JP6336873B2 - 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板の製造方法、及び画像表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。

陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、ハードコート性を有する光学フィルムを設けることが好適である。特に、近年の画像表示装置の高品位化、大サイズ化、薄層化、長寿命化等に対応し、適用される光学フィルムに対してもハードコート性に加えてその他の性能も良好であることが要求されている。このような光学フィルムは、基材上にハードコート層を有する構成が一般的であり、基材としてはセルロースアシレートフィルムが広く用いられている。

光学フィルムの基材となるセルロースアシレートフィルムには、種々の特性を満たすように、可塑剤を添加することがある。
特許文献１及び２には、可塑剤として、糖エステル化合物、重縮合エステル化合物を用いた光学フィルムが記載されている。

また、セルロースアシレートフィルム基材上にハードコート層を形成する場合に、ハードコート層形成用組成物にセルロースアシレートを溶解する溶剤を用いると、この溶剤がセルロースアシレートフィルムに染込み、ハードコート層形成用組成物中のモノマーも染込むことで、セルロースアシレートフィルム基材とハードコート層との密着性が向上したり、セルロースアシレートフィルム基材とハードコート層間の屈折率界面をなくすことで干渉ムラが抑制されたりすることが知られている（例えば特許文献３）。

特開２０１３−１０１３３１号公報 特開２０１４−１２１７９０号公報 特開２０１２−７８５４１号公報

しかしながら、糖エステル化合物や重縮合エステル化合物を含有するセルロースアシレートフィルム基材上にハードコート層を設ける場合、ハードコート層形成用組成物中にセルロースアシレートを溶解する溶剤のみを用いた場合、セルロースアシレートフィルム基材から糖エステル化合物や重縮合エステル化合物がこの溶剤で抽出され難いため、セルロースアシレートフィルム基材とハードコート層間に屈折率界面が生じ、干渉ムラが発生するという問題があることが分かった。
この問題を解決するために、セルロースアシレートを溶解する溶剤に加えて、糖エステル化合物や重縮合エステル化合物をよく抽出する溶剤であるメタノールを用いると、干渉ムラの問題が改善することが分かった。
しかしながら、メタノールを含む表面張力が低い溶剤を多量に用いると、乾燥時に乾燥ムラが生じた際に、乾燥が進んだ部分とそうでない部分の表面張力差が大きくなり、ハードコート層表面に風ムラやスジが発生するという新たな問題が発生した。

本発明の目的は、干渉ムラの発生が抑制され、かつハードコート層表面の風ムラ及びスジの発生が抑制された光学フィルムの製造方法を提供することにある。また、この製造方法により作製された光学フィルム、光学フィルムを含む偏光板、及び画像表示装置を提供することにある。

本発明者らが鋭意検討した結果、ハードコート層形成用組成物に、特定量のメタノールを含有させることにより、干渉ムラの発生を抑制し、更に、特定の表面張力の溶剤を特定量含有させることにより、風ムラ及びスジの発生を抑制することができることを見出した。
すなわち、本発明が解決しようとする課題は、下記の構成により解決することができる。
＜１＞
下記一般式（１）で表される構造を有する糖エステル化合物を含むセルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有し、かつ以下の（１）〜（３）の条件を満たすハードコート層形成用組成物を塗布して、ハードコート層を形成する光学フィルムの製造方法。
（ＨＯ）_ｍ−Ｇ−（Ｌ−Ｒ_１）_ｎ 一般式（１）
一般式（１）中、Ｇは単糖残基または二糖残基を表す。Ｒ_１はそれぞれ独立に脂肪族基または芳香族基を表す。Ｌはそれぞれ独立に２価の連結基を表す。ｍは０以上の整数、ｎは１以上の自然数である。
（ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
（ｂ）メタノール
（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
（１）：（ｂ）メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％である。
（２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％である。
（３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量で１０質量％〜３０質量％含有する。
＜２＞
芳香環を有する少なくとも１種のジカルボン酸と、平均炭素数が２．５〜８．０である少なくとも１種の脂肪族ジオールと、から得られる重縮合エステル化合物を含むセルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有し、かつ以下の（１）〜（３）の条件を満たすハードコート層形成用組成物を塗布して、ハードコート層を形成する光学フィルムの製造方法。
（ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
（ｂ）メタノール
（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
（１）：（ｂ）メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％である。
（２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％である。
（３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量で１０質量％〜３０質量％含有する。
＜３＞
以下の（４）の条件を満たす、＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルムの製造方法。
（４）：（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤の含有量は、ハードコート層形成用塗布組成物の全固形分中、０．０１〜０．５質量％である。
＜４＞
以下の（５）の条件を満たす、＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルムの製造方法。
（５）：（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤の含有量は、ハードコート層形成用塗布組成物の全固形分中、０．０１〜０．０４質量％である。
＜５＞
上記ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、上記メタノールの含有量が１０質量％〜２５質量％である＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜６＞
上記ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤が総量で１０質量％〜２５質量％含有する＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜７＞
上記ハードコート層形成用組成物は、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ以上であり、セルロースアシレートを溶解しない溶剤を含有する、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜８＞
上記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤が、下記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（１）である、＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。

一般式（２）中、Ｒ_０は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。
＜９＞
上記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤が、下記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（２）である＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。

一般式（３）中、Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ_２は２価の連結基を表し、ｎは１以上６以下の整数を表す。
＜１０＞
上記ハードコート層の上に更に低屈折率層を形成する工程を有する、＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜１１＞
上記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤として、＜８＞に記載の光学フィルムの製造方法における上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）及び＜９＞に記載の光学フィルムの製造方法における
上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（２）を含有する、＜１０＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜１２＞
糖エステル化合物及び重縮合エステル化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むセルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有し、かつ以下の（１）〜（３）、及び（６）の条件を満たすハードコート層形成用組成物を塗布して、ハードコート層を形成する工程と、上記ハードコート層の上に更に低屈折率層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法。
（ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
（ｂ）メタノール
（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
（１）：（ｂ）メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％である。
（２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％である。
（３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量で１０質量％〜３０質量％含有する。
（６）：（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤として、
下記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（１）と、
下記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（２）を含有する。

一般式（２）中、Ｒ_０は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。

一般式（３）中、Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ_２は２価の連結基を表し、ｎは１以上６以下の整数を表す。
＜１３＞
上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）の全固形分中に含まれる割合が０．０１〜０．２質量％であり、上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（２）の全固形分中に含まれる割合が０．００１〜０．０１質量％である、＜１２＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜１４＞
＜１＞〜＜１３＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により作製された光学フィルムを含む偏光板の製造方法。
＜１５＞
＜１＞〜＜１３＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により作製された光学フィルム及び＜１４＞に記載の偏光板の製造方法により作製された偏光板の少なくともいずれか１種を含む画像表示装置の製造方法。
本発明は上記＜１＞〜＜１５＞に関するものであるが、参考のためその他の事項（下記［１］〜［１４］など）についても記載した。

［１］
糖エステル化合物及び重縮合エステル化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むセルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有し、かつ以下の（１）〜（３）の条件を満たすハードコート層形成用組成物を塗布して、ハードコート層を形成する光学フィルムの製造方法。
（ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
（ｂ）メタノール
（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
（１）：（ｂ）メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％である。
（２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％である。
（３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量で１０質量％〜３０質量％含有する。
［２］
上記ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、上記メタノールの含有量が１０質量％〜２５質量％である［１］に記載の光学フィルムの製造方法。
［３］
上記ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤が総量で１０質量％〜２５質量％含有する［１］又は［２］に記載の光学フィルムの製造方法。
［４］
上記糖エステル化合物が下記一般式（１）で表される構造を有する［１］〜［３］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
（ＨＯ）_ｍ−Ｇ−（Ｌ−Ｒ_１）_ｎ 一般式（１）
一般式（１）中、Ｇは単糖残基または二糖残基を表す。Ｒ_１はそれぞれ独立に脂肪族基または芳香族基を表す。Ｌはそれぞれ独立に２価の連結基を表す。ｍは０以上の整数、ｎは１以上の自然数である。
［５］
上記重縮合エステル化合物が、芳香環を有する少なくとも１種のジカルボン酸と、平均炭素数が２．５〜８．０である少なくとも１種の脂肪族ジオールと、から得られる化合物である［１］〜［４］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
［６］
上記ハードコート層形成用組成物は、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ以上であり、セルロースアシレートを溶解しない溶剤を含有する、［１］〜［５］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
［７］
上記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤が、下記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（１）である、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。

一般式（２）中、Ｒ_０は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。
［８］
上記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤が、下記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（２）である［１］〜［６］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。

一般式（３）中、Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ_２は２価の連結基を表し、ｎは１以上６以下の整数を表す。
［９］
上記ハードコート層の上に更に低屈折率層を形成する工程を有する、［１］〜［８］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
［１０］
上記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤として、［７の上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）及び［８の上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（２）を含有する、［９］に記載の光学フィルムの製造方法。
［１１］
上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）の全固形分中に含まれる割合が０．０１〜０．２質量％であり、上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（２）の全固形分中に含まれる割合が０．００１〜０．０１質量％である、［１０］に記載の光学フィルムの製造方法。
［１２］
［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により作製された光学フィルム。
［１３］
［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により作製された光学フィルムを含む偏光板。
［１４］
［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により作製された光学フィルム及び［１３］に記載の偏光板の少なくともいずれか１種を含む画像表示装置。

本発明によれば、干渉ムラの発生が抑制されると共に、ハードコート層表面の風ムラ、スジの発生を防止することができ、良好な耐擦傷性及び鉛筆硬度を有する光学フィルムの製造方法、この製造方法により作製された光学フィルム、光学フィルムを含む偏光板、およびこれを使用した画像表示装置を提供することができる。

以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、特に限定しない場合には、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。

＜光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムの製造方法は、糖エステル化合物及び重縮合エステル化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むセルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有し、かつ以下の（１）〜（３）の条件を満たすハードコート層形成用組成物を塗布して、ハードコート層を形成する光学フィルムの製造方法である。
（ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
（ｂ）メタノール
（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
（１）：（ｂ）メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％である。
（２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％である。
（３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量で１０質量％〜３０質量％含有する。

［セルロースアシレートフィルム］
本発明の製造方法に用いられるセルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレートを含んでなる。セルロースアシレートについては、特に限定されない。アシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。

本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートについて簡単に記載する。セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離のヒドロキシル基を有している。セルロースアシレートは、これらのヒドロキシル基の一部又は全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位に位置するセルロースのヒドロキシル基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
全アシル置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は１．５〜３．０であることが、好ましく、２．０〜３．０であることがより好ましく、２．５〜３．０であることが更にまた好ましく、２．７〜３．０であることが更に好ましく、２．７０〜２．９８であることが特に好ましい。また、製膜性の観点からは場合により、２．８０〜２．９５であることが好ましく、２．８５〜２．９０であることが特にまた好ましい。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位のヒドロキシル基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位のヒドロキシル基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位のヒドロキシル基のアシル基による置換度である（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は全アシル置換度に対する６位のアシル置換度の割合であり、以下「６位のアシル置換率」とも言う。

これらセルロースに関しては、国際公開第２０１１／１０２４９２号の段落番号００３４から００３９の記載を参考にすることができる。

＜添加剤＞
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムは、糖エステル化合物及び重縮合エステル化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含む。これらの化合物は可塑剤として用いられるのが好ましい。また、本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムは、その他の添加剤を含有してもよい。添加剤を含有すること湿度寸法変化率の制御に加えて、フィルムの熱的性質、光学的性質、機械的性質の改善、柔軟性付与、耐吸水性付与、水分透過率低減等のフィルム改質の観点で、有用な効果を示す。なお、添加剤とは、セルロースアシレート以外の成分すべてを指し、例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子などが挙げられる。

