JP5286218B2 - 防眩フィルム、その製造方法、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は表面に特定形状で特定頻度のくぼみを有し、内部ヘイズのない透明プラスチック基材フィルム上に透光性粒子を含有した防眩性ハードコート層を積層することで、防眩性ハードコート層内の透光性粒子の凝集を抑え、表面凹凸形状をコントロールし、防眩性に優れ、白茶けの少ない防眩フィルム、その製造方法、そのような防眩フィルム上に反射防止層を積層した反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。

光学フィルム、とりわけ反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に配置される。そのため、反射防止フィルムには高い反射防止性能の他に、高い透過率、高い物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性（耐湿熱性、耐光性など）が要求される。

映り込みを低減する方法として、ハードコート層の表面に凹凸形状を有した防眩層を形成することも一般に良く用いられる。この凹凸形状を有する防眩層の形成は、透明基材の表面に、シリカ等の無機酸化物微粒子や樹脂ビーズを含む樹脂を塗工して形成されるものが一般的である。しかし、防眩層を形成すれば容易に映り込みを抑制できる反面、外光の表面散乱のため画面が白っぽく見え、黒締まりが悪化するという現象が起こる。
上記のハードコート層と同様に防眩層上に低屈折率層を設けることで映り込みの抑制と黒締まりは改善出来るが、黒締まりはまだ、十分なレベルとは言えず、様々な改善が行われている（例えば特許文献１）。映り込み防止性を維持したまま、層の数を増やさずに黒締まりを改良する方法が望まれていた。
また、防眩層に粒子等を導入した場合に、防眩層の表面での散乱のほかに内部での散乱も考慮する必要がある。内部散乱の制御可能な基材の一態様として、表面及び内部に気泡を発生させる態様（例えば、特許文献２）が考えられる。この場合、散乱角度を制御するために気泡のサイズや分布を一様とすることが必要であるが、そのような制御は非常に難しい。また、気泡／基材の界面の屈折率差が大きいことから、内部散乱の制御は非常に困難であった。

特開２００３−２４８１１０号公報 特開２００８−２９６４２１号公報

本発明の目的は、透明プラスチック基材フィルム上に防眩性ハードコート層を積層した構成において、映り込み防止性を維持したまま黒締まりを改善した防眩フィルム、及びこのような防眩フィルムに低屈折率層を積層した反射防止フィルムを提供することである。更には、このような防眩フィルム又は反射防止フィルムを具備した偏光板及び画像表示装置を提供することである。また、このような防眩フィルムの製造方法を提供することである。

本発明者は、鋭意検討の結果、透明プラスチック基材フィルムの表面に、特定形状で特定頻度のくぼみをもたせ、内部ヘイズを抑制し、透光性粒子と透光性樹脂により形成された防眩性ハードコート層を積層することで、防眩層１層で映り込み防止を維持したまま、黒締まりを改善する方法を見出し、本発明の完成に至った。
本発明の主な特徴は、特定形状で特定頻度のくぼみを有しつつ、内部ヘイズのない透明プラスチック基材フィルムの製造を可能とし、そこに防眩性ハードコート層を積層することで、上記従来の課題を解決したことにある。
本発明は、透明プラスチック基材フィルム上に透光性粒子を含有した防眩性ハードコート層を有する防眩フィルムにおいて、透明プラスチック基材フィルムに特定のくぼみを持たせると、防眩効果が増し、同じ防眩性を得るために透光性粒子を減少させることができ、結果として、映り込み防止効果を維持したまま黒締まり性を改善出来ることを見出したことに基く。

本発明は、以下の通りである。
１．
透明プラスチック基材フィルム上に少なくとも防眩性ハードコート層を有する防眩フィルムであって、該透明プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の表面に独立したくぼみを有し、該くぼみの深さが３μｍ以下であり、該くぼみの平均長径長が０．５〜２０μｍであり、該透明プラスチック基材フィルムの表面における該くぼみの個数が２５〜３０００個／ｍｍ^２であり、かつ該防眩性ハードコート層は少なくとも１種の透光性樹脂と少なくとも１種の透光性粒子を含有する層であることを特徴とする防眩フィルム。
２．
前記透明プラスチック基材フィルムの内部ヘイズが５％以下であることを特徴とする上記１に記載の防眩フィルム。
３．
前記透明プラスチック基材フィルムのくぼみを有する側の表面において、平坦な部分から厚み方向に５〜１５μｍの内部空隙率は、１０％以下であることを特徴とする上記１又は２に記載の防眩フィルム。
４．
前記透明プラスチック基材フィルムの表面におけるくぼみの個数が２００〜１０００個／ｍｍ^２であることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の防眩フィルム。
５．
前記透明プラスチック基材フィルムのくぼみの平均長径長が１．０〜５．０μｍであることを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の防眩フィルム。
６．
前記防眩性ハードコート層の平均膜厚が８〜４０μｍであることを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載の防眩フィルム。
７．
前記防眩性ハードコート層に含まれる少なくとも１種の透光性粒子の平均粒径が５．５〜１５μｍであることを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の防眩フィルム。
８．
前記透明プラスチック基材フィルムが、セルロースアシレート系ポリマーを主成分とすることを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載の防眩フィルム。
９．
前記透明プラスチック基材フィルムが、
誘電率が３５以上の溶媒を含む少なくとも２種類以上の互いに相溶しない溶媒を含む混合溶媒中に、ポリマー組成物を溶解してポリマー溶液を調製し、該ポリマー溶液を製膜することによって得られたフィルムであることを特徴とする上記１〜８のいずれかに記載の防眩フィルム。
１０．
前記混合溶媒が、誘電率が３５以上の溶媒を０．３〜３０質量％含む溶媒であることを特徴とする上記９に記載の防眩フィルム。
１１．
前記混合溶媒が、更に誘電率が２〜１０未満の溶媒及び誘電率が１０〜３５未満の溶媒を含むことを特徴とする上記９又は１０に記載の防眩フィルム。
１２．
前記誘電率が３５以上の溶媒が、水であることを特徴とする上記９〜１１のいずれかに記載の防眩フィルム。
１３．
前記防眩性ハードコート層の上に、直接又は他の層を介して、前記防眩性ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を積層してなることを特徴とする上記１〜１２のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１４．
偏光膜と該偏光膜の両側に保護フィルムを有する偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムが上記１〜１２のいずれかに記載の防眩フィルム又は上記１３に記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
１５．
上記１〜１２のいずれかに記載の防眩フィルム、上記１３に記載の反射防止フィルム又は上記１４に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置
１６．
誘電率が３５以上の溶媒を含む少なくとも２種類の互いに相溶しない溶媒を含む混合溶媒中に、ポリマー組成物を溶解してポリマー溶液を調製し、該ポリマー溶液を製膜し、透明プラスチック基材フィルムを調製する工程と、該調製された透明プラスチック基材フィルム上に防眩性ハードコート層を設ける工程とを有することを特徴とする防眩フィルムの製造方法。

本発明の防眩フィルム、特に表面に低屈折率層を積層した反射防止フィルムは、映り込み防止性に優れ、黒締まり、大量生産性にも優れる。
また、本発明の防眩フィルム又は反射防止フィルムを表面保護フィルムとして用いた偏光板及び画像表示装置は、光学性能に優れ、安価で大量に供給することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。また、本発明では、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」の用語を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護フィルムを有する積層体を意味するものとする。また、ポリマーフィルム、偏光板及び画像表示装置の技術分野等、本発明が属する技術分野で許容されている誤差は、本明細書中に記載の数値範囲についても許容されるであろう。

［透明プラスチック基材フィルム］
本発明で用いる透明プラスチック基材フィルム（単に基材フィルムとも称する）は、均一な組成物からなる基材フィルムであり、そのフィルム表面に独立したくぼみを有し、該くぼみの深さが３μｍ以下であり、該くぼみの平均長径長が０．５〜２０μｍであり、フィルム表面における該くぼみの個数が２５〜３０００個／ｍｍ²であることを特徴とする。

（くぼみ）
本発明の基材フィルムの有するくぼみについて説明する。本発明におけるくぼみは、平均長径長が０．５〜２０μｍであるものを言う。
本発明の独立したくぼみの「独立した」とはそれぞれのくぼみが実質的に離れて存在することを意味する。離れて存在するとは、例えば表面から観察したときのくぼみの形状が円形の場合、だるま状に繋がって存在しないことを意味する。実質的にとは９０％以上が離れて存在することを意味する。
くぼみの個数を上記範囲とすることで、独立したくぼみを形成することができる。
基材フィルムのくぼみの平均長径長は０．５〜２０μｍであり、防眩性に適度に影響を及ぼすために、１〜１０μｍであることが好ましく、１〜８μｍであることがより好ましい。基材フィルムのくぼみの平均長径長が上記範囲にあることにより、透光性粒子がくぼみ付近に集まり、映り込み防止性を維持したまま、黒締まりを改善できる。
平均長径長が０．５μｍ未満であると、くぼみが小さすぎて透光性粒子を集める効果が得られない、２０μｍを超えるとヘイズが上昇し好ましくない。
なお、本明細書中、くぼみの長径とは、フィルム表面に形成されているくぼみ開口部（くぼみの端部）を結ぶ径の内、最も長い径のことを言う。くぼみの直径は画像処理ソフト（例えば、Image Pro Plus）を使用して、フィルムの面方向の各くぼみを認識し、それぞれの最も長い部分を測定することによって測定を行った。くぼみの平均長径長は、フィルム表面１ｍｍ²を１つを任意に選び、そこに存在するくぼみの長径の平均値のことをいう。
くぼみの深さは３μｍ以下であり、防眩性に適度に影響を及ぼすために、０．５〜３μｍであるのがより好ましく、０．８〜２．８μｍがより好ましく、１．０〜２．５μｍが特に好ましい。くぼみの深さをこの範囲に制御することで、透光性粒子の面方向の動きに影響を及ぼすことができ、映り込み防止性を維持したまま、黒締まりを改善することができる。い。くぼみの深さとは、特定の大きさのサンプルフィルム表面における、平均長径長が０．５〜２０μｍである全くぼみの深さの平均値のことを言う。くぼみの深さが３μｍを超えると、くぼみに起因する、表面凹凸ができ、黒締まりが悪化し、好ましくない。
また、前記くぼみの２つのくぼみ間の平均間隔は拡散性能の調整の観点から１〜５００μｍであるのが好ましく、５〜２００μｍであるのがより好ましく、１０〜１００μｍであるのが特に好ましい。なお、本明細書中、２つのくぼみ間の平均間隔とは、すべてのくぼみについて、それに最も近いくぼみとの中心間の距離を測定し、その合計をくぼみの数で割った値のことを言う。

