JP6388382B2 - 走査光学装置及び画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、光源からのレーザ光を偏向して像担持体上に露光走査する走査光学装置及びこれを備える画像形成装置に関する。

レーザビームプリンタやデジタル複写機などの電子写真方式を用いた画像形成装置には、光源からのレーザ光を光偏向器により偏向して像担持体上に露光走査する走査光学装置が備えられている。カラー画像形成装置においては、各色に対応して複数の走査光学系が備えられているが、画像形成装置の小型化を図るために、一つの光偏向器に対して、複数のレーザ光を入射する技術が採用されている（特許文献１参照）。この場合、光偏向器の厚みを低減させ、かつ偏向後の光束を分離し易くさせるために、光偏向器の偏向面に対して入射させる光束を副走査方向に対して斜めに入射させるのが一般的である。また、コストの関係上、各走査光学系にそれぞれ用いる光学部品を共通化するために、各走査光学系の光路長を等しくするのが一般的である。しかしながら、各走査光学系の光路長を等しくするためには、光偏向器に近い位置に配置される走査光学系については、複数の反射ミラーが必要となる。反射ミラーを用いる場合、ミラーの表面に付着するゴミや傷などにより画像に筋が出やすくなり、また、ミラーの振動による走査線のバンディングが課題となる。更には、ミラーの枚数が多くなれば、それだけ装置全体が複雑な構成になる。従って、反射ミラーの数は必要最小限の枚数で走査光学装置を構成することが望ましい。そこで、反射ミラーの数を最小限に抑えることで、各走査光学系の光路長が異なってしまっても、光偏向器に入射させる光束の収束度を変えることで、装置の小型化を図る技術が知られている（特許文献２参照）。

特開２００４−２０５６４０号公報 特開２００９−９２９１５号公報

特許文献２に開示されている技術においては、光偏向器に対して最も遠い位置に配置される被走査面に走査される光束のうち、光源から光偏向器に入射させる光束を略平行光束としている。一方、光偏向器に対して最も近い位置に配置される被走査面に走査される光束のうち、光源から光偏向器に入射させる光束を収束光束としている。そして、これらの光束は、共に光偏向器の偏向面に対し上方向と下方向からそれぞれ斜入射させる構成としている。

ここで、光偏向器の偏向面に対して斜入射させた場合、副走査方向における相対的な偏向面の倒れ（面倒れ）により特に画像の書き終わり側では幾何学的に主走査方向の走査位置ずれ（ジッター）が大きくなる。また、収束光束を偏向面に入射させた場合、偏向面の面偏心等により同様にジッターが生じる。そのため、収束光束を偏向面に対して斜入射させる走査光学系においては、上記の２種類のジッターが重畳してしまい、ジッターが大きくなり易いという問題がある。

本発明の目的は、ジッターの抑制を図った走査光学装置及び画像形成装置を提供することにある。

本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。

すなわち、本発明の走査光学装置は、
第１光源と、
第１光源から出射した光束に対応して設けられる第１入射光学系と、
第２光源と、
第２光源から出射した光束に対応して設けられる第２入射光学系と、
第１入射光学系からの光束と第２入射光学系からの光束がそれぞれ入射される光偏向器と、
第１入射光学系からの光束が前記光偏向器により偏向走査された光束に対応して設けられ、第１被走査面に光束を結像させる第１結像光学系と、
第２入射光学系からの光束が前記光偏向器により偏向走査された光束に対応して設けられ、第２被走査面に光束を結像させる第２結像光学系と、
を備える走査光学装置において、
主走査断面内における結像光学系の後側主平面から被走査面までの距離をＳｋとし、結像光学系の主走査断面内の焦点距離をｆとする場合に、［１−（Ｓｋ÷ｆ）］を収束度とすると、
第１入射光学系における収束度と第２入射光学系における収束度はいずれも０以上であり、かつ第２入射光学系における収束度は第１入射光学系における収束度よりも高く、
第２入射光学系から前記光偏向器の偏向面に入射する光束の副走査断面における入射角度は、第１入射光学系から前記光偏向器の偏向面に入射する光束の副走査断面における入射角度よりも小さいことを特徴とする。