＜糖エステル化合物＞
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムに、可塑剤として糖エステル化合物が添加されていると、フィルムの機械的な性質を制御することができるという利点がある。
糖エステル化合物はセルロースエステルとの相溶性が良いため製膜時及び加熱延伸時のブリードアウトが生じにくく、かつ嵩高い構造を有するためにフィルムの硬度を改良することが可能となる。
糖エステル化合物としては、好ましくは、ピラノース環又はフラノース環にアシル基を導入した糖エステル化合物である。糖エステル化合物については、特開２０１２−１８１５１６号公報の［００６８］〜［００９２］の（糖エステル化合物）の記載を参照することができる。
糖エステル化合物は、下記一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（１）
（ＨＯ）_ｍ−Ｇ−（Ｌ−Ｒ_１）_ｎ
式（１）中、Ｇは単糖残基または二糖残基を表す。Ｒ_１はそれぞれ独立に脂肪族基又は芳香族基を表す。Ｌはそれぞれ独立に２価の連結基を表す。ｍは０以上の整数、ｎは１以上の自然数である。
糖エステル化合物とは、この化合物を構成する糖骨格構造中の置換可能な基（例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基）の少なくとも１つと、少なくとも１種の置換基とがエステル結合されている化合物のことを言う。すなわち、ここで言う糖エステル化合物には広義の糖誘導体類も含まれ、例えばグルコン酸のような糖残基を構造として含む化合物も含まれる。すなわち、糖エステル化合物には、グルコースとカルボン酸のエステル体も、グルコン酸とアルコールのエステル体も含まれる。

本発明に用いることができる一般式（１）で表される糖エステル化合物は、フラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物であることが好ましい。フラノース構造もしくはピラノース構造を糖骨格として有する場合、一般式（１）中、ｍ＋ｎ≧４である。
また、フラノース構造もしくはピラノース構造を糖骨格として有する場合、ｍ＋ｎはそれぞれＧが残基ではなく同じ骨格の環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しいという条件も満たすことができる。
なお、ｍ＋ｎの上限値は、Ｇの種類によって定まる値を採用することができ、Ｇが単糖残基であれば５、二糖残基であれば８となる。

一般式（１）で表される糖エステル化合物の例としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストースが挙げられる。このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられが、これらに限定されるものではない。特にフラノース構造とピラノース構造の双方を有する化合物が好ましい。例としては、スクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フクラトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。
上記化合物中のヒドロキシル基の全てもしくは一部をエステル化するのに用いられる置換基としては、特に制限はない。その中でも、モノカルボン酸を用いることが好ましい。一般式（１）中のＲ₁が、それぞれ独立にアシル基を表すことが好ましい。
モノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種類以上の混合であってもよい。Ｒ₁が複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

一方、一般式（１）中のＬが、それぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ₁₁−（Ｒ₁₁は１価の置換基を表す）のいずれか一つを表すことが好ましい。

以下に、本発明に用いることができる一般式（１）で表される糖エステル化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。

以下の構造式中、Ｒはそれぞれ独立に任意の置換基を表し、複数のＲは同一であっても、異なっていてもよい。以下の表１〜４において、置換基１、２はそれぞれ任意のＲを表す。また、置換度は、Ｒが置換基で表される数を表す。「なし」はＲが水素原子であることを表す。

本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムに糖エステル化合物を添加する場合、糖エステル化合物の含有量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．１質量部以上２０質量部以下であることが好ましく、０．１質量部以上１５質量部以下であることがより好ましい。

＜重縮合エステル化合物＞
重縮合エステル系化合物は、芳香環を有する少なくとも１種のジカルボン酸（芳香族ジカルボン酸とも呼ぶ）と、平均炭素数が２．５〜８．０である少なくとも１種の脂肪族ジオールと、から得られる化合物から得られることが好ましい。また、芳香族ジカルボン酸と少なくとも一種の脂肪族ジカルボン酸との混合物と、平均炭素数が２．５〜８．０の少なくとも一種の脂肪族ジオールと、から得られることも好ましい。

ジカルボン酸残基の平均炭素数の計算は、ジカルボン酸残基とジオール残基で個別に行う。
ジカルボン酸残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値を平均炭素数とする。例えば、アジピン酸残基とフタル酸残基が５０モル％ずつから構成される場合は、平均炭素数７．０となる。
また、ジオール残基の場合も同様で、ジオール残基の平均炭素数は、ジオール残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値とする。例えばエチレングリコール残基５０モル％と１，２−プロパンジオール残基５０モル％から構成される場合は平均炭素数２．５となる。

重縮合エステルの数平均分子量は５００〜２０００であることが好ましく、６００〜１５００がより好ましく、７００〜１２００がさらに好ましい。重縮合エステルの数平均分子量は５００以上であれば揮発性が低くなり、セルロースアシレートフィルムの延伸時の高温条件下における揮散によるフィルム故障や工程汚染を生じにくくなる。また、２０００以下であればセルロースアシレートとの相溶性が高くなり、製膜時及び加熱延伸時のブリードアウトが生じにくくなる。
重縮合エステルの数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定、評価することができる。また、末端が封止のないポリエステルポリオールの場合、重量あたりのヒドロキシル基の量（以下、水酸基価とも言う）により算出することもできる。本明細書中において、水酸基価は、ポリエステルポリオールをアセチル化した後、過剰の酢酸の中和に必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）を測定する。

芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸との混合物をジカルボン酸成分として用いる場合は、ジカルボン酸成分の炭素数の平均が５．５〜１０．０のジカルボン酸であることが好ましく、より好ましくは５．６〜８である。
炭素数の平均が５．５以上であれば耐久性に優れた偏光板を得ることができる。炭素数の平均が１０以下であればセルロースアシレートへの相溶性が優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜過程でブリードアウトの発生を抑制することができる。

ジオールと、芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、芳香族ジカルボン酸残基が含まれる。
本明細書中では、残基とは、重縮合エステルの部分構造で、重縮合エステルを形成している単量体の特徴を有する部分構造を表す。例えばジカルボン酸ＨＯＯＣ−Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるジカルボン酸残基は−ＯＣ−Ｒ−ＣＯ−である。
上記重縮合エステルの芳香族ジカルボン酸残基比率は４０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、４０ｍｏｌ％〜９５ｍｏｌ％であることがより好ましい。
芳香族ジカルボン酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースアシレートフィルムが得られ、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。また、９５ｍｏｌ％以下であればセルロースアシレートとの相溶性に優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくくすることができる。

重縮合エステル系化合物の形成に用いることができる芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸又は２，６−ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができる。その中でもフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましく、フタル酸、テレフタル酸がより好ましく、テレフタル酸がさらに好ましい。
重縮合エステルには、混合に用いた芳香族ジカルボン酸に由来する芳香族ジカルボン酸残基が形成される。
すなわち、上記芳香族ジカルボン酸残基は、フタル酸残基、テレフタル酸残基、イソフタル酸残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、より好ましくはフタル酸残基、テレフタル酸残基の少なくとも１種を含み、さらに好ましくはテレフタル酸残基を含む。
重縮合エステルの形成における混合に、芳香族ジカルボン酸としてテレフタル酸を用いることで、よりセルロースアシレートとの相溶性に優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくいセルロースアシレートフィルムとすることができる。また、上記芳香族ジカルボン酸は１種でも、２種以上を用いてもよい。２種用いる場合は、フタル酸とテレフタル酸を用いることが好ましい。
フタル酸とテレフタル酸の２種の芳香族ジカルボン酸を併用することにより、常温での重縮合エステルを軟化することができ、ハンドリングが容易になる点で好ましい。
重縮合エステルのジカルボン酸残基中における、テレフタル酸残基の含有量は４０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％であることが好ましい。
テレフタル酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースアシレートフィルムが得られる。

ジオールと、脂肪族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、脂肪族ジカルボン酸残基が含まれる。
上記重縮合エステル系化合物を形成することができる脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸又は１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。
重縮合エステルには、混合に用いた脂肪族ジカルボン酸に由来する脂肪族ジカルボン酸残基が形成される。
脂肪族ジカルボン酸残基は、平均炭素数が５．５〜１０．０であることが好ましく、５．５〜８．０であることがより好ましく、５．５〜７．０であることがさらに好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が１０．０以下であれば化合物の加熱減量が低減でき、セルロースアシレートウェブ乾燥時のブリードアウトによる工程汚染が原因と考えられる面状故障の発生を防ぐことができる。また、脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が５．５以上であれば相溶性に優れ、重縮合エステルの析出が起き難く好ましい。
上記脂肪族ジカルボン酸残基は、具体的には、コハク酸残基を含むことが好ましく、２種用いる場合は、コハク酸残基とアジピン酸残基を含むことが好ましい。
すなわち、重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いても、２種以上を用いてもよく、２種用いる場合は、コハク酸とアジピン酸を用いることが好ましい。重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いる場合は、コハク酸を用いることが好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数を所望の値に調整することができ、セルロースアシレートとの相溶性の点で好ましい。

重縮合エステルの形成における混合には、ジカルボン酸を２種又は３種を用いることが好ましい。２種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸とを１種ずつ用いることが好ましく、３種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸を１種と芳香族ジカルボン酸を２種又は脂肪族ジカルボン酸を２種と芳香族ジカルボン酸を１種用いることができる。ジカルボン酸残基の平均炭素数の値を調整しやすく、かつ芳香族ジカルボン酸残基の含有量を好ましい範囲とすることができ、偏光子の耐久性を向上し得るためである。

ジオールとジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、ジオール残基が含まれる。
本明細書中では、ジオールＨＯ−Ｒ−ＯＨより形成されるジオール残基は−Ｏ−Ｒ−Ｏ−である。
重縮合エステルを形成するジオールとしては、芳香族ジオール及び脂肪族ジオールが挙げられ、上記可塑剤に用いられる重縮合エステルは少なくとも脂肪族ジオールから形成されることが好ましい。
上記重縮合エステルは、平均炭素数が２．５〜７．０の脂肪族ジオール残基を含むことが好ましく、より好ましくは平均炭素数が２．５〜４．０の脂肪族ジオール残基を含む。上記脂肪族ジオール残基の平均炭素数が７．０より小さいとセルロースアシレートとの相溶性が改善され、ブリードアウトが生じにくくなり、また、化合物の加熱減量が増大しにくくなり、セルロースアシレートウェブ乾燥時の工程汚染が原因と考えられる面状故障が発生し難くなる。また、脂肪族ジオール残基の平均炭素数が２．５以上であれば合成が容易である。
上記重縮合エステル系化合物を形成することができる脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール又は脂環式ジオール類を好ましい例として挙げることができ、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等が好ましい。これらはエチレングリコールとともに１種又は２種以上の混合物として使用されることが好ましい。

より好ましい上記脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、及び１，３−プロパンジオールの少なくとも１種であり、特に好ましくはエチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールの少なくとも１種である。上記脂肪族ジオールを２種用いて上記重縮合エステルを形成する場合は、エチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールを用いることが好ましい。１，２−プロパンジオール、又は１，３−プロパンジオールを用いることにより重縮合エステルの結晶化を防止することができる。
上記重縮合エステルには、混合に用いたジオールによりジオール残基が形成される。
すなわち、上記重縮合エステルは、ジオール残基としてエチレングリコール残基、１，２−プロパンジオール残基、及び１，３−プロパンジオール残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、エチレングリコール残基又は１，２−プロパンジオール残基であることがより好ましい。
上記重縮合エステルに含まれる脂肪族ジオール残基には、エチレングリコール残基が１０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることが好ましく、２０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることがより好ましい。

