JP7166866B2 - 配向性圧電体膜およびその製造方法、圧電体素子、並びに、液体吐出ヘッド - Google Patents
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Description
誘電体薄膜の用途として、インクジェット記録ヘッドなどのアクチュエータとして好適に用いることができることが分かっているが、このためには、大きな圧電定数が求められる。一般的に、膜の配向性が高いと、大きな圧電定数を示す傾向にあるため、このような用途に用いるには、塗布、仮焼成、焼成による成膜プロセスを経て形成される膜の配向性が高いことが求められる。
(1-x)NaNbO3-xBaTiO3 (0.01≦x≦0.40) (1)
で表されるペロブスカイト型結晶によって構成される配向性圧電体膜であり、前記配向性圧電体膜が擬立方晶表記で(111)配向しており、後方散乱電子回折(EBSD)法にて測定された(111)配向の存在割合が、膜表面で80%以上であり、かつ膜の法線方向の逆極点図において、(111)配向の角度ばらつきが5度以内である、配向性圧電体膜が提供される。
<配向性圧電体膜>
上記の塗工液組成物を用いて塗膜を形成する際には、塗布を行う雰囲気を乾燥空気もしくは乾燥窒素等の不活性気体雰囲気とすることが好ましい。乾燥雰囲気の相対湿度は30%以下にすることが好ましい。
さらに、塗膜を形成する塗工液組成物塗布法としては、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ならびにこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、塗布溶液の濃度を変えることにより制御することができる。
本発明に係る配向性圧電体膜を形成する基板はその用途等によっても異なるが、例えば、下部電極が形成されたシリコン基板やサファイア基板等の耐熱性基板が用いられる。基板上に形成する下部電極としては、PtやIr、Ru等の導電性を有し、本発明に係る配向性圧電体膜と反応しない材料が用いられる。また、基板上に密着層や絶縁体膜等を介して下部電極を形成した基板等を使用することができる。具体的には、Pt/Ti/SiO2/Si、Pt/TiO2/SiO2/Si、Pt/IrO/Ir/SiO2/Si、Pt/TiN/SiO2/Si、Pt/Ta/SiO2/Si、Pt/Ir/SiO2/Siの積層構造(下部電極/密着層/絶縁体膜/基板)を有する基板等が挙げられる。
基板上に塗膜を形成した後は、この塗膜を乾燥後、仮焼成し、更に焼成する一連の成膜プロセスにより結晶化した膜が得られる。特に、本発明では、塗工液調製において、金属アルコキシドの加水分解・縮重合反応を制御する安定化剤の配位状態を制御し、かつ(111)面に配向したPt電極等の下地とエピタキシャル成長するような成膜プロセスにより、(111)配向性の高い配向性NNBT膜を得ることができる。
(1-x)NaNbO3-xBaTiO3 (0.01≦x≦0.4) (1)
で表されるペロブスカイト型結晶によって構成される配向性圧電体膜であって、前記膜が擬立方晶表記で(111)配向していることを特徴とする。ニオブ酸ナトリウム-チタン酸バリウム系膜は、組成によって、菱面体晶、斜方晶、正方晶、立方晶のいずれか一つ、もしくは、これらの中の複数の晶系を同時にとる。しかし、簡便に表記するため、本明細書中では、特に断りのない限りは擬立方晶として扱う。
さらに、本発明に係る配向性圧電体膜は、後方散乱電子回折(EBSD)法にて測定された(111)配向の存在割合が、膜表面で80%以上であり、かつ膜の法線方向の逆極点図において、(111)配向の角度ばらつきが5度以内であることが好ましい。
また、本発明に係る配向性圧電体膜は、膜表面と膜初期層側で(111)配向の存在割合のばらつきが20%以内であり、かつ膜表面の平均結晶粒径が50~1000nm、膜の厚みが100~3000nmであることが好ましい。
膜厚3000nmまではクラックが無く成膜できるが、膜厚がこれよりも厚くなるとクラックが生じ、下部電極と導通してしまうようになる。一方、膜厚が100nm未満であると圧電性能が得られなくなってしまう。よって、膜の厚みが100~3000nmであることが好ましい。
また、本明細書中における粒径とは、柱状結晶粒、またはランダムな結晶粒に対し、それぞれの結晶粒を膜上方から投影した投影像を考えた場合、その投影像に外接する円の直径のことを指す。また、平均粒径は各々の結晶粒の粒径の平均値のことを指す。本明細書中に記す粒径、平均粒径についてはこれと同義である。
本発明に係る圧電体素子としては、一実施形態として、図5に示すような縦断面模式図が挙げられる。図5中の1は圧電体膜を支持する下地基板、2は中間層、3は下部電極、4は配向制御層、5は圧電体層をそれぞれ示している。