なお、本明細書では、フィルムのくぼみの深さ、平均長径長及び平均間隔は、表面形状測定装置によって測定される表面形状から算出される値を意味するものとする。表面形状測定装置としては、光干渉方式の計測装置を用いることもでき、触針式の計測装置を用いることもできる。光干渉方式の装置としては、三次元非接触表面形状計測システム（マイクロマップＭＭ５０００シリーズ；（株）菱化システム製）等を用いることができ、触針式の装置としては、触針式表面形状測定器（Ｄｅｋｔａｋ ６Ｍ；アルバック イーエス（株）製）等を用いることができる。なお、このような表面形状測定装置によって各くぼみにおけるフィルム表面からくぼみの最深部までの距離を自動的に測定及び算出することができ、全くぼみについてこのような測定を行うことでくぼみの深さ（すなわち、全くぼみの深さの平均値）を算出することができる。

基材フィルムは、フィルム表面における前記くぼみの個数が２５〜３０００個／ｍｍ²である。２５個／ｍｍ²以上にすることで映り込み防止効果を発現させることができ、３０００個／ｍｍ²以下とすることで、黒締まりを抑制することができる。くぼみの個数は２００〜２０００個／ｍｍ²であることが好ましく、３００〜１０００個／ｍｍ²であることが更に好ましく、２００〜１０００個／ｍｍ^２であることが特に好ましい。

本発明の基材フィルムは、フィルム表面における前記くぼみの個数分布の標準偏差が平均個数に対して±２０％であることが、面内均一な黒締まりを得る上で好ましい。前記フィルム表面における前記くぼみの個数分布の標準偏差は平均個数に対して±１０％であることがより好ましく、平均個数に対して±５％であることが特に好ましい。
ここで平均個数とは、フィルム表面から１ｍｍ²の領域を１００ヶ所任意に選び、それぞれに存在するくぼみの個数の平均値を算出することで得られる。

本発明の基材フィルムは、前記くぼみの深さの標準偏差が平均深さに対して±２０％であることが、映り込み防止性を維持しつつ、良好な黒締まりを得る上で好ましい。前記フィルム表面における前記くぼみの個数分布の標準偏差は平均深さに対して±１０％であることがより好ましく、平均深さに対して±５％であることが特に好ましい。また、くぼみの個数平均分布は、単分散で、くぼみが均一に分布しているフィルムが好ましい。
ここで平均深さとは、くぼみを１００個任意に選び、それらの深さの平均値を意味する。

前記くぼみをフィルム面に垂直な方向から観察した際のくぼみ開口部の形状は、円形状であっても多角形状であっても、楕円状であってもその他の曲線で囲まれる図形状であってもよいが、円形状に近いことが高全光透過率の観点から好ましい。前記くぼみが円形状であるときの円相当径（投影面積円相当径）は、０．５〜２０μｍであることが拡散性能の調整の観点から好ましく、１〜１０μｍであることがより好ましく、１〜８μｍであることが特に好ましい。同様に、前記くぼみをフィルム面に垂直な方向から観察した際のくぼみ底部に形成されていてもよい平面部の形状は、円形状であっても多角形状であっても、楕円状であってもその他の曲線で囲まれる図形状であってもよいが、円形状に近いことが高全光透過率の観点から好ましい。
また、前記くぼみの平均長径長と平均短径長の比（アスペクト比）は、０．８〜１．２であることが高全光透過率の観点から好ましく、０．８５〜１．１５であることがより好ましく、０．９〜１．１であることが特に好ましい。

（くぼみの断面形状）
前記くぼみの断面形状の好ましい形状について説明する。なお、ここでいう断面形状とは、フィルムを平坦な面に置いた時に厚み方向に垂直に切削した断面図における形状を表す。
前記くぼみの断面形状は最深部の深さが３μｍ以下であり、開口部の平均長径長が０．５〜２０μｍである以外に特に制限はないが、下に凸であることが好ましく、フィルム表面と概ね平行な底部と、前記底部とくぼみ開口部とを連結する側部から構成されることがより好ましい。このような形状の代表例として、カップ状のような形状が好ましい。前記カップ状とは、コーヒーカップやティーカップのように、くぼみの横幅のうち少なくとも２５％がフィルム表面と概ね平行なくぼみ底部と、前記底部からくぼみ開口部に向かってゆるやかにカーブを描き、くぼみ端部の開口部ではフィルム表面に対して概ね垂直な面になっているくぼみ側部（両側部）とをもつ形状を言う。その意味でクレーター状やサイクロイド曲線状などもカップ状の形状に含まれる。
くぼみの断面形状として球状、方形状が考えられるが、球状では曲率が高いため、ややヘイズが高くなる傾向にある。

この様な特性の表面性状は、後述する本発明の製造方法によってフィルムを作製することによって形成されるものであり、通常のエンボス加工や、微粒子を分散含有させることによっては達成し得ない。なお、表面にくぼみをつけることは、例えば、表面を紙ヤスリで削ることや微細な粒子（砂やシリカ粒子など）を表面に当てることでも可能だが、これらの場合、形状はランダムに近いものとなり、本発明のフィルムの有するくぼみの形状の範囲が上記範囲から外れるため、充分な光学特性が得られない。

また本発明の基材フィルムは、エンボス加工など熱や加圧による方法で表面形状を変化させてフィルム表面にくぼみを形成した場合よりも、防眩性ハードコート層を積層した時の光学特性改善効果が大きい。本発明の基材フィルムの表面形状は、自発的な構造形成によるものであるため、フィルムの表面付近の残留応力が小さいという特徴を持つ。そのため、表面凹凸の熱膨張係数や湿度膨張係数といった寸法変化率が小さいという特長を有しており、これは熱がかかった状態で顕著に表れ、とりわけ比較的親水的なセルロース系ポリマー、とくにセルロースアシレート系ポリマーを主ポリマーとして用いたフィルムでは、特に顕著に表れる。

本発明における基材フィルムの表面は、くぼみ以外の部分は平坦であること（すなわち平坦部を有すること）が好ましい。

（その他の特性）
本発明の基材フィルムのヘイズは、２０％以下であるのが好ましく、１５％以下であるのがより好ましい。また内部ヘイズは５％以下が好ましく、３％以下がより好ましく、２％以下が更に好ましい。
基材の表面にくぼみをつける時に、基材の内部に空隙を作らないことで、全ヘイズ及び、内部ヘイズの上昇を抑えることができる。このような要件を満たした基材フィルムは、後述の製造方法を用いることで作製することができる。
なお、ヘイズは、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００；日本電色工業（株）製）により測定することができる。内部ヘイズは、間隔が１ｍｍに調整された一対のガラス板の間にフィルムを入れ、フィルムと同等の屈折率を有するオイルを注入した上でヘイズを測定することによって得られる。

本発明の基材フィルムの全光透過率は７０％以上であることが好ましく、８０〜９９％であることがより好ましく、８５〜９８％であることが特に好ましい。
全光線透過率を上記の範囲に制御するためにも、基材の表面にくぼみをつける時に基材の内部に空隙を作らないことが重要である。

（組成）
本発明の基材フィルムは、均一な組成物からなる。すなわち、均一な組成物であればフィルム内部で発生するヘイズを低減させることができるため、内部ヘイズを抑制しながら表面にくぼみを形成することができ、また、均一な組成物であれば製造過程で発生するフィルム屑を回収して原料に混ぜて使っても品質が低下しないため、コストを低減させることが可能となる。ここで、均一な組成物とは、光の散乱を起こすサイズの、例えば粒子のような物質を実質的に含まないことを表し、実質的に含まないとは、光の散乱を起こすサイズの異物起因のヘイズが、全ヘイズ中の５％未満の寄与率であることを表す。
同様に、本発明の基材フィルムは、前記くぼみも均一な組成物で形成されているため、全光透過率を上昇させ、かつコストを低減することができる。

本発明の基材フィルムは、ポリマー組成物からなる。利用するポリマーに制限はないが、可視光に対して光透過性の高いポリマーから選択するのが好ましい。また、後述する本発明の方法により製造する場合は、溶液製膜可能なポリマー材料から選択するのが好ましい。使用可能なポリマー材料の例には、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエステル、ポリスチレン、スチレン系共重合体、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート系共重合体、ポリ塩化ビニリデン等が含まれる。但し、これらに限定されるものではない。貼り合せる偏光膜が、通常、ポリビニルアルコール膜であることを考慮すると、これと親和性があり、接着性が良好な、セルロースアシレート、ポリビニルアルコールを主成分のポリマーとして含有することが好ましく、経時安定性の観点からセルロースアシレートが好ましい。ここで、「主成分としてのポリマー」とは、フィルムが単一のポリマーからなる場合には、そのポリマーのことを示し、複数のポリマーからなる場合には、構成するポリマーのうち最も質量分率の高いポリマーのことを示す。

使用可能なセルロースアシレートについて更に説明する。
セルロースアシレートフィルムの原料のセルロースとしては、綿花リンター、ケナフ、木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）等があり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。

セルロースアシレートは、セルロースとカルボン酸とのエステルである。前記セルロースアシレートは、セルロースを構成するグルコース単位の２位、３位及び６位に存在するヒドロキシル基の水素原子の全部又は一部が、アシル基で置換されている。アシル基の炭素原子数は２〜２２のであることが好ましく、２〜４であることがより好ましい。前記アシル基の例としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、及び、シンナモイル基が挙げられる。前記アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ピバロイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が最も好ましい。
セルロースアシレートは、セルロースと複数のカルボン酸とのエステルであってもよい。すなわち、セルロースアシレートは、複数のアシル基で置換されていてもよい。

セルロースアシレートのセルロースの水酸基に置換されているアセチル基（炭素数２）の置換度をＳＡとし、セルロースの水酸基に置換されている炭素数３以上のアシル基の置換度をＳＢとしたとき、ＳＡ及びＳＢを調整することにより、本発明の製造方法により製造されるセルロースアシレートフィルムのヘイズを調整することができる。
本発明の基材フィルムである、本発明の製造方法により製造されるセルロースアシレートフィルムに求めるヘイズにより、適宜、ＳＡ＋ＳＢを調整することとなるが、好ましくは２．７０＜ＳＡ＋ＳＢ≦３．００、より好ましくは２．８０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．００であり、更に好ましくは２．８５≦ＳＡ＋ＳＢ≦２．９８である。ＳＡ＋ＳＢを大きくすることによりヘイズを高くしやすい傾向がある。
また、ＳＢを調整することによっても、本発明の製造方法により製造されるセルロースアシレートフィルムのヘイズを調整することができる。ＳＢを大きくすることにより、ヘイズを高くしやすい傾向があると同時に、フィルムの弾性率や融点が下がる。フィルムのヘイズとその他の物性とのバランスを考慮すると、ＳＢの範囲は、好ましくは０≦ＳＢ≦２．９、より好ましくは０．５≦ＳＢ≦２．５であり、更に好ましくは１≦ＳＢ≦２．０である。なお、セルロースの水酸基がすべて置換されているとき、上記の置換度は３となる。

セルロースアシレートの合成方法は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行発明協会）ｐ．７〜１２に詳細に記載されているので、参照することができる。

