JP6341674B2 - 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器 - Google Patents

圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器 Download PDF

Info

Publication number
JP6341674B2
JP6341674B2 JP2014013647A JP2014013647A JP6341674B2 JP 6341674 B2 JP6341674 B2 JP 6341674B2 JP 2014013647 A JP2014013647 A JP 2014013647A JP 2014013647 A JP2014013647 A JP 2014013647A JP 6341674 B2 JP6341674 B2 JP 6341674B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piezoelectric
piezoelectric element
piezoelectric material
electrode
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014013647A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014168056A5 (ja
JP2014168056A (ja
Inventor
松田 堅義
堅義 松田
隆之 渡邉
隆之 渡邉
村上 俊介
俊介 村上
未紀 上田
未紀 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2014013647A priority Critical patent/JP6341674B2/ja
Publication of JP2014168056A publication Critical patent/JP2014168056A/ja
Publication of JP2014168056A5 publication Critical patent/JP2014168056A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6341674B2 publication Critical patent/JP6341674B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/02Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by distortion, beating, or vibration of the surface to be cleaned
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2/14201Structure of print heads with piezoelectric elements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2/14201Structure of print heads with piezoelectric elements
    • B41J2/14233Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/495Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on vanadium, niobium, tantalum, molybdenum or tungsten oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. vanadates, niobates, tantalates, molybdates or tungstates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/6261Milling
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0006Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N2/00Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
    • H02N2/10Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors
    • H02N2/106Langevin motors
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N2/00Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
    • H02N2/10Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors
    • H02N2/16Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors using travelling waves, i.e. Rayleigh surface waves
    • H02N2/163Motors with ring stator
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01Manufacture or treatment
    • H10N30/09Forming piezoelectric or electrostrictive materials
    • H10N30/093Forming inorganic materials
    • H10N30/097Forming inorganic materials by sintering
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/20Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/20Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
    • H10N30/204Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using bending displacement, e.g. unimorph, bimorph or multimorph cantilever or membrane benders
    • H10N30/2047Membrane type
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/50Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/85Piezoelectric or electrostrictive active materials
    • H10N30/853Ceramic compositions
    • H10N30/8542Alkali metal based oxides, e.g. lithium, sodium or potassium niobates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/87Electrodes or interconnections, e.g. leads or terminals
    • H10N30/871Single-layered electrodes of multilayer piezoelectric or electrostrictive devices, e.g. internal electrodes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2202/00Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/03Specific materials used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3201Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3215Barium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3232Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3232Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
    • C04B2235/3234Titanates, not containing zirconia
    • C04B2235/3236Alkaline earth titanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3251Niobium oxides, niobates, tantalum oxides, tantalates, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3255Niobates or tantalates, e.g. silver niobate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3262Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3262Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
    • C04B2235/3263Mn3O4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/327Iron group oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3279Nickel oxides, nickalates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3281Copper oxides, cuprates or oxide-forming salts thereof, e.g. CuO or Cu2O
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3284Zinc oxides, zincates, cadmium oxides, cadmiates, mercury oxides, mercurates or oxide forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3409Boron oxide, borates, boric acids, or oxide forming salts thereof, e.g. borax
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3418Silicon oxide, silicic acids or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74Physical characteristics
    • C04B2235/76Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
    • C04B2235/768Perovskite structure ABO3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74Physical characteristics
    • C04B2235/77Density

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
  • Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Camera Bodies And Camera Details Or Accessories (AREA)