上記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオールあるいはカルボン酸のままとしてもよく、さらにモノカルボン酸類又はモノアルコール類を反応させていわゆる末端の封止を実施してもよい。
封止に用いるモノカルボン酸類としては酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸等が好ましい。封止に用いるモノアルコール類としてはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等が好ましく、メタノールが最も好ましい。重縮合エステルの末端に使用するモノカルボン酸類の炭素数が７以下であると、化合物の加熱減量が大きくならず、面状故障が発生しない。
上記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオール残基のままであることか、酢酸またはプロピオン酸又は安息香酸によって封止されていることがさらに好ましい。
上記重縮合エステルの両末端は、それぞれ、封止の実施の有無が同一であることを問わない。
縮合体の両末端が未封止の場合、重縮合エステルはポリエステルポリオールであることが好ましい。
上記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５〜８．０であり、重縮合エステルの両末端は未封止である重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端が封止されている場合、モノカルボン酸と反応させて封止することが好ましい。このとき、上記重縮合エステルの両末端はモノカルボン酸残基となっている。本明細書中では、モノカルボン酸Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるモノカルボン酸残基はＲ−ＣＯ−である。重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸で封止されている場合、上記モノカルボン酸は脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、モノカルボン酸残基が炭素数２２以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがより好ましく、炭素数３以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがさらに好ましい。また、炭素数２以上の脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
上記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５より大きく７．０以下であり、重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸残基で封止されている重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端を封止しているモノカルボン酸残基の炭素数が３以下であると、揮発性が低下し、重縮合エステルの加熱による減量が大きくならず、工程汚染の発生や面状故障の発生を低減することが可能である。
すなわち、封止に用いるモノカルボン酸類としては脂肪族モノカルボン酸が好ましく、モノカルボン酸が炭素数２から２２の脂肪族モノカルボン酸であることがより好ましく、炭素数２〜３の脂肪族モノカルボン酸であることがさらに好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
例えば、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体等が好ましく、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸が最も好ましい。
封止に用いるモノカルボン酸は２種以上を混合してもよい。
上記重縮合エステルの両末端は酢酸又はプロピオン酸による封止が好ましく、酢酸封止により両末端がアセチルエステル残基（アセチル残基と称する場合がある）となることが最も好ましい。
上記重縮合エステルの両末端を封止した場合は、常温での状態が固体形状となりにくく、ハンドリングが良好となり、また湿度安定性、偏光板耐久性に優れたセルロースアシレートフィルムを得ることができる。

下記表５に上記重縮合エステルの具体例Ａ−１〜Ａ−３４を記すが、これらに限定されるものではない。

上記表５中の略称は、それぞれ以下の化合物を表す。ＰＡ：フタル酸、ＴＰＡ：テレフタル酸、ＡＡ：アジピン酸、ＳＡ：コハク酸、２,６−ＮＰＡ：２,６−ナフタレンジカルボン酸。
上記重縮合エステルの具体例としては、さらに、以下のＡ−３５〜Ａ−３９も挙げられる。
Ａ−３５：ＰＡ/エタンジオール/末端アセチルエステル基
Ａ−３６：ＰＡ/プロピレングリコール/末端アセチルエステル基
Ａ−３７：ＰＡ/プロピレングリコール/末端ベンゾイルエステル基
Ａ−３８：ＡＡ/プロピレングリコール/末端ベンゾイルエステル基
Ａ−３９：ＴＰＡ/プロピレングリコール/末端メチルベンゾイルエステル基

上記重縮合エステルの合成は、常法によりジオールとジカルボン酸とのポリエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。また、上記重縮合エステルについては、村井孝一編者「可塑剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。

本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムに重縮合エステル化合物を添加する場合、重縮合エステル化合物の含有量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．１質量部以上２０質量部以下であることが好ましく、０．１質量部以上１５質量部以下であることがより好ましい。

＜紫外線吸収剤＞
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムは、添加剤として紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤としては、例えばヒンダードフェノール系化合物、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。具体的な例としては特開２０１２−１８１５１６号公報の段落［０１２１］に記載の化合物が挙げられる。
紫外線吸収剤の含有量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０００１質量部以上１０以下であることが好ましく、０．０００１質量部以上５質量部以下であることがより好ましく、０．００１質量部以上３質量部以下であることが更に好ましい。

＜微粒子添加剤＞
セルロースアシレートフィルム表面には、フィルム間の滑り性付与やブロッキング防止のために微粒子を添加することが好ましい。この微粒子としては、疎水基で表面が被覆され、二次粒子の態様をとっているシリカ（二酸化ケイ素，ＳｉＯ_２）が好ましく用いられる。なお、微粒子には、シリカとともに、あるいはシリカに代えて、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウムなどの微粒子を用いてもよい。

この微粒子はいわゆるマット剤として機能し、微粒子添加によりフィルム表面に微小な凹凸が形成されこの凹凸によりフィルム同士が重なっても互いに貼り付かず、フィルム同士の滑り性が確保される。この際のフィルム表面からの微粒子が突出した突起による微小凹凸は高さ３０ｎｍ以上の突起が１０^４個／ｍｍ^２以上である場合に特に滑り性、ブロッキング性の改善効果が大きい。

マット剤微粒子は特に表層に付与することが、フィルムのヘイズ上昇がなくブロッキング性、滑り性改善するために好ましい。表層に微粒子を付与する方法としては、重層流延や塗布などによる手段があげられる。
フィルムロール中で接触面圧が高くなると、フィルムの重なる部分同士が一定の確率で貼り付き、滑りにくくなる。このように、フィルムの表面に過重な圧力が加わることなどが原因で、重なったフィルム同士が貼り付いてしまう現象は、ブロッキングとも呼ばれている。フィルム同士が貼り付いてしまうために滑りにくくなることにより、フィルムを巻き取った際の変形が滑りにより緩和されなくなる。そのため、従来のフィルムロールには、ベコと呼ばれる周方向に沿った凹みやしわ、巻き芯の凹凸や巻き付け時のフィルム端面（切り口）に起因して巻き芯側にフィルム変形となる故障（以下、芯側写り故障と称する）等が発生する。このベコやしわや芯側写り故障は、フィルムの膜厚やフィルムの弾性率の低下によって発生しやすい。

フィルムロールでは、ナーリング部分の間の使用に供される領域部分（使用部分）においては０．０１ＭＰａ以上０．１０ＭＰａ程度以下の範囲内の接触面圧がかかっている。
巻き芯付近のフィルムの部分にかかる接触面圧は、フィルムが長尺になればなるほど、高くなる傾向にある。長さ４０００ｍ弱の長尺フィルムの巻き芯側では、０．０５ＭＰａ以上０．１０ＭＰａ以下の範囲内程度の接触面圧がかかっている。そのため、従来では、フィルムが２０００ｍより短い場合には大きな問題は生じなかったものの、例えばフィルムの長さが２０００ｍ以上１００００ｍ以下の範囲内というようにフィルムが長いと、ブロッキング、ベコ、しわ、芯側写り故障が発生しやすい傾向にあった。

また、従来では、例えばフィルムの厚さが１０μｍ以上６５μｍ以下の範囲内というようにフィルムが薄いと、巻芯に巻き取ってフィルムロールにする際に、ブロッキング、ベコ、しわ、芯側写り故障が発生しやすい傾向にあった。また、従来では、例えばフィルムの弾性率が１．０ＧＰａ以上４．０ＧＰａ以下の範囲内というようにフィルムの弾性率が低いと、巻芯に巻き取ってフィルムロールにする際に、ブロッキング、ベコ、しわ、芯側写り故障が発生しやすい。

このような巻き取り適性の改善にはフィルム表面の微小凹凸付与によるブロッキング性、滑り性の改善が有効である。特にフィルム同士の接触面圧が０．０５ＭＰａ以上０．１０ＭＰａの範囲での静摩擦係数が１．２以下であることが、フィルムの重なる部分間で滑りが生じるので、ブロッキング、ベコ、しわ、芯側写り故障の発生が低減される。接触面圧が０．０５ＭＰａ以上０．１０ＭＰａ以下の範囲内の部分の静摩擦係数が１．０以下であれば好ましく、接触面圧が０．０５ＭＰａ以上０．１０ＭＰａ以下の範囲内の部分の静摩擦係数が０．９以下であればより好ましい。

次に、ハードコート層について説明する。本発明においては、上記セルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物を、塗布・乾燥・硬化することにより、光学フィルムを形成することができる。
本発明において、ハードコート層とは、上記層を形成することで透明支持体の鉛筆硬度が向上する（硬度が高くなる）層をいう。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５４００）はＨ以上が好ましく、更に好ましくは２Ｈ以上であり、最も好ましくは３Ｈ以上である。
ハードコート層の厚みは、１〜３５μｍが好ましく、更に好ましくは１〜２５μｍであり、最も好ましくは１．５〜１５μｍである。
本発明においてハードコート層は１層でも複数でもかまわない。ハードコート層が複数層の場合、全てのハードコート層の膜厚の合計が上位範囲であることが好ましい。
本発明の光学フィルムのハードコート層の表面は平坦であって凹凸があっても構わない。また、必要に応じて、表面凹凸や内部散乱付与のためにハードコート層に透光性粒子を含有させることもできる。
以下に、ハードコート層形成用組成物に含まれる各成分についての詳細を記載する。

＜（ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物＞
ハードコート層形成用組成物に含まれる不飽和二重結合を有する化合物は、バインダーとして機能することができ、特に、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。
本発明において用いられるハードコート層形成用組成物は、（ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物を含有する。多官能（メタ）アクリレート化合物とは、分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を示す。

多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。カールと硬度のバランスをとったり、基材への染み込みを制御するために複数種のモノマーを併用することも好ましい。

本発明のハードコート層形成用組成物中の多官能（メタ）アクリレート化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の無機成分を除いた全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、６０〜９９質量％がより好ましく、７０〜９９質量％が更に好ましく、８０〜９９質量％が特に好ましい。

本発明において、ハードコート層形成用組成物に含有される多官能（メタ）アクリレート化合物としては、分子内に環状脂肪族炭化水素と２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることも好ましい。このような化合物を用いることで、ハードコート層に低透湿性を付与することができる。
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素と２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を含有する場合、分子内に環状脂肪族炭化水素と２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物はハードコート層形成用組成物中の多官能（メタ）アクリレート化合物中、１〜９０質量％が好ましく、２〜８０質量％がより好ましく、５〜７０質量％が特に好ましい。

ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素と２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能（メタ）アクリレート化合物を含有する場合、更に５官能以上の（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。
ハードコート層形成用組成物が、更に、５官能以上の（メタ）アクリレート化合物を含有する場合、５官能以上の（メタ）アクリレート化合物は、ハードコート層形成用組成物中の多官能（メタ）アクリレート化合物中、１〜７０質量％が好ましく、２〜６０質量％がより好ましく、５〜５０質量％が特に好ましい。

