒
を含む組成物を提供する。

好ましくは、シロキサン（Ａ）において、Ｓｉ結合した水素原子だけでなくＲ^１部分も、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの合計が３に等しい式（Ｉ）の単位のケイ素原子に圧倒的に、好ましくは専ら結合する。より好ましくは、シロキサン（Ａ）において、Ｓｉ結合した水素原子だけでなくＲ^１部分も、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの合計が３に等しい式（Ｉ）の単位のケイ素原子、即ち、（ＯＲ）基を持たないいわゆるＭ単位に圧倒的に、好ましくは専ら結合する。シロキサン（Ａ）におけるこれらの末端官能基により、補完的に官能化された反応体の実態との化学反応に対する容易な入手可能性及び利用可能性が保証される。これは、固体の硬化体に到達するために最小限の官能基が必要とされるにすぎないという驚くべき利点をもたらす。

本発明により使用される（Ａ）シロキサンは、好ましくは少なくとも２０モル％、より好ましくは少なくとも２５モル％、さらに好ましくは少なくとも３０モル％、特に３５〜７０モル％の量でａ＋ｂ＋ｃ＋ｄが０又は１である式（Ｉ）の単位を含む。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄが０である式（Ｉ）の単位は、要件のプロファイルに依存して、幾分、通常は望ましくない脆化を容易にもたらすことがあるので、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄが１である式（Ｉ）の単位が分岐単位として好ましい。

本発明により使用される（Ａ）シロキサンは、好ましくはａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝０である式（Ｉ）の単位を含まない。

ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄが２である式（Ｉ）の単位は、それらが可塑化し、柔軟になるので、とりわけ機械的特性を確立するために使用することができる。本発明により使用される（Ａ）シロキサンは、好ましくはａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝２の式（Ｉ）の単位を２モル％以下しか含まず、より好ましくは含まない。

好ましくは、Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^８部分は、互いに独立して、各々脂肪族多重結合及び２〜８個の炭素原子を有するヒドロカルビル部分、例えば、ビニル、アリル、メタリル、２−プロペニル、３−ブテニル、４−ペンテニル、５−ヘキセニル、１，３−ブタジエニル、ヘキサジエニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、エチニル、プロパルギル、２−プロピニル、イソプレニル等が挙げられ、そのうちビニル、アリルが特に好ましく、具体的にはビニルである。

Ｒ^２、Ｒ^５及びＲ^９部分の例は、互いに独立して、アルキル部分、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、例えば、ｎ−ヘキシル、ヘプチル、例えば、ｎ−ヘプチル、オクチル、例えば、ｎ−オクチル及びイソオクチル、例えば、２，２，４−トリメチルペンチル、ノニル、例えば、ｎ−ノニル、デシル、例えば、ｎ−デシル、ドデシル、例えば、ｎ−ドデシル、及びオクタデシル、例えば、ｎ−オクタデシル、及びシクロアルキル、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル又はメチルシクロヘキシルである。

好ましくは、Ｒ^２、Ｒ^５及びＲ^９部分は、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有する飽和ヒドロカルビル部分、より好ましくは１〜４個の炭素原子を有する飽和ヒドロカルビル部分、特にメチルを含む。

Ｒ^３、Ｒ^６及びＲ^１０部分の例は、互いに独立して、アリール、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル又はフェナントリル、インデニル、ベンゾフェニル、フルオレニル、キサンテニル及びアントロニル；アリールオキシアリール部分、例えば、ｏ−フェノキシフェニル及びｐ−フェノキシフェニル；アルカリール部分、例えば、ｏ−、ｍ−、ｐ−トリル部分、キシリル部分及びエチルフェニル部分；アラルキル部分、例えば、ベンジル、α−フェニルエチル及びβ−フェニルエチルである。

好ましくは、Ｒ^３、Ｒ^６及びＲ^１０部分は、互いに独立して、アリール部分、例えば、フェニル又はナフチル、より好ましくはフェニルを含む。

Ｒ、Ｒ^７及びＲ^１１部分の例は、Ｒ^２及びＲ^３に対して示された部分である。

より好ましくは、Ｒ、Ｒ^７及びＲ^１１部分は、水素原子、メチル又はエチル、さらにより好ましくは水素原子を含む。

成分（Ａ）は、好ましくは、以下の式の単位から選択される少なくとも３つの単位を有するシロキサンを含む。
Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＲ^３ _ｃＨ_ｄ（ＲＯ）_ｅＳｉＯ_１／２（式中、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ）＝３） （ＩＩ）、
Ｒ^２ _ｂＲ^３ _ｃ（ＲＯ）ＳｉＯ_２／２（式中、（ｂ＋ｃ）＝１） （ＩＩＩａ）、
Ｒ^２ _ｂＲ^３ _ｃＳｉＯ_２／２（式中、（ｂ＋ｃ）＝２） （ＩＩＩｂ）、
Ｒ^２ _ｂＲ^３ _ｃ（ＲＯ）_ｅＳｉＯ_３／２（式中、（ｂ＋ｃ＋ｅ）＝１） （ＩＶ）、及び
ＳｉＯ_４／２ （Ｖ）、
式中、Ｒ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン（Ａ）中の単位の５モル％以下、好ましくは２モル％以下が式（ＩＩＩｂ）に一致し、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びＲ^１部分の合計は少なくとも３であり、１分子当たり少なくとも１つのＲ^３部分が存在し、式（ＩＶ）及び／又は（Ｖ）の少なくとも１つの単位が存在する。

本発明により使用される（Ａ）シロキサンは、好ましくは３〜１０００、より好ましくは３〜１５０、特に３〜５０個の式（Ｉ）の単位からなる。

本発明により使用される（Ａ）シロキサンは、好ましくは少なくとも５モル％の式（ＩＩ）の単位、少なくとも３０モル％の式（ＩＶ）の単位、多くとも５モル％の式（ＩＩＩｂ）の単位及び多くとも２０モル％の式（Ｖ）の単位を含む。

より好ましくは、成分（Ａ）は、Ｒ^２ _３ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^１Ｒ^２ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２ _２ＨＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２ _２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２Ｒ^３ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２単位及びＲ^２Ｒ^３ＨＳｉＯ_１／２単位から選択される少なくとも１つの単位、Ｒ^３ＳｉＯ_３／２単位及びＲ^２ＳｉＯ_３／２単位から選択される少なくとも１つの単位、及び任意にＲ^２ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^３ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^２（ＲＯ）ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^３（ＲＯ）ＳｉＯ_２／２単位及びＲＯＳｉＯ_３／２単位から選択される単位からなるシロキサンを含み、式中、Ｒ、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ上記で定義されたとおりであり、
ただし、シロキサン（Ａ）は少なくとも３個のシロキシ単位を有し、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びＲ^１部分の合計は少なくとも３であり、１分子当たり少なくとも１個のＲ^３部分が存在し、最大５モル％の式（ＩＩＩｂ）の単位が含まれる。

成分（Ａ）の好ましい例は、Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２単位、ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２単位、Ｍｅ_２ＨＳｉＯ_１／２単位、Ｍｅ_２ＰｈＳｉＯ_１／２単位、ＭｅＰｈ_２ＳｉＯ_１／２単位、ＶｉＭｅＰｈＳｉＯ_１／２単位、及びＭｅＰｈＨＳｉＯ_１／２単位から選択される少なくとも１つの単位、ＰｈＳｉＯ_３／２単位及びＭｅＳｉＯ_３／２単位から選択される少なくとも１つの単位、及び任意にＰｈ（ＨＯ）ＳｉＯ_２／２単位からなるシロキサンであり、式中、Ｍｅはメチルであり、Ｖｉはビニルであり、Ｐｈはフェニルであり、
ただし、シロキサン（Ａ）は３〜５０個のシロキシ単位を有し、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びビニル部分の合計は少なくとも３であり、１分子当たり少なくとも１個のフェニル部分が存在する。

本発明により使用される（Ａ）シロキサンは、好ましくは（ＯＲ）部分を有さない。しかし、それらが（例えば）合成方法の結果として（ＯＲ）部分を有する場合、その該当する量は好ましくは≦５重量％、より好ましくは≦５０００重量ｐｐｍ、具体的には≦１０００重量ｐｐｍである。

シロキサン（Ａ）中のＳｉ結合した部分の総数の割合としてのＳｉ結合した水素原子のモル分率は、好ましくは０．１〜５０％、より好ましくは２〜４０％、具体的には５〜３０％である。決定は、好ましくは^２９Ｓｉ ＮＭＲ分光法による。

シロキサン（Ａ）中のＳｉ結合した部分の総数の割合としてのＲ^１部分のモル分率は、好ましくは１〜５０％、より好ましくは１〜４０％、具体的には５〜３０％である。決定は、好ましくは^２９Ｓｉ ＮＭＲ分光法による。

本発明により使用される（Ａ）シロキサン中のＳｉ結合したＲ^１部分に対するＳｉ結合した水素原子の比は、好ましくは０．１〜９、より好ましくは０．８〜７、さらにより好ましくは０．９〜５、具体的には１．０〜２．５である。

シロキサン（Ａ）中のケイ素原子の総数の割合としての少なくとも１つの芳香族部分Ｒ^３を有するケイ素原子のモル分率は、好ましくは少なくとも３０％、より好ましくは４０％〜７５％、具体的には４５％〜６０％である。

シロキサン（Ａ）は、好ましくは少なくとも６００ｇ／モル、より好ましくは少なくとも７００ｇ／モル、さらにより好ましくは少なくとも８００ｇ／モル、具体的には９００〜５０００ｇ／モルの間の平均分子量Ｍｗを有し、多分散度は、標準としてのポリスチレンに対して、好ましくはＳＥＣ、移動相としてのＴＨＦ、５ｍｇ／ｍｌの濃度、ＲＩ検出器を用いて測定して、好ましくは多くて２０、より好ましくは多くて１５、さらにより好ましくは多くて１０、具体的には多くて６である。