Description

本発明は圧電材料に関し、特に鉛を含有しない圧電材料に関する。また、本発明は前記圧電材料を用いた圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器に関する。
鉛を含有するチタン酸ジルコン酸鉛は代表的な圧電材料であり、アクチュエータ、発振子、センサやフィルターなど多様な圧電デバイスで使用されている。しかし、鉛含有圧電デバイスが一旦廃棄され酸性雨を浴びると、圧電材料中の鉛成分が土壌に溶け出し、生態系に害を及ぼす可能性がある。よって、圧電デバイスの非鉛化のために、非鉛圧電材料の研究開発が盛んに行われている。
現在、広く研究されている代表的な非鉛圧電材料は、ニオブ酸カリウムを含む圧電材料である。ところが、カリウムを含む圧電材料を合成する際、原料(例えば炭酸カリウム)粉末の吸湿性が高く、目的のモル比で正確に原料粉末を秤量することが困難であった。また、ニオブ酸カリウム(KNbO)含有の圧電材料には潮解性があり、ニオブ酸カリウム含有の圧電セラミックスの圧電性が経時的に劣化することがあった。
非特許文献1では、鉛もカリウムも含まない圧電材料として反強誘電体であるニオブ酸ナトリウム(NaNbO)とチタン酸バリウム(BaTiO)の固溶体(以後NN−BT)を報告している。ニオブ酸ナトリウムとチタン酸バリウムを9:1の割合で含む圧電セラミックスの圧電定数d33が147pC/Nであったことを開示している。
特許文献1は、高いキュリー温度Tc及び良好な圧電特性を有するニオブ酸系圧電磁器を製造する方法を提供している。NN−BTとチタン酸ストロンチウム(SrTiO)の固溶体であるニオブ酸系圧電磁器について、圧電定数d33が14から126pm/Vであったことを開示している。
特開2008−156172号公報
J.T.Zengら、"Journal of the American Ceramic Society"2006年、89巻、2828ページから2832ページ
従来の技術では、NN−BTの圧電性能が不十分であるという課題があった。
本発明は、この様な課題を解決するためになされたものであり、鉛とカリウムを使用しない、圧電定数が大きく、絶縁性が良好な圧電材料を提供するものである。また、本発明は前記圧電材料を用いた圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器を提供するものである。
本発明に係る圧電材料は、下記一般式(1)
(NaBa1−y)(NbTi1−y)O (1)
(式中、xは0.80≦x≦0.95、yは0.85≦y≦0.95を示す。)
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物と、SiおよびBから選ばれる少なくとも1種からなる副成分とを含有する圧電材料であって、前記副成分の含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物100重量部に対して金属換算で0.001重量部以上4.000重量部以下であることを特徴とする。
本発明に係る圧電素子は、第一の電極、圧電材料部及び第二の電極を有する圧電素子であって、前記圧電材料部を構成する圧電材料が上記の圧電材料であることを特徴とする。
本発明に係る積層圧電素子は、複数の圧電材料層と、内部電極を含む複数の電極層とが交互に積層された積層圧電素子であって、前記圧電材料が上記の圧電材料であることを特徴とする。
本発明に係る液体吐出ヘッドは、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口を少なくとも有する液体吐出ヘッドである。
本発明に係る液体吐出装置は、被転写体の載置部と前記液体吐出ヘッドを備えた液体吐出装置である。
本発明に係る超音波モータは、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを少なくとも有する超音波モータである。
本発明に係る光学機器は、駆動部に前記超音波モータを備えた光学機器である。
本発明に係る振動装置は、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動体を有する振動装置である。
本発明に係る塵埃除去装置は、前記振動装置を振動部に備えた塵埃除去装置である。
本発明に係る撮像装置は、前記の塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを少なくとも有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動部材を前記撮像素子ユニットの受光面側に設けたことを特徴とする撮像装置である。
本発明に係る圧電音響部品を配した電子機器は、前記圧電素子または前記積層圧電素子を備えた圧電音響部品を配した電子機器である。
本発明によれば、鉛とカリウムを使用しない、圧電定数が大きく、絶縁性が良好な圧電材料を提供することができる。また、本発明によれば、前記圧電材料を用いた圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器を提供することができる。
本発明の圧電材料は、鉛を使用していないために環境に対する負荷が小さい。また、カリウムを使用していないために、焼結性や耐湿性の面でも優れている。
本発明の圧電素子の構成の一実施形態を示す概略図である。 本発明の積層圧電素子の構成の一実施形態を示す断面概略図である。 本発明の液体吐出ヘッドの構成の一実施形態を示す概略図である。 本発明の液体吐出装置の一実施形態を示す概略図である。 本発明の液体吐出装置の一実施形態を示す概略図である。 本発明の超音波モータの構成の一実施形態を示す概略図である。 本発明の光学機器の一実施形態を示す概略図である。 本発明の光学機器の一実施形態を示す概略図である。 本発明の振動装置を塵埃除去装置とした場合の一実施形態を示す概略図である。 本発明の塵埃除去装置における圧電素子の構成を示す概略図である。 本発明の塵埃除去装置の振動原理を示す模式図である。 本発明の撮像装置の一実施形態を示す概略図である。 本発明の撮像装置の一実施形態を示す概略図である。 本発明の電子機器の一実施形態を示す概略図である。
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
本発明は、NN−BTをベースとし、鉛とカリウムを使用しない、圧電性と絶縁性の良好な圧電材料を提供するものである。なお、本発明の圧電材料は、誘電体としての特性を利用してコンデンサ、メモリ、およびセンサ等のさまざまな用途に利用することができる。
本発明の圧電材料は、下記一般式(1)
(NaBa1−y)(NbTi1−y)O (1)
(式中、xは0.80≦x≦0.95、yは0.85≦y≦0.95を示す。)
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物と、SiおよびBから選ばれる少なくとも1種からなる副成分とを含有する圧電材料であって、前記副成分の含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物100重量部に対して金属換算で0.001重量部以上4.000重量部以下であることを特徴とする。
本発明において、ペロブスカイト型金属酸化物とは、岩波理化学辞典 第5版(岩波書店 1998年2月20日発行)に記載されているような、理想的には立方晶構造であるペロブスカイト型構造(ペロフスカイト構造とも言う)を持つ金属酸化物を指す。ペロブスカイト型構造を持つ金属酸化物は一般にABOの化学式で表現される。ペロブスカイト型金属酸化物において、元素A、Bは各々イオンの形でAサイト、Bサイトと呼ばれる単位格子の特定の位置を占める。例えば、立方晶系の単位格子であれば、A元素は立方体の頂点、B元素は体心に位置する。O元素は酸素の陰イオンとして立方体の面心位置を占める。
前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物(以降、金属酸化物とも略記する。)は、Aサイトに位置する金属元素がNaとBa、Bサイトに位置する金属元素がNbとTiであることを意味する。ただし、一部のNaとBaがBサイトに位置してもよい。同様に、一部のTiとNbがAサイトに位置してもよい。
前記一般式(1)における、Bサイトの元素とO元素のモル比は1対3であるが、元素量の比が若干ずれた場合(例えば、1.00対2.94から1.00対3.06)でも、前記金属酸化物がペロブスカイト型構造を主相としていれば、本発明の範囲に含まれる。前記金属酸化物がペロブスカイト型構造であることは、例えば、X線回折や電子線回折による構造解析から判断することができる。
本発明に係る圧電材料の形態は限定されず、セラミックス、粉末、単結晶、膜、スラリーなどのいずれの形態でも構わないが、セラミックスであることが好ましい。本明細書中において「セラミックス」とは、基本成分が金属酸化物であり、熱処理によって焼き固められた結晶粒子の凝集体(バルク体とも言う)、いわゆる多結晶を表す。焼結後に加工されたものも含まれる。
一般式(1)において、AサイトにおけるNaの存在量を示すxは0.80≦x≦0.95が好ましい。xが0.80よりも少ないと、Nbに対してNaが欠損するので、不純物相(BaNb、BaTiNb42、BaNbTi21、BaNb3.2Ti21などと類似のエックス線回折パターンを持つ相)が発生する。不純物相を多く含む金属酸化物試料の抵抗率は10から10Ωcmと低く、分極処理が困難である。
また、xが0.95を超えると圧電性が低下する。xが0.80≦x≦0.95の範囲にあるとき、不純物相の発生を抑制できて、良好な圧電性が得られる。更に好ましいxの範囲は0.80≦x≦0.93である。
一般式(1)において、BサイトにおけるNbの存在量を示すyは0.85≦y≦0.95が好ましい。yが0.85よりも小さくなるとキュリー温度Tが140℃よりも低くなる。一方で、yが0.95を超えると圧電性が低下する。よって、yが0.85≦y≦0.95の範囲にあるとき、140℃以上のキュリー温度Tと良好な圧電性が得られる。
yが0.85≦y≦0.90の範囲にあるとき、キュリー温度Tcが概ね90℃から230℃の範囲にあり、分極処理が容易であるのでより好ましい。さらにyが0.88≦y≦0.90の範囲にある時、キュリー温度Tcは概ね140℃から210℃の範囲にあり、分極処理が容易である上に、デバイス作製工程での熱によって圧電性能が低下する可能性が低く、より好ましい。
本発明に係る圧電材料の組成を測定する手段は特に限定されない。手段としては、X線蛍光分析、ICP発光分光分析、原子吸光分析などが挙げられる。いずれの手段においても、前記圧電材料に含まれる各元素の重量比および組成比を算出できる。
本発明に係る圧電材料は、前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物と、SiおよびBから選ばれる少なくとも1種からなる副成分とを含有し、前記副成分の含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物100重量部に対して金属換算で0.001重量部以上4.000重量部以下、より好ましくは0.003重量部以上3.000重量部以下であることを特徴とする。
「金属換算」について説明する。前記副成分の含有量は、圧電材料に含まれるBa、Na、Ti、Nbといった各金属の含有量を蛍光X線分析(XRF)、ICP発光分光分析、原子吸光分析などにより測定し、測定結果を酸化物換算して前記一般式(1)で表わされる金属酸化物の総重量を求め、その総重量を100としたときに対する金属としての副成分との比によって求められた値を表す。
BおよびSiは、前記圧電材料の結晶粒同士の界面に偏析する。そのため、結晶粒同士の界面に流れる漏れ電流が低減するので、絶縁抵抗が増加する。圧電材料が前記副成分を0.001重量部以上含有すると絶縁抵抗が高くなるので望ましい。一方で、含有量が0.001重量部未満であると絶縁抵抗が低いので望ましくない。圧電材料が前記副成分を4.000重量部よりも多く含有すると圧電特性が低下するので望ましくない。前記Siの含有重量G1と前記Bの含有重量G2との重量比G1/G2が2.0≦G1/G2≦3.8であることが好ましい。この範囲であると特に好適な絶縁抵抗を有する。好ましいSiの含有量は0.003重量部以上1.000重量部以下である。好ましいBの含有量は0.001重量部以上1.000重量部以下である。
本発明に係る圧電材料は、前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物と、前記副成分と、Mn、Cu、Zn、Niから選ばれる少なくとも1種からなる第2副成分とを含有していてもよい。第2副成分の含有量は、前記ペロブスカイト型金属酸化物1モルに対して0.050モル以下、好ましくは0.020モル以下であるのが望ましい。Mn、Cu、Zn、Niの含有量のモルとは、金属換算の量比を表す。
前記第2副成分として、Mnの前記ペロブスカイト型金属酸化物1モルに対する含有量は、0.002モル以上0.040モル以下の範囲とすると、圧電定数を損なわずに機械的品質係数が向上する。ここで、機械的品質係数とは圧電セラミックスを振動子として評価した際に振動による弾性損失を表す係数であり、機械的品質係数の大きさはインピーダンス測定における共振曲線の鋭さとして観察される。つまり振動子の共振の鋭さを表す定数である。絶縁性や機械的品質係数の向上は、Tiと価数が異なるMnによって欠陥双極子が導入されて内部電界が発生することに由来すると考えられる。内部電界が存在すると、前記圧電セラミックスを圧電素子として電圧を印加し駆動させた際に、圧電素子の長期信頼性が確保できる。
Mnは金属Mnに限らず、Mn成分として圧電セラミックスに含まれていれば良く、その含有の形態は問わない。例えば、Bサイトに固溶していても良いし、粒界に含まれていてもかまわない。または、金属、イオン、酸化物、金属塩、錯体などの形態でMn成分が圧電セラミックスに含まれていても良い。より好ましい含有の形態は、絶縁性や焼結容易性という観点からBサイトに固溶することである。
前記第2副成分として、Cuは前記ペロブスカイト型金属酸化物1モルに対して0.02モル以下含むことが好ましい。本発明の圧電材料にCuが0.02モル以下含まれていると、抵抗率、電気機械結合係数、機械的品質係数、ヤング率、密度を増加させることができる。また、焼結温度を低下させることができる。焼結温度とは、相対密度95%以上の焼結体を得るために必要な最低の焼成温度である。さらに、本発明の圧電材料の自発分極がピニングされている場合、Cuは自発分極のピニングを低減することができる。ピニングが低減されると、分極−電界のヒステリシス曲線において、残留分極値が増加したり、抗電界が低下したりする。さらに、分極処理によって自発分極の方位を揃えることが容易になる。その結果、共振時と非共振時でのインピーダンスの位相差がより大きくなったり、電気機械結合係数が増加したりする。