＜（ｂ）メタノール＞
本発明において用いられるハードコート層形成用組成物は、溶剤としてメタノールを含有する。メタノールは、糖エステル化合物や重縮合エステル化合物を抽出することができるため、セルロースアシレートを溶解する溶剤に加えてメタノールを用いることにより、糖エステル化合物や重縮合エステル化合物を含むセルロースアシレートフィルムを基材とした場合にも、基材とハードコート層の間に屈折率界面が生じにくく、干渉ムラの発生を抑制することができる。
但し、ハードコート層形成用組成物中に、メタノールを含む表面張力が低い溶剤を多量に含有すると、ハードコート層乾燥時の乾燥ムラで乾燥が進んだ部分とそうでない部分の表面張力差が大きくなり、風ムラやスジが発生することがあるので、メタノールの含有量及び低表面張力溶剤の含有量は、適切に制御する必要がある。また、メタノールの含有量が多くなり過ぎるとセルロースアシレートの溶解性が落ちるために干渉ムラが悪化してくる。
このため、ハードコート層形成用組成物中のメタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、１０質量％〜３０質量％とする。メタノールの含有量が上記範囲内であると、干渉ムラの発生を抑制することができると共に、ハードコート層乾燥時の風ムラやスジの発生も防止することができる。メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、１０〜２５質量％であることが好ましく、１０〜２０質量％であることがより好ましい。

＜（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤＞
本発明において用いられるハードコート層形成用組成物は、溶剤として、セルロースアシレートを溶解する溶剤を含有する。ハードコート層形成用組成物中がセルロースアシレートを溶解する溶剤を含有していると、ハードコート層を形成したときに、溶剤がセルロースアシレートを溶解して染込むので、上記のメタノールとあわせて用いることで、糖エステル化合物や重縮合エステル化合物を含むセルロースアシレート基材とハードコート層との界面がなくなり、干渉ムラを抑制することができる。

（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤としては、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、アセト酢酸メチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン（Ｎ−メチルピロリドン）、下記一般式（ｄ１）で表されるカーボネート系溶剤等が挙げられ、酢酸メチル、アセトン、メチルエチルケトン、下記一般式（ｄ１）で表されるカーボネート系溶剤が好ましく、酢酸メチル、アセトン、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネートがより好ましい。これらの溶剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

一般式（ｄ１）中、Ｒａ及びＲｂは、それぞれ独立にアルキル基を表し、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。炭素数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。

（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０質量％〜９０質量％である。（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量が上記範囲内であると、基材フィルムへの染込み量が最適となり、良好な鉛筆硬度が得られると共に、干渉ムラが発生することを抑制することができる。（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、３０〜８０質量％であることが好ましく、４０〜８０質量％であることがより好ましく、５５〜８０質量％であることが最も好ましい。

＜（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤＞
本発明において用いられるハードコート層形成用組成物は、（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤を含有する。
一般的にレベリング剤は、乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、塗布物のハジキを改良したりする効果を有している。

レベリング剤として、具体的には、シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤を用いる。なお、レベリング剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。

レベリング剤を添加すると、塗布された液膜の表面にレベリング剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後もレベリング剤がそのまま表面に偏在することになるので、レベリング剤を添加したハードコート層の表面エネルギーは、レベリング剤によって低下する。ハードコート層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。

シリコーン系レベリング剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。

シリコーン系レべリング剤の数平均分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。

好ましいシリコーン系レベリング剤の例としては、電離放射線硬化基を有しない市販のシリコーン系レベリング剤として、信越化学工業（株）製のＸ２２−３７１０、Ｘ２２−１６２Ｃ、Ｘ２２−３７０１Ｅ、Ｘ２２１６０ＡＳ、Ｘ２２１７０ＤＸ、Ｘ２２４０１５、Ｘ２２１７６ＤＸ、Ｘ２２−１７６Ｆ、Ｘ２２４２７２、ＫＦ８００１、Ｘ２２−２０００等；チッソ（株）製のＦＭ４４２１、ＦＭ０４２５、ＦＭＤＡ２６、ＦＳ１２６５等；東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６−７５０、ＢＹ１６８８０、ＢＹ１６８４８、ＳＦ８４２７、ＳＦ８４２１、ＳＨ３７４６、ＳＨ８４００、ＳＦ３７７１、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７４８、ＳＨ８４１０等；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＴＳＦシリーズ（ＴＳＦ４４６０、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４７３０、ＴＳＦ４７７０等）、ＦＧＦ５０２、ＳＩＬＷＥＴシリーズ（ＳＩＬＷＥＴＬ７７、ＳＩＬＷＥＴＬ２７８０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０８、ＳＩＬＷＥＴＬ７００１、ＳＩＬＷＥＴＬ７００２、ＳＩＬＷＥＴＬ７０８７、ＳＩＬＷＥＴＬ７２００、ＳＩＬＷＥＴＬ７２１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２３０、ＳＩＬＷＥＴＬ７５００、ＳＩＬＷＥＴＬ７５１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６００、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０５、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０７、ＳＩＬＷＥＴＬ７６２２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６４４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５７、ＳＩＬＷＥＴＬ８５００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６１０、ＳＩＬＷＥＴＬ８６２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２０）等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。

電離放射線硬化基を有するものとして、信越化学工業（株）製のＸ２２−１６３Ａ、Ｘ２２−１７３ＤＸ、Ｘ２２−１６３Ｃ、ＫＦ１０１、Ｘ２２１６４Ａ、Ｘ２４−８２０１、Ｘ２２１７４ＤＸ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２２４２６、Ｘ２２２４４５、Ｘ２２２４５７、Ｘ２２２４５９、Ｘ２２２４５、Ｘ２２１６０２、Ｘ２２１６０３、Ｘ２２１６４Ｅ、Ｘ２２１６４Ｂ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２１６４Ｄ、ＴＭ０７０１等；チッソ（株）製のサイラプレーンシリーズ（ＦＭ０７２５、ＦＭ０７２１、ＦＭ７７２５、ＦＭ７７２１、ＦＭ７７２６、ＦＭ７７２７等）；東レ・ダウコーニング（株）製のＳＦ８４１１、ＳＦ８４１３、ＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ、８３８８Ａ等；エボニック デグサ ジャパン（株）製のＴＥＧＯ Ｒａｄ２０１０、２０１１、２１００、２２００Ｎ、２３００、２５００、２６００，２７００等；ビックケミー・ジャパン（株）製のＢＹＫ３５００；信越シリコーン社製のＫＮＳ５３００；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＵＶＨＣ１１０５、ＵＶＨＣ８５５０等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。

上記レベリング剤は、ハードコート層用塗布組成物の全固形分中に０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。

フッ素系レベリング剤は、フルオロ脂肪族基と、例えばこのレべリング剤を添加剤として使用したときに、コーティング用、成形材料用等の各種組成物に対する親和性に寄与する親媒性基とを同一分子内に有する化合物であり、このような化合物は、一般に、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと親媒性基を有するモノマーとを共重合させて得ることができる。
フルオロ脂肪族基を有するモノマーと共重合される、親媒性基を有するモノマーの代表的な例としては、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート、ポリ（オキシアルキレン）メタクリレート等が挙げられる。

好ましい市販のフッ素系レベリング剤としては、電離放射線硬化基を有しないものとしてＤＩＣ（株）製のメガファックシリーズ（ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４７２、Ｆ４７６、Ｆ４４５、Ｆ４４４、Ｆ４４３、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、Ｆ４８２、Ｆ４８６、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ等）；ネオス（株）製のフタ―ジェントシリーズ（ＦＴＸ２１８、２５０、２４５Ｍ、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２４５Ｆ、２０８Ｇ、２１８Ｇ、２４０Ｇ、２０６Ｄ、２４０Ｄ等）が挙げられ、電離放射線硬化基を有するものとして、ダイキン工業（株）製のオプツールＤＡＣ；ＤＩＣ（株）製のデイフェンサシリーズ（ＴＦ３００１、ＴＦ３０００、ＴＦ３００４、ＴＦ３０２８、ＴＦ３０２７、ＴＦ３０２６、ＴＦ３０２５等）、ＲＳシリーズ（ＲＳ７１、ＲＳ１０１、ＲＳ１０２、ＲＳ１０３、ＲＳ１０４、ＲＳ１０５等）が挙げられるがこれらに限定されるものではない。

本発明におけるフッ素系レベリング剤としては、下記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（１）であることが好ましい。

一般式（２）中、Ｒ_０は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。

上記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーについて、詳細に説明する。
一般式（２）において、Ｒ_０は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｌは酸素原子、窒素原子、イオウ原子のいずれかを含んでいる２価の連結基を表し、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ（Ｒ⁵）−、−ＣＯＳ−、−ＣＯＳ（Ｒ⁵）−、−ＣＯＮ（Ｒ⁶）−、−ＣＯＮ（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）−等が好ましい。ここでＲ⁵は炭素数１以上８以下のアルキル基、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１以上８以下のアルキル基を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が更に好ましく、６であることが最も好ましい。
また、フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）中に、一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）の重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。

上記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）は、下記一般式（２−１）で表される構造であることが好ましい。

一般式（２−１）中、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子または−Ｎ（Ｒ²）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上１８以下の整数を表す。ここで、Ｒ²は水素原子または置換基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基を表す。

上記一般式（２−１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーについて、詳細に説明する。
一般式（２−１）において、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ²）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ²）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ²は水素原子または炭素数１以上８以下のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。ｍは１以上６以下の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。ｎは１以上１８以下の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が更に好ましく、６であることが最も好ましい。
また、上記フッ素系レベリング剤中に一般式（２−１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。

また、本発明におけるフッ素系レベリング剤としては、下記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（２）であることも好ましい。

一般式（３）中、Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ_２は２価の連結基を表し、ｎは１以上６以下の整数を表す。

一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーについて、詳細に説明する。
一般式（３）において、Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｌ_２は酸素原子、窒素原子、イオウ原子のいずれかを含んでいる２価の連結基を表し、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ（Ｒ⁵）−、−ＣＯＳ−、−ＣＯＳ（Ｒ⁵）−、−ＣＯＮ（Ｒ⁶）−、−ＣＯＮ（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）−等が好ましい。ここでＲ⁵は炭素数１以上８以下のアルキル基、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１以上８以下のアルキル基を表す。ｎは１以上６以下の整数を表し、４〜６がより好ましく、６が更に好ましい。
フルオロ脂肪族基含有共重合体（２）中に、一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）の重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。

上記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）は、下記一般式（３−１）で表される構造であることが好ましい。

一般式（３−１）において、Ｒ^４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ^２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上６以下の整数を表す。Ｒ^２は水素原子または置換基を有しても良い炭素数１以上８以下のアルキル基を表す。

上記一般式（３−１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーについて、詳細に説明する。
一般式（３−１）において、Ｒ^４は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ^２）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ^２）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ^２は水素原子または炭素数１以上８以下のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。ｍは１以上６以下の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。ｎは１以上６以下の整数を表し、４〜６がより好ましく、６が更に好ましい。フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式（３−１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。

一般式（２）又は一般式（２−１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）、一般式（３）又は一般式（３−１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）、ならびにフルオロ脂肪族基含有共重合体（１）および（２）の具体例については、特開２０１０−１５４９４３４号公報、特開２０１０−１２１１３７号公報、特開２００４−３３１８１２号公報、及び特開２００４−１６３６１０号記載の具体例を挙げることができるが、本発明はそれらに限定されるものではない。

本発明において、上記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）に由来する繰り返し単位を有するレベリング剤（フルオロ脂肪族基含有共重合体（２））と、上記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）に由来する繰り返し単位を有するレベリング剤（フルオロ脂肪族基含有共重合体（１））を適切な添加量で併用することにより、ハードコート層表面にスジが発生することを抑制することができると共に、ハードコート層上に低屈折率層を積層した場合に、良好な耐擦傷性を得ることができる。