ここで、「主走査断面」とは走査光学系の光軸と主走査方向を含む平面であり、「副走査断面」とは走査光学系の光軸を含み主走査断面に垂直な断面である。また、「主走査方向」とは光偏向器で光束が偏向走査される方向であり、「副走査方向」とは主走査方向に垂直な方向である。

本発明の画像形成装置は、
上記の走査光学装置と、
該走査光学装置により像担持体における被走査面を走査し、この走査された画像に基づいて記録材に画像形成を行う画像形成手段と、を備えることを特徴とする。

以上説明したように、本発明によれば、ジッターの抑制を図ることができる。

実施例１に係る走査光学装置の副走査方向の要部断面図である。 実施例１に係る走査光学装置の主走査方向の要部断面図である。 実施例１に係る入射光学系の副走査方向の要部断面図である。 実施例２に係る走査光学装置の副走査方向の要部断面図である。 実施例２に係る走査光学装置の主走査方向の要部断面図である。 走査光学装置を具備したカラー画像形成装置の概略構成図である。

以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。

（実施例１）
＜画像形成装置＞
図６を参照して、本実施例に係る走査光学装置Ｓ１を適用可能なカラー画像形成装置Ｄの構成について説明する。図６は走査光学装置Ｓ１を具備したカラー画像形成装置Ｄの概略構成図である。なお、図に示す符号中、数字の後に記載している「ｋ」，「ｃ」，「ｍ」，「ｙ」は、それぞれブラック，シアン，マゼンタ，イエローのトナー像をそれぞれ形成するための部材であることを意味する添え字である。以下の説明においては、適宜、これらの添え字を省略する。

画像形成プロセスについて簡単に説明する。まず、各感光体（像担持体）９０の表面が、一次帯電器９１によって各々一様に帯電される。そして、画像情報に基づいて光変調された光束（レーザ光束）Ｌが走査光学装置Ｓ１から各々出射され、それぞれに対応する像担持体としての感光体９０の表面に照射されて静電潜像がそれぞれ形成される。感光体９０の表面上に形成された静電潜像は、現像器９２によって各々ブラック，シアン，マゼンタ，イエローのトナー像に可視像化される。一方、給送トレイに載置された記録材Ｐが給送ローラ９３ａ，９３ｂにより給送され、転写ベルト９４と感光体９０とのニップ部へ搬送される。可視像化された各色のトナー像は、各ニップ部において記録材Ｐ上に転写されてカラー画像が形成される。駆動ローラ９５は転写ベルト９４の送りを精度良く行っており、図示しない回転ムラの小さな駆動モータと接続されている。記録材Ｐ上に形成されたカラー画像は、定着器９６によって熱定着された後、排出ローラ９７などによって装置外に排出される。なお、感光体９０，一次帯電器９１，現像器９２，転写ベルト９４及び定着器９６は、画像形成手段を構成する主要な部材である。

＜走査光学装置＞
次に、図１〜図３を参照して、本実施例に係る走査光学装置Ｓ１について説明する。なお、以下の説明において、結像光学系（走査光学系）の光軸と表現する場合は、被走査面における走査領域の中央（中央像高）を通る軸を示す。また、レンズの光軸と表現する場合は、レンズの入射面および出射面の面頂点を結んだ直線のことを示す。

図１は本実施例に係る走査光学装置Ｓ１の要部断面図（副走査断面図）である。本実施例に係る走査光学装置Ｓ１は、タンデム方式のカラー画像形成装置に搭載されるユニットであり、前述した画像形成装置の枠体に不図示のバネやビスなどの固定部材等によって固定される。なお、以下の説明において、便宜上、各色に対応した走査光学系について、それぞれＫステーション，Ｃステーション，Ｍステーション，Ｙステーションと称す。