本発明の基材フィルムは、主原料となる１種又は２種以上のポリマーとともに、添加剤を含有していてもよい。添加剤の例には、可塑剤（好ましい添加量はポリマーに対して０．０１〜２０質量％、以下同様）、紫外線吸収剤（０．００１〜１質量％）、フッ素系界面活性剤（０．００１〜１質量％）、剥離剤（０．０００１〜１質量％）、劣化防止剤（０．０００１〜１質量％）、光学異方性制御剤（０．０１〜１０質量％）、赤外線吸収剤（０．００１〜１質量％）等が含まれる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、微量の有機材料、無機材料及びそれらの混合物からなる粒子を分散含有していてもよい。これらの粒子は、製膜時におけるフィルムの搬送性向上を目的として添加される。この目的を達成し、本発明の効果を損なわないためには、粒子の粒径は５〜３０００ｎｍであるのが好ましく、屈折率は基材フィルムの屈折率との差が０〜０．５であるのが好ましく、添加量は１質量％以下であるのが好ましい。例えば、無機材料の粒子の例には、酸化珪素、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の粒子が含まれる。有機材料の粒子の例には、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、スチレン系樹脂、メラミン系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等が含まれる。

［透明プラスチック基材フィルムの製造方法］
本発明の透明プラスチック基材フィルムの製造方法の一例は、以下の通りである。以下の方法によれば、煩雑な操作や特別な装置等が不要であり、簡易に本発明の基材フィルムを製造することができる。
まず、ポリマー組成物の溶液を調製する。該溶液中のポリマーの濃度は、５〜４０質量％であるのが好ましく、１０〜２５質量％であるのがより好ましく、１０〜１５質量％であることが更に好ましい。濃度が好ましい範囲であると、製膜性向上の観点や、ロングランに伴ってフィルムに発生するスジ状故障低減の観点から好ましい。
本発明では、ポリマー溶液の調製の際に、溶媒として、誘電率が３５以上の溶媒を含む少なくとも２種類以上の互いに相溶しない溶媒を含む混合溶媒を用いることを特徴とし、これにより表面形状が適切に制御されたフィルムを製造することができる。通常は互いに相溶する溶剤でポリマー溶液を作成するため、表面にくぼみがないフィルムであることが多く、また、溶剤組成の調整により表面にくぼみを形成させたとしても、同時にフィルム内部に空隙のあるフィルムとなってしまう。そして、このようなフィルムでは、内部ヘイズが上昇してしまうため、ヘイズ値の上昇抑制と干渉斑を防止とを両立させることができない。本発明では誘電率が３５以上の溶媒を含む少なくとも２種類以上の互いに相溶しない混合溶媒を含む溶媒中に、ポリマー組成物を溶解してポリマー溶液を調製する工程、及びポリマー溶液を製膜することで、本発明で規定する形状の微細なくぼみを表面に有するフィルムが得ることができる。なお、本発明における基材フィルムは、基材フィルムのくぼみ近傍の内部空隙率が低いという特徴も有しており、具体的には、くぼみを有する側の面で平坦な部分から厚み方向に５〜１５μｍのフィルムの内部空隙率が１０％以下（体積比）であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましく、２％以下であることが特に好ましい。くぼみを有する側の面で平坦な部分から厚み方向に５〜１５μｍの内部空隙率は、断面ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を基にくぼみのある面で平坦な部分から厚み方向に５〜１５μｍに対応する部分の全段面積に対する空隙部分の比によって算出することができる。
くぼみ近傍の内部空隙率が１０％を超えると、内部ヘイズの原因となる上、ハードコート層を積層した後の鉛筆硬度低下の原因となり、好ましくない。

本発明で高誘電率溶媒特を使った場合に内部空隙率が低い理由は、次のように考えられる。内部空隙は製膜時の乾燥過程で出来た微小液滴が最終的に、液滴内の溶媒が乾燥することにより形成される。誘電率が３５以上の溶媒、特に水はポリマー（好ましくはセルロースアシレート）との相溶性が著しく悪く、乾燥過程で、系外に排除されるため、微小液滴は系内には出来にくく、系外との境界であるフィルム表面に集中する。
溶媒の誘電率が低くなると、セルロースアシレートとの相溶性が徐々に上昇し、系内に液滴が出来易くなり、内部空隙が形成され易くなる。

（溶媒）
本発明においては、具体的には、誘電率が３５以上の溶媒（以下、「高誘電率溶媒」という）を０．３質量％以上含む溶媒を用いることが好ましく、フィルムの表面形状をより適切に制御することができる。高誘電率溶媒を０．５質量％以上含む溶媒を用いるのがより好ましく、安定性の観点から高誘電率溶媒を１．０質量％以上含む溶媒を用いるのが更に好ましい。一方、高誘電率溶媒の割合が高すぎると、ポリマーが溶解し難くなり、ポリマー溶液の調製が困難になったり、ポリマー溶液を調製できてもヘイズが高いドープとなってしまい、ドープの経時安定性が悪化したり、フィルム中の異物が増加することがある。この観点では、高誘電率溶媒は、３０質量％以下であるのが好ましく、１０質量％以下であるのがより好ましく５質量％以下であるのが更に好ましい。高誘電率溶媒を所定の範囲で含有する溶媒を用いて調製されたポリマー溶液を製膜することで、製膜時に又は製膜後に溶媒が蒸発する際に、溶液中でポリマーと高誘電率溶媒との相分離が起こると考えられる。その結果、本発明の基材フィルムが有するような、表面に微細なくぼみがより得やすくなる。さらに、効果的に表面の微細なくぼみを形成させる観点から、高誘電率溶媒の沸点は、後述の低沸点溶媒の沸点よりも高いことが好ましく、５℃以上高いことがより好ましく、１０℃以上高いことが更に好ましく、また、両者が共沸しないことが好ましい。

本発明の基材フィルムの製造方法では、ドープ（ポリマー溶液）のヘイズ（τ０）と、乾燥後の膜のヘイズ（τ１）とが、下記式（Ｉ）を満足することが好ましく、特にポリマー溶液のヘイズは、ドープの溶解性に相関するパラメータであり、これが下記範囲内であるとドープの経時安定性を十分に確保したり、製膜後のフィルムに存在する異物を低減したりすることができる。
（Ｉ） τ０＜τ１
ポリマー溶液のヘイズτ０は、０．２〜５０％程度であることが好ましく、０．２〜３０％であることがより好ましく、０．３〜１０％であることが更に好ましい。

ここで、溶媒の誘電率について記載する。誘電率は電束密度Ｄと電場Ｅとの関係Ｄ＝εＥを与えるεをいい、溶剤分子の分極のし易さと相関を有するパラメータである。溶媒の誘電率の値は、例えば、日本化学会編「化学便覧基礎編Ｉ（改訂５版）」Ｉ−７７０頁に「比誘電率」として掲載されている。

高誘電率溶媒の例には、水（誘電率７８）、グリセリン（誘電率４３）、エチレングリコール（誘電率３７）、ジメチルホルムアミド（誘電率３７）、アセトニトリル（誘電率３８）、ジメチルスルホキシド（誘電率４９）、ギ酸（誘電率５８）、ホルムアミド（誘電率１１０）が含まれる。中でも、製膜過程での乾燥性や安全性といった取り扱い性の観点から水が好ましい。高誘電率溶媒の沸点は、製膜時の表面形状制御の観点から７０〜３００℃が好ましく、更に好ましくは８０〜２５０℃、最も好ましくは９０〜２１０℃である。

高誘電率溶媒とともに、少なくとも１種のポリマーの良溶媒である有機溶媒を主溶媒として用いるのが好ましい。主溶媒の種類については特に制限はないが、前記高誘電率溶媒と互いに相溶しないことが好ましく、前記高誘電率溶媒と前記ポリマーの主溶媒以外の溶媒を用いない場合は前記ポリマーの主溶媒は前記高誘電率溶媒と互いに相溶しない溶媒である必要がある。前記主溶媒は、沸点が８０℃以下の有機溶媒（低沸点溶媒）が乾燥負荷低減の観点からより好ましい。前記主溶媒の沸点は、１０〜８０℃であることが更に好ましく、２０〜６０℃であることが特に好ましい。また、場合により沸点が３０〜４５℃である有機溶媒も前記主溶媒として好適に用いることができる。このような主溶媒としては、ハロゲン化炭化水素を特に好ましく挙げることができ、場合により、エステル、ケトン、エーテル、アルコール及び炭化水素などが挙げることもでき、これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。また、前記主溶媒は、エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの官能基（即ち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれかを二つ以上有していてもよい。さらに、前記エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子（特に、フッ素原子）で置換されていてもよい。なお、本発明の製造方法に用いるポリマー溶液の主溶媒とは、単一の溶媒からなる場合には、その溶媒のことを意味し、複数の溶媒からなる場合には、構成する溶媒のうち、最も質量分率の高い溶媒のことを意味する。

また、これら主溶媒と併用される有機溶媒としては、前記高誘電率溶媒の他に、ハロゲン化炭化水素、エステル、ケトン、エーテル、アルコール及び炭化水素などを挙げることもでき、これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。また、前記有機溶媒としては、エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの官能基（即ち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれか二つ以上を有していてもよい。さらに、前記エステル、ケトン、エーテル及びアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子（特に、フッ素原子）で置換されていてもよい。なお、前記ポリマーの主溶媒が前記高誘電率溶媒と互いに相溶する溶媒である場合は、本発明では主溶媒と併用される有機溶媒が前記高誘電率溶媒と互いに相溶しない溶媒である必要がある。

前記ハロゲン化炭化水素としては、塩素化炭化水素がより好ましく、例えば、ジクロロメタン及びクロロホルムなどが挙げられ、ジクロロメタンが更に好ましい。
前記エステルとしては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテートなどが挙げられる。
前記ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノンなどが挙げられる。
前記エーテルとしては、例えば、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトールなどが挙げられる。
前記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどが挙げられる。
前記炭化水素としては、例えば、ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。

主成分としてのポリマーがセルロースアシレートである場合、上記の溶媒の中でも、前記高誘電率溶媒とともに、誘電率が１０以上３５未満の溶媒（本明細書中で「中誘電率溶媒」ということがある）と、誘電率が２〜１０未満の低誘電率の溶媒（本明細書中で「低誘電率溶媒」ということがある）とを混合した溶媒を利用すると、高透明性のポリマー溶液を安定的に調製できるので好ましい。すなわち、表面形状制御の観点からは、前記高誘電率溶媒を用いることが好ましく、ポリマーの溶解性向上の観点からは、低誘電率溶媒を用いることが好ましいが、これらの溶媒は相溶性が悪く、ドープの安定性が劣るため、中誘電率溶媒を併用することにより、相溶性を向上させることができ、フィルムの表面形状制御とドープ安定性との両立範囲を拡張し、製造適性を向上させることができるのである。前記中誘電率溶媒は、溶媒中に０．３〜３０質量％含有されることが好ましく、１〜１５質量％がより好ましく、２〜１０質量％が更に好ましい。
混合溶媒中の低誘電率溶媒の含有量は４０〜９９．５質量％であることが好ましく、６０〜９９質量％であることがより好ましく、７０〜９８質量％であることが特に好ましい。