本発明により使用される（Ａ）シロキサン樹脂は、２３℃及び１０００ｈＰａで固体であるばかりでなく、液体であってもよく、この場合シロキサン（Ａ）は好ましくは液体である。

本発明により使用されるシロキサン（Ａ）の粘度は、好ましくは１０〜２００００ｍＰａｓの間、より好ましくは２０〜１５０００ｍＰａｓの間、さらにより好ましくは３０〜１００００ｍＰａｓの間、最も好ましくは４０〜８０００ｍＰａｓの間である。

さらなる実施形態では、シロキサン（Ａ）は、２３℃及び１０１３ｈＰａの圧力で、粘着性の表面を有しながら堅い、即ち、もはや流動性のない材料であるか、又はそれらは２５℃を超えるガラス転移温度を有する非粘着性の固体である。

本発明により使用される（Ａ）シロキサン樹脂は既に知られており、当業者に既知の種々の方法によって、例えば、クロロシランと水との反応によって得ることができる。ＵＳ−Ａ７，６６６，９６９号を例として参照することができる。

シロキサン（Ａ）は、純粋な形態だけでなく、適切な溶媒との混合物の形態で使用することもでき、この場合、純粋な形態での使用が好ましい。溶媒が使用される場合、その選択は、成分（Ａ）中の特定の有機官能基に依存する。成分（Ａ）と反応しない溶媒を選択することが有利である。適切な溶媒の例は、芳香族溶媒、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン又はそれらの混合物、及び炭化水素及び／又はそれらの混合物、例えば、市販のイソパラフィン混合物である。

本発明はさらに、Ｒ^２ _３ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^１Ｒ^２ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２ _２ＨＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２ _２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２Ｒ^３ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２単位及びＲ^２Ｒ^３ＨＳｉＯ_１／２単位から選択される少なくとも１つの単位、Ｒ^３ＳｉＯ_３／２単位及びＲ^２ＳｉＯ_３／２単位から選択される少なくとも１つの単位、及び任意にＲ^２ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^３ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^２（ＲＯ）ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^３（ＲＯ）ＳｉＯ_２／２単位及びＲＯＳｉＯ_３／２単位から選択される単位からなるシロキサン（Ａ）を提供し、式中、Ｒ、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ上記で定義されたとおりであり、
ただし、シロキサン（Ａ）は３〜５０個のシロキシ単位からなり、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びＲ^１部分の合計は少なくとも３であり、１分子当たり少なくとも１つのＲ^３部分が存在し、
ケイ素に結合したＯＨ基の含有量が１０００重量ｐｐｍ以下であり、シロキサン（Ａ）はＲが水素ではないＲ基を５００重量ｐｐｍ以下しか含まず、好ましくは含まない。

好ましくは、（Ｂ）シロキサンにおいて、Ｒ^４部分は、ｆ＋ｇ＋ｈの合計が３に等しい式（ＶＩ）の単位のケイ素原子に圧倒的に、好ましくは専ら結合される。

好ましくは、成分（Ｂ）は、以下の式の単位から選択される単位からなるシロキサンを含む。
Ｒ^４ _ｆＲ^５ _ｇＲ^６ _ｈ（Ｒ^７Ｏ）_ｉＳｉＯ_１／２（式中、（ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ）＝３） （ＶＩＩ）、
Ｒ^５ _ｇＲ^６ _ｈ（Ｒ^７Ｏ）ＳｉＯ_２／２（式中、（ｇ＋ｈ）＝１） （ＶＩＩＩａ）、
Ｒ^５ _ｇＲ^６ _ｈＳｉＯ_２／２（式中、（ｇ＋ｈ）＝２） （ＶＩＩＩｂ）、
Ｒ^５ _ｇＲ^６ _ｈ（Ｒ^７Ｏ）_ｉＳｉＯ_３／２（式中、（ｇ＋ｈ＋ｉ）＝１） （ＩＸ）、及び
ＳｉＯ_４／２ （Ｖ）、
式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、ｆ、ｇ、ｈ及びｉは、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン（Ｂ）は１分子当たり少なくとも２つのＲ^４部分を有し、単位の４モル％以下が式（ＩＸ）又は（Ｖ）に一致し、１分子当たり少なくとも１つのＲ^６部分が存在する。

本発明により使用される（Ｂ）シロキサンは、好ましくは、少なくとも３０モル％の式（ＶＩＩＩｂ）の単位を含む。

より好ましくは、成分（Ｂ）は、Ｒ^４Ｒ^５ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^６ＳｉＯ_１／２単位及びＲ^４Ｒ^６ _２ＳｉＯ_１／２単位から選択される少なくとも２つの単位、及びＲ^５ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^５Ｒ^６ＳｉＯ_２／２単位及びＲ^６ _２ＳｉＯ_２／２単位から選択される少なくとも１つの単位からなるシロキサンを含み、式中、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ上記で定義されたとおりである。

本発明により使用される（Ｂ）シロキサンは、好ましくは３〜１０００個のシロキシ単位、より好ましくは４〜５００単位、具体的には８〜１００単位からなる。

本発明により使用される（Ｂ）シロキサンは、具体的には、以下の構造の直鎖状オルガノポリシロキサンを含む。

（Ｒ^４Ｒ^５ _２ＳｉＯ_１／２）（Ｒ^６Ｒ^５ＳｉＯ）_{１−１００}（Ｒ^５ _２ＳｉＯ）_０−７０（Ｒ^４Ｒ^５ _２ＳｉＯ_１／２）、

式中、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ上記で定義されたとおりであり，（Ｒ^６Ｒ^５ＳｉＯ）単位及び（Ｒ^５ _２ＳｉＯ）単位は、分子中にランダム分布を形成することができる。

本発明により使用される（Ｂ）シロキサンの例は、（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_６０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_１２、（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_１０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_２、（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）及び（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（Ｐｈ_２ＳｉＯ_２／２）であり、式中Ｍｅはメチルであり、Ｖｉはビニルであり、Ｐｈがフェニルである。

本発明により使用される（Ｂ）シロキサンは、２５℃で好ましくは１０〜１０００００ｍＰａｓ、より好ましくは１００〜２００００ｍＰａｓの粘度を有する。

本発明の組成物は、１００重量部の全て成分（Ａ）を基準として、好ましくは１〜２００重量部、より好ましくは１０〜１５０重量部、具体的には２０〜１２０重量部のシロキサン（Ｂ）を含む。

本発明により使用される（Ｂ）シロキサンは、市販の製品であるか、及び／又は化学的な常法により得ることができる。

本発明により任意に使用される（Ｃ）シロキサンは、好ましくは、ｋ＋１＋ｍの合計が３に等しい式（Ｘ）の単位のケイ素原子に圧倒的に、好ましくは専ら結合したＲ^８部分を有する。

成分（Ｃ）は、好ましくは、以下の式の単位から選択される単位からなるシロキサンを含む。
Ｒ^８ _ｋＲ^９ _ｌＲ^１０ _ｍ（Ｒ^１１Ｏ）_ｎＯ_１／２（式中、（ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ）＝３） （ＸＩ）、
Ｒ^９ _ｌＲ^１０ _ｍ（Ｒ^１１Ｏ）ＳｉＯ_２／２（式中、（ｌ＋ｍ）＝１） （ＸＩＩａ）、
Ｒ^９ _ｌＲ^１０ _ｍＳｉＯ_２／２（式中、（ｌ＋ｍ）＝２） （ＸＩＩｂ）、
Ｒ^９ _ｌＲ^１０ _ｍ（Ｒ^１１Ｏ）_ｎＳｉＯ_３／２（式中、（ｌ＋ｍ＋ｎ）＝１） （ＸＩＩＩ）、及び
ＳｉＯ_４／２ （Ｖ）、
式中、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、ｋ、ｌ、ｍ及びｎは、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン（Ｃ）は１分子当たり少なくとも２つのＲ^８部分を有し、１分子当たり少なくとも１つのＲ^１０部分が存在し、式（ＸＩＩＩ）及び／又は（Ｖ）の少なくとも１つの単位が存在する。

本発明により任意に使用される（Ｃ）シロキサンは、好ましくは少なくとも５モル％の式（ＸＩ）の単位、少なくとも３０モル％の式（ＸＩＩＩ）の単位及び多くとも２０モル％の式（Ｖ）の単位を含む。

成分（Ｃ）は、より好ましくは、Ｒ^９ _３ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^８Ｒ^９ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^９ _２Ｒ^１０ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^９Ｒ^１０ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^８Ｒ^９Ｒ^１０ＳｉＯ_１／２単位及びＲ^８Ｒ^１０ _２ＳｉＯ_１／２単位から選択される少なくとも１つの単位、Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２単位、（Ｒ^１１Ｏ）ＳｉＯ_３／２単位及びＲ^９ＳｉＯ_３／２単位から選択される少なくとも１つの単位、及び任意にＲ^９ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^９Ｒ^１０ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^１０ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^９ _２（Ｒ^１１Ｏ）ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^９Ｒ^１０（Ｒ^１１Ｏ）ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^９（Ｒ^１１Ｏ）ＳｉＯ_２／２単位及びＲ^１０（Ｒ^１１Ｏ）ＳｉＯ_２／２単位から選択される単位からなるシロキサンを含み、式中、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１はそれぞれ上記で定義されたとおりであり、
ただし、少なくとも２つのＲ^８部分及び少なくとも１つのＲ^１０部分が一分子当たりに存在する。

本発明により任意に使用される（Ｃ）樹脂は、好ましくは（ＯＲ^１１）部分を有さない。しかしながら、樹脂が、例えば、合成方法の結果として（ＯＲ^１１）部分を有する場合、その該当する量は好ましくは≦５重量％、より好ましくは≦５０００重量ｐｐｍ、具体的には≦１０００重量ｐｐｍである。

シロキサン（Ｃ）中のＳｉ結合した部分の総数の割合としてのＲ^８部分のモル分率は、好ましくは１〜５０％、より好ましくは１〜４０％、具体的には５〜３０％である。決定は、好ましくは^２９Ｓｉ ＮＭＲ分光法による。