また、CuはA、Bサイトのどちらかにある必要はなく、粒界に存在してもかまわない。Cuは融点が低いため、液相焼結を促進させる。その結果、Cuが粒界に偏析することがある。液相焼結が促進されると、焼結体中のポアが減少し、焼結体の密度が高くなる。また、ポアが抑制された結果、機械的品質係数が増加したり、ヤング率が増加したりする。試料内でのCuの分布や、結晶中の占有サイトは、電子顕微鏡、エネルギー分散型エックス線分光、エックス線回折、ラマン散乱、透過型電子顕微鏡でも評価することができる。
Cuがペロブスカイト型金属酸化物1モルに対して、0.02モルよりも多く含まれると、不純物相が発生して圧電性が低下する恐れがある。
前記第2副成分として、Znを前記ペロブスカイト型金属酸化物1モルに対して0.05モル以下含むことが好ましい。本発明の圧電材料にZnが0.05モル以下含まれていると、圧電定数、電気機械結合係数、ヤング率、密度を増加させることができる。また、焼結温度を低下させることができる。焼結温度とは、相対密度95%以上の焼結体を得るために必要な最低の焼成温度である。さらに、本発明の圧電材料の自発分極がピニングされている場合、Znは自発分極のピニングを低減することができる。ピニングが低減されると、分極−電界のヒステリシス曲線において、残留分極値が増加したり、抗電界が低下したりする。さらに、分極処理によって自発分極の方位を揃えることが容易になり、共振時のインピーダンスの位相がより大きく変化したり、電気機械結合係数が増加したりする。
Znはペロブスカイト構造のAサイト(12配位)、Bサイト(6配位)もしくはその両方に存在してもかまないし、セラミックスの粒界に存在してもかまわない。
更に、前記第2副成分として、前記ペロブスカイト型金属酸化物1モルに対して、Znを0.01モル以下、Cuを0.01モル以下を同時に含むこと(それぞれ0モルをのぞく)が好ましい。本発明の圧電材料にZnが0.01モル以下、Cuが0.01モル以下を同時に含まれていると、抵抗率、電気機械結合係数、機械的品質係数、圧電定数、ヤング率を増加させることができる。
前記第2副成分として、Niを前記ペロブスカイト型金属酸化物1モルに対して0.05モル以下含むことが好ましい。本発明の圧電材料にNiが0.05モル以下含まれていると、抵抗率、電気機械結合係数、機械的品質係数、ヤング率、密度を増加させることができる。また、焼結温度を低下させることができる。
さらに、本発明の圧電材料の自発分極がピニングされている場合、Niは自発分極のピニングを低減することができる。ピニングが低減されると、分極−電界のヒステリシス曲線において、残留分極値が増加したり、抗電界が低下したりする。さらに、分極処理によって自発分極の方位を揃えることが容易になり、共振時のインピーダンスの位相がより大きく変化したり、電気機械結合係数が増加したりする。
Niはペロブスカイト構造のAサイト(12配位)、Bサイト(6配位)もしくはその両方に存在してもかまないし、セラミックスの粒界に存在してもかまわない。
積層圧電素子は電極間の圧電材料層が薄いため、高い電界に対する耐久性が求められる。よって、本発明に係る圧電材料は特に絶縁抵抗に優れるために、積層圧電素子に好適に用いることができる。
本発明に係る圧電材料は、前記一般式(1)で表される金属酸化物、前記副成分と、前記第2副成分と、さらに前記Ba、Na、Ti、Nb、B、Si、Mn、Cu、Zn、Ni以外の金属元素からなる第3副成分を特性が変動しない範囲で含んでいてもよい。第3副成分としては、例えばGe、Sb等が挙げられる。前記第3副成分は、前記一般式(1)で表される金属酸化物100重量部に対してその合計が1.2重量部以下であることが好ましい。前記第3副成分が1.2重量部を超えると、前記圧電セラミックスの圧電特性や絶縁特性が低下する恐れがある。また、前記第3副成分のうち前記Ba、Na、Ti、Nb、B、Si、Mn、Cu、Zn、Ni以外の金属元素の含有量は、前記圧電材料に対して酸化物換算で1.0重量部以下、または金属換算で0.9重量部以下であることが好ましい。本明細書中において「金属元素」とはGe、Sbのような半金属元素も含む。前記第3副成分のうち前記Ba、Na、Ti、Nb、B、Si、Mn、Cu、Zn、Ni以外の金属元素の含有量が、前記圧電材料に対して酸化物換算で1.0重量部、または金属換算で0.9重量部を超えると、前記圧電材料の圧電特性や絶縁特性が著しく低下する恐れがある。前記第3副成分のうち、Al、Sr元素の合計は、前記圧電材料に対して金属換算で0.5重量部以下であることが好ましい。前記第3副成分のうち、Al、Sr元素の合計が、前記圧電材料に対して金属換算で0.5重量部を超えると、焼結が不十分となる恐れがある。前記第3副成分のうち、Y元素は、前記圧電材料に対して金属換算で0.2重量部以下であることが好ましい。前記第3副成分のうち、Y元素が前記圧電材料に対して金属換算で0.2重量部を超えると、分極処理が困難になる恐れがある。
本発明に係る圧電材料は、前記一般式(1)で表わされる金属酸化物と前記副成分および前記第2副成分を総和で98.5モル%以上含むことが好ましい。また、前記圧電材料は、前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物を主成分として90モル%以上含むことが好ましい。より望ましくは95モル%以上である。
前記副成分、前記第2副成分、前記第3副成分の重量部を測定する手段は特に限定されない。手段としては、X線蛍光分析、ICP発光分光分析、原子吸光分析などが挙げられる。
キュリー温度Tとは、その温度以上で圧電材料の圧電性が消失する温度である。本明細書においては、強誘電相と常誘電相の相転移温度近傍で誘電率が極大となる温度をキュリー温度Tとする。また、本発明のペロブスカイト型金属酸化物は、キュリー温度Tよりも低い温度領域に、正方晶強誘電相から斜方晶強誘電相への逐次相転移が発生する逐次相転移温度を有する。逐次相転移温度では、比誘電率が極大もしくは変極点を示すため、キュリー温度Tと同様に、逐次相転移温度も比誘電率の温度依存性を評価することで決定できる。例えば、0.9NaNbO−0.1BaTiOで表わされる固溶体は、温度が上昇するにつれて、斜方晶から正方晶、そして立方晶への相転移を起こす。
逐次相転移温度付近では圧電性能が極大となる。そのため、デバイスの駆動温度範囲(例えば−30℃から60℃)で、温度に依存しない一定の圧電性能が必要である場合は、逐次相転移は駆動温度範囲にないことが望ましい。一方で、デバイス駆動温度範囲内で圧電性能が温度に依存しないことよりも、ある特定の温度で圧電性能が高くなることを重視する場合は、デバイスの駆動温度範囲内に逐次相転移を設定することができる。逐次相転移温度をデバイスの仕様に合わせて調整できる材料は汎用性が高く優れている。
本発明の圧電材料は、前記圧電材料の相対密度が90%以上100%以下であることが好ましい。相対密度とは、前記圧電材料の格子定数と前記圧電材料の構成元素の原子量から算出した理論密度に対しての実測した密度の割合である。格子定数は、例えば、X線回折分析により測定することができる。密度は、例えば、アルキメデス法で測定することができる。
相対密度が90%より小さくなると、圧電特性や機械的品質係数が充分でなかったり、機械的強度が低下したりする恐れがある。より好ましい相対密度の下限は93%以上である。
本発明の圧電材料は、NN−BTのTi、NbからなるサイトBサイトの0.03モル以下をZrで置換してもよい。BサイトのZr置換によって、室温での誘電率が増加して圧電性能が向上する。BサイトのZrの存在量が0.03モルを越えると抵抗率が低下し、さらに相対密度95%以上の試料を得るために必要な焼成温度が50℃以上上昇する。また、Bサイトの0.03モル以下をZrで置換によって、圧電材料の絶縁抵抗も向上する。BサイトのZrの存在量が0.03よりも大きくなると、反対に材料の抵抗率が低下する。
本発明の圧電材料は、NN−BTのTiサイトの0.20モル未満をSnで置換していてもよい。Tiサイトに対するSnの置換量を0.20モル未満で変化させることで、本発明の圧電材料のキュリー温度T及び逐次相転移温度を実用に応じて調整できる。例えば、キュリー温度Tを調整することで、分極処理のための温度を低減できる。また、逐次相転移の温度を調整することで、特定の温度で圧電性を極大としたり、反対に温度に対する圧電性変化を小さくしたりすることができる。しかし、SnによるTi置換量が0.20モル以上になると、Snを含まない時と比較してキュリー温度Tが60℃以上低下して、デバイス作製工程で与えられる熱によって圧電性能が低下する可能性が高くなる。また、Snが含まれていないとき、本発明の圧電材料が正方晶である温度範囲が広くなる。よって、分極処理が容易にできて、逐次相転移温度をSn量で操作する必要がない限りは、Snを含有しないことが好ましい。
本発明の圧電材料は、NN−BTのNbサイトの0.20モル未満をTaで置換していてもよい。Nbサイトに対するTaの置換量を0.20モル未満の範囲で変化させることで、本発明の圧電材料のキュリー温度T及び逐次相転移温度を実用に応じて調整できる。キュリー温度Tを調整することで、分極処理のための温度を低減できる。逐次相転移の温度を調整することで、特定の温度で圧電性を極大としたり、反対に温度に対する圧電性変化を小さくしたりすることができる。しかし、TaによるNb置換量が0.20モル以上になると、キュリー温度Tが室温まで低下する。その結果、デバイス作製工程で与えられる熱による圧電性能低下の可能性が著しく高くなる。さらに1200℃以下の温度で焼成した場合、NN−BT相とNaTaO相の固溶が困難であり、NaNbO相が第二相として発生する。一方、Taが含まれていないとき、本発明の圧電材料の焼成温度を最も低下させることができる。よって、分極処理が容易にできて、逐次相転移温度をTa量で操作する必要がない限りは、Taを含有しないことが好ましい。
本発明の圧電材料に含まれるNbの0.20モル以下をVで置換してもかまわない。Nbの一部をVで置換すると、圧電材料の焼成温度を低下させることができる。
本発明の圧電材料に含まれるNaの0.15モル以下をLiで置換してもかまわない。Naの一部をLiで置換すると、圧電材料のキュリー温度Tを向上することができる。
本発明の圧電材料は前記一般式(1)において、x<yであることが好ましい。また、xがy未満となるように出発原料の組成を調整することが好ましい。xがy以上であると、試料の絶縁性が著しく低下する。
本発明に係る圧電材料の製造方法は特に限定されないが、少なくともBa、Na、Ti、Nbと、Mn、Cu、Ni、BおよびSiから選ばれる少なくとも1つの金属元素を含有する成形体を焼結する工程を有し、前記焼結の温度が1200℃以下であることが好ましい。
圧電セラミックスを製造する場合は、構成元素を含んだ酸化物、炭酸塩、硝酸塩、蓚酸塩などの固体粉末を常圧下で焼結する一般的な手法を採用することができる。原料としては、Ba化合物、Na化合物、Ti化合物、Nb化合物、B化合物とSi化合物といった金属化合物から構成される。
使用可能なBa化合物としては、酸化バリウム、炭酸バリウム、蓚酸バリウム、酢酸バリウム、硝酸バリウム、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウムなどが挙げられる。使用可能なNa化合物としては炭酸ナトリウムが挙げられる。使用可能なTi化合物としては、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、チタン酸カルシウムなどが挙げられる。使用可能なNb化合物としては、酸化ニオブ、ニオブ酸ナトリウムなどが挙げられる。使用可能なB化合物としては、酸化ホウ素などが挙げられる。使用可能なSi化合物としては、酸化ケイ素などが挙げられる。使用可能なMn化合物としては、炭酸マンガン、酸化マンガン、二酸化マンガン、酢酸マンガン、四酸化三マンガンなどが挙げられる。使用可能なCu化合物としては、酸化銅(I)、酸化銅(II)、炭酸銅、酢酸銅(II)、蓚酸銅などが挙げられる。使用可能なZn化合物としては、酸化亜鉛などが挙げられる。使用可能なNi化合物としては、酸化ニッケルなどが挙げられる。
また、本発明に係る前記圧電セラミックスのAサイトにおけるBaとNaの存在量とBサイトにおけるTiとNbのモル量の比を示すaを調整するための原料は特に限定されない。Ba化合物、Na化合物、Ti化合物、Nb化合物のいずれでも効果は同じである。
本発明の圧電材料を焼結体形状とする場合、焼成前の成形体を作成する必要がある。前記成形体とは原料粉末を成形した固形物である。原料粉末は純度の高いものの方が好ましい。成形方法としては、一軸加圧加工、冷間静水圧加工、温間静水圧加工、鋳込成形と押し出し成形を挙げることができる。成形体を作製する際には、造粒粉を用いることが好ましい。造粒粉を用いた成形体を焼結すると、焼結体の結晶粒の大きさの分布が均一になり易いという利点がある。
圧電材料の原料粉を造粒する方法は特に限定されないが、造粒粉の粒径をより均一にできるという観点において、最も好ましい造粒方法はスプレードライ法である。
造粒する際に使用可能なバインダーの例としては、PVA(ポリビニルアルコール)、PVB(ポリビニルブチラール)、アクリル系樹脂が挙げられる。添加するバインダーの量は、前記圧電材料の原料粉に対して1重量部から10重量部が好ましく、成形体の密度が上がるという観点において2重量部から5重量部がより好ましい。
前記成形体の焼結方法は特に限定されない。
焼結方法の例としては、電気炉による焼結、ガス炉による焼結、通電加熱法、マイクロ波焼結法、ミリ波焼結法、HIP(熱間等方圧プレス)などが挙げられる。電気炉およびガスによる焼結は、連続炉であってもバッチ炉であっても構わない。
前記焼結方法における焼結温度は特に限定されないが、各化合物が反応し、充分に結晶成長する温度であることが好ましい。好ましい焼結温度としては、粒径を1μmから10μmの範囲にするという観点で、1000℃以上1200℃以下であり、より好ましくは1050℃以上1160℃以下である。上記温度範囲において焼結した圧電材料は良好な圧電性能を示す。焼結処理により得られる圧電材料の特性を再現よく安定させるためには、焼結温度を上記範囲内で一定にして2時間以上48時間以下の焼結処理を行うとよい。また、二段階焼結法などの焼結方法を用いてもよい。
焼結処理により得られた圧電材料を研磨加工した後に、キュリー温度T以上の温度で熱処理することが好ましい。機械的に研磨加工されると、圧電材料の内部には残留応力が発生するが、キュリー温度T以上で熱処理することにより、残留応力が緩和し、圧電材料の圧電特性がさらに良好になる。熱処理の時間は特に限定されないが、1時間以上が好ましい。
本発明の圧電材料の結晶粒径が平均粒径100μmを越える場合、切断加工及び研磨加工時に強度に劣る恐れがある。また粒径が平均粒径0.3μm未満であると圧電性が低下する。よって、好ましい粒径範囲は、平均粒径が0.3μm以上100μm以下である。