前記中誘電率溶媒の例には、上記アルコール類、ケトン類、エーテル類が含まれ、具体的には、アセトン（誘電率２１）、メチルエチルケトン（誘電率１９）、ジエチルケトン（誘電率１４）、ジイソブチルケトン（誘電率１５）、シクロペンタノン（誘電率１９）、シクロヘキサノン（誘電率１８）、メチルシクロヘキサノン（誘電率１８）、２−エトキシ酢酸エチル（誘電率１１）、２−メトキシエタノール（誘電率３０）、１，２−ジアセトキシアセトン（誘電率１６）、アセチルアセトン（誘電率１７）、アセト酢酸エチル（誘電率１６）、メタノール（誘電率３３）、エタノール（誘電率２４）、１−プロパノール（誘電率２２）、２−プロパノール（誘電率２２）、１−ブタノール（誘電率１７）、２−ブタノール（誘電率１６）、tert−ブタノール（誘電率１１）、１−ペンタノール（誘電率１４）、２−メチル−２−ブタノール（誘電率１３）、シクロヘキサノール（誘電率１５）等が含まれる。

前記低誘電率溶媒の例には、上記ハロゲン化炭化水素類、エステル類が含まれ、具体的には、ジクロロメタン（誘電率９）、ジメトキシエタン（誘電率６）、１，４−ジオキサン（誘電率２）、１，３−ジオキソラン（誘電率３）、１，３，５−トリオキサン（誘電率３）、テトラヒドロフラン（誘電率８）、アニソール（誘電率４）及びフェネトール（誘電率４）、蟻酸エチル（誘電率９）、蟻酸ｎ−プロピル（誘電率６）、蟻酸ｎ−ペンチル（誘電率６）、酢酸メチル（誘電率７）、酢酸エチル（誘電率６）、酢酸ｎ−ペンチル（誘電率５）、２−ブトキシエタノール（誘電率９）等が含まれる。

これらの溶媒の中でも、水と、アルコール類の少なくとも一種と、ハロゲン化炭化水素類の少なくとも一種との混合溶媒が好ましく、水を０．３〜３０質量％、アルコール類の少なくとも一種を１〜３０質量％、及びハロゲン化炭化水素類の少なくとも一種を６０〜９９質量％含有する混合溶媒がより好ましい。中でも、水（誘電率７８）と、メタノール（誘電率３３）と、ジクロロメタン（誘電率９）との混合溶媒が好ましい。水の含有量は含有量の安定性の観点から０．５質量％以上が好ましい。また、ポリマーの溶解性やポリマー溶液の粘弾性特性といった製膜性を考慮すると、０．５〜１０質量％がより好ましく、１〜５質量％が更に好ましい。また、アルコール類の含有量はポリマーの溶解性や、ロングランに伴ってフィルムに発生するスジ状故障低減を始めとする製膜性を考慮すると、３〜２０質量％がより好ましく、５〜１０質量％が更に好ましい。そして、主溶媒以外の溶媒の合計比率の好ましい範囲は、これらの組み合わせとして、０．８〜４０質量％であることが好ましく、２〜３５質量％であることがより好ましい。

ポリマー溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。一例として、一旦、低温にて、溶媒中でポリマー及び所望により添加される添加剤を膨潤させつつ、溶解を進行させる工程（膨潤工程）と、その後、加熱及び加圧下で、ポリマー等を完全に溶解させる工程（溶解工程）とを含む方法である。
膨潤工程では、溶媒の温度を−１０〜３９℃程度の低温に維持する。膨潤工程時には、攪拌を実施し、ポリマー等の一部又は全部について、溶媒中への溶解を進行させるのが好ましい。膨潤工程は、一般的には、０．１〜６時間程度行うことが好ましい。
次に、溶解工程では、溶媒の温度を４０〜２４０℃程度の温度まで加熱するとともに、０．２〜３０ＭＰａ程度まで加圧するのが好ましい。但し、この範囲に限定されるものではなく、溶質及び溶媒の種類に応じて決定される。溶解工程は、０．１〜６時間程度行うことが好ましい。

次に、得られたポリマー溶液を製膜する。製膜は、一般的なソルベントキャスト法に従って行うことができる。具体的には、調製したポリマー溶液を、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させて製膜する。前記ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。本発明の製造方法に基づくドープは、単層で流延してもよく、複数層で共流延してもよい。複数層で共流延する場合には、多層シート・フィルム製造で一般的に用いられる方法を用いることができ、例えば、層数の調整が容易なフィードブロック法や、各層の厚み精度に優れるマルチマニホールド法を用いることができ、本発明においては、フィードブロック法をより好ましく用いることができる。また、製膜方法が複数層を同時又は逐次流延する共流延である場合、特に層が３層以上の場合には、ヘイズ上昇の観点からは、本発明の製造方法に基づくドープは、表層若しくは表層の次の層に用いられることが好ましい。本発明の製造方法に基づくドープが表層の次の層に用いる場合には、表層の厚みは１０μｍ、又はフィルム総厚みの１０％のうちの小さい方の厚み以下であることが好ましく、５μｍ又は５％以下であることがより好ましく、３μｍ又は３％以下であることが更に好ましく、このような場合、経時でのギーサー汚れが低減されることがあるため好ましい。また、前記ドラム又はバンド表面からの剥離性の観点からは、本発明の製造方法に基づくドープは、支持体と直接接触しない層に用いられることが好ましい。
ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、例えば、特開昭５８−１２７７３７号公報、同６１−１０６６２８号公報、特開平２−２７６８３０号公報、同４−２５９５１１号公報、同５−１６３３０１号公報、同９−９５５４４号公報、同１０−４５９５０号公報、同１０−９５８５４号公報、同１１−７１４６３号公報、同１１−３０２３８８号公報、同１１−３２２９４６号公報、同１１−３２２９４７号公報、同１１−３２３０１７号公報、特開２０００−５３７８４号公報、同２０００−２７３１８４号公報、同２０００−２７３２３９号公報、米国特許第２３３６３１０号明細書、米国特許第２３６７６０３号明細書、米国特許第２４９２０７８号明細書、米国特許第２４９２９７７号明細書、米国特許第２４９２９７８号明細書、米国特許第２６０７７０４号明細書、米国特許第２７３９０６９号明細書、米国特許第２７３９０７０号明細書、英国特許第６４０７３１号明細書、英国特許第７３６８９２号明細書、特公昭４５−４５５４号公報、特公昭４９−５６１４号公報、特開昭６０−１７６８３４号公報、特開昭６０−２０３４３０号公報、特開昭６２−１１５０３５号公報に記載のものを採用できる。
前記ドープは、表面温度が１０℃以下の、ドラム及びバンド等の支持体上に流延することが好ましい。

本発明の方法では、上記ポリマー溶液を支持体上で製膜し、その後、剥ぎ取った後に、更に乾燥することが好ましい。この乾燥工程で、膜中の残留溶剤が蒸発される。乾燥は、乾燥風を送風することで行うことができる。乾燥風の温度を段階的に上昇させて、多段階的に乾燥を行ってもよい。溶液流延製膜方法の流延工程、乾燥工程の詳細については、特開２００５−１０４１４８号公報の１２０〜１４６頁にも記載があり、適宜本発明にも適用することができる。

製膜されたポリマーフィルムは、そのまま本発明の基材フィルムとして利用することができる。また、所望により延伸処理を実施して、更にヘイズを調整してもよい。延伸条件については特に制限はない。通常行われる条件、例えば、延伸温度が（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋５０）℃程度、及び延伸倍率が２０〜４０％程度で実施することができる。
延伸は、ロール延伸機を利用して実施することができる。縦又は横一軸延伸処理を行っても、二軸延伸処理を行ってもよい。一般的には、長尺状のフィルムを長手方向に延伸する、縦一軸延伸処理が行われるであろう。

本発明の基材フィルムの厚みについては、特に制限はないが、一般的には、２０〜２００μｍ程度であり、薄型化の観点では、２０〜１００μｍ程度であるのが好ましい。

＜防眩性ハードコート層の構成＞
本発明の防眩性ハードコート層は表面に微細凹凸形状を有するものであり、少なくとも１種の透光性樹脂と少なくとも１種の透光性粒子を含有する。
本発明の防眩性ハードコート層は、平均粒径が５．５〜１５μｍの透光性粒子を含有し、平均膜厚が８〜４０μｍであることが、視認性（黒締まり）とフィルムに垂直に加わる力に対する傷防止性の点から好ましい。

より具体的には本発明の防眩性ハードコート層は、平均粒径が５．５〜１５μｍの透光性粒子、マトリックス形成成分（バインダー用モノマー類等）及び有機溶媒を含有する塗布液を塗布・乾燥し硬化してなる層であることが好ましい。

防眩性ハードコート層を形成する塗布液は、例えば、電離放射線等で硬化されて形成する透光性樹脂（透光性ポリマーともいう）の原料となる主たるマトリックス形成バインダー用モノマー類、前記特定粒径の透光性粒子、重合開始剤、必要に応じて、塗布液の粘度を調整するための高分子化合物、カール低減や屈折率調節等のための無機微粒フィラー、塗布助剤等を含有することもできる。

前記のように防眩性ハードコート層の厚さは８μｍ〜４０μｍであることが好ましく、更に好ましくは１０μｍ〜３５μｍであり、最も好ましくは１１μｍ〜２５μｍである。この範囲に制御することにより、透光性粒子に基材フィルム表面のくぼみの影響を適度に与えることができ、好ましい。

＜防眩性ハードコート層の透光性粒子＞
透光性粒子の平均粒径は５．５μｍ〜１５μｍが好ましく、６．０μｍ〜１２μｍがより好ましく、７．０μｍ〜１０μｍが更に好ましい。粒子サイズをこの範囲に制御することにより、くぼみの影響による粒子の面方向の動きを適度に制御することができ、好ましい。粒子サイズが小さいと流動性が増し、くぼみの影響を強く受け粒子が集まり過ぎる。一方、大きいと流動性が低下し、くぼみの影響を受けにくくなる。

本発明においては、防眩性ハードコート層を１種類の透光性粒子で形成することもできるが、平均粒子サイズが同じで、屈折率の異なる２種類の粒子で形成することがより好ましい。本発明においては、透光性粒子は防眩性ハードコート層形成用塗布液中に分散され塗布・乾燥・硬化して防眩性ハードコート層が形成される。透光性粒子の平均粒径は、塗膜中で２つ以上の粒子が隣接して存在している場合も、独立して存在している場合も、平均粒径は一次粒径を指す。但し、一次粒子径が０．１μｍ程度の凝集性の無機粒子が二次粒子として、上記で例示した粒子サイズを満たす大きさで塗布液中に分散され、その後塗布されている場合には二次粒子の大きさとする。
本発明において、透光性粒子の平均粒径が上記の範囲であると塗布液を保存した後の表面形状の安定性に優れる。また、画面の黒締まりに優れ、かつ適度の防眩性を有することによるザラツキ感が少なく、かつ、正面コントラストの低下が少ない。