シロキサン（Ｃ）中のケイ素原子の総数の割合としての少なくとも１つの芳香族部分Ｒ^１０を有するケイ素原子のモル分率は、好ましくは少なくとも３０％、より好ましくは４０％〜８０％、具体的には５０％〜７５％である。

本発明により任意に使用される（Ｃ）シロキサンは、好ましくは３〜７０個のシロキシ単位、より好ましくは８〜４０単位からなる。

成分（Ｃ）の好ましい例は、Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２単位、ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２単位、Ｍｅ_２ＰｈＳｉＯ_１／２単位、ＭｅＰｈ_２ＳｉＯ_１／２単位及びＶｉＭｅＰｈＳｉＯ_１／２単位から選択される少なくとも１つの単位、及びＰｈＳｉＯ_３／２単位、ＨＯＳｉＯ_３／２単位及びＭｅＳｉＯ_３／２単位から選択される少なくとも１つの単位、及び任意にＭｅ_２ＳｉＯ_２／２単位、ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２単位、Ｐｈ_２ＳｉＯ_２／２単位、Ｍｅ_２（ＥｔＯ）ＳｉＯ_１／２単位、Ｍｅ_２（ＨＯ）ＳｉＯ_１／２単位、ＭｅＰｈ（ＥｔＯ）ＳｉＯ_１／２単位、ＭｅＰｈ（ＨＯ）ＳｉＯ_１／２単位、Ｐｈ（ＥｔＯ）ＳｉＯ_２／２単位及びＰｈ（ＨＯ）ＳｉＯ_２／２単位から選択される単位からなるシロキサンであり、式中、Ｍｅはメチルであり、Ｅｔはエチルであり、Ｖｉはビニルであり、Ｐｈはフェニルであり、
ただし、少なくとも２個のビニル部分及び１分子当たり少なくとも１個のフェニル部分が存在する。

シロキサン（Ｃ）は、好ましくは少なくとも６００ｇ／モル、より好ましくは少なくとも７００ｇ／モル、さらにより好ましくは少なくとも８００ｇ／モル、具体的には９００〜６０００ｇ／モルの間の平均分子量Ｍｗを有し、多分散度が好ましくは多くとも２０、より好ましくは多くとも１５、さらに好ましくは多くとも１０、具体的には多くとも８である。

本発明により任意に使用される（Ｃ）シロキサン樹脂は、２３℃及び１０００ｈＰａにおいて固体であるだけでなく、液体でもよく、この場合、液体シロキサン樹脂（Ｃ）の粘度は、低から高までの範囲であることができ、シロキサン（Ｃ）は好ましくは低粘度のものである。

本発明により任意に使用される（Ｃ）シロキサン樹脂が低粘度のものである場合、粘度は、全て２５℃において、好ましくは１０〜２００００ｍＰａｓの間、より好ましくは２０〜１５０００ｍＰａｓの間、さらに好ましくは３０〜１００００ｍＰａｓの間、最も好ましくは４０〜８０００ｍＰａｓの間である。

同様に好ましい実施形態では、シロキサン（Ｃ）は、２３℃で、固まるには非常に粘稠であり、まだ粘着性の表面及び−２０℃を超えるガラス転移温度を有するか、又は２５℃を超えるガラス転移温度を有する非粘着性固体である。

本発明の組成物が成分（Ｃ）を含有する場合、その該当する量は、１００重量部の全て成分（Ａ）を基準にして、好ましくは１〜２００重量部、より好ましくは１０〜１５０重量部、具体的には２０〜１００重量部である。

本発明により任意に使用される（Ｃ）シロキサンは、化学的な常法により得ることができる。

本発明の組成物中の、脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加（ヒドロシリル化）を促進する成分（Ｄ）は、任意の先行技術のヒドロシリル化触媒であることができる。

成分（Ｄ）の例は、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム又は活性炭のような、それを支持する担体を有することができる金属かつ微粉化した白金、白金の化合物又は錯体、例えば、白金ハロゲン化物、例えば、ＰｔＣｌ_４、Ｈ_２ＰｔＣｌ_６・６Ｈ_２Ｏ、Ｎａ_２ＰｔＣｌ_４・４Ｈ_２Ｏ；白金−オレフィン錯体、白金−アルコール錯体、白金−アルコキシド錯体、白金−エーテル錯体、白金−アルデヒド錯体、Ｈ_２ＰｔＣｌ_６・６Ｈ_２Ｏとシクロヘキサノンとから形成される反応生成物をはじめとする白金−ケトン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、具体的には検出可能な無機結合ハロゲンを有するか又は有さない白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、ビス（ガンマ−ピコリン）白金ジクロライド、トリメチレンジピリジン白金ジクロライド、ジシクロペンタジエン白金ジクロライド、ジメチルスルホキシドエチレン白金（ＩＩ）ジクロライド及び四塩化白金とオレフィン及び第１級アミン若しくは第２級アミン又は第１級アミン及び第２級アミンとの反応生成物、例えば、１−オクテン−溶解四塩化白金とｓｅｃ−ブチルアミンから形成された反応生成物、又はアンモニウム−白金錯体、ロジウム、パラジウム、ルテニウム及びイリジウム並びにそれらの化合物及び錯体である。

光硬化性又はＵＶ硬化性組成物は、光を用いて付加反応を開始するために、例えば、シクロペンタジエニルトリメチル白金（ＩＶ）、シクロオクタジエニルジメチル白金（ＩＩ）の誘導体等のアルキル白金錯体、又は、例えば、ビスアセチルアセトナト白金（ＩＩ）等のジケトナト錯体を利用することができる。

これらの化合物は、樹脂マトリックス中に封入された化合物であってもよい。

本発明により任意に使用される（Ｄ）触媒は、好ましくは白金、その化合物又は錯体、より好ましくは白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を利用する。

本発明の別の好ましい実施形態では、任意に使用される（Ｄ）触媒は、シクロペンタジエニルトリメチル白金（ＩＶ）及びその誘導体からなる群から選択される。

触媒（Ｄ）が使用される場合、その量は、所望の架橋速度及び特定の使用並びに経済的考慮事項に従って決定される。本発明の組成物は、触媒（Ｄ）を含有することが好ましい。本発明の組成物は、触媒（Ｄ）を、全て架橋性組成物の全重量を基準として、好ましくは０．０５〜５００重量ｐｐｍ（＝百万重量部当たりの重量部）、より好ましくは０．５〜１００重量ｐｐｍ、具体的には１〜５０重量ｐｐｍの白金含有量をもたらす量で含む。

本発明の組成物は、使用された成分（Ａ）、（Ｂ）、任意に（Ｃ）及び任意に（Ｄ）に加えて、これまで付加反応により架橋可能である材料中に使用され、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）以外の任意のさらなる化学物質を含むことができ、例としては、充填剤（Ｅ）、接着促進剤（Ｆ）、阻害剤（Ｇ）、可塑剤（Ｈ）、添加剤（Ｋ）及び有機溶媒（Ｌ）が挙げられる。

本発明の組成物に任意に使用される（Ｅ）充填剤は、任意の先行技の充填剤を含むことができる。

充填剤（Ｅ）の例は、非強化材、即ち、好ましくは５０ｍ^２／ｇまでのＢＥＴ比表面積を有する充填剤、例えば、石英、珪藻土、ケイ酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、タルク、カオリン、ゼオライト、金属酸化物粉末、例えば、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、鉄酸化物又は亜鉛酸化物、及び／又はそれらの混合酸化物、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、石膏、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、ガラス粉末及び粉末状プラスチック、例えば、ポリアクリロニトリル粉末；補強材、即ち、５０ｍ^２／ｇを超えるＢＥＴ比表面積を有する充填剤、例えば、ヒュームドシリカ、沈降シリカ、沈降チョーク、カーボンブラック、例えば、ファーネスブラックよびアセチレンブラック、及び大きなＢＥＴ比表面積のケイ素−アルミニウム混合酸化物；アルミニウム三水酸化物、中空ビーズの形態の充填剤、例えば、セラミックマイクロビーズ、弾性ポリマービーズ、ガラスビーズ又は繊維状充填剤である。記載された充填剤は、例えば、オルガノシラン／オルガノシロキサンによる処理、又はステアリン酸による処理、又はアルコキシ基へのヒドロキシル基のエーテル化のために疎水化された状態であってもよい。

任意に使用される（Ｅ）充填剤は、好ましくは、ヒュームドシリカのような、５０ｍ^２／ｇを超えるＢＥＴ比表面積を有する補強材を含む。

任意に使用される充填剤（Ｅ）は、好ましくは１重量％未満、より好ましくは０．５重量％未満の含水量を有する。

本発明の組成物が充填剤（Ｅ）を含有する場合、その該当する量は、１００重量部の全て成分（Ａ）を基準として、好ましくは１〜４０重量部、より好ましくは５〜３５重量部、具体的には１０〜３０重量部である。

本発明のさらなる実施形態では、組成物は、レオロジー特性を制御する目的で、５０ｍ^２／ｇを超える表面積を有するヒュームドシリカを０．０１〜３．０重量部、好ましくは０．０５〜１．０重量部含有する。

本発明の組成物は、好ましくは充填剤（Ｅ）を含有しない。

本発明の組成物に任意に使用される接着促進剤（Ｆ）は、任意の先行技術の接着促進剤を含むことができる。

接着促進剤（Ｆ）の例は、メタクリロイルオキシ官能基又はエポキシ官能基を有するシラン又はシロキサンであり、そのうちエポキシ官能基を有するシラン又はシロキサンが好ましい。

本発明の組成物が接着促進剤（Ｆ）を含有する場合、その該当する量は、１００重量部の全て成分（Ａ）を基準にして、好ましくは０．０１〜１０重量部、より好ましくは０．０５〜５重量部、具体的には０．１〜３重量部である。本発明の組成物は、好ましくは、接着促進剤（Ｆ）を含有する。