走査光学装置Ｓ１においては、回転多面鏡１０１を具備した光偏向器１０２が略直方体を呈したハウジング部材１０３の略中央に設けられている。そして、光偏向器１０２の回転軸１０４に対して一方側（図中右側）に第１走査光学系（Ｙステーション及びＭステーション）が設けられ、他方側（図中左側）に第２走査光学系（Ｃステーション及びＫステーション）が設けられている。第１走査光学系と第２走査光学系とは類似した構成である。そして、光偏向器１０２の回転軸１０４を中心として、ＹステーションとＫステーション、及びＭステーションとＣステーションがそれぞれ略対称の構成となっている。

第１走査光学系は、第１走査レンズ１０５ｙｍと、第２走査レンズ１０６ｙ，１０６ｍと、折り返しミラー１０７ｙ１，１０７ｍ１，１０７ｍ２とを備えている。第２走査光学系も同様に、第１走査レンズ１０５ｃｋと、第２走査レンズ１０６ｃ，１０６ｋと、折り返しミラー１０７ｃ１，１０７ｃ２，１０７ｋ１とを備えている。これら第１走査光学系と第２走査光学系は、それぞれ２つの独立した光束を走査する。第１走査光学系を構成する各種光学部品，これらの配置位置及び光学的作用と、第２走査光学系を構成する各種光
学部品，これらの配置位置及び光学的作用とは基本的に同一である。そのため、以下、第１走査光学系を中心に説明し、第２走査光学系についての説明は適宜省略する。

第１走査レンズ１０５ｙｍはＹステーションとＭステーションで共用され、第２走査レンズ１０６ｙ，１０６ｍはＹステーションおよびＭステーションにそれぞれ設けられている。第２走査レンズ１０６ｙ，１０６ｍはそれぞれ焦点距離が異なっている。これら光学部品は、ガラス強化樹脂などで成形されたハウジング部材１０３に収納され、防塵ガラス１０８で覆われた出射口を有する蓋１１０によって密閉されている。Ｙステーションにおいては、回転多面鏡１０１を備えた光偏向器１０２により偏向された光束Ｌｙが第１走査レンズ１０５ｙｍと第２走査レンズ１０６ｙを通過した後、平面鏡の折り返しミラー１０７ｙ１によって感光体９０ｙに導かれ、走査される。Ｍステーションにおいては、回転多面鏡１０１を備えた光偏向器１０２により偏向された光束Ｌｍが第１走査レンズ１０５ｙｍを通過する。その後、光束Ｌｍは、折り返しミラー１０７ｍ１によって方向を変えられ、第２走査レンズ１０６ｍを通過し、折り返しミラー１０７ｍ２によって感光体９０ｍに導かれ、走査される。

図２は本実施例に係る走査光学装置の要部断面図（主走査断面図）である。図２（ａ）は第１走査光学系のＹステーションにおける主走査断面図である。図中、Ｃ０は軸上光束の主光線の偏向点（基準点）である。偏向点Ｃ０は結像光学系の基準点であり、偏向点Ｃ０から被走査面までの距離を、以下「結像光学系の光路長」と称する。