本発明において、優れた防眩性と黒締まりを同時に達成するためには、上記に加え、透光性粒子の平均粒子サイズφと膜厚（ｔ）の比（φ／ｔ）が重要である。φＡ／ｔが０．３〜０．７が好ましく、０．３５〜０．６５がより好ましい。特に好ましくは０．４〜０．６である。φ／ｔが大きすぎると面荒れが強く外観が悪くなり、小さすぎると黒締まりが悪くなる。

本発明では、必要な内部散乱性を得るために、透光性粒子と透光性樹脂からなるマトリックスとの屈折率を調節する必要がある。少なくとも１種類の透光性粒子とマトリックスとの屈折率差は０．０２〜０．５が好ましく、更に好ましくは０．０２〜０．２０であり、最も好ましくは０．０３〜０．１５である。粒子を２種類含む場合は粒子間の屈折率差は、好ましくは０．０２〜０．２０、更に好ましくは０．０２〜０．１０である。

また、透光性粒子を２種類含む場合、一方がマトリックスよりも屈折率が低く、一方がマトリックスよりも屈折率が高い態様をとることも好ましい。例えば屈折率の高い粒子は屈折率が１．５４〜１．７０が好ましく、更に好ましくは１．５５〜１．６０であり、屈折率の低い粒子は１．４４〜１．５３が好ましく、更に好ましくは１．４６〜１．５２である。２種類の粒子に屈折率差があることで内部散乱と表面の形状の制御が容易となる。また、塗布液を保存した後の表面形状の安定性が向上する。

塗布液の保存前後での表面形状の安定性が向上する原因は明確ではないが以下の様に推定している。屈折率が異なる粒子を用いた場合は表面状態が異なるため、マトリックス中での凝集分散挙動も異なる。凝集を起こしやすい粒子に対して、粒子サイズが僅かに異なり凝集を起こしにくい粒子が共存することで、粒子凝集が塗布液保存中に進行することなく、塗布された防眩性層の表面形態の安定化が実現される。例えば、汎用の多官能アクリレート化合物をマトリックス形成バインダーに使用した場合、透光性粒子の屈折率が１．５４以上の樹脂粒子を用いた場合には粒子の凝集傾向が強く、塗布物の経時での表面形状変化が大きくなりやすい。粒子サイズの異なる粒子を混合することで、凝集体のサイズが大きく成長するのを抑止することができ、表面形状の安定化が実現される。また、更に粒子自身の凝集性の小さい屈折率１．５３以下の粒子を混合することで、更に有効に凝集体の成長を抑止することができ、表面形態の安定化が達成される。

透光性粒子の添加量は、防眩性ハードコート層の全固形分中の１〜６０質量％が好ましく、２〜５０質量％であることが更に好ましく、最も好ましくは３〜４０質量％である。粒子がこの比率であると、塗布液の経時変化に伴う塗膜の表面形態の変動を小さくする効果に優れる。

透光性粒子は、以下に説明する粒子の中から、所望の屈折率、平均粒子サイズに応じて選択することができる。

本発明では、透光性粒子として、樹脂粒子及び／又は無機微粒子が用いられる。

樹脂粒子の具体例としては、例えば架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋メチルメタアクリレート−メチルアクリレート共重合粒子、架橋アクリレート−スチレン共重合粒子、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂粒子、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子等が好ましい。更にはこれらの樹脂粒子の表面にフッ素原子、シリコン原子、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、スルホン酸基、燐酸基等を含む化合物を化学結合させた所謂表面修飾した粒子やシリカやジルコニアなどのナノサイズの無機微粒子を表面に結合した粒子も好ましく挙げられる。また、透光性粒子として、無機微粒子を用いることもできる。無機微粒子の具体例としては、シリカ粒子、アルミナ粒子等が好ましく挙げられるが、シリカ粒子が特に好ましく用いられる。

塗布のムラや干渉ムラを目立ちにくくする、あるいは、コストの観点から、マトリックスの屈折率を１．５４以下、特に好ましくは屈折率１．５３以下にする場合は、本発明では、透光性粒子は、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、シリカ粒子が好ましい。基材フィルム表面のくぼみの影響を受け易いことから、透光性粒子の少なくとも１種に架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子を用いることが好ましく、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子を用いる場合、スチレンの共重合比率を５０％以上９０％以下にすることが好ましい。

透光性粒子の形状は、真球又は不定形のいずれも使用できる。粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御性、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは、０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つ粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布の粒子を得ることができる。

透光性粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。平均粒径は得られた粒子分布から算出する。

本発明の防眩フィルムにおいて、表面散乱に起因するヘイズ値は０〜１０％であることが好ましく、更に好ましくは０．５〜５％である。表面ヘイズをこの範囲にすることで黒締まりに優れた防眩フィルムが得られる。また、内部散乱に起因するヘイズ値は８〜９０％であることが好ましく、更に好ましくは１０〜４０％、最も好ましくは１０〜３０％である。内部へイズをこの範囲にすることで、表面コントラストの低下とギラツキの防止の２つの性能を実用的に満足させることができる。これらへイズの調節は、透光性粒子の種類と量の調節により行うことができる。

＜防眩性ハードコート層の透光性樹脂＞
防眩性ハードコート層を形成するマトリックスを形成する透光性樹脂（以下、バインダーポリマーともいう）としては、特に限定されないが、電離放射線等による硬化後に飽和炭化水素鎖、又はポリエーテル鎖を主鎖として有する透光性ポリマーであることが好ましい。また、硬化後の主たるバインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。

硬化後に飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、下記に述べる第一群の化合物より選ばれるエチレン性不飽和モノマー及びこれらの重合体が好ましい。また、ポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーとしては、下記に述べる第二群の化合物より選ばれるエポキシ系モノマー及びこれらの開環による重合体が好ましい。さらにこれらのモノマー類の混合物の重合体も好ましい。

本発明では、第一群の化合物として、飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種を含むことが好ましい。

防眩性ハードコート層を形成するためのバインダーポリマーに用いられる、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル｛例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート｝、ビニルベンゼン及びその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、（メタ）アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）等が挙げられる。

さらに、２個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂及び多価アルコール等の、多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等もあげられる。これらのモノマーは２種以上併用してもよく、また、２個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂はバインダー全量に対して１０〜１００％含有することが好ましい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤、及び粒子、必要に応じて無機フィラー、塗布助剤、その他の添加剤、有機溶媒等を含有する塗布液を調製し、該塗布液を透明支持体上に塗布後、電離放射線又は熱による重合反応により硬化して防眩性ハードコート層を形成する。電離放射線硬化と熱硬化を合わせて行うことも好ましい。光及び熱重合開始剤としては市販の化合物を利用することができ、それらは、「最新ＵＶ硬化技術」（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）や、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）のカタログに記載されている。

本発明では、第二群の化合物として、硬化膜の硬化収縮低減のためには、以下で述べるエポキシ系化合物を用いることが好ましい。これらのエポキシ基を有するモノマー類としては、１分子中にエポキシ基を２基以上有するモノマーが好ましく、これらの例としては特開２００４−２６４５６３号、同２００４−２６４５６４号、同２００５−３７７３７号、同２００５−３７７３８号、同２００５−１４０８６２号、同２００５−１４０８６２号、同２００５−１４０８６３号、同２００２−３２２４３０号等に記載されているエポキシ系モノマー類が挙げられる。
エポキシ基を有するモノマー類は層を構成する全バインダーに対して２０〜１００質量％含有することが硬化収縮低減のために好ましく、３５〜１００質量％含有することがより好ましく、５０〜１００質量％含有することが更に好ましい。

エポキシ系モノマー、化合物類を重合させるための、光の作用によってカチオンを発生させる光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩やジアリールヨードニウム塩などのイオン性の化合物やスルホン酸のニトロベンジルエステルなどの非イオン性の化合物等が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」ぶんしん出版社刊（１９９７）などに記載されている化合物等種々の公知の光酸発生剤が使用できる。この中で特に好ましくはスルホニウム塩若しくはヨードニウム塩であり、対イオンとしてはＰＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻−、Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４ ⁻などが好ましい。

重合開始剤は、上記第一群又は第二群の化合物１００質量部に対して、重合開始剤総量で０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、１〜１０質量部の範囲がより好ましい。

＜防眩性ハードコート層の高分子化合物＞
本発明の防眩性ハードコート層は、高分子化合物を含有してもよい。高分子化合物を添加することで、硬化収縮を小さくしたり、塗布液の粘度調整を行うことができる。

高分子化合物は、塗布液に添加する時点で既に重合体を形成しており、該高分子化合物としては、例えばセルロースエステル類（例えば、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースナイトレート等）、ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、（メタ）アクリル酸エステル類（例えば、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸エチル共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、メタクリル酸メチル／（メタ）アクリル酸共重合体、ポリメタクリル酸メチル等）、ポリスチレン等の樹脂が好ましく用いられる。

高分子化合物は、硬化収縮への効果や塗布液の粘度増加効果の観点から、高分子化合物を含有する層に含む全バインダーに対して、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜４０質量％の範囲で含有することが好ましい。また、高分子化合物の分子量は質量平均で０．３万〜４０万が好ましく、０．５万〜３０万がより好ましく、０．５万〜２０万が更に好ましい。

＜防眩性ハードコート層の無機フィラー＞
本発明の防眩性ハードコート層には、屈折率の調整、膜強度の調整、硬化収縮減少、更に低屈折率層を設けた場合の反射率低減の目的に応じて、無機フィラー使用することもできる。例えば、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属元素を含有する酸化物からなり、一次粒子の平均粒径が、一般に０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下１ｎｍ以上である微細な高屈折率無機フィラーを含有することも好ましい。

マトリックスの屈折率を低くする必要が生じた場合は、無機フィラーとして、シリカ微粒子、中空シリカ微粒子等の微細な低屈折率無機フィラーを用いることができる。好ましい粒径は、前記の微細な高屈折率無機フィラーと同じである。

無機フィラーは、表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。

無機フィラーの添加量は、防眩性ハードコート層の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０質量％であり、特に好ましくは３０〜７５質量％である。

なお、無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分短いために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質の性質を有する。

＜防眩性ハードコート層の界面活性剤＞
本発明の防眩性ハードコート層では、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光散乱層用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特に、フッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の光学フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、例えば、特開２００７−１８８０７０号公報の段落番号００４９〜００７４に記載の化合物が挙げられる。

本発明の防眩性ハードコート層で用いられる界面活性剤（特に、フッ素系ポリマー）の好ましい添加量は、塗布液に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。界面活性剤の添加量が０．００１質量％以上で効果が十分であり、また５質量％以下とすることで、塗膜の乾燥が十分に行われ、塗膜としての良好な性能（例えば反射率、耐擦傷性）が得られる。