任意に使用される阻害剤（Ｇ）は、付加架橋組成物の分野から既知であり、架橋可能な組成物のポットライフ及び架橋速度を精密に操作するのに使用される任意の安定剤及び阻害剤を含むことができる。慣習的な阻害剤の例としては、アセチレン系不飽和アルコール、例えば、３−メチル−１−ブチン−３−オール、１−エチニルシクロヘキサン−１−オール、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール及び３−メチル−１−ペンチン−３−オール、ポリメチルビニルシクロシロキサン、例えば、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラビニルシクロテトラシロキサン、直鎖状ビニルシロキサン、例えば、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン及び（ビニル−メチル）−シロキシ−ジメチル−シロキシコポリマー、トリアルキルシアヌレート、マレイン酸アルキル、例えば、マレイン酸ジアリル及びマレイン酸ジメチル、フマル酸アルキル、例えば、フマル酸ジエチル及びフマル酸ジアリル、β−ケト化合物、例えば、アセチルアセトネート、有機ヒドロペルオキシド、例えば、クメンヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド及びピナンヒドロペルオキシド、有機過酸化物、有機スルホキシド、有機アミン及びアミド、ホスフィン及びホスファイト、ニトリル、トリアゾール、例えば、ベンゾトリアゾール、ジアジリジン及びオキシムが挙げられる。

本発明の組成物が阻害剤（Ｇ）を含有する場合、その該当する量は、１００重量部の全て成分（Ａ）を基準として、好ましくは０．０１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１０重量部、具体的には０．０５〜２重量部である。本発明の組成物は、好ましくは、阻害剤（Ｇ）を含有する。

任意に使用される（Ｈ）可塑剤は、付加架橋材料の分野から既知の任意の可塑剤を含むことができ、その例は、脂肪族不飽和部分及びケイ素に結合した水素を含まないトリアルキルシリル末端直鎖状又は分岐シロキサン又は環状シロキサンであり、そのうち、直鎖状及び環状シロキサンが好ましい。

本発明の組成物は、可塑剤（Ｈ）を含まないことが好ましい。

添加剤（Ｋ）の例としては、可溶性染料、有機及び無機顔料、蛍光染料、殺菌剤、香料、分散助剤、レオロジー添加剤、腐食防止剤、酸化防止剤、光保護剤、熱安定剤、難燃剤、電気特性に影響を与える薬剤及び熱伝導性を改良する薬剤、光散乱剤が挙げられ、そのうち、無機顔料、有機顔料又は蛍光染料が好ましい。

本発明の組成物が添加剤（Ｋ）を含有する場合、その含有量は、１００重量部の全て成分（Ａ）を基準として、好ましくは０．１〜３０重量部、より好ましくは１〜２０重量部、具体的には５〜１５重量部である。

溶媒（Ｌ）の例としては、芳香族溶媒、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン又はそれらの混合物及び酢酸の有機エステル、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシプロピル及び炭化水素並びに／又はそれらの混合物、例えば、市販されているイソパラフィン混合物であり、そのうち芳香族溶媒又はイソパラフィン混合物が好ましい。

本発明の組成物が溶媒（Ｌ）を含有する場合、その含有量は、１００重量部の全て成分（Ａ）を基準として、好ましくは０．１〜５０重量部、より好ましくは１〜３０重量部、具体的には５〜２０重量部である。本発明の組成物は、溶媒（Ｌ）を含まないことが好ましい。

本発明の組成物は、好ましくは、
（Ａ）式（Ｉ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｂ）式（ＶＩ）の単位で形成されるシロキサン、
任意に（Ｃ）式（Ｘ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進する触媒、
任意に（Ｅ）充填剤、
任意に（Ｆ）接着促進剤、
任意に（Ｇ）阻害剤、
任意に（Ｈ）可塑剤、
任意に（Ｋ）添加剤、及び
任意に（Ｌ）溶媒
を含有するものを含む。

さらに好ましい実施形態では、本発明の組成物は、好ましくは、
（Ａ）式（Ｉ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｂ）式（ＶＩ）の単位で形成されるシロキサン、
任意に（Ｃ）式（Ｘ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進する触媒、
任意に（Ｅ）充填剤、
（Ｆ）接着促進剤、
任意に（Ｇ）阻害剤、
任意に（Ｈ）可塑剤、
任意に（Ｋ）添加剤、及び
任意に（Ｌ）溶媒
を含有するものを含む。

さらに好ましい実施形態では、本発明の組成物は、好ましくは、
（Ａ）式（Ｉ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｂ）式（ＶＩ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進する触媒、
（Ｆ）接着促進剤、
任意に（Ｇ）阻害剤、
任意に（Ｈ）可塑剤、
任意に（Ｋ）添加剤、及び
任意に（Ｌ）溶媒
を含有するものを含む。

さらに好ましい実施形態では、本発明の組成物は、
（Ａ）式（Ｉ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｂ）式（ＶＩ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｃ）式（Ｘ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進する触媒、
（Ｆ）接着促進剤、
任意に（Ｇ）阻害剤、
任意に（Ｈ）可塑剤、
任意に（Ｋ）添加剤、及び
任意に（Ｌ）溶媒
を含有するものを含む。

さらに好ましい実施形態では、本発明の組成物は、
（Ａ）式（Ｉ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｂ）式（ＶＩ）の単位で形成されるシロキサン、
任意に（Ｃ）式（Ｘ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進し、白金−ビニルシロキサン錯体の群から選択される触媒、
任意に（Ｅ）充填剤、
（Ｆ）接着促進剤、
任意に（Ｇ）阻害剤、
任意に（Ｈ）可塑剤、
任意に（Ｋ）添加剤、及び
任意に（Ｌ）溶媒
を含有するものを含む。

さらに好ましい実施形態では、本発明の組成物は、
（Ａ）式（Ｉ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｂ）式（ＶＩ）の単位で形成されるシロキサン、
任意に（Ｃ）式（Ｘ）の単位で形成されるシロキサン、
（Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進し、シクロペンタジエニルトリメチル白金（ＩＶ）及びその誘導体からなる群から選択される触媒、
任意に（Ｅ）充填剤、
（Ｆ）接着促進剤、
任意に（Ｇ）阻害剤、
任意に（Ｈ）可塑剤、
任意に（Ｋ）添加剤、及び
任意に（Ｌ）溶媒
を含有するものを含む。

成分（Ａ）〜（Ｌ）を除いて、本発明の組成物は好ましくはさらなる成分を含有しない。

本発明により使用される成分は、各々、特定の成分の１種と同様に、そのような成分の少なくとも２種の混合物を含むことができる。

本発明の組成物は、好ましくは流動性であり、市販の計量設備を用いて処理することができ、加硫後に無色透明である。

本発明の組成物は、より詳細には、充填剤の含有量及び成分の粘度に依存するような方法で、低粘度かつ注入可能であり、ペースト状の粘稠性を有し、粉末状であるか、当業者の間でしばしばＲＴＶ−１、ＲＴＶ−２、ＬＳＲ及びＨＴＶと呼ばれる組成物と同様に、柔軟で高粘度の材料を構成する。好ましくは、組成物は低粘度であり、当業者の間でＲＴＶ−２と呼ばれる組成物の特性に適合し得る。

本発明の組成物は、任意の慣用の方法で、例えば、付加架橋組成物の製造において通常の種類の方法及び混合方法によって得ることができる。

本発明はさらに、個々の成分を任意の順序で混合することによって本発明の組成物を製造する方法を提供する。

この混合は、室温及び周囲大気圧、即ち、約９００〜１１００ｈＰａで実施することができる。しかし、所望であれば、この混合は、より高い温度、例えば、３０〜１３０℃の範囲の温度で行うこともできる。揮発性化合物及び／又は空気を除去するために、減圧下で、例えば、３０〜５００ｈＰａの絶対圧力で一時的に又は絶えず混合することがさらに可能である。

一実施形態では、成分（Ｄ）が、付加反応が光を用いて開始される触媒である場合、本発明の混合工程は、好ましくは、１９０〜５００ｎｍの波長範囲を有する光の不在下で実施される。

本発明の方法は、連続的に又はバッチ式で実施することができる。

本発明による方法の好ましい実施態様では、触媒（Ｄ）は、（Ａ）、（Ｂ）、任意に（Ｃ）、任意に（Ｇ）及び任意に（Ｆ）の混合物と均一に混合される。本発明により使用される（Ｄ）触媒は、実質的に、又は適切な溶媒に溶解した溶液として、又は例えば、（Ｂ）のような少量のシロキサンと均一に混合されたバッチとして組み込むことができる。

使用される混合装置は、任意の適切な先行技術のアセンブリ、例えば、ディゾルバー又は遊星型ミキサーであることができる。

本発明の組成物は、一成分シリコーン組成物だけでなく、二成分シリコーン組成物も含むことができる。後者の場合、触媒（Ｄ）を含む成分は、触媒（Ｄ）を（Ｂ）、任意に（Ｃ）、（Ｇ）及び（Ｆ）と均一に混合して調製され、一方ケイ素に結合した水素を含む成分は（Ａ）のみからなるか、成分（Ａ）を、任意に（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｇ）及び（Ｆ）と均一に混合することによって調製される。

本発明の組成物が一成分シリコーン組成物を含む場合、架橋反応の早すぎる開始を防止するために、組成物の温度は、好ましくは、成分の混合中に５０℃未満、より好ましくは１０〜３０℃に維持される。

脂肪族多重結合へのＳｉ結合した水素の付加によって架橋可能な本発明の組成物は、ヒドロシリル化反応により架橋可能な先行技術の組成物と同じ条件下で架橋することができる。

本発明の組成物は、好ましくは、市販の混合及び計量装置を用いて、好ましくは１５〜５０℃の間の温度で、好ましくは開放鋳型に計量供給するか又は所望の構成部品に直接計量供給し、その後周囲大気圧の圧力、即ち、約９００〜１１００ｈＰａで架橋することにより処理される。