本発明においては、(1)前記基板に上記一般式(1)で表される金属酸化物の原料化合物を含む塗工液組成物を塗布する工程と、(2)100~200℃の温度で塗工液組成物を乾燥する工程と、(3)200℃を超え、700℃以下の温度で仮焼成して塗膜を形成する工程と、(4)前記仮焼成して形成した塗膜を、700℃を超える温度で焼成する工程を工程と、を含む。これにより、配向性圧電体膜を得ることができる。ここで、塗膜の膜厚が200nm未満となるまで、工程(1)~(3)を繰り返し、かつ、工程(3)において300℃以上、500℃未満の温度で仮焼成するのが好ましい。また、塗膜の膜厚が200~500nmとなるまで、工程(1)~(3)を繰り返し、かつ、工程(3)において500~700℃の温度で仮焼成するのが好ましい。そして、上記の工程(1)~(3)を繰り返す工程とすることで、(111)配向した配向性圧電体膜を得ることができる。
本発明に用いる塗工液組成物は、(i)~(iv)の各金属成分を含むゾル-ゲル原料(a)とβ-ケトエステル化合物(b)を含む。
(i)ニオブアルコキシド、前記ニオブアルコキシドの加水分解物および前記ニオブアルコキシドの加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも1種のニオブ成分。
(ii)ナトリウムアルコキシド、前記ナトリウムアルコキシドの加水分解物および前記ナトリウムアルコキシドの加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも1種のナトリウム成分。
(iii)チタンアルコキシド、前記チタンアルコキシドの加水分解物および前記チタンアルコキシドの加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも1種のチタン成分。
(iv)バリウムアルコキシド、前記バリウムアルコキシドの加水分解物および前記バリウムアルコキシドの加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも1種のバリウム成分。
ニオブアルコキシドの具体例として、ペンタメトキシニオブ、ペンタエトキシニオブ、ペンタ-i-プロポキシニオブ、ペンタ-n-プロポキシニオブ、ペンタ-i-ブトキシニオブ、ペンタ-n-ブトキシニオブ等が挙げられる。
ナトリウムアルコキシドとしては、メトキシナトリウム、エトキシナトリウム、i-プロポキシナトリウム、n-プロポキシナトリウム、i-ブトキシナトリウム、n-ブトキシナトリウム、sec-ブトキシナトリウム等が挙げられる。
チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ-n-プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ-n-ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン等が挙げられる。
バリウムアルコキシドとしては、ジメトキシバリウム、ジエトキシバリウム、ジ-i-プロポキシバリウム、ジ-n-プロポキシバリウム、ジ-i-ブトキシバリウム、ジ-n-ブトキシバリウム、ジ-sec-ブトキシバリウム等が挙げられる。
これらを防止するために安定化剤を添加し、溶液の安定化を図ることが好ましい。安定化剤としては、β-ケトエステル化合物類として、例えば、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸アリル、アセト酢酸ベンジル、アセト酢酸-iso-プロピル、アセト酢酸-tert-ブチル、アセト酢酸-iso-ブチル、アセト酢酸-2-メトキシエチルなどが挙げられる。また、β-ジケトン化合物類のひとつであるアセチルアセトンは溶液の安定性の観点からは有効であるが、得られる膜の配向性の観点からは好ましくない。安定化剤の添加量は、金属アルコキシドに対しモル比で0.1~3にすることが好ましく、より好ましくは0.5~2である。
このように上記の安定化剤を添加することで、塗工液組成物の安定性を高めることができる。
前記安定化剤であるβ-ケトエステル化合物は、金属アルコキシドの金属元素に配位結合していると考えられ、本発明の塗工液中には安定化剤が金属アルコキシドの金属に配位結合した状態である、ニオブあるいはナトリウムあるいはチタンあるいはバリウムの金属アルコキシド前駆体を含むことを特徴とする。
有機溶媒としては、アルコール、カルボン酸、脂肪族系または脂環族系の炭化水素類、芳香族系炭化水素類、エステル、ケトン類、エーテル類、その他塩素化炭化水素類、非プロトン性極性溶剤等、あるいはこれら2種以上の混合溶媒を用いる。
アルコールとしては、例えばメタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、1-プロポキシ-2-プロパノール、4-メチル-2-ペンタノール、2-エチルブタノール、3-メトキシ-3-メチルブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリンなどが好ましい。
カルボン酸としては、具体的には、n-酪酸、α-メチル酪酸、i-吉草酸、2-エチル酪酸、2,2-ジメチル酪酸、3,3-ジメチル酪酸、2,3-ジメチル酪酸、3-メチルペンタン酸、4-メチルペンタン酸、2-エチルペンタン酸、3-エチルペンタン酸、2,2-ジメチルペンタン酸、3,3-ジメチルペンタン酸、2,3-ジメチルペンタン酸、2-エチルヘキサン酸、3-エチルヘキサン酸を用いるのが好ましい。