本発明における「粒径」とは、顕微鏡観察法において一般に言われる「投影面積円相当径」を表し、結晶粒の投影面積と同面積を有する真円の直径を表す。本発明において、この粒径の測定方法は特に制限されない。例えば圧電材料の表面を偏光顕微鏡や走査型電子顕微鏡で撮影して得られる写真画像を画像処理して求めることができる。対象となる粒子径により最適倍率が異なるため、光学顕微鏡と電子顕微鏡を使い分けても構わない。材料の表面ではなく研磨面や断面の画像から円相当径を求めても良い。
本発明の圧電材料を基板上に作成された膜として利用する際、前記圧電材料の厚みは200nm以上10μm以下、より好ましくは300nm以上3μm以下であることが望ましい。圧電材料の膜厚を200nm以上10μm以下とすることで圧電素子として十分な電気機械変換機能が得られるからである。
前記膜の積層方法は特に制限されない。例えば、化学溶液堆積法(CSD法)、ゾルゲル法、有機金属化学気相成長法(MOCVD法)、スパッタリング法、パルスレーザデポジション法(PLD法)、水熱合成法、エアロゾルデポジション法(AD法)などが挙げられる。このうち、もっとも好ましい積層方法は化学溶液堆積法またはスパッタリング法である。化学溶液堆積法またはスパッタリング法は、容易に成膜面積を大面積化できる。
本発明の圧電材料に用いる基板は(001)面または(110)面で切断および研磨された単結晶基板であることが好ましい。特定の結晶面で切断・研磨された単結晶基板を用いることで、その基板表面に設けられた圧電材料膜も同一方位に強く配向させることができる。
(圧電素子)
以下に本発明の圧電材料を用いた圧電素子について説明する。
図1は本発明の圧電素子の構成の一実施形態を示す概略図である。本発明に係る圧電素子は、第一の電極1、圧電材料部2および第二の電極3を少なくとも有する圧電素子であって、前記圧電材料部2を構成する圧電材料が本発明の圧電材料であることを特徴とする。
本発明に係る圧電材料は、少なくとも第一の電極と第二の電極を有する圧電素子にすることにより、その圧電特性を評価できる。前記第一の電極および第二の電極は、厚み5nmから10μ程度の導電層よりなる。その材料は特に限定されず、圧電素子に通常用いられているものであればよい。例えば、Ti、Pt、Ta、Ir、Sr、In、Sn、Au、Al、Fe、Cr、Ni、Pd、Ag、Cuなどの金属およびこれらの化合物を挙げることができる。
前記第一の電極および第二の電極は、これらの材料の1種からなるものであっても、あるいはこれらの材料の2種以上を積層してなるものであってもよい。また、第一の電極と第二の電極が、それぞれ異なる材料であってもよい。
前記第一の電極と第二の電極の製造方法は限定されず、金属ペーストの焼き付けにより形成しても良いし、スパッタ、蒸着法などにより形成してもよい。また第一の電極と第二の電極とも所望の形状にパターニングして用いてもよい。
前記圧電素子は一定方向に分極軸が揃っているものであると、より好ましい。分極軸が一定方向に揃っていることで前記圧電素子の圧電定数は大きくなる。
前記圧電素子の分極方法は特に限定されない。分極処理は大気中で行ってもよいし、オイル中で行ってもよい。分極をする際の温度は60℃から160℃の温度が好ましいが、素子を構成する圧電材料の組成によって最適な条件は多少異なる。分極処理をするために印加する電界は、その材料の抗電界以上であることが好ましく、具体的には1から5kV/mmである。
前記圧電素子の圧電定数および機械的品質係数は、市販のインピーダンスアナライザを用いて得られる共振周波数及び反共振周波数の測定結果から、電子情報技術産業協会規格(JEITA EM−4501)に基づいて、計算により求めることができる。以下、この方法を共振−反共振法と呼ぶ。
(積層圧電素子)
次に、本発明の圧電材料を用いた積層圧電素子について説明する。
本発明に係る積層圧電素子は、圧電材料層と、内部電極を含む電極層とが交互に積層された積層圧電素子であって、前記圧電材料層が本発明の圧電材料よりなることを特徴とする。
図2は本発明の積層圧電素子の構成の一実施形態を示す断面概略図である。本発明に係る積層圧電素子は、圧電材料層54と、内部電極55を含む電極層とで構成されており、圧電材料層と層状の電極とが交互に積層された積層圧電素子であって、前記圧電材料層54が上記の圧電材料よりなることを特徴とする。電極は、内部電極55以外に第一の電極51や第二の電極53といった外部電極を含んでいてもよい。
図2(a)は2層の圧電材料層54と1層の内部電極55が交互に積層された積層体56を第一の電極51と第二の電極53で狭持した本発明の積層圧電素子の構成を示しているが、図2(b)のように圧電材料層と内部電極の数を増やしてもよく、その層数に限定はない。図2(b)の積層圧電素子は9層の圧電材料層504と8層の内部電極505(505aもしくは505b)が交互に積層された積層体を第一の電極501と第二の電極503で狭持した構成であり、交互に形成された内部電極を短絡するための外部電極506aおよび外部電極506bを有する。
内部電極55、505および外部電極506a、506bの大きさや形状は必ずしも圧電材料層54、504と同一である必要はなく、また複数に分割されていてもよい。
内部電極55、505および外部電極506a、506b、第一の電極51、501および第二の電極53、503は、厚み5nmから2000nm程度の導電層よりなる。その材料は特に限定されず、圧電素子に通常用いられているものであればよい。例えば、Ti、Pt、Ta、Ir、Sr、In、Sn、Au、Al、Fe、Cr、Ni、Pd、Ag、Cuなどの金属およびこれらの化合物を挙げることができる。内部電極55、505および外部電極506a、506bは、これらのうちの1種からなるものであっても2種以上の混合物あるいは合金であってもよく、あるいはこれらの2種以上を積層してなるものであってもよい。また複数の電極が、それぞれ異なる材料であってもよい。電極材料が安価という観点において、内部電極55、505はNiおよびCuの少なくともいずれか1種を含むことが好ましい。内部電極55、505にNiおよびCuの少なくともいずれか1種を用いる場合、本発明の積層圧電素子は還元雰囲気で焼成することが好ましい。
本発明の積層圧電素子は、内部電極がAgとPdを含み、前記Agの含有重量M1と前記Pdの含有重量M2との重量比M1/M2が1.5≦M1/M2≦9.0であることが好ましい。より好ましくは2.3≦M1/M2≦4.0である。前記重量比M1/M2が1.5未満であると内部電極の焼結温度が高くなるので望ましくない。一方で、前記重量比M1/M2が9.0よりも大きくなると、内部電極が島状になるために面内で不均一になるので望ましくない。
図2(b)に示すように、内部電極505を含む複数の電極は、駆動電圧の位相をそろえる目的で互いに短絡させても良い。例えば内部電極505aと第一の電極501を外部電極506aで短絡させても良い。また電極どうしの短絡の形態は限定されない。積層圧電素子の側面に短絡のための電極や配線を設けてもよいし、圧電材料層504を貫通するスルーホールを設け、その内側に導電材料を設けて電極どうしを短絡させてもよい。
(液体吐出ヘッド)
本発明に係る液体吐出ヘッドは、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口を少なくとも有することを特徴とする。本発明の液体吐出ヘッドによって吐出する液体は流動体であれば特に限定されず、水、インク、燃料などの水系液体や非水系液体を吐出することができる。
図3は、本発明の液体吐出ヘッドの構成の一実施形態を示す概略図である。図3(a)(b)に示すように、本発明の液体吐出ヘッドは、本発明の圧電素子101を有する液体吐出ヘッドである。圧電素子101は、第一の電極1011、圧電材料1012、第二の電極1013を少なくとも有する圧電素子である。圧電材料1012は、図3(b)の如く、必要に応じてパターニングされている。図3(b)は液体吐出ヘッドの模式図である。液体吐出ヘッドは、吐出口105、個別液室102、個別液室102と吐出口105をつなぐ連通孔106、液室隔壁104、共通液室107、振動板103、圧電素子101を有する。図において圧電素子101は矩形状だが、その形状は、楕円形、円形、平行四辺形等の矩形以外でも良い。一般に、圧電材料1012は個別液室102の形状に沿った形状となる。
本発明の液体吐出ヘッドに含まれる圧電素子101の近傍を図3(a)で詳細に説明する。図3(a)は、図3(b)に示された圧電素子の幅方向での断面図である。圧電素子101の断面形状は矩形で表示されているが、台形や逆台形でもよい。図中では、第一の電極1011が下部電極、第二の電極1013が上部電極として使用されている。しかし、第一の電極1011と、第二の電極1013の配置はこの限りではない。例えば、第一の電極1011を下部電極として使用してもよいし、上部電極として使用してもよい。同じく、第二の電極1013を上部電極として使用しても良いし、下部電極として使用しても良い。また、振動板103と下部電極の間にバッファ層108が存在しても良い。なお、これらの名称の違いはデバイスの製造方法によるものであり、いずれの場合でも本発明の効果は得られる。
前記液体吐出ヘッドにおいては、振動板103が圧電材料1012の伸縮によって上下に変動し、個別液室102の液体に圧力を加える。その結果、吐出口105より液体が吐出される。本発明の液体吐出ヘッドは、プリンタ用途や電子デバイスの製造に用いることができる。振動板103の厚みは、1.0μm以上15μm以下であり、好ましくは1.5μm以上8μm以下である。振動板の材料は限定されないが、好ましくはSiである。振動板のSiにホウ素やリンがドープされていてもよい。また、振動板上のバッファ層、電極が振動板の一部となってもよい。バッファ層108の厚みは、5nm以上300nm以下であり、好ましくは10nm以上200nm以下である。吐出口105の大きさは、円相当径で5μm以上40μm以下である。吐出口105の形状は、円形であってもよいし、星型や角型状、三角形状でもよい。
(液体吐出装置)
次に、本発明の液体吐出装置について説明する。本発明の液体吐出装置は、被転写体の載置部と前記液体吐出ヘッドを備えたものである。
本発明の液体吐出装置の一例として、図4および図5に示すインクジェット記録装置を挙げることができる。図4に示す液体吐出装置(インクジェット記録装置)881の外装882から885及び887を外した状態を図5に示す。インクジェット記録装置881は、被転写体としての記録紙を装置本体896内へ自動給送する自動給送部897を有する。更に、自動給送部897から送られる記録紙を所定の記録位置へ導き、記録位置から排出口898へ導く、被転写体の載置部である搬送部899と、記録位置に搬送された記録紙に記録を行う記録部891と、記録部891に対する回復処理を行う回復部890とを有する。記録部891には、本発明の液体吐出ヘッドを収納し、レール上を往復移送されるキャリッジ892が備えられる。
このようなインクジェット記録装置において、コンピューターから送出される電気信号によりキャリッジ892がレール上を移送され、圧電材料を挟持する電極に駆動電圧が印加されると圧電材料が変位する。この圧電材料の変位により、図3(b)に示す振動板103を介して個別液室102を加圧し、インクを吐出口105から吐出させて、印字を行う。本発明の液体吐出装置においては、均一に高速度で液体を吐出させることができ、装置の小型化を図ることができる。
上記例は、プリンタとして例示したが、本発明の液体吐出装置は、ファクシミリや複合機、複写機などのインクジェット記録装置等のプリンティング装置の他、産業用液体吐出装置、対象物に対する描画装置として使用することができる。加えてユーザーは用途に応じて所望の被転写体を選択することができる。なお載置部としてのステージに載置された被転写体に対して液体吐出ヘッドが相対的に移動する構成をとっても良い。
(超音波モータ)
本発明に係る超音波モータは、前記圧電素子または前記積層圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを少なくとも有することを特徴とする。
図6は、本発明の超音波モータの構成の一実施形態を示す概略図である。本発明の圧電素子が単板からなる超音波モータを、図6(a)に示す。超音波モータは、振動子201、振動子201の摺動面に不図示の加圧バネによる加圧力で接触しているロータ202、ロータ202と一体的に設けられた出力軸203を有する。前記振動子201は、金属の弾性体リング2011、本発明の圧電素子2012、圧電素子2012を弾性体リング2011に接着する有機系接着剤2013(エポキシ系、シアノアクリレート系など)で構成される。
本発明の圧電素子2012は、不図示の第一の電極と第二の電極によって挟まれた圧電材料で構成される。本発明の圧電素子に位相がπ/2の奇数倍異なる二相の交番電圧を印加すると、振動子201に屈曲進行波が発生し、振動子201の摺動面上の各点は楕円運動をする。この振動子201の摺動面にロータ202が圧接されていると、ロータ202は振動子201から摩擦力を受け、屈曲進行波とは逆の方向へ回転する。不図示の被駆動体は、出力軸203と接合されており、ロータ202の回転力で駆動される。圧電材料に電圧を印加すると、圧電横効果によって圧電材料は伸縮する。金属などの弾性体が圧電素子に接合している場合、弾性体は圧電材料の伸縮によって曲げられる。ここで説明された種類の超音波モータは、この原理を利用したものである。
次に、積層構造を有した圧電素子を含む超音波モータを図6(b)に例示する。振動子204は、筒状の金属弾性体2041に挟まれた積層圧電素子2042よりなる。積層圧電素子2042は、不図示の複数の積層された圧電材料により構成される素子であり、積層外面に第一の電極と第二の電極、積層内面に内部電極を有する。金属弾性体2041はボルトによって締結され、圧電素子2042を挟持固定し、振動子204となる。圧電素子2042に位相の異なる交番電圧を印加することにより、振動子204は互いに直交する2つの振動を励起する。この二つの振動は合成され、振動子204の先端部を駆動するための円振動を形成する。なお、振動子204の上部にはくびれた周溝が形成され、駆動のための振動の変位を大きくしている。ロータ205は、加圧用のバネ206により振動子204と加圧接触し、駆動のための摩擦力を得る。ロータ205はベアリングによって回転可能に支持されている。
(光学機器)
次に、本発明の光学機器について説明する。本発明の光学機器は、駆動部に前記超音波モータを備えたことを特徴とする。
図7は、本発明の光学機器の好適な実施形態の一例である一眼レフカメラの交換レンズ鏡筒の主要断面図である。また、図8は本発明の光学機器の好適な実施形態の一例である一眼レフカメラの交換レンズ鏡筒の分解斜視図である。カメラとの着脱マウント711には、固定筒712と、直進案内筒713、前群鏡筒714が固定されている。これらは交換レンズ鏡筒の固定部材である。