＜防眩性ハードコート層用塗布液の有機溶媒＞
防眩性ハードコート層を形成する塗布組成物には、有機溶媒を含有することが好ましい。

有機溶媒としては、例えばアルコール系では、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノール、イソアミルアルコール、１−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、メチルアミルアルコール等、ケトン系では、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等、エステル系では、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、酢酸ｎ−アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酢酸メチル、乳酸メチル、乳酸エチル等、エーテル、アセタール系では、１，４ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メチルフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルアセタール等、炭化水素系では、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、リグロイン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、スチレン、ジビニルベンゼン等、ハロゲン炭化水素系では、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、１，１，１−トリクロルエタン、１，１，２−トリクロルエタン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、１，１，１，２−テトラクロルエタン等、多価アルコール及びその誘導体系では、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキシレングリコール、１，５−ペンタンジオール、グリセリンモノアセテート、グリセリンエーテル類、１，２，６−ヘキサントリオール等、脂肪酸系では、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、絡酸、イソ絡酸、イソ吉草酸、乳酸等、窒素化合物系では、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、アセトニトリル等、イオウ化合物系では、ジメチルスルホキシド等、が挙げられる。

有機溶媒の中でメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、１−ペンタノール等が特に好ましい。また、有機溶媒には、凝集性制御の目的でアルコール、多価アルコール系の溶媒を適宜混合して用いてもよい。これらの有機溶媒は、単独でも混合して用いてもよく、塗布組成物中に有機溶媒総量として、２０質量％〜９０質量％含有することが好ましく、３０質量％〜８０質量％含有することがより好ましく、４０質量％〜７０質量％含有することが最も好ましい。防眩性ハードコート層の表面形状の安定化のためには、沸点が１００℃未満の溶媒と沸点が１００℃以上の溶媒を併用することが好ましい。

＜防眩性ハードコート層の硬化＞
防眩性ハードコート層は、塗布液を支持体に塗布後、光照射、電子線ビーム照射、加熱処理などを実施して、架橋又は重合反応させて形成できる。紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。紫外線による硬化は、窒素パージ等で酸素濃度が４体積％以下、更に好ましくは２体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下の雰囲気下で硬化することが好ましい。

［反射防止フィルム］
本発明の反射防止フィルムは、防眩性ハードコート層の上に、直接又は他の層を介して、前記防眩性ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を積層してなる。
以下に本発明に好ましく用いることができる反射防止フィルムの構成を示す。

＜層構成＞
本発明の反射防止フィルムについては以下のような層構成を好ましく用いることができる。コストと性能の観点を加味すると「イ」の構成が最も好ましい。
イ：基材フィルム／防眩性ハードコート層／低屈折率層
ロ：基材フィルム／防眩性ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
ハ：基材フィルム／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
以下に本発明に好ましく用いることのできる低屈折率層を説明する。

［低屈折率層］
本発明においては、前記のように、前記の防眩性ハードコート層より外側、すなわち基材フィルムより遠い側に低屈折率層を設けることが好ましい態様の一つである。低屈折率層を有することで、防眩フィルムに反射防止機能を付与することができる。低屈折率層の屈折率は前記の防眩性ハードコート層の屈折率より低く設定することが好ましい。低屈折率層と防眩性ハードコート層との屈折率差が小さすぎる場合は反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。低屈折率層と防眩性ハードコート層との屈折率差は０．０１以上０．４０以下が好ましく、０．０５以上０．３０以下がより好ましい。
低屈折率層は、低屈折率素材を用いて形成することができる。低屈折率素材としては、低屈折率バインダーを用いることができる。また、バインダーに微粒子を加えて低屈折率層を形成することもできる。
また、低屈折率層形成用組成物は後述するオルガノシラン化合物を含有することもできる。

低屈折率バインダーとしては、含フッ素共重合体を好ましく用いることができる。含フッ素共重合体は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる構成単位と架橋性付与のための構成単位を有することが好ましい。

（含フッ素共重合体）
含フッ素共重合体を主として構成する含フッ素ビニルモノマーとしては、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類｛例えば「ビスコート６ＦＭ」（商品名）、大阪有機化学工業（株）や“Ｒ−２０２０”（商品名）、ダイキン工業（株）製等｝、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する傾向がある。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。

架橋反応性付与のための構成単位としては主として以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）で示される単位が挙げられる。
（Ａ）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内に予め自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位
（Ｂ）：カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー｛例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等｝の重合によって得られる構成単位
（Ｃ）：分子内に上記（Ａ）、（Ｂ）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ）、（Ｂ）の構成単位と反応させて得られる構成単位（例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）

上記（Ｃ）の構成単位は、その架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。該光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。

光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
ａ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
ｂ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
ｃ．エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
ｄ．カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。

なお、上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を残していても良い。
本発明では共重合体中の架橋性付与のための構成単位の導入量が１０〜５０モル％であることが好ましく、より好ましくは１５〜４５モル％の場合であり、特に好ましくは２０〜４０モル％の場合である。

本発明における低屈折率層に有用な共重合体では、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び、架橋性付与のための構成単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶媒への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から、適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは、目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。

併用可能なビニルモノマー単位には、特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。

本発明で特に有用な含フッ素共重合体は、ペルフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基｛（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等｝を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０モル％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０モル％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４号、特開２００４−４５４６２号の各公報に記載のものを挙げることができる。

また本発明で有用な含フッ素共重合体には、防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが、例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法；特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号公報の実施例１、２、及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号公報の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分は、ポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。

本発明に好ましく用いることのできる共重合体の好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上、好ましくは１００００〜５０００００、最も好ましくは１５０００〜２０００００である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。

上記の共重合体に対しては、特開平１０−２５３８８号公報及び特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく、適宜、重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号公報に記載のごとく、含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、前記防眩性ハードコート層で述べた多官能モノマーを挙げることができる。これら化合物は、特に共重合体本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。

低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４２であることがより好ましく、１．３０〜１．３８であることが特に好ましい。また低屈折率層の厚さは、５０〜１５０ｎｍであることが好ましく、７０〜１２０ｎｍであることが更に好ましい。

（微粒子）
次に本発明における低屈折率層に好ましく用いることのできる微粒子について説明する。

低屈折率層に含まれる微粒子の塗設量は、１〜１００ｍｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは５〜８０ｍｇ／ｍ²、更に好ましくは１〜７０ｍｇ／ｍ²である。微粒子の塗設量が該下限値以上であれば、耐擦傷性の改良効果が明らかに現れ、該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて外観や積分反射率が悪化するなどの不具合が生じないので好ましい。該微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが好ましい。

具体的には、低屈折率層に含まれる微粒子は、無機微粒子、中空の無機微粒子、又は中空の有機樹脂微粒子であって、低屈折率のものがあることが好ましく、中空の無機微粒子が特に好ましい。無機微粒子としては、例えば、シリカ又は中空シリカの微粒子が挙げられる。このような微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下が好ましく、より好ましくは３０％以上８０％以下、更に好ましくは３５％以上７０％以下である。すなわち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、３５ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。

上記のような（中空）シリカ微粒子は、その粒径が上記下限値以上であれば、耐擦傷性の改良効果が明らかに現れ、上記上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて外観や積分反射率が悪化するなどの不具合が生じないので好ましい。

（中空）シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、凝集粒子（この場合は、２次粒子径が、低屈折率層の層厚の３０％〜１００％であることが好ましい）でも構わない。また、２種類以上の複数の粒子（種類又は粒径）を用いても構わない。粒子の形状は、球形が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。

低屈折率層の屈折率を低下させるために、中空のシリカ微粒子を用いることが特に好ましい。該中空シリカ微粒子は屈折率が１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、更に好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。前記数式（Ｉ）で算出される空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から１．１７未満の低屈折率の粒子は困難である。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計｛（株）アタゴ製｝にて測定を行った。

本発明においては、防汚性向上の観点から、更に、低屈折率層表面の表面自由エネルギーを下げることが好ましい。具体的には、含フッ素化合物やポリシロキサン構造を有する化合物を低屈折率層に使用することが好ましい。

ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、反応性基含有ポリシロキサン｛例えば“ＫＦ−１００Ｔ”，“Ｘ−２２−１６９ＡＳ”，“ＫＦ−１０２”，“Ｘ−２２−３７０１ＩＥ”，“Ｘ−２２−１６４Ｂ”，“Ｘ−２２−５００２”，“Ｘ−２２−１７３Ｂ”，“Ｘ−２２−１７４Ｄ”，“Ｘ−２２−１６７Ｂ”，“Ｘ−２２−１６１ＡＳ” （商品名）、以上、信越化学工業（株）製；“ＡＫ−５”，“ＡＫ−３０”，“ＡＫ−３２”（商品名）、以上東亜合成（株）製；、「サイラプレーンＦＭ０７２５」，「サイラプレーンＦＭ０７２１」（商品名）、以上チッソ（株）製等｝を添加するのも好ましい。また、特開２００３−１１２３８３号公報の表２、表３に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０．１〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。

［高屈折率層／中屈折率層］
本発明のフィルムには、前記のように低屈折率層と防眩性ハードコート層の間に屈折率の高い層を設け、反射防止性を高めることができる。
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、基材フィルムとの関係で言えば屈性率は、基材フィルム＞低屈折率層、高屈折率層＞基材フィルムの関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。

高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６０〜２．２０、更に好ましくは、１．６５〜２．１０、最も好ましくは１．８０〜２．００である。

基材フィルムから近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作製する場合、高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２０であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５乃至１．８０であることが好ましい。

高屈折率層及び中屈折率層は高屈折無機微粒子とバインダーを含有する硬化性組成物から形成されることが好ましい。ここで使用することのできる高屈折率無機微粒子は前記防眩性ハードコート層の屈折率を高めるために含有することのできる高屈折率無機微粒子を用いることができる。

本発明に用いる高屈折率層及び中屈折率層は、分散媒体中に無機粒子を分散した分散液に、好ましくは、更にマトリックス形成に必要なバインダー前駆体（例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、基材フィルム上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。

さらに、高屈折率層及び中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層及び中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。

高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、５〜８０質量％添加する。

高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明基材の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。

高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１７０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１５０ｎｍである。

＜層の形成＞
本発明にかかる防眩性ハードコート層、低屈折率層又はその他の層は、塗布液を基材フィルム上に塗布し、加熱・乾燥し、その後、必要に応じて、光照射及び／又は加熱して、各層を形成するためのモノマーや硬化性樹脂を硬化する。これにより各層が形成される。

本発明のフィルムの各層の塗布方法は特に制限されないが、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましく、高い生産性で供給するために、ダイコート法が好ましく用いられる。

乾燥は、塗布した液膜中の有機溶媒濃度が、乾燥後に５質量％以下になる条件が好ましく、２質量％以下がより好ましく、１質量％以下が更に好ましい。
乾燥条件は、基材の熱的強度や搬送速度、乾燥工程の長さなどの影響を受けるが、できるだけ有機溶媒の含有率の低いほうが膜硬度や接着防止の点で好ましい。有機溶媒を含有しない場合には、乾燥工程を省略し塗布後すぐに紫外線照射することもできる。

本発明の硬化層は、結晶化度を高めるために熱処理を施してもよい。好ましい熱処理温度は、４０〜１３０℃であり熱処理時間は必要とする結晶化度に応じ適宜決定することができるが通常５分〜４８時間程度である。