第１入射光学系と第１結像光学系について説明する。第１入射光学系は第１光源から出射した光束に対応して設けられる複数の光学部品により構成される。第１結像光学系は、第１入射光学系からの光束が光偏向器１０２により偏向走査された光束に対応して設けられ、第１被走査面に光束を結像させる複数の光学部品により構成される。本実施例においては、ＹステーションとＫステーションに第１入射光学系と第１結像光学系が設けられている。これらは同様の構成であるので、以下の説明においては、Ｙステーションについて説明する。第１光源としての半導体レーザ１１１ｙから出射された光束Ｌｙは、コリメータレンズ１１２ｙにより略平行光化され、開口絞り１１３ｙにより光量が制限され、シリンドリカルレンズ１１４ｙに入射する。シリンドリカルレンズ１１４ｙに入射した略平行光束は、主走査断面においてはそのまま平行光束の状態で出射され、回転多面鏡１０１を備えた光偏向器１０２により偏向される。なお、コリメータレンズ１１２ｙ，開口絞り１１３ｙ、及びシリンドリカルレンズ１１４ｙが第１入射光学系を構成する光学部品である。そして、光偏向器１０２により偏向された光束Ｌｙは、第１走査レンズ１０５ｙｍと第２走査レンズ１０６ｙを通過し、折り返しミラー１０７ｙ１で反射されることで、感光体９０ｙに結像されつつ等速に走査される。なお、第１走査レンズ１０５ｙｍ，第２走査レンズ１０６ｙ及び折り返しミラー１０７ｙ１が第１結像光学系を構成する光学部品である。また、感光体９０ｙの表面が第１被走査面に相当する。

第２入射光学系と第２結像光学系について説明する。第２入射光学系は第２光源から出射した光束に対応して設けられる複数の光学部品により構成される。第２結像光学系は、第２入射光学系からの光束が光偏向器１０２により偏向走査された光束に対応して設けられ、第２被走査面に光束を結像させる複数の光学部品により構成される。本実施例においては、ＭステーションとＣステーションに第２入射光学系と第２結像光学系が設けられている。これらは同様の構成であるので、以下の説明においては、Ｍステーションについて説明する。図２（ｂ）は第１走査光学系のＭステーションにおける主走査断面図である。第２光源としての半導体レーザ１１１ｍから出射された光束は、コリメータレンズ１１２ｍにより収束光化され、開口絞り１１３ｍにより光量が制限され、シリンドリカルレンズ１１４ｍに入射する。シリンドリカルレンズ１１４ｍに入射した収束光束は、主走査断面においてはそのまま回転多面鏡１０１の方向に向かって収束しながら出射され、回転多面
鏡１０１を備えた光偏向器１０２により偏向される。なお、コリメータレンズ１１２ｍ，開口絞り１１３ｍ、及びシリンドリカルレンズ１１４ｍが第２入射光学系を構成する光学部品である。そして、光偏向器１０２により偏向された光束Ｌｍは、第１走査レンズ１０５ｙｍを通過し、折り返しミラー１０７ｍ１で反射されて、第２走査レンズ１０６ｍを通過後、更に折り返しミラー１０７ｍ２で反射される。これにより、光束Ｌｍが感光体９０ｍに結像されつつ等速に走査される。なお、第１走査レンズ１０５ｙｍと第２走査レンズ１０６ｍと折り返しミラー１０７ｍ１，１０７ｍ２が第２結像光学系を構成する光学部品である。また、感光体９０ｍの表面が第２被走査面に相当する。

図２（ａ）に示す結像光学系の光路長をＴ１ａ、図２（ｂ）に示す結像光学系における光路長をＴ１ｂとするとき、Ｔ１ａ＞Ｔ１ｂである。つまり、本実施例においては、光偏向器１０２の偏向点から第２被走査面（感光体９０ｍの表面）までの光学的な距離が、前記偏向点から第１被走査面（感光体９０ｙの表面）までの光学的な距離よりも短くなるように構成されている。このように２つの走査光学系の光路長を異ならせることで、光学部品の部品点数を削減している。なお、光路長差をつけて、かつ、品質上問題のない画像を形成させるためには、回転多面鏡１０１の偏向面に入射する光束の主走査方向の収束度を夫々異ならせればよい。ここで、「収束度」について説明する。光偏向器の偏向面に入射する光束の主走査方向の収束度合いが「収束度」であり、この収束度ｍは、以下のように導くことができる。