フルオロ脂肪族基含有共重合体の含有量としては、上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）の全固形分中に含まれる割合は０．０１〜０．２質量％であり、上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（２）の全固形分中に含まれる割合が０．００１〜０．０１質量％であることが好ましい。これらの共重合体の含有量が上記範囲内であると、ハードコート層表面にスジが発生することを抑制することができると共に、低屈折率層を積層した場合に、良好な耐擦傷性を得ることができる。

また、本発明において、（ｄ）フッ素系レベリング剤の質量平均分子量は、１０００〜５００００が好ましく、５０００〜５００００がより好ましく、８０００〜３００００がさらに好ましく、１００００〜２００００が特に好ましい。風ムラ防止能が十分である点で、質量平均分子量１０００以上が好ましい。また、有機溶剤への溶解性・溶出性が十分である点で、質量平均分子量が５００００以下が好ましい。添加する処方によっては、ハジキなどの面状故障を抑制することを主眼とし、質量平均分子量は１０００〜２００００が好ましい場合がある。
ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。

本発明のフッ素系レベリング剤は公知の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、直鎖、分岐または環状のアルキル基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。もしくは場合によりその他の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。

本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有共重合体（フッ素系レベリング剤）を構成するこれらのフルオロ脂肪族基含有モノマーＡの重合単位の量は、フッ素系レベリング剤を構成する全重合単位に基づいて、１０質量％を超えることが好ましく、４０〜９５質量％であることがより好ましく、８０〜９５質量％であることが更に好ましい。

ハードコート層形成用組成物に対する上記フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）の添加量は、０．００１質量％〜１．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１質量％〜０．２質量％である。
なお、本発明において用いられるハードコート層形成用組成物は、（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択された少なくとも１種のレベリング剤の他に、上記レベリング剤以外のレベリング剤を併用してもよい。

本発明において、フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）又は（２）に含まれるフルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位は、下記一般式［Ｉ］で表される構造を有することが好ましい。

一般式［Ｉ］において、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ¹は２価の連結基を表し、Ｙは置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基を表す。

上記一般式［Ｉ］で示されるフルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位について、詳細に説明する。
一般式［Ｉ］で示されるモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位としては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ ２ｎｄ ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ ２Ｐａｇｅ １〜４８３記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。

具体的には、以下の単量体をあげることができる。
アクリル酸エステル類：
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ターシャリーブチルアクリレート等、
メタクリル酸エステル類：
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ターシャリーブチルメタクリレート等、

アクリルアミド類：
アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなど。
メタクリルアミド類：
メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルメタクリルアミドなど。
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど。

ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど。
ビニルエステル類：
ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。

イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど。
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。

これらの中でも一般式［Ｉ］において、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｌ¹は２価の連結基を表し、Ｙは置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基を表す。Ｌ¹は酸素原子、窒素原子、イオウ原子のいずれかを含んでいる２価の連結基を表し、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ（Ｒ⁵）−、−ＣＯＳ−、−ＣＯＳ（Ｒ⁵）−、−ＣＯＮ（Ｒ⁶）−、−ＣＯＮ（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）−等が好ましい。ここでＲ⁵は炭素数１以上８以下のアルキル基、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１以上８以下のアルキル基を表す。Ｙは置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、または置換基を有していても良い芳香族基であることが好ましい。

本発明の一般式［Ｉ］で表されるモノマーのより具体的なモノマーとしては、特開２００７−１０２２０６１号公報に記載のモノマーを好ましく使用することができるがこの限りではない。

＜２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤＞
本発明において用いられるハードコート層形成用組成物は、溶剤としてメタノールを含有するが、上述の通り、メタノールを含む表面張力が低い溶剤を多量に含有すると、ハードコート層乾燥時の乾燥ムラに起因して乾燥が進んだ部分とそうでない部分の表面張力差が大きくなり、風ムラやスジが発生することがあるので、メタノールの含有量及び低表面張力溶剤の合計の含有量を、適切に制御する必要がある。
２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤としては、メタノールの他に、エタノール、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、t-ブタノール、およびｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン等の炭化水素類等が挙げられる。表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤の含有量が上記範囲内であると、ハードコート層乾燥時の風ムラやスジの発生も防止することができる。
２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤の含有量は、総量で１０〜２５質量％であることが好ましく、１５〜２０質量％であることがより好ましい。

また、本発明におけるハードコート層形成用組成物は、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ以上であり、セルロースアシレートを溶解しない溶剤を含有するものであることが好ましい。
ハードコート層形成用組成物中の成分のセルロースアシレートフィルム基材への染込み量が多いと、光学フィルムの鉛筆硬度が低下し、少ないと干渉ムラが発生することがあるが、本発明においては、表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤の含有量を３０質量％以下に制限し、表面張力が２３ｍＮ／ｍ以上であり、セルロースアシレートを溶解する溶剤と、セルロースアシレートを溶解しない溶剤とを組み合わせて使用することにより、染込み量を最適に調整することができる。

表面張力が２３ｍＮ／ｍ以上であり、セルロースアシレートを溶解しない溶剤としては、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ジアセトンアルコール、メトキシプロパノール、等のアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルブチルケトン等の一部のケトン類、シクロヘキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。

〔光重合開始剤〕
本発明において用いられるハードコート層用組成物は、光重合開始剤を含有することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

本発明におけるハードコート層用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

本発明では、高い硬度を付与したり、屈折率を調整したりする目的で無機微粒子を用いることもできる。また、帯電防止性を付与する目的で、公知の導電性化合物や導電性無機微粒子を用いることもできる。導電性化合物としては、４級アンモニウム塩基を有する化合物やπ共役構造を有する導電性ポリマー等の有機化合物であることが好ましく、具体的には特開２０１２−７３５４４に記載の導電性有機化合物が好適に用いられる。

＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートフィルム（支持体）上に上記ハードコート層形成用組成物を塗布・乾燥・硬化することにより得ることができる。
本発明により製造される光学フィルムの好ましい層構成の例を下記に示すが、特にこれらの層構成のみに限定されるわけではない。
・支持体／ハードコート層
・支持体／ハードコート層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／防眩層（帯電防止層）／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／帯電防止層／防眩層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層（帯電防止層）／防眩層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／高屈折率層／帯電防止層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／高屈折率層（帯電防止層）／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／帯電防止層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層（帯電防止層）／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／中屈折率層（帯電防止層）／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層（帯電防止層）／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・帯電防止層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
ここで、帯電防止層、防眩層はハードコート性を有していても良い。

〔低屈折率層〕
本発明では、反射率低減効果の付与を目的としてハードコート層の上に低屈折率層を形成することもできる。

低屈折率層の屈折率は、直下の層の屈折率より低く、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４０であることが特に好ましい。低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、８０〜１１０ｎｍであることが最も好ましい。低屈折率層は低屈折率層形成用の硬化性組成物を硬化して得ることが好ましい。
好ましい低屈折率層の硬化性物組成の態様としては、
（１）架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物を含有する組成物、
（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物、
（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと無機微粒子（特に中空構造を有する無機微粒子が好ましい。）を含有する組成物、などが挙げられる。
（１）及び（２）に関しても、無機微粒子を含有することが好ましく、さらに屈折率の低い中空構造を有する無機微粒子用いると、低屈折率化や無機微粒子添加量と屈折率の調整などの観点で特に好ましい。

（１）架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物
架橋性または重合性の官能基を有する含フッ素化合物としては、含フッ素モノマーと架橋性または重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。これら含フッ素ポリマーの具体例は、特開２００３−２２２７０２号公報、特開２００３−１８３３２２号、特開２００８−１６９３６４号公報等に記載されている。

上記のポリマーに対しては特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号、特開２０１３−１３０８６５号、特開２００６−２９１０７７に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、上記ハードコート層の硬化性樹脂化合物として説明した２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。また、特開２００４−１７０９０１号公報に記載のオルガノランの加水分解縮合物も好ましく、特に（メタ）アクリロイル基を含有するオルガノシランの加水分解縮合物が好ましい。これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。

ポリマー自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら化合物の硬化には、有機酸又はその塩を用いるのが好ましい。

（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物
含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物も屈折率が低く、塗膜表面の硬度が高く好ましい。フッ素化アルキル基に対して片末端又は両末端に加水分解性のシラノールを含有する化合物とテトラアルコキシシランの縮合物が好ましい。具体的組成物は、特開２００２−２６５８６６号公報、特許３１７１５２号公報に記載されている。

（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物
更に別の好ましい態様として、低屈折率の粒子とバインダーからなる低屈折率層が挙げられる。低屈折率粒子としては、有機でも無機でも良いが、内部に空孔を有する粒子が好ましい。中空粒子の具体例は、特開２００２−７９６１６号公報に記載のシリカ系粒子に記載されている。粒子屈折率は１．１５〜１．４０が好ましく、１．２０〜１．３０が更に好ましい。バインダーとしては、上記ハードコート層の頁で述べた二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。

本発明に用いられる低屈折率層用の組成物には、前述の光ラジカル重合開始剤または熱ラジカル重合開始剤を添加することが好ましい。ラジカル重合性化合物を含有する場合には、上記化合物に対して１〜１０質量部、好ましくは１〜５質量部の重合開始剤を使用できる。

本発明に用いられる低屈折率層には、無機微粒子を併用することができる。耐擦傷性を付与するために、低屈折率層の厚みの１５％〜１５０％、好ましくは３０％〜１００％、更に好ましくは４５％〜７０％の粒径を有する微粒子を使用することができる。無機微粒子は低屈折率であるものが好ましい。具体的にはシリカが好ましく、中空構造であることがさらに好ましい。

本発明の低屈折率層には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することができる。

シリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤の具体例としては、前述のフッ素系あるいはシリコーン系のレヘ゛リンク゛剤の中で電離放射線硬化基を有するものを好適に使用することができるがこれらに限定されるものではない。

これらの防汚剤は低屈折率層全固形分の０．１〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、さらに好ましくは１〜５質量％である。

〔塗布方式〕
本発明の光学フィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（特開２００３−１６４７８８号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。

（乾燥、硬化条件）
本発明におけるハードコート層などを塗布により層形成する場合の、乾燥、硬化方法に関して、以下に述べる。

硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。特に塗膜の面内での性能ばらつきを少なくする点や、カールを良化させるという観点からは、２回以上に分割して照射することが好ましく、初期に１５０ｍＪ／ｃｍ^２以下の低照射量の紫外光を照射し、その後、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上の高照射量の紫外光を照射し、かつ初期よりも後期の方で高い照射量を当てることが好ましい。

硬化時の酸素濃度は０〜１％であることが好ましく、０〜０．１％であることがさらに好ましく、０〜０．０１％であることが最も好ましい。硬化時の酸素濃度を１％よりも小さくすることで、酸素による硬化阻害の影響を受けにくくなり、強固な膜となる。
複数の層を形成する場合（例えば、ハードコート層上に低屈折率層を設ける等）は、下層と上層の界面密着をとるために、下層硬化時はハーフキュアにすることが好ましい。その場合は、酸素濃度１％以上で硬化させる事が良い場合もある。

本発明では、電離放射線による照射と、照射の前、照射と同時又は照射後の熱処理とを組み合わせることにより、硬化することが好ましい。
以下に、いくつかの製造工程のパターンを示すが、これらに限定されるものではない。（以下の「−」は熱処理を行っていないことを示す。）

照射前 → 照射と同時 → 照射後
（１）熱処理 → 熱処理 → −
（２）熱処理 → 熱処理 → 熱処理
（３） − → 熱処理 → 熱処理
（４） − → 熱処理 → −