直進案内筒713には、フォーカスレンズ702用の光軸方向の直進案内溝713aが形成されている。フォーカスレンズ702を保持した後群鏡筒716には、径方向外方に突出するカムローラ717a、717bが軸ビス718により固定されており、このカムローラ717aがこの直進案内溝713aに嵌まっている。
直進案内筒713の内周には、カム環715が回動自在に嵌まっている。直進案内筒713とカム環715とは、カム環715に固定されたローラ719が、直進案内筒713の周溝713bに嵌まることで、光軸方向への相対移動が規制されている。このカム環715には、フォーカスレンズ702用のカム溝715aが形成されていて、カム溝715aには、前述のカムローラ717bが同時に嵌まっている。
固定筒712の外周側にはボールレース727により固定筒712に対して定位置回転可能に保持された回転伝達環720が配置されている。回転伝達環720には、回転伝達環720から放射状に延びた軸720fにコロ722が回転自由に保持されており、このコロ722の径大部722aがマニュアルフォーカス環724のマウント側端面724bと接触している。またコロ722の径小部722bは接合部材729と接触している。コロ722は回転伝達環720の外周に等間隔に6つ配置されており、それぞれのコロが上記の関係で構成されている。
マニュアルフォーカス環724の内径部には低摩擦シート(ワッシャ部材)733が配置され、この低摩擦シートが固定筒712のマウント側端面712aとマニュアルフォーカス環724の前側端面724aとの間に挟持されている。また、低摩擦シート733の外径面はリング状とされマニュアルフォーカス環724の内径724cと径嵌合しており、更にマニュアルフォーカス環724の内径724cは固定筒712の外径部712bと径嵌合している。低摩擦シート733は、マニュアルフォーカス環724が固定筒712に対して光軸周りに相対回転する構成の回転環機構における摩擦を軽減する役割を果たす。
なお、コロ722の径大部722aとマニュアルフォーカス環のマウント側端面724bとは、波ワッシャ726が超音波モータ725をレンズ前方に押圧する力により、加圧力が付与された状態で接触している。また同じく、波ワッシャ726が超音波モータ725をレンズ前方に押圧する力により、コロ722の径小部722bと接合部材729の間も適度な加圧力が付与された状態で接触している。波ワッシャ726は、固定筒712に対してバヨネット結合したワッシャ732によりマウント方向への移動を規制されており、波ワッシャ726が発生するバネ力(付勢力)は、超音波モータ725、更にはコロ722に伝わり、マニュアルフォーカス環724が固定筒712のマウント側端面712aを押し付け力ともなる。つまり、マニュアルフォーカス環724は、低摩擦シート733を介して固定筒712のマウント側端面712aに押し付けられた状態で組み込まれている。
従って、不図示の制御部により超音波モータ725が固定筒712に対して回転駆動されると、接合部材729がコロ722の径小部722bと摩擦接触しているため、コロ722が軸720f中心周りに回転する。コロ722が軸720f回りに回転すると、結果として回転伝達環720が光軸周りに回転する(オートフォーカス動作)。
また、不図示のマニュアル操作入力部からマニュアルフォーカス環724に光軸周りの回転力が与えられると、マニュアルフォーカス環724のマウント側端面724bがコロ722の径大部722aと加圧接触しているため、摩擦力によりコロ722が軸720f周りに回転する。コロ722の径大部722aが軸720f周りに回転すると、回転伝達環720が光軸周りに回転する。このとき超音波モータ725は、ロータ725cとステータ725bの摩擦保持力により回転しないようになっている(マニュアルフォーカス動作)。
回転伝達環720には、フォーカスキー728が2つ互いに対向する位置に取り付けられており、フォーカスキー728がカム環715の先端に設けられた切り欠き部715bと嵌合している。従って、オートフォーカス動作或いはマニュアルフォーカス動作が行われて、回転伝達環720が光軸周りに回転させられると、その回転力がフォーカスキー728を介してカム環715に伝達される。カム環が光軸周りに回転させられると、カムローラ717aと直進案内溝713aにより回転規制された後群鏡筒716が、カムローラ717bによってカム環715のカム溝715aに沿って進退する。これにより、フォーカスレンズ702が駆動され、フォーカス動作が行われる。
ここで本発明の光学機器として、一眼レフカメラの交換レンズ鏡筒について説明したが、コンパクトカメラ、電子スチルカメラ、カメラ付き携帯情報端末等、カメラの種類を問わず、駆動部に超音波モータを有する光学機器に適用することができる。
(振動装置および塵埃除去装置)
粒子、粉体、液滴の搬送、除去等で利用される振動装置は、電子機器等で広く使用されている。
以下、本発明の振動装置の一つの例として、本発明の圧電素子を用いた塵埃除去装置について説明する。
本発明に係る振動装置は、前記圧電素子または前記積層圧電素子を振動板に配した振動体を有することを特徴とする。本発明に係る塵埃除去装置は、前記振動装置を振動部に備えたことを特徴とする。
図9(a)および図9(b)は本発明の塵埃除去装置の一実施形態を示す概略図である。塵埃除去装置310は板状の圧電素子330と振動板320より構成される。圧電素子330は、本発明の積層圧電素子であってもよい。振動板320の材質は限定されないが、塵埃除去装置310を光学デバイスに用いる場合には透光性材料や光反射性材料を振動板320として用いることができる。
図10は図9における圧電素子330の構成を示す概略図である。図10(a)と(c)は圧電素子330の表裏面の構成、図10(b)は側面の構成を示している。圧電素子330は図9に示すように圧電材料331と第1の電極332と第2の電極333より構成され、第1の電極332と第2の電極333は圧電材料331の板面に対向して配置されている。図9と同様に圧電素子330は、本発明の積層圧電素子であっても良い。その場合、圧電材料331は圧電材料層と内部電極の交互構造をとり、内部電極を交互に第一の電極332または第二の電極333と短絡させることにより、圧電材料の層ごとに位相の異なる駆動波形を与えることができる。図10(c)において圧電素子330の手前に出ている第1の電極332が設置された面を第1の電極面336、図10(a)において圧電素子330の手前に出ている第2の電極333が設置された面を第2の電極面337とする。
ここで、本発明における電極面とは電極が設置されている圧電素子の面を指しており、例えば図10に示すように第1の電極332が第2の電極面337に回りこんでいても良い。
圧電素子330と振動板320は、図9(a)(b)に示すように圧電素子330の第1の電極面336で振動板320の板面に固着される。そして圧電素子330の駆動により圧電素子330と振動板320との間に応力が発生し、振動板に面外振動を発生させる。本発明の塵埃除去装置310は、この振動板320の面外振動により振動板320の表面に付着した塵埃等の異物を除去する装置である。面外振動とは、振動板を光軸方向つまり振動板の厚さ方向に変位させる弾性振動を意味する。
図11は本発明の塵埃除去装置310の振動原理を示す模式図である。上図は左右一対の圧電素子330に同位相の交番電圧を印加して、振動板320に面外振動を発生させた状態を表している。左右一対の圧電素子330を構成する圧電材料の分極方向は圧電素子330の厚さ方向と同一であり、塵埃除去装置310は7次の振動モードで駆動している。
下図は左右一対の圧電素子330に位相が180°反対である逆位相の交番電圧を印加して、振動板320に面外振動を発生させた状態を表している。塵埃除去装置310は6次の振動モードで駆動している。本発明の塵埃除去装置310は少なくとも2つの振動モードを使い分けることで振動板の表面に付着した塵埃を効果的に除去できる装置である。
(撮像装置)
次に、本発明の撮像装置について説明する。本発明の撮像装置は、前記塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを少なくとも有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動板を前記撮像ユニットの受光面側に設け、かつ前記塵埃除去装置を前記撮像素子ユニットの受講面側に設けたことを特徴とする。図12および図13は本発明の撮像装置の好適な実施形態の一例であるデジタル一眼レフカメラを示す図である。
図12は、カメラ本体601を被写体側より見た正面側斜視図であって、撮影レンズユニットを外した状態を示す。図13は、本発明の塵埃除去装置と撮像ユニット400の周辺構造について説明するためのカメラ内部の概略構成を示す分解斜視図である。
カメラ本体601内には、撮影レンズを通過した撮影光束が導かれるミラーボックス605が設けられており、ミラーボックス605内にメインミラー(クイックリターンミラー)606が配設されている。メインミラー606は、撮影光束をペンタダハミラー(不図示)の方向へ導くために撮影光軸に対して45°の角度に保持される状態と、撮像素子(不図示)の方向へ導くために撮影光束から退避した位置に保持される状態とを取り得る。
カメラ本体の骨格となる本体シャーシ300の被写体側には、被写体側から順にミラーボックス605、シャッタユニット200が配設される。また、本体シャーシ300の撮影者側には、撮像ユニット400が配設される。撮像ユニット400は、撮影レンズユニットが取り付けられる基準となるマウント部602の取り付け面に撮像素子の撮像面が所定の距離を空けて、且つ平行になるように調整されて設置される。
前記撮像ユニット400は、塵埃除去装置の振動部材と撮像素子ユニットで構成される。また、塵埃除去装置の振動部材は、撮像素子ユニットの受光面と同一軸上に順に設けてある。
ここで、本発明の撮像装置として、デジタル一眼レフカメラについて説明したが、例えばミラーボックス605を備えていないミラーレス型のデジタル一眼カメラのような撮影レンズユニット交換式カメラであってもよい。また、撮影レンズユニット交換式のビデオカメラや、複写機、ファクシミリ、スキャナ等の各種の撮像装置もしくは撮像装置を備える電子電気機器のうち、特に光学部品の表面に付着する塵埃の除去が必要な機器にも適用することができる。
(電子機器)
次に、本発明の電子機器について説明する。本発明の電子機器は、前記圧電素子または前記積層圧電素子を備えた圧電音響部品を配したことを特徴とする。圧電音響部品にはスピーカ、ブザー、マイク、表面弾性波(SAW)素子が含まれる。
図14は本発明の電子機器の好適な実施形態の一例であるデジタルカメラの本体931の前方から見た全体斜視図である。本体931の前面には光学装置901、マイク914、ストロボ発光部909、補助光部916が配置されている。マイク914は本体内部に組み込まれているため、破線で示している。マイク914の前方には外部からの音を拾うための穴形状が設けられている。
本体931上面には電源ボタン933、スピーカ912、ズームレバー932、合焦動作を実行するためのレリーズボタン908が配置される。スピーカ912は本体931内部に組み込まれており、破線で示してある。スピーカ912の前方には音声を外部へ伝えるための穴形状が設けられている。
本発明の圧電音響部品は、マイク914、スピーカ912、また表面弾性波素子、の少なくとも一つに用いられる。
ここで、本発明の電子機器としてデジタルカメラについて説明したが、本発明の電子機器は、音声再生機器、音声録音機器、携帯電話、情報端末等各種の圧電音響部品を有する電子機器にも適用することができる。
前述したように本発明の圧電素子および積層圧電素子は、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置および電子機器に好適に用いられる。
本発明の圧電素子および積層圧電素子を用いることで、鉛を含む圧電素子を用いた場合と同等以上のノズル密度、および吐出速度を有する液体吐出ヘッドを提供できる。
本発明の液体吐出ヘッドを用いることで、鉛を含む圧電素子を用いた場合と同等以上の吐出速度および吐出精度を有する液体吐出装置を提供できる。本発明の圧電素子および積層圧電素子を用いることで、鉛を含む圧電素子を用いた場合と同等以上の駆動力、および耐久性を有する超音波モータを提供できる。
本発明の超音波モータを用いることで、鉛を含む圧電素子を用いた場合と同等以上の耐久性および動作精度を有する光学機器を提供できる。
本発明の圧電素子および積層圧電素子を用いることで、鉛を含む圧電素子を用いた場合と同等以上の振動能力、および耐久性を有する振動装置を提供できる。
本発明の振動装置を用いることで、鉛を含む圧電素子を用いた場合と同等以上の塵埃除去効率、および耐久性を有する塵埃除去装置を提供できる。
本発明の塵埃除去装置を用いることで、鉛を含む圧電素子を用いた場合と同等以上の塵埃除去機能を有する撮像装置を提供できる。
本発明の圧電素子または積層圧電素子を備えた圧電音響部品を用いることで、鉛を含む圧電素子を用いた場合と同等以上の発音性を有する電子機器を提供できる。
本発明の圧電材料は、液体吐出ヘッド、モータなどに加え、超音波振動子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、強誘電メモリ等のデバイスに用いることができる。
以下に実施例を挙げて本発明の圧電材料をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
(実施例1から24、比較例1から10)
表1には、本発明の実施例1から24の圧電材料と比較例1から10の焼結体の組成を示す。
Figure 0006341674
一般式(1)の(NaBa1−y)(NbTi1−y)Oにおいて、表1のx’、yになるよう原料を秤量し、第2副成分を前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物1モルに対するモル量として、原料を秤量した。表1において、Na量に関するx‘は仕込み時の組成比、xは焼成後の組成比を表している。原料粉末はボールミルを12時間行って混合した。
比較例1から8、実施例1から19の原料には、純度99%以上のニオブ酸ナトリウム(NaNbO)、純度99.95%の炭酸バリウム(BaCO)、純度99%以上のチタン酸バリウム(BaTiO)の粉末を用いた。
実施例20、21の原料には、純度99%以上のニオブ酸ナトリウム(NaNbO)、純度99.95%の炭酸バリウム(BaCO)、純度99%以上のチタン酸バリウム(BaTiO)、純度99.9%の酸化銅(CuO(II))の粉末を用いた。なお、実施例20のCu含有量の0.002モルは、一般式(1)のぺロブスカイト型金属酸化物1モル(172.2g)に対してCuOを0.159g(Cuとして0.127g)含むことを表す。
実施例22の原料には、純度99%以上のニオブ酸ナトリウム(NaNbO)、純度99.95%の炭酸バリウム(BaCO)、純度99%以上のチタン酸バリウム(BaTiO)、純度99.9%以上の酸化ニッケル(NiO(II))の粉末を用いた。