脂肪族系または脂環族系の炭化水素類としては、具体的にはn-ヘキサン、n-オクタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、シクロオクタンなどが好ましい。
芳香族炭化水素類としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどが好ましい。
エステル類としては、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが好ましい。
ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが好ましい。
エーテル類としては、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテルなどが好ましい。
塩素化炭化水素類としては、クロロホルム、メチレンクロライド、四塩化炭素、テトラクロロエタンなどが好ましい。
非プロトン性極性溶剤としては、N-メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、エチレンカーボネート等が挙げられる。
本発明で使用される塗布溶液を調製するに当たり、溶液の安定性の点から上述した各種の溶剤類のうちアルコール類を使用することが好ましい。
塗工液組成物の調製方法としては、例えば上記有機溶剤に安定化剤を添加した溶液に、上記金属アルコキシドを混合した後、80~200℃の温度範囲において2~10時間加熱し反応させる、すなわち還流することが望ましい。
また、必要に応じて水溶性の有機高分子を添加することができる。該有機高分子としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。該有機高分子の添加量は、膜の酸化物に対して0.1~10質量%の範囲にすることが好ましい。
本発明の液体吐出ヘッドは、液体吐出口と、前記液体吐出口に連通する圧力室と、前記圧力室に前記液体吐出口から液体を吐出するための容積変化を生じさせるアクチュエータと、を有し、前記アクチュエータは、前記圧力室側から順に設けられた振動板と、下部電極と、基板上に形成されているNNBT膜からなる圧電体膜と、上部電極と、を有することを特徴とする。
なお、実施例の塗工膜の断面観察は、走査電子顕微鏡(商品名「Quanta FEG 250」、FEI社製)を用い、加速電圧を10kVとして行った。後方散乱電子回折(EBSD)評価は、TSL-EBSDシステム(TSLソリューションズ株式会社製)を用いて行った。
2-メトキシエタノールと3-メトキシメチルブタノールと2-エチルヘキサン酸の混合溶媒に、安定化剤であるアセト酢酸エチルを添加した溶液中に、ニオブエトキシド、ナトリウムエトキシド、バリウムジ-i-プロポキシド、チタニウムn-ブトキシドを溶解させた後、約8時間還流を行うことで塗工液組成物を調製した。溶液のモル比は、2-メトキシエタノール:3-メトキシメチルブタノール:2-エチルヘキサン酸:アセト酢酸エチル:ニオブエトキシド:ナトリウムエトキシド:バリウムジ-i-プロポキシド:チタニウムn-ブトキシド=12:8:3:1:0.95:0.95:0.05:0.05とした。
実施例1により得られた(111)配向膜上にさらに、同様の工程を繰り返すことで厚膜化した。ここでは、仮焼成温度を600℃として工程(1)~(3)の繰り返しにより形成される膜厚を350nmとし、1000℃で10分間焼成し、これらの一連の工程を3回繰り返すこととで、1μm以上に厚膜化した。図2(a)がSEMの断面斜め観察結果であり、図2(b)が逆極点図である。図2(a)から膜厚1050nmの膜が得られていることが、わかった。図2(b)から、高い(111)配向度を有する膜が得られていることがわかり、その配向度は95%であった。さらに、配向カラーマップの観察結果より、高い(111)配向度を有する膜が得られていることがわかった。以上より、配向したNNBT膜の(111)面上に、さらに、同様の工程により成膜した場合においても、下地となるNNBT膜の(111)面に沿ってエピタキシャル成長し配向性は維持されるため、結果として、工程(1)~(3)を繰り返すことで、所望の膜厚を有する(111)配向圧電体膜が得られた。ここでは一条件のみを示したが、表1で示した配向度の高くなる条件であれば、その工程を繰り返すことで配向度を保ったまま厚膜化することが可能である。
塗工液組成物の調製方法は実施例1と同様とし、ニオブ酸ナトリウム成分(NN)とチタン酸バリウム成分(BT)の組成比を、表2に示すようにモル比で0.99:0.01~0:1.0の範囲で変えた塗工液組成物を調製した。調製した塗工液組成物を用いて、実施例1と同様に仮焼成温度を600℃とし、焼成を1000℃で1回行い膜厚が70nmの圧電体膜を作製した。得られた圧電体膜についてEBSD評価を行い、表2に配向度を評価した結果を示す。BT組成が40mol%までは配向度80%以上であるが、BT組成が高くなると配向度は低下することがわかった。以上より、ニオブ酸ナトリウム成分とチタン酸バリウム成分の組成比はモル比で、0.99:0.01~0.60:0.40であれば、80%以上の配向度が得られる。また、ニオブ酸ナトリウムのニオブとナトリウムの比が1:0.8~1:1.2であっても配向度は維持したまま膜を形成可能である。