更に、基材フィルムと硬化層の密着性を向上させる目的で、所望により基材フィルムの片面又は両面に、酸化法や凹凸化法等により表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられる。

［表面処埋］
基材フィルムに、表面処埋を実施してもよい。
表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理及びオゾン酸化処理が含まれる。具体的には、例えば、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（発行２００１年３月１５日）ｐ．３０−３１に記載の内容、特開２００１−９９７３号公報に記載の内容等が挙げられる。好ましくは、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理及び火焔処理、更に好ましくはグロー放電処理と紫外線処理が挙げられる。
このような処理により基材の表面は親水化し、表面自由エネルギーが上昇するので、ハードコート層形成用塗布液に含まれる表面自由エネルギーの高い低屈折率微粒子が基材表面上に偏在し易くなり好ましい。

［鹸化処理］
本発明の防眩フィルム又は反射防止フィルムを画像表示装置（好ましくは液晶表示装置）に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該基材フィルムがセルロースアシレートの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の防眩フィルム又は反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
鹸化処理は公知の方法を用いることができる。

［塗膜形成方法］
本発明のフィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により基材フィルム上に塗布し、加熱・乾燥する。これらの塗布方式のうち、グラビアコート法で塗布すると反射防止膜の各層のような塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、好ましい。グラビアコート法の中でもマイクログラビア法は膜厚均一性が高く、より好ましい。
また、ダイコート法を用いても塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、更にダイコート法は前計量方式のため膜厚制御が比較的容易であり、更に塗布部における溶剤の蒸散が少ないため、好ましい。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許第２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、「コーティング工学」、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。

［偏光板］
偏光板は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の防眩フィルム又は反射防止フィルムは、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。本発明の防眩フィルム又は反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の防眩フィルム又は反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み防止され、黒締まりにも優れた偏光板とすることができる。

偏光膜としては公知の偏光膜を用いることができる。

本発明の防眩フィルム又は反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。

以下に実施例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

（測定法）
実施例において測定した種々の特性の測定法及び評価法を以下に示す。
１．ガラス転移点（Ｔｇ）
ＤＳＣ測定装置（ＤＳＣ８２３０：（株）リガク製）を用い、ＤＳＣのアルミニウム製測定パン（Ｃａｔ．Ｎｏ．８５７８：（株）リガク製）に、熱処理前のポリマーフィルムのサンプルを５〜６ｍｇ入れる。これを５０ｍＬ／分の窒素気流中で、２５℃から１２０℃まで、２０℃／分の昇温速度で昇温して１５分保持した後、３０℃まで−２０℃／分で冷却する。その後、再度、３０℃から２５０℃まで２０℃／分の昇温速度で昇温し、その際に測定されるサンプルのサーモグラムと２本のベースラインの中線との交点の温度を、フィルムのガラス転移点とした。

２．結晶化温度（Ｔｃ）
ＤＳＣ測定装置（ＤＳＣ８２３０：（株）リガク製）を用い、ＤＳＣのアルミニウム製測定パン（Ｃａｔ．Ｎｏ．８５７８：（株）リガク製）に、熱処理前のポリマーフィルムのサンプルを５〜６ｍｇ入れる。これを５０ｍＬ／分の窒素気流中で、２５℃から１２０℃まで２０℃／分の昇温速度で昇温して１５分保持した後、３０℃まで−２０℃／分で冷却する。さらに、再度、３０℃から３２０℃まで２０℃／分の昇温速度で昇温し、この際に現れた発熱ピークの開始温度をフィルムの結晶化温度とした。

３．置換度
セルロースアシレートのアシル置換度は、Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．２７３（１９９５）８３−９１（手塚他）に記載の方法で¹³Ｃ−ＮＭＲにより求めた。

４．ヘイズ、全光透過率及び平行透過率
フィルムの幅方向５点（フィルムの中央部、端部（両端からそれぞれ全幅の５％の位置）、及び中央部と端部の中間部２点）とを長手方向に１００ｍごとにサンプリングし、５ｃｍ□の大きさのサンプルを取り出す。このサンプルを２５℃、相対湿度６０％にて２４時間調湿後、ヘイズメーター（ＮＤＨ ２０００：日本電色工業（株）製）を用いて各サンプルのヘイズを測定し、その平均値をフィルムのヘイズとした。なお、ポリマー溶液の場合には、前述の方法に従って測定を実施した。
全光透過率及び平行透過率についても、同様にサンプリングし、各サンプルについてそれらを、前述の方法に従って測定し、その平均値をフィルムの全光透過率及び平行透過率とした。

５．内部ヘイズ
得られたフィルムの表面及び裏面に流動パラフィンを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ ９１１１、ＭＡＴＡＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間に流動パラフィンのみを挟んで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出した。

６．くぼみの形状
フィルムの搬送方向の５点をフィルムの中心部を基準としてサンプリングし、５ｃｍ□の大きさのサンプルを取り出す。このサンプル中に含まれるくぼみのうち、任意の１００個を選び、三次元非接触型表面形状計測システム（(株)菱化システム製）を用いて、くぼみの深さ、深さの標準偏差、くぼみ開口部の平均長径長、くぼみ開口部の平均短径長を測定した。
また、上記５ｃｍ□の大きさのサンプルから１ｍｍ^２の領域１００ヶ所を任意に選び、面積あたりのくぼみの個数、くぼみの個数の標準偏差、くぼみ間の平均間隔（くぼみとくぼみの中心間隔）を三次元非接触型表面形状計測システム（（株）菱化システム製）を用いて、測定した。

７．くぼみ近傍の内部空隙率
上記「６．くぼみの形状」のサンプルから任意に１０ヶ所断面ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）写真を撮影し、それぞれ、くぼみのある面で平坦な部分から厚み方向に５〜１５μｍ、長さ１ｍｍ部分の全断面積と空隙部分を計測し、全断面積に対する空隙部分の比によって算出し、１０ヶ所の平均を取った。

［基材フィルム１〜１０、１４］
（基材フィルムの製造と評価）
下記、表１に示す通り、以下のセルロースアシレートを表中に記載の割合で添加し、下記の溶媒のいずれかに溶解し、並びに添加剤を選択して添加し、セルロースアシレートのドープを調製した。調製法の詳細も、以下に示す。
なお、セルロースアシレートは１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後、表１記載の量［質量部］を使用した。
１）＜セルロースアシレート＞
置換度が２．８６のセルロースアセテートの粉体を用いた。セルロースアシレートの粘度平均重合度は３００、６位のアセチル置換度は０．８９、アセトン抽出分は７質量％、質量平均分子量／数平均分子量比は２．３、含水率は０．２質量％、６質量％ジクロロメタン溶液中の粘度は３０５ｍＰａ・ｓ、残存酢酸量は０．１質量％以下、Ｃａ含有量は６５ｐｐｍ、Ｍｇ含有量は２６ｐｐｍ、鉄含有量は０．８ｐｐｍ、硫酸イオン含有量は１８ｐｐｍ、イエローインデックスは１．９、遊離酢酸量は４７ｐｐｍであった。粉体の平均粒子サイズは１．５ｍｍ、標準偏差は０．５ｍｍであった。

２）＜溶媒＞
溶媒として、ジクロロメタン（誘電率９）、メタノール（誘電率３３）、１−ブタノール（誘電率１７）、及び水（誘電率７８）から一種又は二種以上を選択し、下記表に記載の量［質量部］だけ溶媒として用いた。なお、使用した有機溶媒の含水率は０．２質量％以下であった。

３）＜添加剤＞
下記の添加剤セルロースアシレート量に対して下記括弧内の添加量［質量％］を使用した。
トリフェニルホスフェート（８．０質量％）
ビフェニルジフェニルホスフェート（４．０質量％）

４）＜セルロースアシレート溶液の調製＞
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００リットルのステンレス製溶解タンクに、前記溶媒及び添加剤を投入して撹拌、分散させながら、セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。
なお、攪拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０^４ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ^２〔４．９×１０^５Ｎ／ｍ／ｓｅｃ^２〕）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸及び中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０^４ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ^２〔９．８×１０^４Ｎ／ｍ／ｓｅｃ^２〕）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。
膨潤した溶液をタンクから、ジャケット付配管で５０℃まで加熱し、更に２ＭＰａの加圧化で９０℃まで加熱し、完全溶解した。加熱時間は１５分であった。この際、高温にさらされるフィルター、ハウジング、及び配管はハステロイ合金製で耐食性の優れたものを利用し保温加熱用の熱媒を流通させるジャケットを有する物を使用した。
次に３６℃まで温度を下げ、セルロースアシレート溶液を得た。

５）＜ろ過＞
得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、更に絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過してポリマー溶液を得た。

６）＜製膜＞
セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは５０ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、更に１４０℃で１０分乾燥して、膜厚８０μｍのセルロースアシレートフィルムを得た。

基材フィルム１４として作製した、溶媒中の水の含量が０．２％のものは、基材表面にくぼみが形成されなかった。

［基材フィルム１１〜１３］
＜基材フィルム１１＞
基材フィルム１のドープが空気界面側に、基材フィルム９のドープがステンレス支持体側に来るように、フィードブロック法に準じて共流延した以外は、前記基材フィルムと同様に、空気界面側４０μｍ、支持体側４０μｍの、膜厚８０μｍのセルロースアシレートフィルム（基材フィルム１１）を得た。

＜基材フィルム１２＞
基材フィルム２のドープが空気界面側に、基材フィルム９のドープがステンレス支持体側に来るように、フィードブロック法に準じて共流延した以外は、前記基材フィルムと同様に、空気界面側４０μｍ、支持体側４０μｍの、膜厚８０μｍのセルロースアシレートフィルム（基材フィルム１２）を得た。

＜基材フィルム１３＞
基材フィルム５のドープが空気界面側に、基材フィルム９のドープがステンレス支持体側に来るように、フィードブロック法に準じて共流延した以外は、前記基材フィルムと同様に、空気界面側４０μｍ、支持体側４０μｍの、膜厚８０μｍのセルロースアシレートフィルム（基材フィルム１３）を得た。

＜防眩性ハードコート層塗布液の調製＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、防眩性ハードコート層用塗布液を調製した。

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防眩性ハードコート層用塗布液（ＡＧＬ−１）の組成
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ＰＥＴ−３０ ６５．０ｇ
イルガキュア１２７ ３．０ｇ
８μｍ架橋アクリル粒子（３０％） ２０．０ｇ
８μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％） ５２．６ｇ
ＦＰ−１３ ０．２ｇ
ＣＡＢ ０．５ｇ
ＭＩＢＫ ７２．６ｇ
ＭＥＫ ３２．５ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――

―――――――――――――――――――――――――――――――――
防眩性ハードコート層用塗布液（ＡＧＬ−２）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ＰＥＴ−３０ ６９．２ｇ
イルガキュア１２７ ３．２ｇ
８μｍ架橋アクリル粒子（３０％） １６．０ｇ
８μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％） ４２．１ｇ
ＦＰ−１３ ０．２ｇ
ＣＡＢ ０．５ｇ
ＭＩＢＫ ８２．８ｇ
ＭＥＫ ３２．５ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――