実施例23の原料には、純度99%以上のニオブ酸ナトリウム(NaNbO)、純度99.95%の炭酸バリウム(BaCO)、純度99%以上のチタン酸バリウム(BaTiO)、純度99.99%以上の酸化亜鉛(ZnO(II))の粉末を用いた。
実施例24の原料には、実施例23に用いた原料に加えて、純度99.9%以上の四酸化三マンガン(Mn)の粉末を用いた。
混合した粉末を大気中900から1100℃で空気中、2から5時間かけて仮焼した。実施例1から24、比較例1から10では、仮焼粉を粉砕し、仮焼粉の重量に対して、副成分のSi、Bを表1に示した重量部に従って添加し、更に3重量%のPVBバインダーを加えて造粒した。比較例1では、仮焼粉を粉砕した後、Si、Bは加えず、仮焼粉の重量に対して3重量%のPVBバインダーを加えて造粒した。造粒粉を金型内に充填し、200MPaの圧力で圧縮することで直径17mm、厚みが約1mmの成形体を作製した。得られた成形体を1000から1200℃で空気中、2から6時間焼成することにより焼結体を得た。
アルキメデス法により焼結体の密度を測定し、相対密度を算出したところ、いずれの実施例の焼結体も相対密度は95%以上であった。実施例1から19と比較例1とを比較すると、Si、Bを添加した試料は、添加していない試料と比較して、仮焼と本焼成の温度を50℃から100℃低減したにもかかわらず、試料の密度は同等以上だった。
焼結体を厚みが約0.5mmになるように研磨した。研磨した焼結体、もしくは研磨した焼結体を粉砕した粉末を用いてエックス線回折を行い、構成相と格子定数を評価した。エックス線回折により、試料はほぼペロブスカイト構造単相であることが確認できた。
焼結体の組成をICP(誘導結合プラズマ発光分光分析法)で評価した。表1のxはNa元素のモル比を示す。Na以外の元素は狙いの組成通りであったが、全てのサンプルにおいてNaは狙い値より欠損していた。比較例2、3を除く全ての試料において、Nbのモル数に対するNaのモル数(x/y)はいずれも93から99%の範囲であった。焼結体内の粒径は、光学顕微鏡もしくは電子顕微鏡で観察して評価した。
焼結体の粒径を電子顕微鏡で観察したところ2から50μmの範囲であった。
焼結体内でのSiおよびBの分布をエネルギー分散型X線分光法で調査したところ、添加したSiおよびBのほとんどは粒子と粒子の間の粒界に存在していた。
圧電特性や絶縁抵抗などの電気特性の評価のために、実施例1から24、比較例1から10の圧電素子を作成した。まず研磨した焼結体内の応力と表面の有機物成分を除去するために、400から500℃で空気中30分間熱処理した。前記円盤状のセラミックスの表裏両面にDCスパッタリング法により厚さ400nmの金電極を形成した。なお、電極とセラミックスの間には、密着層として30nmの厚さにチタンを成膜した。この電極付きのセラミックスを切断加工し、10mm(長さ)×2.5mm(幅)×0.5mm(厚さ)の短冊状圧電素子を作製した。
抵抗率の評価には半導体パラメータアナライザを用いた。試料に数10ボルトから100ボルトの直流電圧を印加し、電圧印加開始から30秒後の抵抗を測定した。抵抗率は、測定された抵抗と試料寸法から算出した。抵抗率は、測定された抵抗と試料寸法から算出した。この抵抗率が30GΩ・cm以上、より好ましくは100GΩ・cm以上であれば、圧電材料及び圧電素子の実用において十分な絶縁性を有していると言える。
圧電特性の評価に先だって分極処理を行った。具体的には、150℃に保持されたオイルバス中で、試料に1.5から5kV/mmの電圧を30分間印加し、電圧を印加したまま室温まで冷却した。比較例9、10は絶縁抵抗が低いために、高電圧下での分極処理ができず、圧電定数も低かった。
短冊状圧電素子の圧電定数(d31)、機械的品質係数(Qm)を共振−反共振法で測定した。キュリー温度の測定にはインピーダンスアナライザを用いた。インピーダンスアナライザを用いて、比誘電率を測定周波数1kHz、印加交番電圧500mVの条件で測定した。測定は分極処理後に行った。比誘電率の温度依存性を評価する際、室温から比誘電率の測定を開始した。試料を室温から一旦−100℃まで冷却し、その後350℃まで昇温させた時の比誘電率の変化を記録した。比誘電率の極大部からキュリー温度Tcを算出した。
表2、表3に各試料の特性を示す。
Figure 0006341674
Figure 0006341674
(実施例1から19の圧電材料および圧電素子の評価)
実施例1から19は、NN−BTを基本組成として、SiおよびBを添加した組成の試料である。表2に示す様に、SiおよびBが添加していない比較例1と比較すると、圧電定数d31、機械的品質係数Qmが増加した。一方、キュリー温度Tはほとんど変化が無かった。
また、表3に示す様に、SiとBの和で4重量部までは試料の抵抗率は高い抵抗率を維持するが、比較例9,10に示すように5重量部を超えると抵抗率は減少し始めた。
(実施例20から24の評価)
NN−BTを基本組成として、副成分としてSiおよびBを合計で0.02重量部含み、第2副成分としてCuを0.002もしくは0.005モル含まれている場合(実施例20、21)、第2副成分が無いものに比較して、圧電定数d31で10%程高く、機械的品質係数Qmは100から200程大きくなった。また、キュリー温度Tは数℃減少であった。
NN−BTを基本組成として、副成分としてSiおよびBが合計で0.02重量部含み、第2副成分としてNiが0.005モル含まれている場合(実施例22)、第2副成分が無いものに比較して、圧電定数d31は10%程高くなったものの、機械的品質係数Qmおよびキュリー温度Tcは第2副成分添加無しのものと比較して同程度であった。
NN−BTを基本組成として、副成分としてSiおよびBが合計で0.02重量部含み、Znが0.01モル第2副成分として含まれている場合(実施例23)、第2副成分が無いものに比較して、圧電定数d31は15%程高くなった。機械的品質係数Qmおよびキュリー温度Tcは第2副成分添加無しのものと比較して同程度であった。
NN−BTを基本組成として、副成分としてSiおよびBが合計で0.02重量部含み、Znが0.01モル、Mnが0.002モル第2副成分として含まれている場合(実施例24)、第2副成分が無いものに比較して、圧電定数d31は20%程高くなった。機械的品質係数Qmおよびキュリー温度Tは第2副成分の添加が無しのものと比較して同程度であった。
(実施例25)
実施例2に相当する原料を以下に述べる要領で秤量した。
炭酸ナトリウム(NaCO)、酸化ニオブ(Nb)、チタン酸バリウム(BaTiO)粉末を、Na、Nb、Ba、Tiが表1の実施例2記載の組成になるよう秤量した。秤量した原料粉末を混合し、ボールミルで一晩混合した。混合粉を950℃で仮焼し、粉砕した。
この粉砕した粉100重量部にSiを0.014重量部、Bを0.066重量部を秤量し、添加して、更にボールミルで一晩混合して混合粉を得た。前記混合粉に、溶媒、バインダー(PVB)、可塑剤(ジブチルフタレート)を加えてスラリーを作成し、ドクターブレード法によりシート形成して厚み50μmのグリーンシートを得た。
上記グリーンシートに内部電極用の導電ペーストを印刷した。導電ペーストには、Ag70%−Pd30%合金(Ag/Pd=2.33)ペーストを用いた。導電ペーストを塗布したグリーンシートを9枚積層して、その積層体を1050℃の条件で5時間焼成して焼結体を得た。前記焼結体を10mm×2.5mmの大きさに切断した後にその側面を研磨し、内部電極を交互に短絡させる一対の外部電極(第一の電極と第二の電極)をAuスパッタにより形成し、図2(b)に示すような積層圧電素子を作製した。
得られた積層圧電素子の内部電極を観察したところ、電極材であるAg−Pdが圧電材料と交互に形成されていた。
圧電性の評価に先立って試料に分極処理を施した。具体的には、試料をオイルバス中で150℃に加熱し、第一の電極と第二の電極間に2kV/mmの電圧を30分間印加し、電圧を印加したままで室温まで冷却した。
得られた積層圧電素子の圧電性を評価したところ、十分な絶縁性を有し、実施例2の圧電材料と同等の良好な圧電特性を得ることができた。
(実施例26)
実施例2に相当する原料を以下に述べる要領で秤量した。
炭酸ナトリウム(NaCO)、酸化ニオブ(Nb)、チタン酸バリウム(BaTiO)粉末を、Na、Nb、Ba、Tiが表1の実施例2記載の組成になるよう秤量した。秤量した原料粉末を混合し、ボールミルで12時間混合した。混合粉を950℃で仮焼し、粉砕した。
この粉砕した粉100重量部にSiを0.014重量部、Bを0.066重量部を秤量し、添加して、更にボールミルで一晩混合して混合粉を得た。前記混合粉に、溶媒、バインダー(PVB)、可塑剤(ジブチルフタレート)を加えてスラリーを作成し、ドクターブレード法によりシート形成して厚み50μmのグリーンシートを得た。
上記グリーンシートに内部電極用の導電ペーストを印刷した。導電ペーストには、Niペーストを用いた。導電ペーストを塗布したグリーンシートを9枚積層して、その積層体を熱圧着した。
熱圧着した積層体を管状炉中で焼成した。焼成は300℃まで大気中で行い、脱バインダーを行った後、雰囲気を還元性雰囲気(H:N=2:98、酸素濃度2×10−6Pa)に切り替え、1100℃で5時間保持した。降温過程においては、1000℃以下から酸素濃度を30Paに切り替えて室温まで冷却した。
このようにして得られた焼結体を10mm×2.5mmの大きさに切断した後、その側面を研磨し、内部電極を交互に短絡させる一対の外部電極(第一の電極と第二の電極)をAuスパッタにより形成し、図2(b)のような積層圧電素子を作製した。
得られた積層圧電素子の内部電極を観察したところ、電極材(電極層)であるNiが圧電材料層と交互に形成されていた。得られた積層圧電素子に、150℃に保持したオイルバス中で2kV/mmの電界を30分間印加し、分極処理した。
得られた積層圧電素子の圧電特性を評価したところ、十分な絶縁性を有し、実施例2の圧電素子と同等の良好な圧電特性を得ることができた。
(実施例27)
実施例2の圧電素子を用いて、図3に示される液体吐出ヘッドを作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が確認された。
(実施例28)
実施例27の液体吐出ヘッドを用いて、図4に示される液体吐出装置を作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出、付着が記録媒体上に確認された。
(実施例29)
実施例2の圧電素子を用いて、図6(a)に示される超音波モータを作製した。交番電圧の印加に応じたモータの回転が確認された。
(実施例30)
実施例29の超音波モータを用いて、図7に示される光学機器を作製した。交番電圧の印加に応じたオートフォーカス動作が確認された。
(実施例31)
実施例12の圧電素子を用いて、図9に示される塵埃除去装置を作製した。プラスチック製ビーズを散布し、交番電圧を印加したところ、良好な塵埃除去率を示すことが確認された。
(実施例32)
実施例31の塵埃除去装置を用いて、図12に示される撮像装置を作製した。動作させたところ、撮像ユニットの表面の塵を良好に除去し、塵欠陥の無い画像が得られた。
(実施例33)
実施例25から26の積層圧電素子を用いて、図3に示される液体吐出ヘッドを作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が確認された。
(実施例34)
実施例33の液体吐出ヘッドを用いて、図4に示される液体吐出装置を作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出、付着が記録媒体上に確認された。
(実施例35)
実施例25から26の積層圧電素子を用いて、図6(b)に示される超音波モータを作製した。交番電圧の印加に応じたモータの回転が確認された。
(実施例36)
実施例35の超音波モータを用いて、図7に示される光学機器を作製した。交番電圧の印加に応じたオートフォーカス動作が確認された。
(実施例37)
実施例25から26の積層圧電素子を用いて、図9に示される塵埃除去装置を作製した。プラスチック製ビーズを散布し、交番電圧を印加したところ、良好な塵埃除去率を示すことが確認された。
(実施例38)
実施例37の塵埃除去装置を用いて、図12に示される撮像装置を作製した。動作させたところ、撮像ユニットの表面の塵を良好に除去し、塵欠陥の無い画像が得られた。
(実施例39)
実施例25から26の積層圧電素子を用いて、図14に示される電子機器を作製した。交番電圧の印加に応じたスピーカ動作が確認された。
本発明の圧電材料は、鉛を含まないために、環境に対する負荷が少ない。よって、本発明の圧電材料は、液体吐出ヘッド、超音波モータ、塵埃除去装置などの圧電材料を多く用いる機器にも効率良く利用することができる。
1 第一の電極
2 圧電材料部
3 第二の電極
101 圧電素子
102 個別液室
103 振動板
104 液室隔壁
105 吐出口
106 連通孔
107 共通液室
108 バッファ層
1011 第一の電極
1012 圧電材料
1013 第二の電極
201 振動子
202 ロータ
203 出力軸
204 振動子
205 ロータ
206 バネ
2011 弾性体リング
2012 圧電素子
2013 有機系接着剤
2041 金属弾性体
2042 積層圧電素子
310 塵埃除去装置
330 圧電素子
320 振動板
330 圧電素子
331 圧電材料
332 第1の電極
333 第2の電極
336 第1の電極面
337 第2の電極面
310 塵埃除去装置
320 振動板
330 圧電素子
51 第一の電極
53 第二の電極
54 圧電材料層
55 内部電極
56 積層体
501 第一の電極
503 第二の電極
504 圧電材料層
505a 内部電極
505b 内部電極
506a 外部電極
506b 外部電極
601 カメラ本体
602 マウント部
605 ミラーボックス
606 メインミラー
200 シャッタユニット
300 本体シャーシ
400 撮像ユニット
702 後群レンズ(フォーカスレンズ)
711 着脱マウント
712 固定筒
713 直進案内筒
714 前群鏡筒
715 カム環
716 後群鏡筒
717 カムローラ
718 軸ビス
719 ローラ
720 回転伝達環
722 コロ
724 マニュアルフォーカス環
725 超音波モータ
726 波ワッシャ
727 ボールレース
728 フォーカスキー
729 接合部材
732 ワッシャ
733 低摩擦シート
881 液体吐出装置
882 外装
883 外装
884 外装
885 外装
887 外装
890 回復部
891 記録部
892 キャリッジ
896 装置本体
897 自動給送部
898 排出口
899 搬送部
901 光学装置
908 レリーズボタン
909 ストロボ発光部
912 スピーカ
914 マイク
916 補助光部
931 本体
932 ズームレバー
933 電源ボタン