架橋は好ましくは熱的に行われる。

より詳細には、架橋は、付加反応を促進する触媒の存在下で加熱によって活性化して行われる。

架橋温度は、好ましくは０〜２００℃、特に１０〜１５０℃の範囲である。架橋時間は、好ましくは１分〜１０時間の間、より好ましくは１０分〜５時間の間、具体的には３０分〜３時間の間である。

別の実施形態では、架橋は、射出成形機において通常の種類の圧力、即ち、約２０００００ｈＰａで行われる。この実施形態の温度は、好ましくは５０〜２００℃の間、特に１２０〜１８０℃の間である。架橋時間は１秒〜１０分の間、好ましくは５秒〜２分の間である。

本発明の組成物が成分（Ｄ）として光により付加反応を開始させる触媒を含有するさらなる実施形態では、組成物は好ましくは、電磁スペクトルのＵＶ−ＶＩＳ範囲、即ち、１９０〜８００ｎｍの間、好ましくは２５０〜５００ｎｍの間での照射後に架橋される。有用な光源としては、任意の既知の適切な光源、及び光源とフィルターとの組合せ、例えば、水銀蒸気ランプ、ドープ水銀蒸気ランプ、キセノン放電ランプ、他の放電ランプ、ＬＥＤ光源又はレーザが挙げられる。

本発明はさらに、本発明の組成物を架橋することによって得られた成形品を提供する。

本発明の成形品は、任意の所望の成形品、例えば、ガスケット、プレス成形品、押出プロファイル、押出ストランド、コーティング、含浸、封入、レンズ、光コンダクタンス用物品、プリズム、多角形構造、ラミネート層又は接着剤層を含み、好ましくは、封入、レンズ及び光コンダクタンス用物品を含む。

本発明の成形品は、好ましくはショアＡ２０〜ショアＤ８０の間の範囲内の硬度を有する。本発明の成形品は、好ましくは無色で透明性が高く、透過率はＵＶ−ＶＩＳ分光法で測定して、好ましくは４００〜８００ｎｍの間で＞９０％である。本発明の成形品は、好ましくは熱応力下で黄変がほとんどなく、より好ましくは全くないことを示す。本発明による成形品は、好ましくは＞１．４３、より好ましくは＞１．４６、さらにより好ましくは＞１．５０、具体的には＞１．５２の屈折率ｎ_Ｄ ^２５を有する。

本発明の組成物及び本発明によるそれから得られた架橋生成物は、これまで弾性架橋性シロキサン組成物及びエラストマーをそれぞれ利用する任意の目的に有用である。これには、例えば、任意の所望の基材のシリコーンコーティング／含浸、例えば、射出成形、押出、真空押出、注型成形及び圧縮成形による成形部品の製造、鋳造物、シーラント、包埋及び封入化合物としての使用が含まれる。

本発明の組成物の好ましい使用は、ＬＥＤのような光半導体素子の封入のためのその使用である。その好ましい実施形態では、本発明の組成物は、例えば、通常の計量リグを用いて半導体素子上に計量供給され、次いで加硫される。ＳＭＤ（表面実装設計）パッケージ、ＣＯＢ（チップ・オン・ボード）パッケージ、ＭＣＯＢ（マルチプル・チップ・オン・ボード）等の半導体素子（ＬＥＤパッケージとして知られる）には、その中で異なるチップ設計を用いることができる。

本発明の組成物は、製造が容易であるという利点を有する。

本発明の組成物は、貯蔵における非常に高い安定性及び高い架橋速度という利点を有する。

本発明の組成物は、さらに、優れた接着プロフィールを示す利点を有する。

本発明の組成物は、加工が容易であるという利点をさらに有する。

本発明の組成物は、上に示した要件を満たしながら変化しやすいという利点を有する。

本発明の組成物は、ＬＥＤ封入化合物の要件を満たし、良好な加工性を有し、光学的に非常に透明な加硫物に硬化可能であるという利点をさらに有する。

本発明の方法でシロキサン組成物を製造する方法は、実施が簡単であるという利点を有する。

これらが架橋される前に本発明の組成物で封入されたＬＥＤのような光学部品は、驚くべきことに好ましくは少なくとも１００サイクル、より好ましくは少なくとも３００サイクル、具体的には少なくとも５００サイクルまで交互温度試験に耐えられる。

これらが架橋された前に本発明の組成物で封入されたＬＥＤのような光学部品は、有利には硫黄含有ガスに対する改善された耐性を有する。

これらが架橋された前に本発明の組成物で封入されたＬＥＤのような光学部品は、有利には先行技術よりも改善された光効率を有する。

別段の記載がない限り、周囲雰囲気の圧力、即ち、１０００ｈＰａで、室温で、即ち、約２３℃で、及び／又は追加の加熱又は冷却をしないで室温で反応物が一緒に添加されたときに確立される温度、及び約５０％の相対湿度で、以下の実施例を実施する。別段の記載がない限り、部及び％はさらに全て重量による。

化学物質は、本明細書において、機器分析を用いて得られたデータの表示によって特徴付けられる。基礎となる測定は、公的に入手可能な規格に従って行うか、又は特別に開発された方法を用いて決定する。開示された教示の明快さを保護するために、使用された方法をここで特定する。

粘度：
別段の記載がない限り、粘度は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ３２１９に従い、測定のプレート−コーンシステムを備えた回転式Ｄ−オストフィルダーンのアントン・パール（Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ）のＭＣＲ３０２レオメーターで測定する。測定はサンプルのニュートン領域で行う。サンプルが非ニュートン挙動を示す場合、せん断速度もまた報告する。別段の指示がない限り、報告された粘度は全て２５℃及び１０１３ｍｂａｒにおける標準圧力に関連する。

屈折率：
別段の記載がない限り、屈折率は、規格ＤＩＮ ５１４２３のとおりに、５８９ｎｍ及び２５℃（ｎ_Ｄ ^２５）及び１０１３ｍｂａｒにおける標準圧力で可視光の波長範囲で測定する。Ｄ−ハンブルグ及び日本の愛宕のアー・クルス・オプトロニクス（Ａ．Ｋｒｕｓｓ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ）から、タイプＤＲ−Ｍ２のアベ（Ａｂｂｅ）屈折計を使用した。

分子組成：
分子組成は、^１Ｈ核及び^２９Ｓｉ核を測定することによって核磁気共鳴分光法（用語については、ＡＳＴＭ Ｅ３８６：高分解能核磁気共鳴（Ｈｉｇｈ−Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｎｕｃｌｅａｒ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）（ＮＭＲ）分光法：用語及び記号を参照）を使用して決定する。

^１Ｈ ＮＭＲ測定の説明
溶媒：ＣＤＣｌ_３、９９．８％ｄ
サンプル濃度：５ｍｍ ＮＭＲバイアル中の約５０ｍｇ／１ｍｌ ＣＤＣｌ_３。
ＴＭＳを混合しない測定において、７．２４ｐｐｍのＣＤＣｌ_３中の残留ＣＨＣｌ_３のピークを参照。

分光器：Ｂｒｕｋｅｒ Ａｖａｎｃｅ Ｉ ５００又はＢｒｕｋｅｒ Ａｖａｎｃｅ ＨＤ ５００
プローブヘッド：５ ｍｍ ＢＢＯプローブヘッド又はＳＭＡＲＴプローブヘッド（ブルカー（Ｂｒｕｋｅｒ）製）
測定パラメータ：
Ｐｕｌｐｒｏｇ＝ｚｇ３０
ＴＤ＝６４ｋ
ＮＳ＝６４又は１２８（プローブヘッドの感度に依存）
ＳＷ＝２０．６ｐｐｍ
ＡＱ＝３．１７秒
Ｄ１＝５秒
ＳＦＯ１＝５００．１３ＭＨｚ
Ｏ１＝６．１７５ｐｐｍ
処理パラメータ：
ＳＩ＝３２ｋ
ＷＤＷ＝ＥＭ
ＬＢ＝０．３Ｈｚ
使用する分光器の種類に応じて、測定パラメータの個別の調整が必要となることがある。

^２９Ｓｉ ＮＭＲ測定の説明
溶媒：緩和試薬として１重量％のＣｒ（ａｃａｃ）_３を含むＣ_６Ｄ_６９９．８％ｄ／ＣＣｌ_４ １：１ ｖ／ｖ
サンプル濃度：１０ｍｍＮＭＲバイアル中の約２ｇ／１．５ｍｌ溶媒
分光器：Ｂｒｕｋｅｒ Ａｖａｎｃｅ ３００
プローブヘッド：１０ｍｍ ^１Ｈ／^１３Ｃ／^１５Ｎ／^２９ＳｉガラスフリーＱＮＰプローブヘッド（ブルカー製）
測定パラメータ：
Ｐｕｌｐｒｏｇ＝ｚｇｉｇ６０
ＴＤ＝６４ｋ
ＮＳ＝１０２４（プローブヘッドの感度に依存）
ＳＷ＝２００ｐｐｍ
ＡＱ＝２．７５秒
Ｄ１＝４秒
ＳＦＯ１＝３００．１３ＭＨｚ
Ｏ１＝−５０ｐｐｍ
処理パラメータ：
ＳＩ＝６４ｋ
ＷＤＷ＝ＥＭ
ＬＢ＝０．３Ｈｚ
使用する分光器の種類に応じて、測定パラメータの個別の調整が必要となることがある。

分子量分布：
分子量分布を、ポリスチレン標準及び屈折率（ＲＩ）検出器を用いたゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ又はサイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ））の方法を使用して、Ｍｗ重量平均及びＭｎ数平均として決定する。別段の記載がない限り、ＴＨＦを移動相として使用し、ＤＩＮ ５５６７２−１を適用する。多分散度は、Ｍｗ／Ｍｎの商である。