すなわち、ｍ＝１−［Ｓｋ÷ｆ］であり、Ｓｋは主走査断面内における結像光学系の後側主平面から被走査面までの距離（ｍｍ）であり、ｆは結像光学系の主走査断面内の焦点距離（ｍｍ）である。そして、ｍ＝０のときは、主走査方向において、光偏向器に平行光束が入射した場合に相当する。また、ｍ＜０のときは、主走査方向において、光偏向器に発散光束が入射した場合に相当する。更に、ｍ＞０のときは、主走査方向において、光偏向器に収束光束が入射した場合に相当する。本実施例においては、第１入射光学系における収束度ｍと第２入射光学系における収束度ｍはいずれも０以上であり、かつ第２入射光学系における収束度ｍは第１入射光学系における収束度ｍよりも高くなるように設計されている。より具体的には、本実施例では、ＹステーションとＫステーションにおいては、収束度ｍが０となるように設計されており、光偏向器１０２の偏向面（回転多面鏡１０１の鏡面）に対して、（略）平行光束が入射する。また、ＭステーションとＣステーションにおいては、収束度ｍが０よりも大きくなるように設計されており、光偏向器１０２の偏向面に対して、収束光束が入射する。

また、回転多面鏡１０１への入射光束の光路と、回転多面鏡１０１で偏向走査され、被走査面上に入射する走査光束（実走査光束）の光路とに挟まれた非有効領域には、ビーム書き出し位置を検知する同期検出用センサ１１５は設けられている。４つの半導体レーザ１１１ｙ，１１１ｍ，１１１ｃ，１１１ｋから出射される複数の光束の書き出しタイミングは、この同期検出用センサ１１５により制御される。また、同期検出用センサ１１５に向かう光束は、書き出し位置検知用レンズ１１６を通過し、走査光束とは別光路を辿るように構成されている。

図３は本実施例に係る走査光学装置の入射系の要部断面図（副走査断面図）である。回転多面鏡１０１の偏向面１０１ａに対して垂直で且つ基準点Ｃ０を通過する面をＰ０としたとき、Ｍステーションにおいて、走査する光束ＬｍはＰ０に対して略同一平面内にて偏向面１０１ａに入射される。すなわち、本実施例においては、第２入射光学系から光偏向器１０２における回転多面鏡１０１の偏向面１０１ａに入射する光束の副走査断面における入射角度が０°となるように設計されている。また、Ｙステーションにおいて、走査する光束ＬｙはＰ０に対して角度βｙをもって偏向面１０１ａに入射される。一方の光束をＰ０に対して角度βｙを有して入射することで光路の分離を容易にしている。このように
、第２入射光学系から光偏向器１０２の偏向面１０１ａに入射する光束の副走査断面における入射角度は、第１入射光学系から光偏向器１０２の偏向面１０１ａに入射する光束の副走査断面における入射角度よりも小さくなるように構成されている。

本実施例では、光源として半導体レーザ１１１ｙ，１１１ｍを使用し、半導体レーザ１１１ｙから出射した発散光束を入射結像レンズとしてのコリメータレンズ１１２ｙで平行光束もしくは弱発散光束に変換している。また、半導体レーザ１１１ｍから出射した発散光束をコリメータレンズ１１２ｍで収束光束に変換している。副走査断面内においては、コリメータレンズ１１２ｙ，１１２ｍで集光された光束を、入射結像レンズとしてのシリンドリカルレンズ１１４ｙ，１１４ｍで回転多面鏡１０１の偏向面１０１ａに結像させている。また、開口絞り１１３ｙ，１１３ｍは，それぞれに対応する感光体９０ｙ，９０ｍの被走査面でのスポット径が等しくなるように、副走査方向に異なる径としている。

また、本実施例では、半導体レーザ１１１ｙ，１１１ｍから偏向面１０１ａまでの光学系（入射光学系）を構成する光学部品については、開口絞り１１３ｙ，１１３ｍ以外は形状が全く同じ光学部品（入射結像レンズ）を使用している。同じ光学部品を用いて収束度が異なる光束を出射させるためには、コリメータレンズ１１２ｙ，１１２ｍと半導体レーザ１１１ｙ，１１１ｍとの距離ｄ０ｙ，ｄ０ｍを変えればよい。また、収束度の異なる光束を回転多面鏡１０１の偏向面１０１ａに一旦結像させるためには、シリンドリカルレンズ１１４ｙ，１１４ｍと偏向面１０１ａとの距離ｄ５ｙ，ｄ５ｍを変えればよい。