Claims (16)

  1. 下記一般式(1)
    (NaBa1−y)(NbTi1−y)O (1)
    (式中、xは0.80≦x≦0.95、yは0.85≦y≦0.95を示す。)
    で表わされるペロブスカイト型金属酸化物と、SiおよびBから選ばれる少なくとも1種からなる副成分とを含有する圧電材料であって、前記副成分の含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物100重量部に対して金属換算で0.001重量部以上4.000重量部以下であることを特徴とする圧電材料。
  2. 前記圧電材料は、前記一般式(1)で表わされるペロブスカイト型金属酸化物と、前記副成分と、Mn、Cu、Zn、Niから選ばれる少なくとも1種からなる第2副成分とを含有し、第2副成分の含有量が前記ペロブスカイト型金属酸化物1モルに対して0.05モル以下であることを特徴とする請求項1に記載の圧電材料。
  3. 前記一般式(1)において、x<yであることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電材料。
  4. 第一の電極、圧電材料および第二の電極を有する圧電素子であって、前記圧電材料が請求項1乃至3のいずれか一項に記載の圧電材料であることを特徴とする圧電素子。
  5. 圧電材料層と、電極層とが交互に積層された積層圧電素子であって、前記圧電材料が請求項1乃至3のいずれか一項に記載の圧電材料よりなることを特徴とする積層圧電素子。
  6. 前記電極層がAgとPdを含み、前記Agの含有重量M1と前記Pdの含有重量M2との重量比M1/M2が1.5≦M1/M2≦9.0であることを特徴とする請求項5に記載の積層圧電素子。
  7. 前記電極層がNiおよびCuの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項5に記載の積層圧電素子。
  8. 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれか一項に記載の積層圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。
  9. 記録媒体の搬送部と請求項8に記載の液体吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液体吐出装置。
  10. 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれか一項に記載の積層圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを有することを特徴とする超音波モータ。
  11. 駆動部に請求項10に記載の超音波モータを備えたことを特徴とする光学機器。
  12. 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれか一項に記載の積層圧電素子を振動板に配した振動体を有することを特徴とする振動装置。
  13. 請求項12に記載の振動装置を振動部に備えたことを特徴とする塵埃除去装置。
  14. 請求項13に記載の塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動板を前記撮像素子ユニットの受光面側に設けたことを特徴とする撮像装置。
  15. 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれか一項に記載の積層圧電素子を備えた圧電音響部品。
  16. 請求項4に記載の圧電素子または請求項5乃至7のいずれか一項に記載の積層圧電素子を備えた電子機器。
JP2014013647A 2013-01-29 2014-01-28 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器 Active JP6341674B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014013647A JP6341674B2 (ja) 2013-01-29 2014-01-28 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013014616 2013-01-29
JP2013014616 2013-01-29
JP2014013647A JP6341674B2 (ja) 2013-01-29 2014-01-28 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014168056A JP2014168056A (ja) 2014-09-11
JP2014168056A5 JP2014168056A5 (ja) 2017-03-02
JP6341674B2 true JP6341674B2 (ja) 2018-06-13