本発明においては、上記のとおり、電離放射線による照射と組み合わせて熱処理を行うことが好ましい。熱処理は、ハードコートフィルムの支持体、ハードコート層を含めた構成層を損なうものでなければ特に制限はないが、好ましくは４０〜１５０℃、更に好ましくは４０〜８０℃である。

熱処理に要する時間は、使用成分の分子量、その他成分との相互作用、粘度などにより異なるが、１秒〜１時間、好ましくは１秒〜３０分、最も好ましくは１秒〜５分である。

［セルロースアシレートフィルムの製造方法］
本発明において用いられるセルロースアシレートフィルムの製造方法について説明する。
セルロースアシレートを含むフィルムは溶液流延製膜法又は溶融製膜法を利用して製膜することができる。以下に例として溶液流延製膜法の場合についての説明をする。

（ポリマー溶液）
溶液流延製膜方法では、上記セルロースアシレートや必要に応じて各種添加剤を含有するポリマー溶液（セルロースアシレート溶液）を用いてウェブを形成する。以下において、溶液流延製膜方法に用いることができる本発明におけるポリマー溶液（以下、適宜セルロースアシレート溶液と称する場合もある）について説明する。

本発明におけるポリマー溶液の主溶媒としては、セルロースアシレートの良溶媒である有機溶媒を好ましく用いることができる。このような有機溶媒としては、沸点が８０℃以下の有機溶媒が乾燥負荷低減の観点からより好ましい。上記有機溶媒の沸点は、１０〜８０℃であることが更に好ましく、２０〜６０℃であることが特に好ましい。また、場合により沸点が３０〜４５℃である有機溶媒も上記主溶媒として好適に用いることができる。本発明においては、後述の溶媒群のうち、特にハロゲン化炭化水素を主溶媒として好ましく用いることができ、ハロゲン化炭化水素の中では塩素化炭化水素が好ましく、ジクロロメタン及びクロロホルムが更に好ましく、ジクロロメタンが最も好ましい。また、乾燥過程初期においてハロゲン化炭化水素とともに揮発する割合が小さく、次第に濃縮される沸点が９５℃以上の溶媒を全溶媒に対し１〜１５質量％含有する溶媒を用いることができ、１〜１０質量％含有する溶媒を用いることが好ましく、１．５〜８質量％含有する溶媒を用いることがより好ましい。そして、沸点が９５℃以上の溶媒は、セルロースアシレートの貧溶媒であることが好ましい。沸点が９５℃以上の溶媒の具体例としては、後述する「主溶媒と併用される有機溶媒」の具体例のうち沸点が９５℃以上の溶媒を挙げることができるが、中でもブタノール、ペンタノール、１，４−ジオキサンを用いることが好ましい。更に、本発明に用いられる本発明におけるポリマー溶液の溶媒はアルコールを５〜４０質量％含有し、１０〜３０質量％含有することが好ましく、１２〜２５質量％含有することがより好ましく、１５〜２５質量含有することが更に好ましい。ここで用いるアルコールの具体例としては、後述する「主溶媒と併用される有機溶媒」のアルコールとして例示されている溶媒を挙げることができるが、中でもメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールを用いることが好ましい。なお、上記の「沸点が９５℃以上の溶媒」がブタノールなどのアルコールである場合は、その含有量もここでいうアルコール含有量にカウントする。このような溶媒を用いることにより、作製したセルロースアシレートフィルムの熱処理温度における力学強度を上昇させることができるため、熱処理中に必要以上に延伸されて、得られたフィルムが割れやすくなることを防ぐことができる。

このような主溶媒としては、ハロゲン化炭化水素を特に好ましく挙げることができ、場合により、エステル、ケトン、エーテル、アルコール及び炭化水素などが挙げることもでき、これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。また、上記主溶媒は、エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの官能基（即ち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれかを二つ以上有していてもよい。更に、上記エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子（特に、フッ素原子）で置換されていてもよい。なお、本発明の製造方法に用いるセルロースアシレートフィルムの作製に用いられる本発明におけるポリマー溶液の主溶媒とは、単一の溶媒からなる場合には、その溶媒のことを示し、複数の溶媒からなる場合には、構成する溶媒のうち、最も質量分率の高い溶媒のことを示す。主溶媒としては、ハロゲン化炭化水素を好適に挙げることができる。

上記ハロゲン化炭化水素としては、塩素化炭化水素がより好ましく、例えば、ジクロロメタン及びクロロホルムなどが挙げられ、ジクロロメタンが更に好ましい。 上記エステルとしては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートなどが挙げられる。
上記ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。 上記エーテルとしては、例えば、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどが挙げられる。
上記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノールなどが挙げられる。
上記炭化水素としては、例えば、ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。

これら主溶媒と併用される有機溶媒としては、ハロゲン化炭化水素、エステル、ケトン、エーテル、アルコール及び炭化水素などが挙げられ、これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。また、上記有機溶媒としては、エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの官能基（即ち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれか二つ以上を有していてもよい。更に、上記エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子（特に、フッ素原子）で置換されていてもよい。

上記ハロゲン化炭化水素としては、塩素化炭化水素がより好ましく、例えば、ジクロロメタン及びクロロホルムなどが挙げられ、ジクロロメタンが更に好ましい。
上記エステルとしては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテートなどが挙げられる。
上記ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノンなどが挙げられる。
上記エーテルとしては、例えば、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトールなどが挙げられる。
上記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどが挙げられる。好ましくは炭素数１〜４のアルコールであり、より好ましくはメタノール、エタノール又はブタノールであり、最も好ましくはメタノール、ブタノールである。
上記炭化水素としては、例えば、ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。
上記２種類以上の官能基を有する有機溶媒としては、例えば、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、メチルアセトアセテートなどが挙げられる。

本発明において、セルロースアシレートフィルムを構成するポリマーは、ヒドロキシル基やエステル、ケトン等の水素結合性の官能基を含むため、全溶媒中に５〜３０質量％、より好ましくは７〜２５質量％、更に好ましくは１０〜２０質量％のアルコールを含有することが流延支持体からの剥離荷重低減の観点から好ましい。
アルコール含有量を調整することによって、本発明の製造方法により製造されるセルロースアシレートフィルムのＲｅやＲｔｈの発現性を調整しやすくすることができる。具体的には、アルコール含有量を上げることによって、熱処理温度を比較的低く設定したり、ＲｅやＲｔｈの到達範囲をより大きくしたりすることが可能となる。
また、本発明においては、水を少量含有させることも溶液粘度や乾燥時のウェットフィルム状態の膜強度を高めたり、ドラム法流延時のドープ強度を高めるのに有効であり、例えば溶液全体に対して０．１〜５質量％含有させてもよく、より好ましくは０．１〜３質量％含有させてもよく、特には０．２〜２質量％含有させてもよい。

本発明におけるポリマー溶液の溶媒として好ましく用いられる有機溶媒の組み合せの例については、特開２００９−２６２５５１号公報に挙げられている。

また、必要に応じて、非ハロゲン系有機溶媒を主溶媒とすることもでき、詳細な記載は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載がある。

本発明におけるポリマー溶液中のセルロースアシレート濃度は、５〜４０質量％が好ましく、１０〜３０質量％が更に好ましく、１５〜３０質量％が最も好ましい。
上記セルロースアシレート濃度は、セルロースアシレートを溶媒に溶解する段階で所定の濃度になるように調整することができる。また予め低濃度（例えば４〜１４質量％）の溶液を調製した後に、溶媒を蒸発させる等によって濃縮してもよい。更に、予め高濃度の溶液を調製後に、希釈してもよい。また、添加剤を添加することで、セルロースアシレートの濃度を低下させることもできる。

添加剤を添加する時期は、添加剤の種類に応じて適宜決定することができる。

（ポリマー溶液の調製）
本発明におけるポリマー溶液の調製は、例えば、特開昭５８−１２７７３７号公報、同６１−１０６６２８号公報、特開平２−２７６８３０号公報、同４−２５９５１１号公報、同５−１６３３０１号公報、同９−９５５４４号公報、同１０−４５９５０号公報、同１０−９５８５４号公報、同１１−７１４６３号公報、同１１−３０２３８８号公報、同１１−３２２９４６号公報、同１１−３２２９４７号公報、同１１−３２３０１７号公報、特開２０００−５３７８４号公報、同２０００−２７３１８４号公報、同２０００−２７３２３９号公報に記載されている調製方法に準じて行うことができる。具体的には、ポリマーと溶媒とを混合攪拌し膨潤させ、場合により冷却や加熱等を実施して溶解させた後、これをろ過して本発明におけるポリマー溶液を得る。

本発明においては、ポリマーの溶媒への溶解性を向上させるため、ポリマーと溶媒との混合物を冷却及び／又は加熱する工程を含むことが好ましい。
溶媒としてハロゲン系有機溶媒を用い、セルロースアシレートと溶媒との混合物を冷却する場合、混合物を−１００〜１０℃に冷却する工程を含むことが好ましい。また、冷却工程より前の工程に−１０〜３９℃で膨潤させる工程を含み、冷却より後の工程に０〜３９℃に加温する工程を含むことが好ましい。

溶媒としてハロゲン系有機溶媒を用い、セルロースアシレートと溶媒との混合物を加熱する場合、下記（ａ）又は（ｂ）より選択される１以上の方法で溶媒中にセルロースアシレートを溶解する工程を含むことが好ましい。
（ａ）−１０〜３９℃で膨潤させ、得られた混合物を０〜３９℃に加温する。
（ｂ）−１０〜３９℃で膨潤させ、得られた混合物を０．２〜３０ＭＰａで４０〜２４０℃に加熱し、加熱した混合物を０〜３９℃に冷却する。
更に、溶媒として非ハロゲン系有機溶媒を用い、セルロースアシレートと溶媒との混合物を冷却する場合、混合物を−１００〜−１０℃に冷却する工程を含むことが好ましい。また、冷却工程よりも前の工程に−１０〜５５℃で膨潤させる工程を含み、冷却よりも後の工程に０〜５７℃に加温する工程を含むことが好ましい。

溶媒としてハロゲン系有機溶媒を用い、セルロースアシレートと溶媒との混合物を加熱する場合、下記（ｃ）又は（ｄ）より選択される１以上の方法で溶媒中にセルロースアシレートを溶解する工程を含むことが好ましい。
（ｃ）−１０〜５５℃で膨潤させ、得られた混合物を０〜５７℃に加温する。
（ｄ）−１０〜５５℃で膨潤させ、得られた混合物を０．２〜３０ＭＰａで４０〜２４０℃に加熱し、加熱した混合物を０〜５７℃に冷却する。

（ウェブの製膜）
本発明におけるウェブは、ポリマー溶液を用いて溶液流延製膜方法により形成することができる。溶液流延製膜方法の実施に際しては、従来の方法に従って、公知の装置を用いることができる。具体的には、溶解機（釜）で調製されたドープ（ポリマー溶液）を、ろ過後、貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製する。ドープは３０℃に保温し、ドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延する（ドープ流延工程）。次いで、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブ）を金属支持体から剥離し、続いて乾燥ゾーンへ搬送し、ロール群で搬送しながら乾燥を終了する。溶液流延製膜方法の流延工程、乾燥工程の詳細については、特開２００５−１０４１４８号公報の１２０〜１４６頁にも記載があり、適宜本発明にも適用することができる。