以上のように、本実施例に係る走査光学装置Ｓ１によれば、複数の光源から出射した光束を、一つの回転多面鏡１０１の異なる偏向面に対して、各々に対応する入射光学系を介して入射させることで、４つの各ステーションを同時に走査することができる。

次に、光束を偏向面に対して入射させる走査光学系において生じる２種類のジッターに関して説明する。すなわち、走査光学系においては、光束を偏向面に対して斜入射させることを原因とするジッターと、収束光束を偏向面に対して入射させることを原因とするジッターが生じ得る。前者については、光源として複数の発光点を有するマルチビーム光源を用いることにより、光束を偏向面に対して斜入射させると、ジッターが生じることが知られている。この場合、副走査方向における相対的な偏向面の倒れ（面倒れ）により特に画像の書き終わり側では幾何学的に主走査方向の走査位置ずれ（ジッター）が大きくなることが知られている。後者については、相対的な偏向面の倒れの差により主走査方向のジッターが生じてしまう。これは幾何学的な現象であり、例えば偏向面に対し斜め下方から入射する系については、偏向面が煽り方向に倒れている場合には、走査終了側では偏向面が倒れていない場合に比べて書き終わり側に進んだ位置に走査位置がずれてしまう。一方、偏向面がお辞儀方向に倒れている場合には、走査終了側では偏向面が倒れていない場合に比べて書き終わり側とは反対側に走査位置がずれてしまう。このように、単一の回転多面鏡において、偏向面の相対的な倒れが存在する場合、偏向面によって走査位置が異なるため、主走査方向のジッターとなる。なお、煽り方向とは偏向面に入射する光束が向かう方向であり、お辞儀方向とはその反対側の方向である。

従って、収束光束を偏向面に対して斜入射させる走査光学系においては、上記の２種類のジッターが重畳してしまい、ジッターが大きくなってしまい易い。そのため、収束光束を偏向面に入射させる際の副走査断面における入射角度は小さくするほど、ジッターを抑制することが可能となる。本実施例に係る走査光学装置Ｓ１においては、上記の通り、収束光束については、偏向面に対して（略）垂直に入射させており、斜入射を原因とするジッターが生じないようにしている。ただし、必ずしも収束光束を偏向面に対して垂直に入射させる必要はなく、上記の通り、偏向面に対する入射角を小さくするほど、ジッターを抑制することができる。

ここで、一般的に、単一の光偏向器の両側に走査光学系をそれぞれ近接して配し、複数の光束を偏向走査する走査光学装置の場合、光偏向器１０２に対して対向する結像光学系間のフレア光（表面反射光）が画像上、問題となる。なお、フレア光とは、光偏向器１０２に対して対向側の結像レンズ系のレンズ面で反射した光束が感光体に入射する不要な光のことを言う。仮に、回転多面鏡１０１に対して、図１中、光束を上方から斜入射させた場合には、第１走査レンズ１０５ｙｍの入射面を透過する際に、その一部が反射してフレア光となる。反射したフレア光は、回転多面鏡１０１と、この回転多面鏡１０１と一体に回転するロータフレーム１２０との間を通過し、金属製のロータフレーム１２０の天面で反射して第１走査レンズ１０５ｃｋ方向へと向かう。第１走査レンズ１０５ｃｋを透過したフレア光はそのまま第２走査レンズ１０６ｋを透過し、折り返しミラー１０７ｋ１で反射され、感光体９０ｋへと到達する。これは主に回転多面鏡１０１に対して副走査方向において斜め上方から入射される光学系において起こり易い。