Family

ID=50150745

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014013647A Active JP6341674B2 (ja) 2013-01-29 2014-01-28 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器

Country Status (6)

Country Link
US (2) US9379310B2 (ja)
EP (1) EP2946418B1 (ja)
JP (1) JP6341674B2 (ja)
CN (1) CN104969373A (ja)
TW (1) TW201442983A (ja)
WO (1) WO2014119704A1 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2953177B1 (en) * 2014-05-30 2017-01-25 Canon Kabushiki Kaisha Piezoelectric material, piezoelectric element, and electronic device
US10074796B2 (en) * 2015-04-03 2018-09-11 Canon Kabushiki Kaisha Piezoelectric material, piezoelectric element, and electronic apparatus
EP3268996B1 (en) * 2015-04-03 2019-12-11 C/o Canon Kabushiki Kaisha Piezoelectric material, method of producing piezoelectric material, piezoelectric element, and electronic apparatus
US10536097B2 (en) * 2015-11-27 2020-01-14 Canon Kabushiki Kaisha Ultrasonic motor, drive control system, optical apparatus, and vibrator
US10516091B2 (en) * 2015-11-27 2019-12-24 Canon Kabushiki Kaisha Ultrasonic motor, drive control system, optical apparatus, and vibrator
US10775681B2 (en) * 2015-11-27 2020-09-15 Canon Kabushiki Kaisha Ultrasonic motor, drive control system, optical apparatus, and vibrator
US10451833B2 (en) * 2015-11-27 2019-10-22 Canon Kabushiki Kaisha Ultrasonic motor, drive control system, optical apparatus, and vibrator
JP7156632B2 (ja) * 2017-08-04 2022-10-19 キヤノン株式会社 圧電材料、圧電素子、および電子機器
TWI657869B (zh) * 2018-03-21 2019-05-01 賴振維 超音波加工裝置及其振動單元
JP7166866B2 (ja) * 2018-10-03 2022-11-08 キヤノン株式会社 配向性圧電体膜およびその製造方法、圧電体素子、並びに、液体吐出ヘッド
JP7222647B2 (ja) 2018-10-03 2023-02-15 キヤノン株式会社 圧電体膜形成用塗工液組成物、その製造方法、配向性圧電体膜、並びに、液体吐出ヘッド
CN109437889A (zh) * 2018-11-23 2019-03-08 杭州电子科技大学 一种Ti位Cu/Ta共掺杂钛酸铋高温压电陶瓷材料的制备方法
CN109967329B (zh) * 2018-12-27 2023-11-24 无锡市宇超电子有限公司 一种声波换能器

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5624963B2 (ja) * 1974-07-04 1981-06-09
JPH05301766A (ja) * 1992-04-28 1993-11-16 Tdk Corp チタン酸バリウム系半導体磁器およびその製造方法
JP4510140B2 (ja) * 2003-01-23 2010-07-21 株式会社デンソー 圧電磁器組成物,圧電素子及び誘電素子
JP4803956B2 (ja) * 2003-09-25 2011-10-26 京セラ株式会社 圧電セラミックスおよびこれを用いた積層型圧電素子並びに噴射装置
JP4945801B2 (ja) 2005-03-24 2012-06-06 株式会社村田製作所 圧電素子、及び圧電素子の製造方法
KR100904618B1 (ko) 2005-04-28 2009-06-25 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 압전체 자기 조성물, 및 이 압전체 자기 조성물의제조방법, 및 압전 세라믹 전자부품
JP2008156172A (ja) 2006-12-25 2008-07-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 無鉛圧電磁器組成物
TW201245098A (en) 2007-09-28 2012-11-16 Tdk Corp Dielectric ceramic composition and electronic device
JP5716263B2 (ja) * 2008-06-30 2015-05-13 日立金属株式会社 セラミックス焼結体および圧電素子
JP5217997B2 (ja) * 2008-10-20 2013-06-19 Tdk株式会社 圧電磁器、振動子及び超音波モータ
KR20120059037A (ko) * 2010-11-30 2012-06-08 한국전자통신연구원 혼성 에너지 변환 장치 및 이를 포함하는 휴대용 기기
JP6021351B2 (ja) 2011-02-28 2016-11-09 キヤノン株式会社 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータ、塵埃除去装置およびデバイス
JP5865608B2 (ja) * 2011-05-31 2016-02-17 キヤノン株式会社 配向性圧電セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置
KR101602427B1 (ko) * 2011-07-05 2016-03-10 캐논 가부시끼가이샤 압전 엘리먼트, 적층 압전 엘리먼트, 액체 토출 헤드, 액체 토출 장치, 초음파 모터, 광학 장치 및 전자 장치
JP5562382B2 (ja) * 2012-07-10 2014-07-30 京セラ株式会社 積層型圧電素子、これを備えた噴射装置及び燃料噴射システム

Also Published As

Publication number Publication date
US9379310B2 (en) 2016-06-28
CN104969373A (zh) 2015-10-07
WO2014119704A1 (en) 2014-08-07
EP2946418B1 (en) 2019-09-11
US9595658B2 (en) 2017-03-14
US20160284976A1 (en) 2016-09-29
JP2014168056A (ja) 2014-09-11
US20150364671A1 (en) 2015-12-17
TW201442983A (zh) 2014-11-16
EP2946418A1 (en) 2015-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6537581B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6341674B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器
JP6344922B2 (ja) 圧電材料、圧電素子および電子機器
JP6108934B2 (ja) 圧電セラミックス、圧電素子、超音波モータおよび塵埃除去装置
JP6757139B2 (ja) 圧電セラミックス、圧電素子、それらを用いた装置および機器、ならびに圧電セラミックスの製造方法
JP6381294B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6366284B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6362458B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6180234B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6362087B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6249717B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6380888B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、積層圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、および電子機器
JP2013227199A (ja) 圧電セラミックス、圧電セラミックスの製造方法、圧電素子および電子機器
JP5911618B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6366283B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6562713B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、圧電素子の製造方法、および電子機器
JP6312424B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6271949B2 (ja) 圧電材料、圧電素子および電子機器
JP2016138038A (ja) 圧電セラミックス、圧電セラミックスの製造方法、圧電素子、および圧電装置
JP2016006859A (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP2016006858A (ja) 圧電材料、圧電素子、圧電素子の製造方法、および電子機器
JP6310212B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP2019054101A (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6265656B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器
JP6324088B2 (ja) 圧電材料、圧電素子、および電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170123

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170123

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171031

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180417

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180515

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6341674

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151