ガラス転移温度：
ＣＨ−グライフェンゼーのメトラー・トレド（Ｍｅｔｔｌｅｒ Ｔｏｌｅｄｏ）のＤＳＣ１熱量計で１０Ｋ／分の加熱速度で有孔るつぼ中でＤＩＮ５３７６５に従う示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって、ガラス転移温度を決定する。

ショア硬度：
Ｄ−オーベルディスシンゲンのバライス（Ｂａｒｅｉｓｓ）の硬度測定装置（モデルＨＰＥ ＩＩショアＡ及びショアＤ）でＤＩＮ（ドイツ工業規格）５３５０５（２０００年８月時点）で、ショア硬度Ａ及びＤをそれぞれ決定する。

交互温度試験：
加硫物及び／又は使用可能な封入された構成部品の交互温度試験を、日本のエスペックの機器（Ｔｈｅｒｍｅｃｏｃｋ Ｃｈａｍｂｅｒ ＴＳＥ−１１、エレベータタイプ）を用いて行う。別段の記載がない限り、熱サイクルは、−４５℃の最低温度及び１２５℃の最高温度を有する。サンプルをいずれかの温度で１５分間維持する。したがって、１サイクルに３０分かかる。

硫黄含有ガスに対する耐性：
ガラス容器の水で覆われた基部は、Ｋ_２Ｓが水と接触しないように、その上に載せたＫ_２Ｓを入れた皿を有する。使用可能な構成部品（例えば、ＬＥＤ）を、Ｋ_２Ｓを入れた皿の上方のガス空間に配置し、容器を密閉する。ガラス容器を水浴中で８５℃に加熱する。構成部品の測定を、典型的には８時間の間隔で行う。測定の手順は次のとおりである。まず、未処理ＬＥＤの光効率を測定する。次いで、上述したように、Ｋ_２Ｓを入れた上記ガラス容器内の条件にＬＥＤを暴露する。その後、ＬＥＤの光効率を再び測定し、初期値と比較する。次に、これに、ガラス容器内でのさらなる暴露サイクルとその後の光効率の測定が続くことがある。

光効率：
光効率を、ＬＥＤの放射強度測定のためにＣＩＥ１２７に従って、ＩＳＰ ２５０（内径２５０ｍｍ）型のＵｌｂｒｉｃｈｔ球体上の、日本のインストルメント・システムズ（Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍｓ）のコンパクトアレイ分光計ＣＡＳ １４０ＣＴ型の機器を用いて決定する。

以下
Ｐｈはフェニル＝Ｃ_６Ｈ_５−であり、
Ｖｉはビニル＝ＣＨ_２＝ＣＨ−であり、
Ｍｅはメチル＝ＣＨ_３−である。

バランスのとれた官能性のＳｉ−Ｈ及びＳｉ−Ｖｉ二官能性フェニル型樹脂（Ａ１）の調製
反応を実施するために使用した装置は、出口、ＫＰＧ攪拌器、強力凝縮器及び計量容器（滴下漏斗）を備えた１Ｌの４首ガラスフラスコである。３００ｇの量の完全にイオンを含まない水をガラスフラスコに導入する。磁気攪拌器を用いて、１Ｌガラスビーカー中でビニルジメチルクロロシラン（分子量１２０．５ｇ／モル）６０ｇ（０．５モル）、フェニルトリクロロシラン（分子量２１１．５ｇ／モル）１３５ｇ（０．６３モル）及びジメチルクロロシラン（分子量９４ｇ／モル）３０ｇ（０．３１モル）を混合し、次いで混合物を計量容器に移す。

クロロシラン混合物を２時間かけて最初の水の必要量に計量し、その間に温度が２１．３℃から４６．０℃に上昇する。計量添加が完了すると、混合物を加熱又は冷却せずに１時間さらに長く攪拌する。その後、さらにジメチルクロロシラン１９ｇ（０．２モル）を計量容器に導入し、１０分間かけて混合する。計量添加が完了すると、温度は３２℃である。その後、混合物を２０分間撹拌する。２相反応混合物が得られる。底部相は水相であり、これは塩酸のため酸性であり、フラスコから排出される。５００ｇの量の完全にイオンを含まない水を６０℃に加熱する前に残りの生成物相に添加する。得られた２相混合物において、上相は水相であり、再び分離する。洗浄手順を、全体で３回繰り返す。次いで、Ｓｅｉｔｚ ＥＦフィルター助剤１５ｇを生成物相に混合し、１５分間撹拌し、Ｓｅｉｔｚ Ｋ１００フィルタープレートを通した加圧フィルターヌッチェで濾過する。濾液をロータリーエバポレーターで１６０℃、１０ｍｂａｒの圧力下で２時間加熱し、１３３ｍｍ^２／秒の粘度を有するわずかに濁った生成物１１０ｇを得る。

得られた樹脂（Ａ１）は、Ｍｗ＝１９００ｇ／モル、Ｍｎ＝１０００ｇ／モルの分子量を有することがＳＥＣ（移動相ＴＨＦ）で示される。シラノール含量は１９５ｐｐｍとして^１Ｈ ＮＭＲによって決定される。ビニル含量は２．６４ミリモル／ｇであり、Ｓｉ結合した水素含量は２．５４ミリモル／ｇである。
^２９Ｓｉ ＮＭＲによれば、モル組成は、
ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２：２７．４％
Ｍｅ_２（Ｈ）ＳｉＯ_１／２：２６．３％
Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２：１．２％
Ｐｈ（ＯＨ）_２ＳｉＯ_１／２：０．０％
Ｐｈ（ＯＨ）ＳｉＯ_２／２：８．３％及び
ＰｈＳｉＯ_３／２：３６．８％である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。

ＳｉＨ／Ｖｉ＝１．１５であるＳｉ−Ｈ及びＳｉ−ビニル二官能性フェニル型樹脂（Ａ２）の調製
この手順は樹脂（Ａ１）の調製と同様である。使用した装置は４Ｌのフラスコである。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水：１３５０ｇ
ビニルジメチルクロロシラン（分子量１２０．５ｇ／モル）：１８８．９ｇ（１．５７モル）
フェニルトリクロロシラン（分子量２１１．５ｇ／モル）：６７４．８５ｇ（３．１９モル）
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン：１１５．４８ｇ（１．２３モル）
後の用量のためのジメチルクロロシラン：７３．２２ｇ（０．７８モル）。
洗浄は４５℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで１００℃及び６ｍｂａｒで液化して、５４８ｍＰａｓの粘度及び１．５０２の屈折率ｎ_Ｄ ^２５を有する透明な生成物４７０ｇを得る。

得られた樹脂（Ａ２）は、Ｍｗ＝１７００ｇ／モル、Ｍｎ＝１１００ｇ／モルの分子量を有することがＳＥＣ（移動相ＴＨＦ）で示される。
シラノール含量は３９４ｐｐｍとして^１Ｈ ＮＭＲによって決定される。
ビニル含量は２．１５ミリモル／ｇであり、Ｓｉ結合した水素含量は２．５２ミリモル／ｇである。
^２９Ｓｉ ＮＭＲによれば、モル組成は、
ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２：２３．０％
Ｍｅ_２（Ｈ）ＳｉＯ_１／２：２７．２％
Ｐｈ（ＯＨ）ＳｉＯ_２／２：９．８％及び
ＰｈＳｉＯ_３／２：４０．０％である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。

ＳｉＨ／Ｖｉ＝２．３であるＳｉ−Ｈ及びＳｉ−ビニル二官能性フェニル型樹脂（Ａ３）の調製
この手順は樹脂（Ａ１）の調製と同様である。使用した装置は４Ｌのフラスコである。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水：１３２０ｇ
ビニルジメチルクロロシラン：１０７．３８ｇ（０．８９モル）
フェニルトリクロロシラン（分子量２１１．５ｇ／モル）：６７４．８５ｇ（３．１９モル）
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン：１５６．６３ｇ（１．６５モル）
後の用量のためのジメチルクロロシラン：９６．００ｇ（１．０１モル）。
洗浄は４５℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで１００℃及び６ｍｂａｒで液化して、８６１ｍＰａｓの粘度及び１．５０４の屈折率ｎ_Ｄ ^２５を有する透明な生成物４１３ｇを得る。

得られた樹脂（Ａ３）は、Ｍｗ＝２０００ｇ／モル、Ｍｎ＝１２００ｇ／モルの分子量を有することがＳＥＣ（移動相ＴＨＦ）で示される。シラノール含量は６８０ｐｐｍとして^１Ｈ ＮＭＲによって決定される。
ビニル含量は１．３ミリモル／ｇであり、Ｓｉ結合した水素含量は３．１８ミリモル／ｇである。
^２９Ｓｉ ＮＭＲによれば、モル組成は、
ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２：１４．４％
Ｍｅ_２（Ｈ）ＳｉＯ_１／２：３４．１％
Ｐｈ（ＯＨ）ＳｉＯ_２／２：１０．２％及び
ＰｈＳｉＯ_３／２：４１．３％である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。

ＳｉＨ／Ｖｉ＝０．１５であるＳｉ−Ｈ及びＳｉ−ビニル二官能性フェニル型樹脂（Ａ４）の調製
この手順は樹脂（Ａ１）の調製と同様である。使用した装置は１Ｌのフラスコである。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水：２５５ｇ
ビニルジメチルクロロシラン：６０．００ｇ（０．４９７モル）
フェニルトリクロロシラン：１３５．３６ｇ（０．６４モル）
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン：５．２３ｇ（０．０５５モル）
洗浄は４５℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで１００℃及び６ｍｂａｒで液化して、１３９０ｍＰａｓの粘度及び１．５１１の屈折率ｎ_Ｄ ^２５を有する透明な生成物８４ｇを得る。