本実施例の場合には、回転多面鏡１０１に対して入射する光束は、副走査方向において垂直に入射する光線と斜め下方から入射する光束だけである（図３参照）。つまり、本実施例においては、第１入射光学系からの光束は、ロータフレーム１２０側から回転多面鏡１０１の偏向面１０１ａに入射するように構成されている。そのため、第１走査レンズ１０５ｙｍの入射面で反射したフレア光はロータフレーム１２０の方向に反射することはない。従って、フレア光が問題となることはない。

（実施例２）
図４及び図５には、本発明の実施例２が示されている。本実施例においては、上記実施例１で示した構成に対して、副走査方向における光束の走査方向を上下反転させ、かつ光束の折返し回数を減らし、折り返しミラーの枚数を削減させる場合の構成について説明する。その他の基本的な構成および作用については実施例１と同一なので、同一の構成部分については同一の符号を付して、その説明は適宜省略する。

図４は本発明の実施例２に係る走査光学装置の副走査断面図である。本実施例に係る走査光学装置Ｓ２においても、上記実施例１の場合と同様に、光偏向器１０２の回転軸１０４に対して一方側（図中右側）に第１走査光学系が設けられ、他方側（図中左側）に第２走査光学系が設けられている。また、第１走査光学系（Ｙステーション及びＭステーション）と第２走査光学系（Ｃステーション及びＫステーション）とは類似した構成である。そして、光偏向器１０２の回転軸１０４を中心として、ＹステーションとＫステーション、及びＭステーションとＣステーションがそれぞれ略対称の構成となっている。

第１走査光学系は、第１走査レンズ２０１ｙｍと、第２走査レンズ２０２ｙ，２０２ｍと、折り返しミラー２０３ｙ，２０３ｍとを備えている。また、第２走査光学系は、第１走査レンズ２０１ｃｋと、第２走査レンズ２０２ｃ，２０２ｋと、折り返しミラー２０３ｃ，２０３ｋとを備えている。これら第１走査光学系と第２走査光学系は、それぞれ２つの独立した光束を走査する。上記実施例１の場合と同様に、第１走査光学系を構成する各種光学部品，これらの配置位置及び光学的作用と、第２走査光学系を構成する各種光学部品，これらの配置位置及び光学的作用とは基本的に同一である。

第１走査レンズ２０１ｙｍはＹステーションとＭステーションで共用され、第２走査レンズ２０２ｙ，２０２ｍはＹステーションとＭステーションにそれぞれ設けられている。また、これらの第２走査レンズ２０２ｙ，２０２ｍは、主走査断面内及び副走査断面内ともに形状が異なっている。

図５は本実施例に係る走査光学装置の要部断面図（主走査断面図）である。図５（ａ）
はＹステーションにおける主走査断面図である。本実施例においても、ＹステーションとＫステーションに第１入射光学系と第１結像光学系が設けられている。第１入射光学系を構成する光学部品及びこれらの機能や役割については、上記実施例１と同様である。また、本実施例に係る第１結像光学系を構成する光学部品は、Ｙステーションにおいては、第１走査レンズ２０１ｙｍ，第２走査レンズ２０２ｙ、及び折り返しミラー２０３ｙである。

図５（ｂ）はＭステーションにおける主走査断面図である。本実施例においても、ＭステーションとＣステーションに第２入射光学系と第２結像光学系が設けられている。第２入射光学系を構成する光学部品及びこれらの機能や役割については、上記実施例１と同様である。また、本実施例に係る第２結像光学系を構成する光学部品は、Ｍステーションにおいては、第１走査レンズ２０１ｙｍ，第２走査レンズ２０２ｍ、及び折り返しミラー２０３ｍである。