セルロースアシレートフィルムは単層であっても、２層以上の積層体であってもよい。セルロースアシレートフィルムが２層以上の積層体である場合は、２層構造または３層構造であることがより好ましく、３層構造であることが好ましい。３層構造の場合は、１層の中間層（すなわち、最も厚い層であり、以下、基層とも言う）と、上記中間層を挟むスキン層Ａおよびスキン層Ｂとを有することが好ましい。すなわち、本発明のセルロースアシレートフィルムはスキン層Ｂ／中間層／スキン層Ａの３層構造であることが好ましい。スキン層Ｂは、セルロースアシレートフィルムが溶液製膜で製造される際に、後述する金属支持体と接する層（以下、流延支持体側層とも言う）であり、スキン層Ａは上記金属支持体とは逆側の空気界面の層（以下、エア層とも言う）である。なお、スキン層Ａとスキン層Ｂを総称してスキン層とも言う。
積層体を作製する場合は、共流延法、逐次流延法、塗布法などの一般的な各種の積層流延法を適宜選択して使用することができる。

本発明においては、ウェブの製膜の際に用いる金属支持体として金属バンド又は金属ドラムを使用することができる。

（延伸工程）
本発明に係るセルロースアシレートフィルムの製造方法は、セルロースアシレートを含むフィルム全体を特定の方向に延伸する工程を含む。本発明に係るセルロースアシレートフィルムは、延伸することによって、延伸方向の熱膨張係数と湿度寸法変化率を低減させることができる。延伸は、長手方向（フィルムを搬送する搬送方向に対応）と直交する幅手方向に１０％以上４０％以下の倍率から選択して行うことができる。更に、幅手方向と一致しない方向（例えば、長手方向）への延伸と組み合わせた二軸延伸でもよい。
幅手方向への延伸倍率は、０〜２０％であることが好ましく、３〜１５％であることがより好ましい。また、長手方向への延伸倍率は、０〜２０％が好ましく、５〜１５％がより好ましい。
フィルムのヘイズを上昇させずに延伸して弾性率の異方性を制御する方法については、特定の条件で延伸する特開２００７−１７６１６４等に記載の延伸方法や、一旦ヘイズを上昇させてからヘイズを低下させる特開２００９−１３７２８９等の記載の延伸方法を好ましく用いることができる。また、フィルム中に溶媒を残した状態で延伸して弾性率の異方性を制御する方法については、特開２００７−１１９７１７等に記載の延伸方法を好ましく用いることができる。
なお、本明細書でいう「延伸倍率（％）」とは、延伸方向でのフィルムの長さに関する以下の式により求められるものを意味する。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／（延伸前の長さ）

また、延伸工程におけるウェブの延伸速度は、特に限定されるものではないが、延伸適正（シワ、ハンドリングなど）の観点から、１〜１０００％／ｍｉｎが好ましく、１〜１００％／ｍｉｎが更に好ましい。延伸は１段で実施しても、多段で実施してもよい。また、更に、搬送方向に対して直交する方向（横方向）に延伸を加えてもよい。

延伸工程を経たウェブは、続いて乾燥ゾーンへ搬送して延伸工程後に乾燥工程を実施してもよい。上記乾燥工程においてウェブは、テンターで両端をクリップされたり、ロール群で搬送したりしながら乾燥される。
本発明において生乾きの状態（乾燥未了状態）とは、セルロースアシレートフィルムの残留溶媒が０．１％以上であることを意味する。

＜偏光板＞
本発明の偏光板は、偏光膜と、少なくとも１枚の本発明の光学フィルムとを有し、上記光学フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いたものである。
上記偏光板は、従来公知の一般的な構成の偏光板を挙げることができ、上記偏光板の具体的な構成については、特に制限はなく公知の構成を採用できるが、例えば、特開２００８−２６２１６１号公報の図６に記載の構成を採用することができる。本発明の光学フィルムは、一般的な偏光板の一方の面上に積層させ、偏光眼鏡方式の３Ｄ映像表示システムに用いることができるパターン位相差フィルムとすることができる。上記偏光板の態様は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、帯状、すなわち、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。

偏光板の一方の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、その他方の保護フィルムには、溶液製膜法で製造され、かつ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における幅方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。

また、偏光膜の２枚の保護フィルムのうち、本発明の光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。

偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。

また偏光膜としては、公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作製される。
すなわち、連続的に供給されるポリビニルアルコール系フィルムなどのポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸して、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内で、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するように、フィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落番号００２０〜００３０に詳しい記載がある。

［画像表示装置］
本発明の光学フィルム又は偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いることができる。
特に、液晶セルと、液晶セルの少なくとも一方の面に配置された本発明の光学フィルム又は偏光板とを含み、本発明の光学フィルムにおけるハードコート層が形成された面が最表面に配置された液晶表示装置が好ましい。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１

（セルロースアシレートフィルム基材の作製）

（アセチル置換度）
セルロースアシレートのアセチル置換度については以下の方法で測定した。
アセチル置換度は、ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じて測定した。

（エア層用セルロースエステル溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、エア層用セルロースエステル溶液を調製した。

エア層用セルロースエステル溶液の組成
・セルロースエステル（アセチル置換度２．８６） １００質量部
・式（Ｉ）の糖エステル化合物 ３質量部
・式（ＩＩ）の糖エステル化合物 １質量部
・紫外線吸収剤 ２．４質量部
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ） “ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２”、日本アエロジル（株）製 ０．０２６質量部
・メチレンクロライド ３７７質量部
・メタノール ６１質量部
・ブタノール ２．６質量部

式（Ｉ）

式（ＩＩ）

紫外線吸収剤

（ドラム層用セルロースエステル溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドラム層用セルロースエステル溶液を調製した。

ドラム層用セルロースエステル溶液の組成
・セルロースエステル（アセチル置換度２．８６） １００質量部
・式（Ｉ）の糖エステル化合物 ３質量部
・式（ＩＩ）の糖エステル化合物 １質量部
・紫外線吸収剤 ２．４重量部
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ） “ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２”、日本アエロジル（株）製
０．０９１質量部
・メチレンクロライド ３３９質量部
・メタノール ７４質量部
・ブタノール ３質量部

（コア層用セルロースエステル溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、コア層用セルロースエステル溶液を調製した。

コア層用セルロースエステル溶液の組成
・セルロースエステル（アセチル置換度２．８６） １００質量部
・式（Ｉ）の糖エステル化合物 ８．３質量部
・式（ＩＩ）の糖エステル化合物 ２．８質量部
・紫外線吸収剤 ２．４重量部
・メチレンクロライド ２６６質量部
・メタノール ５８質量部
・ブタノール ２．６質量部

（共流延による製膜）
流延ダイとして、共流延用に調整したフィードブロックを装備して、３層構造のフィルムを成形できるようにした装置を用いた。上記エア層用セルロースエステル溶液、コア層用セルロースエステル溶液、及びドラム層用セルロースエステル溶液を流延口から−７℃に冷却したドラム上に共流延した。このとき、厚みの比がエア層／コア層／ドラム層＝７／９０／３となるように各ドープの流量を調整した。
直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。ドラム上で３４℃の乾燥風を３００ｍ^３／分で当てた。
そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムをドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターで把持した。剥離の際、搬送方向（長手方向）に８％の延伸を行った。

ピンテンターで保持されたセルロースエステルウェブを乾燥ゾーンに搬送した。初めの乾燥では４５℃の乾燥風を送風し、次に１１０℃で５分乾燥した。このとき、セルロースエステルウェブを幅手方向に倍率を１０％で延伸しながら搬送した。
ピンテンターからウェブを離脱させたあと、ピンテンターで保持されていた部分を連続的に切り取り、ウェブの幅方向両端部に１５ｍｍの幅で１０μｍの高さの凹凸をつけた。このときのウェブの幅は１６１０ｍｍであった。搬送方向に１３０Ｎのテンションをかけながら１４０℃で１０分乾燥した。さらに、ウェブが所望の幅になるように幅方向端部を連続的に切り取り、膜厚６０μｍの基材１を作製した。このとき、１４０℃乾燥後に切り取られる幅方向端部とウェブ中央部の膜厚は同じであった。

基材１の作製において、式（Ｉ）の糖エステル化合物および式（ＩＩ）の糖エステル化合物を全て表５のＡ−３（数平均分子量１０００）に置き換えた以外は同様にして基材２を作製した。

基材１の作製において、式（Ｉ）の糖エステル化合物および式（ＩＩ）の糖エステル化合物を全て表５のＡ−３５（数平均分子量８００）に置き換えた以外は同様にして基材３を作製した。

基材１の作製において、式（Ｉ）の糖エステル化合物および式（ＩＩ）の糖エステル化合物を全て表５のＡ−３７（数平均分子量７００）に置き換えた以外は同様にして基材４を作製した。

基材１の作製において、式（Ｉ）の糖エステル化合物および式（ＩＩ）の糖エステル化合物を全て表５のＡ−３８（数平均分子量１０００）に置き換えた以外は同様にして基材５を作製した。

（ハードコート層形成用組成物の調製）
下記表６に記載のハードコート層用塗布液Ｂ−１の組成で固形分濃度が５８質量％となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液Ｂ−１とした。
ハードコート層用塗布液Ｂ−１と同様の方法で、各成分を下記表６のように混合して溶剤に溶解してハードコート層用塗布液Ｂ−２〜Ｂ−２４を作製した（数値は質量％を表す）。

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
ＡＤ−ＴＭＰ：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
Ｉｒｇ．１２７：光重合開始剤、イルガキュア１２７（チバ・ジャパン（株）製）
ＦＰ−１：下記式で表されるフッ素系レベリング剤
（下記繰り返し単位の比は質量比である。）

ＦＰ−２：下記式で表されるフッ素系レベリング剤
（下記繰り返し単位の比は質量比である。）

ＴＳＦ４４６０：シリコーン系レベリング剤（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製）
イオン伝導性化合物ＡＳ−１
反応時間を７０℃６時間に変更した以外は、特許第４６７８４５１号公報の合成例６と同様に実施し、上記特許文献の（Ａ−６）に対応する化合物として、エチレンオキサイド鎖を有する４級アンモニウム塩基含有ポリマーであるＡＳ−１を合成した（ＧＰＣで測定した重量平均分子量：約６万）。
ＭＦＧ：プロピレングリコールモノメチルエーテル

（ハードコート層の塗設）
基材１のエア面側に、上記ハードコート層用塗布液Ｂ−１をダイコーターを用いて塗布した。６０℃で約１分間乾燥した後、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１１μｍの光学フィルムＨＣ１を形成した。
同様の方法で基材１〜５、ハードコート層用塗布液Ｂ−２〜Ｂ−２４を用いて表７の組み合わせで光学フィルムＨＣ２〜ＨＣ３２を作製した。

（光学フィルムの評価方法）
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表７に示す。
なお、光学フィルムＨＣ２８は参考例に読み替えるものとする。

（干渉ムラ）
支持体の塗布層を設けた側とは反対の面に油性黒色のインキ（補填用マジックインキ：寺西化学）を塗って裏面の光反射を防止した３０ｃｍ×３０ｃｍのサンプルを作製した。このサンプルを干渉ムラのレベルを非常に見やすくするために周囲が全て黒色の部屋で外光を遮断し、斜めから三波長蛍光灯（ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ−Ｎ／１８（松下電器産業（株）製）の付いた電気スタンド（蛍光灯部に拡散シートを貼り拡散光とする）でサンプルの表面を照射し、その時に観察される干渉ムラを目視にて評価した。
Ａ：注意深く見てもムラがあることがわからない
Ｂ：注意深く見るとわずかにムラが視認されるが気にならない
Ｃ：弱いムラが視認される
Ｄ：一目見ただけで強いムラが視認され気になる
Ｅ：一目見ただけで非常に強いムラが視認され非常に気になる