得られた樹脂（Ａ４）は、Ｍｗ＝１９００ｇ／モル、Ｍｎ＝１２００ｇ／モルの分子量を有することがＳＥＣ（移動相ＴＨＦ）で示される。
シラノール含量は３３７３ｐｐｍとして^１Ｈ ＮＭＲによって決定される。ビニル含量は３．３３ミリモル／ｇであり、Ｓｉ結合した水素含量は０．４６ミリモル／ｇである。
^２９Ｓｉ ＮＭＲによれば、モル組成は、
ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２：３８．６％
Ｍｅ_２（Ｈ）ＳｉＯ_１／２：５．８％
Ｐｈ（ＯＨ）ＳｉＯ_２／２：２０．２％及び
ＰｈＳｉＯ_３／２：３５．４％である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。

ＳｉＨ／Ｖｉ＝６．６５であるＳｉ−Ｈ及びＳｉ−ビニル二官能性フェニル型樹脂（Ａ５）の調製
この手順は樹脂（Ａ１）の調製と同様である。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水：２６０ｇ
ビニルジメチルクロロシラン：６．８７ｇ（０．０５７モル）
フェニルトリクロロシラン：１３５．３６ｇ（０．６４モル）
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン：４８．５２ｇ（０．５１３モル）
洗浄は４５℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで１００℃及び６ｍｂａｒで液化して、６１１ｍＰａｓの粘度及び１．５０６の屈折率ｎ_Ｄ ^２５を有する透明な生成物７４ｇを得る。

得られた樹脂（Ａ５）は、Ｍｗ＝１６００ｇ／モル、Ｍｎ＝１１００ｇ／モルの分子量を有することがＳＥＣ（移動相ＴＨＦ）で示される。シラノール含量は１２６２ｐｐｍとして^１Ｈ ＮＭＲによって決定される。ビニル含量は０．４７ミリモル／ｇであり、Ｓｉ結合した水素含量は３．９７ミリモル／ｇである。
^２９Ｓｉ ＮＭＲによれば、モル組成は、
ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２：６．０％
Ｍｅ_２（Ｈ）ＳｉＯ_１／２：４０．７％
Ｐｈ（ＯＨ）ＳｉＯ_２／２：１４．９％及び
ＰｈＳｉＯ_３／２：３８．４％である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。

ＳｉＨ／Ｖｉ＝２．１０であるＳｉ−Ｈ及びＳｉ−ビニル二官能性フェニル型樹脂（Ａ６）の調製
この手順は樹脂（Ａ１）の調製と同様である。使用した量を以下のように選択する。
完全にイオンを含まない水：２７０．００ｇ
ビニルジメチルクロロシラン：１８．８９ｇ（０．１５７モル）
フェニルトリクロロシラン：１３４．９７ｇ（０．６３８モル）
シランＰＭ２：２６．７３ｇ（０．１５６モル）
クロロシラン混合物中のジメチルクロロシラン：２３．１０ｇ（０．２４モル）
後の用量のためのジメチルクロロシラン：１４．６４ｇ（０．１５モル）。
洗浄は４５℃で行う。生成物をロータリーエバポレーターで１００℃及び６ｍｂａｒで液化して、３１４ｍＰａｓの粘度及び１．５１２の屈折率ｎ_Ｄ ^２５を有する透明な生成物８９ｇを得る。

得られた樹脂（Ａ６）は、Ｍｗ＝１７００ｇ／モル、Ｍｎ＝１０００ｇ／モルの分子量を有することがＳＥＣ（移動相ＴＨＦ）で示される。
シラノール含量は４７４ｐｐｍとして^１Ｈ ＮＭＲによって決定される。
ビニル含量は１．００ミリモル／ｇであり、Ｓｉ結合した水素含量は２．４８ミリモル／ｇである。^２９Ｓｉ ＮＭＲによれば、モル組成は、
ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２：１２．２％
Ｍｅ_２（Ｈ）ＳｉＯ_１／２：２７．１％
Ｍｅ_２ＰｈＳｉＯ_１／２：１１．６％
Ｐｈ（ＯＨ）ＳｉＯ_２／２：１１．９％及び
ＰｈＳｉＯ_３／２：３７．２％である。
生成物はアルコキシシリル基を含まない。

Ｓｉ−ビニル官能性フェニル型樹脂（Ｃ１）の調製
フェニルトリエトキシシラン７００ｇ（２．９１モル）、ジメチルジエトキシシラン６１．６ｇ（０．４１５モル）及び１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン７７．６ｇ（０．４１６モル）を２Ｌのフラスコ中で均質に混合する。この混合物に、撹拌しながら、水５５０ｇ、次いで２０％ＨＣｌ ３．０ｇを加える。混合物を撹拌しながら２時間加熱還流する。冷却後、２０％水酸化ナトリウム水溶液４．５ｇを混合し、３０分間還流させる。５０ｍｂａｒの圧力で、形成されたエタノールを留去し、トルエン８００ｍｌを混合する。水相を分離し、有機相を５００ｍｌの水で３回洗浄する。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥させ、生成物をロータリーエバポレーターで１４０℃及び５ｍｂａｒで液化して、ガラス転移温度が５℃の透明で極めて粘稠な生成物４７０ｇを得る。

得られた樹脂（Ｃ１）は、Ｍｗ＝２０００ｇ／モル、Ｍｎ＝１４００ｇ／モルの分子量を有することがＳＥＣ（移動相ＴＨＦ）で示される。ビニル含量は１．４８ミリモル／ｇである。
^２９Ｓｉ ＮＭＲによれば、モル組成は、
ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２：１７．９％
Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２：１１．０％
Ｐｈ（ＯＲ）ＳｉＯ_２／２：１８．０％（Ｒ＝Ｈ：３％、Ｒ＝エチル：１５％）及び
ＰｈＳｉＯ_３／２：５３．１％である。

Ｓｉ−ビニル官能性フェニル型樹脂（Ｃ２）の調製
フェニルトリクロロシラン６００ｇ（２．８４モル）及びビニルジメチルクロロシラン１１３ｇ（０．９３６モル）を均質に混合し、水６００ｇ、トルエン３１０ｇ及び酢酸エチル１９０ｇの混合物に５０℃で滴下した。続いて混合物を２時間還流する。混合物を室温まで冷却した後、トルエン７００ｍｌを混合し、水相を分離し、有機相を１Ｌの水で２回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去する。これにより、ガラス転移温度が１０℃の極めて粘稠な生成物４５０ｇを得る。

得られた樹脂（Ｃ２）は、Ｍｗ＝２２００ｇ／モル、Ｍｎ＝１６００ｇ／モルの分子量を有することがＳＥＣ（移動相ＴＨＦ）で示される。ビニル含量は１．８５ミリモル／ｇである。
^２９Ｓｉ ＮＭＲによれば、モル組成は、
ＶｉＭｅ_２ＳｉＯ_１／２：３１．２％
Ｐｈ（ＯＲ）ＳｉＯ_２／２：３０．２％（Ｒ＝Ｈ：５％、Ｒ＝エチル ２５％）及び
ＰｈＳｉＯ_３／２：３８．６％である。

配合物を以下の実施例において以下のように調製する。

ハウスチャイルド（Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ）のＤＡＣ１５０ＦＶ型スピードミキサーを使用して特に報告した成分の均質な混合物を調製し、油拡散ポンプ又は日本の株式会社シンキーからの遊星型混合機あわとり練太郎モデルＡＲＶ−３１０でサンプルを同時に排気することによるその後の脱気により、配合物を調製する。

別段の記載がない限り、脱気した混合物を直径３５ｍｍ、高さ６ｍｍの開放鋼鋳型に注ぎ、循環空気乾燥キャビネット中で１５０℃で加硫する。加硫期間を特定の配合物と共に報告する。

［実施例１］
スピードミキサー中で、樹脂（Ａ２）１００ｇを白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００５部（白金基準）と混合する。混合物を排気し、１５０℃で１時間加硫する。加硫物は４８というショアＤ硬度を有する。

［実施例２］
遊星型混合機中で、樹脂（Ａ２）５５部を式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_６０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_１２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５３８、粘度η＝７８００ｍＰａｓ）４５部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で１時間加硫する。加硫物は６５というショアＡ硬度を有する。

［実施例３］
スピードミキサー中で、樹脂（Ａ３）８０部を式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_１０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５２１６、粘度η＝２２０ｍＰａｓ）２０部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で１時間加硫する。加硫物は５９というショアＡ硬度を有する。

［実施例４］
スピードミキサー中で、樹脂（Ａ３）７０部を式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_６０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_１２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５３８、粘度η＝７８００ｍＰａｓ）２５部、１，５−ジビニル−３，３−ジフェニル−１，１，５，５−テトラメチルトリシロキサン５部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で１時間加硫する。加硫物は６２というショアＡ硬度を有する。

［実施例６］
スピードミキサー中で、樹脂（Ａ５）３０部を式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_１０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５２１６、粘度η＝２２０ｍＰａｓ）７０部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で１時間加硫する。加硫物は４７というショアＡ硬度を有する。

［実施例７］
スピードミキサー中で、樹脂（Ａ４）２５部を式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_１０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５２１６、粘度η＝２２０ｍＰａｓ）２５部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で１時間加硫する。加硫物は３１というショアＤ硬度を有する。

［実施例８］
スピードミキサー中で、樹脂（Ａ６）５０部を式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_１０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５２１６、粘度η＝２２０ｍＰａｓ）５０部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で１時間加硫する。加硫物は４６というショアＡ硬度を有する。

［実施例９］
遊星型混合機中で、樹脂（Ａ２）６０部を、樹脂（Ｃ１）３０部、式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_６０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_１２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５３８、粘度η＝７８００ｍＰａｓ）１０部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で１時間加硫する。加硫物は４０というショアＤ硬度を有する。

［実施例１０］
遊星型混合機中で、樹脂（Ａ２）７５部を、式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_６０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_１２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５３８、粘度η＝７８００ｍＰａｓ）２５部及びメチルシクロペンタジエニルトリメチル白金（ＩＶ）０．００２部（白金基準）と混合する。混合物を脱気し、直径３５ｍｍ、高さ６ｍｍの開放鋼鋳型に注ぎ、Ｄ−グレーフェルフィングのヘンレ（Ｈｏｎｌｅ）の鉄照射器（「Ｄ−バルブ」）で１４０ｍＷ／ｃｍ^２で１５秒間照射する。加硫物は２６というショアＤ硬度を有する。