そして、Ｙステーションにおける結像光学系の光路長をＴ２ａ、Ｍステーションにおける結像光学系の光路長をＴ２ｂとすると、Ｔ２ａ＞Ｔ２ｂである。このように光路長差をつけて、かつ、品質上問題のない画像を形成させるために、回転多面鏡１０１の偏向面に入射する光束の主走査方向の収束度を夫々異ならせ、かつ第２走査レンズ２０２ｙ，２０２ｍの形状を更に異ならせている。これにより、走査面上で所望のスポット形状が得られ、かつ等速走査を可能とすることができる。なお、第１入射光学系においては収束度ｍを０となるように設計しており、第２入射光学系においては収束度ｍを０よりも大きくなるように設計している点については、上記実施例１の場合と同様である。また、本実施例においても、第２入射光学系から光偏向器の偏向面に入射する光束の副走査断面における入射角度は、第１入射光学系から光偏向器の偏向面に入射する光束の副走査断面における入射角度よりも小さくなるように構成されている。更に、本実施例においても、第２入射光学系から光偏向器の偏向面に入射する光束の副走査断面における入射角度は０°となるように設計されている。

本実施例によれば、光偏向器に最も近い位置に配置される走査面に走査される光路において、折り返しミラーなどの光学部品を削減することができ、更に走査光学装置の小型化を図ることができる。

Ｓ1・・・走査光学装置、９０・・・感光体、Ｌ・・・光束、１０２・・・光偏向器，
１０５ｙｍ，１０５ｃｋ・・・第１走査レンズ、１０６ｙ，１０６ｍ，１０６ｃ，１０６ｋ・・・第２走査レンズ、１０７ｙ１，１０７ｍ１，１０７ｍ２，１０７ｃ１，１０７ｃ２，１０７ｋ１・・・折り返しミラー、１１１ｙ，１１１ｍ，１１１ｃ，１１１ｋ・・・半導体レーザ、１１２ｙ，１１２ｍ，１１２ｃ，１１２ｋ・・・コリメータレンズ、１１３ｙ，１１３ｍ，１１３ｃ，１１３ｋ・・・開口絞り、１１４ｙ，１１４ｍ，１１４ｃ，１１４ｋ・・・シリンドリカルレンズ

Claims (6)

1. 第１光源と、
   第１光源から出射した光束に対応して設けられる第１入射光学系と、
   第２光源と、
   第２光源から出射した光束に対応して設けられる第２入射光学系と、
   第１入射光学系からの光束と第２入射光学系からの光束がそれぞれ入射される光偏向器と、
   第１入射光学系からの光束が前記光偏向器により偏向走査された光束に対応して設けられ、第１被走査面に光束を結像させる第１結像光学系と、
   第２入射光学系からの光束が前記光偏向器により偏向走査された光束に対応して設けられ、第２被走査面に光束を結像させる第２結像光学系と、
   を備える走査光学装置において、
   主走査断面内における結像光学系の後側主平面から被走査面までの距離をＳｋとし、結像光学系の主走査断面内の焦点距離をｆとする場合に、［１−（Ｓｋ÷ｆ）］を収束度とすると、
   第１入射光学系における収束度と第２入射光学系における収束度はいずれも０以上であり、かつ第２入射光学系における収束度は第１入射光学系における収束度よりも高く、
   第２入射光学系から前記光偏向器の偏向面に入射する光束の副走査断面における入射角度は、第１入射光学系から前記光偏向器の偏向面に入射する光束の副走査断面における入射角度よりも小さいことを特徴とする走査光学装置。
2. 前記光偏向器の偏向点から第２被走査面までの光学的な距離は、前記偏向点から第１被走査面までの光学的な距離よりも短いことを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
3. 第２入射光学系から前記光偏向器の偏向面に入射する光束の副走査断面における入射角度が０°となるように設計されていることを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学装置。
4. 第１入射光学系における収束度は０となるように設計されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の走査光学装置。
5. 前記光偏向器は、回転多面鏡と、該回転多面鏡と一体に回転するロータフレームとを有しており、第１入射光学系からの光束は、前記ロータフレームが設けられている側から前記回転多面鏡の偏向面に入射することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の走査光学装置。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の走査光学装置と、
   該走査光学装置により像担持体における被走査面を走査し、この走査された画像に基づいて記録材に画像形成を行う画像形成手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置。

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