安定化剤にアセチルアセトンを用いた以外は、実施例1と同様に塗工液組成物の調製を行った。調製した塗工液組成物を用いて、実施例1と同様に(111)配向したPt/SiO2/Si基板上にスピンコートし、150℃で乾燥後、600℃で仮焼成し、1000℃で焼成を1回行い膜厚が70nmの膜を作製した。得られた膜について、EBSD評価を行い、図3に逆局点図の結果を示す。ランダム配向となっており、安定化剤にアセチルアセトンを用いた場合は配向膜が得られなかった。
実施例1と同様の塗工液組成物を用いて、SiO2/Si基板上にスピンコートし、150℃で乾燥後、600℃で仮焼成し、1000℃で焼成を1回行い膜厚が70nmの膜を作製した。得られた膜について、EBSD評価を行い、図4に逆局点図の結果を示す。ランダム配向となっており、下地に(111)配向したPtを設けない場合は配向膜が得られなかった。
2 中間層
3 下部電極
4 配向制御層
5 圧電体薄膜層
21 液体吐出ヘッド用基板
21A 開口部
22 インク吐出口
23 圧力室
24 ノズルプレート
25 アクチュエータ
26 振動板
27 圧電層
28 下部電極
29 上部電極
30 圧電体素子
M 液体吐出ヘッド
Claims (8)
- 下記一般式(1)
(1-x)NaNbO3-xBaTiO3 (0.01≦x≦0.40) (1)
で表されるペロブスカイト型結晶によって構成される配向性圧電体膜であり、
前記配向性圧電体膜が擬立方晶表記で(111)配向しており、
後方散乱電子回折(EBSD)法にて測定された(111)配向の存在割合が、膜表面で80%以上であり、かつ膜の法線方向の逆極点図において、(111)配向の角度ばらつきが5度以内である、配向性圧電体膜。 - 下部電極、請求項1に記載の配向性圧電体膜、および上部電極の順で積層されている、圧電体素子。
- 前記下部電極が(111)配向したPt電極である、請求項2に記載の圧電体素子。
- (1)基板上に下記一般式(1)、
(1-x)NaNbO3-xBaTiO3 (0.01≦x≦0.40) (1)
で表される金属酸化物の原料化合物を含む塗工液組成物であって、アセチルアセトンを含まない前記塗工液組成物を塗布する工程と、
(2)100~200℃の温度で塗工液組成物を乾燥する工程と、
(3)200℃を超え、700℃以下の温度で仮焼成して塗膜を形成する工程と、
(4)前記仮焼成して形成した塗膜を、700℃を超える温度で焼成する工程と、
を含む、ペロブスカイト型結晶によって構成される配向性圧電体膜の製造方法であって、
前記配向性圧電体膜が擬立方晶表記で(111)配向しており、
後方散乱電子回折(EBSD)法にて測定された(111)配向の存在割合が、膜表面で80%以上であり、かつ膜の法線方向の逆極点図において、(111)配向の角度ばらつきが5度以内である、配向性圧電体膜の製造方法。 - 前記塗膜の膜厚が200nm未満となるまで、前記工程(1)~(3)を繰り返し、かつ、工程(3)において300℃以上、500℃未満の温度で仮焼成する、請求項4に記載の製造方法。
- 前記塗膜の膜厚が200~500nmとなるまで、前記工程(1)~(3)を繰り返し、かつ、工程(3)において500~700℃の温度で仮焼成する、請求項4に記載の製造方法。
- 前記塗工液組成物が、
(a)(i)ニオブアルコキシド、前記ニオブアルコキシドの加水分解物および前記ニオブアルコキシドの加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも1種のニオブ成分と、
(ii)ナトリウムアルコキシド、前記ナトリウムアルコキシドの加水分解物および前記ナトリウムアルコキシドの加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも1種のナトリウム成分と、
(iii)チタンアルコキシド、前記チタンアルコキシドの加水分解物および前記チタンアルコキシドの加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも1種のチタン成分と、
(iv)バリウムアルコキシド、前記バリウムアルコキシドの加水分解物および前記バリウムアルコキシドの加水分解物の縮合物からなる群より選択される少なくとも1種のバリウム成分と、
を含むゾル-ゲル原料、および
(b)β-ケトエステル化合物
を含むことを特徴とする、請求項4~6のいずれか一項に記載の製造方法。 - 液体吐出口と、前記液体吐出口に連通する圧力室と、前記圧力室に前記液体吐出口から液体を吐出するための容積変化を生じさせる、アクチュエータと、を有し、
前記アクチュエータは、前記圧力室側から順に設けられた振動板と、請求項1に記載の配向性圧電体膜と、上部電極と、を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。
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