［実施例１１］
遊星型混合機中で、樹脂（Ａ２）６０部を、樹脂（Ｃ１）３０部、式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_６０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_１２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５３８、粘度η＝７８００ｍＰａｓ）１０部、（３−グリシドキシプロピル）トリメトキシシラン０．５部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で１時間加硫する。加硫物は４０というショアＤ硬度を有する。

［比較例１］
遊星型混合機中で、樹脂（Ｃ２）７０部を、式（Ｍｅ_２ＶｉＳｉＯ_１／２）_２（ＭｅＰｈＳｉＯ_２／２）_６０（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_１２のビニル末端ポリジメチルフェニルメチルシロキサン（屈折率ｎ_Ｄ ^２５＝１．５３８、粘度η＝７８００ｍＰａｓ）１０部、１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ジフェニルトリシロキサン２０部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で２時間加硫する。加硫物は６０というショアＡ硬度を有する。

［比較例２］
遊星型混合機中で、樹脂（Ｃ２）６５部を１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ジフェニルトリシロキサン３５部及び白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体０．０００２部（白金基準）と混合する。混合物を１５０℃で４時間加硫する。加硫物は３８というショアＤ硬度を有する。

Claims (11)

1. （Ａ）以下の式の少なくとも３単位で形成されるオルガノポリシロキサン
   Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＲ^３ _ｃＨ_ｄ（ＲＯ）_ｅＳｉＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ−ｄ−ｅ）／２} （Ｉ）
   式中、
   Ｒ^１は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   Ｒ^２は、１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   Ｒ^３は、同一又は異なる１価のＳｉＣ結合した芳香族部分を表し、
   Ｒは、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい１価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   ａは０、１、２又は３であり、
   ｂは０、１、２又は３であり、
   ｃは０、１、２又は３であり、
   ｄは０、１又は２であり、
   ｅは０、１又は２であり、
   ただし、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅの合計は３以下であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの合計は、式（Ｉ）の単位の５モル％以下において２に等しく、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びＲ^１部分の合計が少なくとも３であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの合計は、式（Ｉ）の単位の少なくとも１０モル％において０又は１に等しく、ｃは少なくとも１つの単位において０以外であり、
   （Ｂ）以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサン
   Ｒ^４ _ｆＲ^５ _ｇＲ^６ _ｈ（Ｒ^７Ｏ）_ｉＳｉＯ_{（４−ｆ−ｇ−ｈ−ｉ）／２} （ＶＩ）
   式中、
   Ｒ^４は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   Ｒ^５は、１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   Ｒ^６は、同一又は異なる１価のＳｉＣ結合した芳香族部分を表し、
   Ｒ^７は、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい１価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   ｆは０、１、２又は３であり、
   ｇは０、１、２又は３であり、
   ｈは０、１又は２であり、
   ｉは０又は１であり、
   ただし、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉの合計は３以下であり、シロキサン（Ｂ）は１分子当たり少なくとも２個のＲ^４部分を有し、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉの合計は、式（ＶＩ）の単位の４モル％以下において０又は１に等しく、ｈは式（ＶＩ）の少なくとも１つの単位において０以外であり、
   任意に（Ｃ）以下の式の単位で形成されるオルガノポリシロキサン
   Ｒ^８ _ｋＲ^９ _ｌＲ^１０ _ｍ（Ｒ^１１Ｏ）_ｎＳｉＯ_{（４−ｋ−ｌ−ｍ−ｎ）／２} （Ｘ）
   式中、
   Ｒ^８は、脂肪族炭素−炭素多重結合を有する１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   Ｒ^９は、１価のＳｉＣ結合した任意にハロゲン又はシアノ置換された飽和ヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   Ｒ^１０は同一又は異なる１価のＳｉＣ結合した芳香族部分を表し、
   Ｒ^１１は、水素原子、又はヘテロ原子によって中断されていてもよい１価の任意に置換されたヒドロカルビル部分を表し、各出現で同じであっても異なっていてもよく、
   ｋは０、１、２又は３であり、
   ｌは０、１、２又は３であり、
   ｍは０、１又は２であり、
   ｎは０又は１であり、
   ただし、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎの合計は３以下であり、シロキサン（Ｃ）は１分子当たり少なくとも２個のＲ^８部分を有し、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎの合計は、式（Ｘ）の単位の少なくとも１０モル％において０又は１に等しく、ｍは式（Ｘ）の少なくとも１つの単位において０以外であり、
   及び
   任意に（Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進する触媒
   を含む組成物。
2. 成分（Ａ）が、以下の式の単位から選択される少なくとも３つの単位を有するシロキサンを含むことを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
   Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＲ^３ _ｃＨ_ｄ（ＲＯ）_ｅＳｉＯ_１／２（式中、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ）＝３） （ＩＩ）、
   Ｒ^２ _ｂＲ^３ _ｃ（ＲＯ）ＳｉＯ_２／２（式中、（ｂ＋ｃ）＝１） （ＩＩＩａ）、
   Ｒ^２ _ｂＲ^３ _ｃＳｉＯ_２／２（式中、（ｂ＋ｃ）＝２） （ＩＩＩｂ）、
   Ｒ^２ _ｂＲ^３ _ｃ（ＲＯ）_ｅＳｉＯ_３／２（式中、（ｂ＋ｃ＋ｅ）＝１） （ＩＶ）、及び
   ＳｉＯ_４／２ （Ｖ）
   ［式中、Ｒ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅが、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン（Ａ）中の単位の５モル％以下が式（ＩＩＩｂ）に一致し、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びＲ^１部分の合計は少なくとも３であり、１分子当たり少なくとも１つのＲ^３部分が存在し、式（ＩＶ）及び／又は（Ｖ）の少なくとも１つの単位が存在する。］
3. 成分（Ｂ）が、以下の式の単位から選択される単位からなるシロキサンを含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の組成物。
   Ｒ^４ _ｆＲ^５ _ｇＲ^６ _ｈ（Ｒ^７Ｏ）_ｉＳｉＯ_１／２（式中、（ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ）＝３） （ＶＩＩ）、
   Ｒ^５ _ｇＲ^６ _ｈ（Ｒ^７Ｏ）ＳｉＯ_２／２（式中、（ｇ＋ｈ）＝１） （ＶＩＩＩａ）、
   Ｒ^５ _ｇＲ^６ _ｈＳｉＯ_２／２（式中、（ｇ＋ｈ）＝２） （ＶＩＩＩｂ）、
   Ｒ^５ _ｇＲ^６ _ｈ（Ｒ^７Ｏ）_ｉＳｉＯ_３／２（式中、（ｇ＋ｈ＋ｉ）＝１） （ＩＸ）、及び
   ＳｉＯ_４／２ （Ｖ）
   ［式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、ｆ、ｇ、ｈ及びｉが、各々上記で定義されたとおりであり、ただし、シロキサン（Ｂ）が１分子当たり少なくとも２つのＲ^４部分を有し、単位の４モル％以下が式（ＩＸ）又は（Ｖ）に一致し、１分子当たり少なくとも１つのＲ^６部分が存在する。］
4. 組成物が、１００重量部の成分（Ａ）を基準として、１〜２００重量部のシロキサン（Ｂ）を含むことを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
5. 組成物が、
   （Ａ）式（Ｉ）の単位で形成されたシロキサン、
   （Ｂ）式（ＶＩ）の単位で形成されたシロキサン、
   任意に（Ｃ）式（Ｘ）の単位で形成されたシロキサン、
   （Ｄ）脂肪族炭素−炭素多重結合へのＳｉ結合した水素の付加を促進する触媒、
   任意に（Ｅ）充填剤、
   任意に（Ｆ）接着促進剤、
   任意に（Ｇ）阻害剤、
   任意に（Ｈ）可塑剤、
   任意に（Ｋ）添加剤、及び
   任意に（Ｌ）溶媒
   を含むことを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の組成物。
6. Ｒ^２ _３ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^１Ｒ^２ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２ _２ＨＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２ _２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^２Ｒ^３ _２ＳｉＯ_１／２単位、Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２単位及びＲ^２Ｒ^３ＨＳｉＯ_１／２単位から選択される少なくとも１つの単位、
   Ｒ^３ＳｉＯ_３／２単位及びＲ^２ＳｉＯ_３／２単位から選択される少なくとも１つの単位、及び
   任意にＲ^２ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^３ _２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^２（ＲＯ）ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ^３（ＲＯ）ＳｉＯ_２／２単位、及びＲＯＳｉＯ_３／２単位から選択される単位
   からなるシロキサン（Ａ）であって、
   式中、Ｒ、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は各々上記で定義されたとおりであり、
   ただし、シロキサン（Ａ）は３〜５０個のシロキシ単位からなり、１分子当たりのＳｉ結合した水素原子及びＲ^１部分の合計は少なくとも３であり、１分子当たり少なくとも１個のＲ^３部分が存在し、
   ケイ素に結合したＯＨ基の含有量が１０００重量ｐｐｍ以下であり、シロキサン（Ａ）はＲが水素ではないＲ基を５００重量ｐｐｍ以下含む、該シロキサン（Ａ）。
7. 個々の成分を任意の順序で混合することにより、請求項１から５のいずれか一項に記載の組成物を製造する方法。
8. 請求項１から５のいずれか一項に記載の組成物又は請求項７に従って得られた組成物を架橋して得られた成形品。
9. コーティング、封入又はレンズが関係していることを特徴とする、請求項８に記載の成形品。
10. 電気及び電子用途における封入化合物としての請求項１から５のいずれか一項に記載の組成物又は請求項７に従って得られた組成物の使用。
11. ＬＥＤの製造における封入化合物としての請求項１から５のいずれか一項に記載の組成物又は請求項７に従って得られた組成物の使用。