（風ムラ）
支持体の塗布層を設けた側とは反対の面に油性黒色のインキ（補填用マジックインキ：寺西化学）を塗って裏面の光反射を防止した１ｍ×０．５ｍのサンプルを作製した。このサンプルを風ムラのレベルを非常に見やすくするために周囲が全て黒色の部屋で外光を遮断し、斜めから三波長蛍光灯（ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ−Ｎ／１８（松下電器産業（株）製）の付いた電気スタンド（蛍光灯部に拡散シートは貼らない）でサンプルの表面を照射し、その時に観察される風ムラ（表面の凹凸）を目視にて評価した。
Ａ：注意深く見てもムラがあることがわからない
Ｂ：注意深く見るとわずかにムラが視認されるが気にならない
Ｃ：弱いムラが視認される
Ｄ：一目見ただけで強いムラが視認され気になる
Ｅ：一目見ただけで非常に強いムラが視認され非常に気になる

（スジ）
スジのレベルを見やすくするために暗室で評価を実施した。背後を白いスクリーンにして光学フィルムを上から１枚吊るし、Ｓ−Ｌｉｇｈｔ（日本技術センター（株）製）で塗工面から光を照射し、スクリーンに投影した。その時に観察されるスジを目視にて評価した。（評価面積：１ｍ×５ｍ）
Ａ：注意深く見てもスジは観察されない
Ｂ：注意深く見ると１〜２本弱いスジが観察されるが気にならない
Ｃ：弱いスジが数本観察される
Ｄ：強いスジが数本〜２０本観察され気になる
Ｅ：全面に強いスジが２０本以上観察され非常に気になる

（スチールウール耐擦傷性）
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とした。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ^２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキ（補填用マジックインキ：寺西化学）を塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察し、以下の基準で評価した。評価は上記テストを３回繰り返し、平均して５段階で評価した。
Ａ ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
Ｂ ：傷が数本あるが、注意深く見ないとわからない。
Ｃ ：傷が数本〜数十本見える。
Ｄ ：傷が数え切れないほどあり、一目見ただけで分かる。

（鉛筆硬度）
ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。光学フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する試験用鉛筆を用いて評価した。ハードコート性能として、硬度は３Ｈ以上であることが好ましい。

上記表に示すように、
（ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
（ｂ）メタノール
（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
を含み、（１）：（ｂ）メタノールの含有量が、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％であり、
（２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％であり、
（３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量１０質量％〜３０質量％含有するハードコート層形成用組成物を塗布して得られた光学フィルムは干渉ムラ、風ムラ、スジがなく良好な面状が得られた。

実施例２
ハードコート層用塗布液Ｂ−１と同様の方法で、各成分を下記表８のように混合して溶剤に溶解してハードコート層用塗布液Ｂ−２５〜Ｂ−２９を作製した（数値は質量％を表す）。

（低屈折率層用塗布液の作製）
各成分を以下のように混合し、全溶剤中プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが２０質量％になるように添加した後メチルエチルケトンで希釈し、最終的に固形分濃度が５質量％にした。攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて１時間攪拌後、孔径０．５μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、各低屈折率層用塗布液を得た。

低屈折率層用塗布液Ｃ−１
Ｐ−１（固形分１５．２質量％） １５７．９質量部
Ｆ−１（固形分１００質量％） ２５．０質量部
ＰＥＴ−３０（固形分１００質量％） ５．０質量部
スルーリア４３２０（固形分２０．５質量％） １７０．７質量部
ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（固形分３０質量％） １６．７質量部
Ｉｒｇ．１２７（固形分１００質量％） ３．０質量部
Ｒａｄ２６００（固形分１００質量％） １．５質量部
Ｒａｄ２５００（固形分１００質量％） ０．５質量部
ＦＭ−０７２５（固形分１００質量％） １．０質量部

低屈折率層用塗布液Ｃ−２
ＤＰＨＡ（固形分１００質量％） ５１．０質量部
スルーリア２３２０（固形分２０．５質量％） ２１５．０質量部
Ｉｒｇ．１２７（固形分１００質量％） ３．０質量部
Ｘ２２−１６４Ｃ（固形分１００質量％） ２．０質量部

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ｐ−１：特開２０１３−１３０８６５実施例に記載のエチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体Ａ
Ｆ−１：下記含フッ素多官能アクリレート化合物

ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
スルーリア２３２０：中空シリカ微粒子の分散液（日揮触媒化成（株）製）
スルーリア４３２０：中空シリカ微粒子の分散液（日揮触媒化成（株）製）
ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ：コロイダルシリカ微粒子（日産化学工業（株）製）
Ｒａｄ２６００：シリコーン変性アクリレート（ＥＶＯＮＩＫ社製、数平均分子量：１６，０００）
Ｒａｄ２５００：シリコーン変性アクリレート（ＥＶＯＮＩＫ社製、数平均分子量：１，５００）
ＦＭ−０７２５：シリコーン化合物、サイラプレーンＦＭ−０７２５（チッソ社製、数平均分子量：１０，０００）
Ｘ２２−１６４Ｃ：シリコーン化合物（信越化学工業（株）製）

（ハードコート層の塗設）
光学フィルムＨＣ１と同様の方法で基材１上にハードコート層用塗布液Ｂ−２５を用いて光学フィルムを作製した。

（低屈折率層の塗設）
上記光学フィルム上に低屈折率層形成用組成物Ｃ−１をダイコーターを用いて塗布し、光学フィルム試料Ｌｎ１を得た。乾燥条件は６０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は９５ｎｍとした。
基材、ハードコート層形成用塗布液、及び低屈折率層形成用塗布液を表９に示す組み合わせで使用した以外は光学フィルムＬｎ１と同様にしてそれぞれ光学フィルム試料Ｌｎ２〜７を得た。

実施例１に記載の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表９に示す。

表９に示すように、レベリング剤として２種のフッ素系レベリング剤を併用すると、干渉ムラ、風ムラ、スジが良好なだけではなく、ハードコート層上に低屈折率層を積層した場合でも良好な耐擦傷性が得られた。

実施例３
ハードコート層用塗布液Ｂ−１と同様の方法で、各成分を下記表１０のように混合して溶剤に溶解してハードコート層用塗布液Ｂ−３０〜Ｂ−３４を作製した（数値は質量％を表す）。

（ハードコート層の塗設）
光学フィルムＨＣ１と同様の方法で基材１上にハードコート層用塗布液Ｂ−３０〜Ｂ−３４を用いて表１１の組み合わせで光学フィルム試料ＨＣ３３〜３７を作製した。

実施例１に記載の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表１１に示す。

表１１に示すように、表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤の含有量を３０質量％以下に制限し、表面張力が２３ｍＮ／ｍ以上であり、セルロースアシレートを溶解する溶剤と、セルロースアシレートを溶解しない溶剤とを組み合わせて使用することにより、染込み量を最適に調整することができ、干渉ムラ、風ムラ、スジが良好で、かつ鉛筆硬度が良好な光学フィルムが得られた。

Claims (15)

1. 下記一般式（１）で表される構造を有する糖エステル化合物を含むセルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有し、かつ以下の（１）〜（３）の条件を満たすハードコート層形成用組成物を塗布して、ハードコート層を形成する光学フィルムの製造方法。
   （ＨＯ）_ｍ−Ｇ−（Ｌ−Ｒ_１）_ｎ 一般式（１）
   一般式（１）中、Ｇは単糖残基または二糖残基を表す。Ｒ_１はそれぞれ独立に脂肪族基または芳香族基を表す。Ｌはそれぞれ独立に２価の連結基を表す。ｍは０以上の整数、ｎは１以上の自然数である。
   （ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
   （ｂ）メタノール
   （ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
   （ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
   （１）：（ｂ）メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％である。
   （２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％である。
   （３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量で１０質量％〜３０質量％含有する。
2. 芳香環を有する少なくとも１種のジカルボン酸と、平均炭素数が２．５〜８．０である少なくとも１種の脂肪族ジオールと、から得られる重縮合エステル化合物を含むセルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有し、かつ以下の（１）〜（３）の条件を満たすハードコート層形成用組成物を塗布して、ハードコート層を形成する光学フィルムの製造方法。
   （ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
   （ｂ）メタノール
   （ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
   （ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
   （１）：（ｂ）メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％である。
   （２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％である。
   （３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量で１０質量％〜３０質量％含有する。
3. 以下の（４）の条件を満たす、請求項１又は２に記載の光学フィルムの製造方法。
   （４）：（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤の含有量は、ハードコート層形成用塗布組成物の全固形分中、０．０１〜０．５質量％である。
4. 以下の（５）の条件を満たす、請求項１又は２に記載の光学フィルムの製造方法。
   （５）：（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤の含有量は、ハードコート層形成用塗布組成物の全固形分中、０．０１〜０．０４質量％である。
5. 前記ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、前記メタノールの含有量が１０質量％〜２５質量％である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
6. 前記ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤が総量で１０質量％〜２５質量％含有する請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
7. 前記ハードコート層形成用組成物は、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ以上であり、セルロースアシレートを溶解しない溶剤を含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
8. 前記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤が、下記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（１）である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
   

   

   
   
   一般式（２）中、Ｒ_０は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。
9. 前記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤が、下記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（２）である請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
   

   

   
   一般式（３）中、Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ_２は２価の連結基を表し、ｎは１以上６以下の整数を表す。
10. 前記ハードコート層の上に更に低屈折率層を形成する工程を有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
11. 前記（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤として、請求項８に記載の光学フィルムの製造方法における前記フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）及び請求項９に記載の光学フィルムの製造方法における前記フルオロ脂肪族基含有共重合体（２）を含有する、請求項１０に記載の光学フィルムの製造方法。
12. 糖エステル化合物及び重縮合エステル化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むセルロースアシレートフィルム基材上に、以下の（ａ）〜（ｄ）を含有し、かつ以下の（１）〜（３）、及び（６）の条件を満たすハードコート層形成用組成物を塗布して、ハードコート層を形成する工程と、前記ハードコート層の上に更に低屈折率層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法。
    （ａ）多官能（メタ）アクリレート化合物
    （ｂ）メタノール
    （ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤
    （ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤
    （１）：（ｂ）メタノールの含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し１０質量％〜３０質量％である。
    （２）：（ｃ）セルロースアシレートを溶解する溶剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し２０質量％〜９０質量％である。
    （３）：ハードコート層形成用組成物中の溶剤の全質量に対し、２０℃における表面張力が２３ｍＮ／ｍ未満である溶剤を総量で１０質量％〜３０質量％含有する。
    （６）：（ｄ）シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤から選択される少なくとも１種のレベリング剤として、
    下記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ａ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（１）と、下記一般式（３）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー（Ｃ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種と、フルオロ脂肪族基を含有しないモノマー（Ｂ）に由来する繰り返し単位の少なくとも１種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体（２）を含有する。
    

    

    
    
    一般式（２）中、Ｒ_０は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。
    

    

    
    一般式（３）中、Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｌ_２は２価の連結基を表し、ｎは１以上６以下の整数を表す。
13. 前記フルオロ脂肪族基含有共重合体（１）の全固形分中に含まれる割合が０．０１〜０．２質量％であり、前記フルオロ脂肪族基含有共重合体（２）の全固形分中に含まれる割合が０．００１〜０．０１質量％である、請求項１２に記載の光学フィルムの製造方法。
14. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により作製された光学フィルムを含む偏光板の製造方法。
15. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法により作製された光学フィルム及び請求項１４に記載の偏光板の製造方法により作製された偏光板の少なくともいずれか１種を含む画像表示装置の製造方法。