―――――――――――――――――――――――――――――――――
防眩性ハードコート層用塗布液（ＡＧＬ−３）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ＰＥＴ−３０ ６９．２ｇ
イルガキュア１２７ ３．２ｇ
５μｍ架橋アクリル粒子（３０％） １６．０ｇ
５μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％） ４２．１ｇ
ＦＰ−１３ ０．２ｇ
ＣＡＢ ０．５ｇ
ＭＩＢＫ ８２．８ｇ
ＭＥＫ ３２．５ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――

―――――――――――――――――――――――――――――――――
防眩性ハードコート層用塗布液（ＡＧＬ−４）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ＰＥＴ−３０ ６９．２ｇ
イルガキュア１２７ ３．２ｇ
６μｍ架橋アクリル粒子（３０％） １６．０ｇ
６μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％） ４２．１ｇ
ＦＰ−１３ ０．２ｇ
ＣＡＢ ０．５ｇ
ＭＩＢＫ ８２．８ｇ
ＭＥＫ ３２．５ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――

―――――――――――――――――――――――――――――――――
防眩性ハードコート層用塗布液（ＡＧＬ−５）の組成
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ＰＥＴ−３０ ６９．２ｇ
イルガキュア１２７ ３．２ｇ
７μｍ架橋アクリル粒子（３０％） １６．０ｇ
７μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％） ４２．１ｇ
ＦＰ−１３ ０．２ｇ
ＣＡＢ ０．５ｇ
ＭＩＢＫ ８２．８ｇ
ＭＥＫ ３２．５ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――

―――――――――――――――――――――――――――――――――
防眩性ハードコート層用塗布液（ＡＧＬ−６）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ＰＥＴ−３０ ６９．２ｇ
イルガキュア１２７ ３．２ｇ
１０μｍ架橋アクリル粒子（３０％） １６．０ｇ
１０μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％） ４２．１ｇ
ＦＰ−１３ ０．２ｇ
ＣＡＢ ０．５ｇ
ＭＩＢＫ ８２．８ｇ
ＭＥＫ ３２．５ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――

上記防眩性ハードコート層用塗布液を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して塗布液を調製した。
上記塗布液において硬化後のマトリックスの屈折率は１．５２５であった。

ここで、該透光性粒子を除く防眩性ハードコート層の膜の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定した。また、透光性粒子の屈折率は、ヨウ化メチレン、１，２−ジブロモプロパン、ｎ−ヘキサンから選ばれる任意の屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定した。

透光性粒子の屈折率は下記の通りであった。
架橋アクリル粒子 １．５００
架橋アクリル・スチレン粒子 １．５５５

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］；
５μｍ架橋アクリル粒子（３０％）：平均粒径５．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
６μｍ架橋アクリル粒子（３０％）：平均粒径６．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
７μｍ架橋アクリル粒子（３０％）：平均粒径６．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
８μｍ架橋アクリル粒子（３０％）：平均粒径８．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
１０μｍ架橋アクリル粒子（３０％）：平均粒径１０．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
５μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）：平均粒径５．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
６μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）：平均粒径６．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
６μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）：平均粒径６．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
８μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）：平均粒径８．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
１０μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０％）：平均粒径１０．０μｍ［積水化成品工業（株）製］の３０ｗｔ％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散し調製）
イルガキュア１２７：重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製]
ＣＡＢ：セルロースアセテートブチレート（数平均分子量４００００）
ＦＰ−１３：下記構造式で表されるフッ素系表面改質剤

［低屈折率層用塗布液（ＬＮＬ−１）の調製］
（中空シリカ粒子分散液の調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シエル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２０部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２％の分散液を得た。得られた分散液のＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５％以下であった。

得られた中空シリカ粒子分散液を用いて下記組成の低屈折率層用塗布液（ＬＮＬ−１）を調製した。

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低屈折率層用塗布液（ＬＮＬ−１）の組成
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ＤＰＨＡ １．０質量部
Ｐ−１ １．６質量部
中空シリカ粒子分散液（１８．２％） ２６．４質量部
ＲＭＳ−０３３ ０．４質量部
イルガキュア９０７ ０．３質量部
Ｍ−１ １．９質量部
ＭＥＫ １６８．４質量部
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「Ｐ−１」：特開２００４−４５４６２号公報に記載の含フッ素共重合体Ｐ−３（重量平均分子量約５００００）
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
イルガキュア９０７：重合開始剤（日本チバガイギー（株）製）
Ｍ−１：下記構造の含フッ素多官能アクリレート
ＲＭＳ−０３３：メタクリロキシ変性シリコーン（Ｇｅｌｅｓｔ(株)製）

（防眩性ハードコート層の塗設）
表３に従って基材フィルム１〜１３のいずれかを選択し、ロール形態で巻き出して、スロットダイを有するコーターを用いて、防眩性ハードコート層用塗布液（ＡＧＬ−１）又は、防眩性ハードコート層用塗布液（ＡＧＬ−２）を直接押し出して塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、平均膜厚１４．０μｍの防眩性ハードコート層（ＡＧ−１）又は、防眩性ハードコート層（ＡＧ−２）をそれぞれを形成し、巻き取り、ロール状の防眩フィルムを作製した。

［ＬＲフィルムの作成］
表３中、ＬＲフィルムは防眩性ハードコート層上に低屈折率層を有する反射防止フィルムを意味する。上記で、基材フィルム上に防眩性ハードコート層を積層したロール状防眩フィルムを表３に従って巻き出し、防眩性ハードコート層の上に、低屈折率層用塗布液（ＬＮＬ−１）を、スロットルダイを有するコーターを用いて直接押し出し、６０℃、６０秒で乾燥し、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して塗布液を硬化させ、平均膜厚９０ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取り、ロール状の反射防止フィルムを作成した。
低屈折率層の屈折率は１．３６だった。

（フィルム試料の評価）
以下の方法により上記で作製した各フィルム試料の諸特性の評価を行った。結果を表３に示す。

（１）平均積分反射率
フィルム試料の裏面（防眩性ハードコート層を有さない側の表面）をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態にした。該フィルムの表面を、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）の積分球に装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、反射率（積分反射率）を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。

（２）映り込み
上記で作製した液晶表示装置の視認者側にむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ²）を４５度の角度から映し、−４５度の方向から観察した際の反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○
蛍光灯はぼやけているが、輪郭は識別できる ：△
蛍光灯がほとんどぼけない ：×

（３）黒締まり
上記で作製した液晶表示装置の視認者側にむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ²）を４５度の角度から映し、正面方向から観察した際の白茶け感を基に以下の基準で黒締まりを評価した。
画面が黒く見える ：◎
僅かに白茶け感が感じられる ：○
白茶け感が感じられる ：△
白茶け感がはっきり分かる ：×

（４）鉛筆硬度
得られたフィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて傷が認められない鉛筆の硬度値である。

測定結果を表３に示す。

表３に示した結果より以下のことが明らかである。
くぼみのない通常の基材フィルムに透光性粒子とバインダーポリマーを含有する防眩性ハードコート層を積層したフィルムでは樹脂粒子の量を調整することで、映り込み防止又は黒締まりをある程度調整することができるが、映り込み防止と黒締まりを両立することはできない。
これに対し、本発明で規定した形状と個数のくぼみを表面に有する基材フィルムに防眩性ハードコート層を直接積層した防眩フィルムは、映り込み防止と黒締まりを両立することが出来る。
防眩性ハードコート層表面に、低屈折率層を積層することで、反射率を低下させることができる、黒締まりにも優れる。
くぼみの数は２５個／ｍｍ^２以上にすることで、映り込み防止効果が現れ、３０００個／ｍｍ^２以下で黒締まりが良好である。
映り込みと黒締まりを両立するためにくぼみの数は３００個／ｍｍ^２以上１０００個／ｍｍ^２以下が特に好ましい。
内部空隙率の高い基材フィルムを用いると鉛筆硬度が低下すため、内部空隙率は３％以下のものを用いることが好ましい。

次に、上記、実施例１ＡＧに対し、透光性粒子の粒子サイズと膜厚を以下の表４に示すように変更した以外は同様にして、実施例１１ＡＧ〜２０ＡＧを作製した。なお、表４中ＡＧ層の欄に記載されたＡＧ−２〜ＡＧ−６はそれぞれ上記の防眩性ハードコート層塗布液（ＡＧＬ−２）〜（ＡＧＬ−６）から得られる層を表す。
また、作製したフィルムを実施例１ＡＧと同様に上記の方法で評価した、結果を表４に示す。

上記の結果から以下のことが明らかである。
防眩性ハードコート層に含有する透光性粒子の粒子サイズは７〜１０μｍが特に好ましい。
防眩性ハードコート層の膜厚は１１〜２５μｍが特に好ましい。

（偏光板の作製）
表３と表４に示した、上記作製したフィルムの裏面をそれぞれアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、更に１００℃の温風で乾燥した。続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理した各フィルムと、同様のアルカリ鹸化処理したフジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フィルム社製）を用意し、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようにして偏光膜を間に挟んで貼り合わせ、各フィルムとＴＤ８０ＵＬが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板をそれぞれ作製した。

（液晶表示装置の作製）
ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−３７ＧＳ１０、シャープ（株）製）に設けられている偏光板及び位相差膜をはがし、代わりに上記で作成した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の防眩フィルム又は反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、防眩フィルム又は反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。

上記のようにして作製された実施例の防眩フィルム又は反射防止フィルム付き偏光板及び画像表示装置は、それぞれ貼り付けた防眩フィルム又は反射防止フィルムと同様、実施例は比較例に比べ、映り込み防止性と黒締まり優れていた。また、反射防止フィルムを用いたものは反射率が低く、黒締まりに一層優れ、背景の映り込みも少なく、表示品位が非常に高いものであった。

Claims (16)

1. 透明プラスチック基材フィルム上に少なくとも防眩性ハードコート層を有する防眩フィルムであって、該透明プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の表面に独立したくぼみを有し、該くぼみの深さが３μｍ以下であり、該くぼみの平均長径長が０．５〜２０μｍであり、該透明プラスチック基材フィルムの表面における該くぼみの個数が２５〜３０００個／ｍｍ^２であり、かつ該防眩性ハードコート層は少なくとも１種の透光性樹脂と少なくとも１種の透光性粒子を含有する層であることを特徴とする防眩フィルム。
2. 前記透明プラスチック基材フィルムの内部ヘイズが５％以下であることを特徴とする請求項１に記載の防眩フィルム。
3. 前記透明プラスチック基材フィルムのくぼみを有する側の表面において、平坦な部分から厚み方向に５〜１５μｍの内部空隙率は、１０％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の防眩フィルム。
4. 前記透明プラスチック基材フィルムの表面におけるくぼみの個数が２００〜１０００個／ｍｍ^２であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防眩フィルム。
5. 前記透明プラスチック基材フィルムのくぼみの平均長径長が１．０〜５．０μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の防眩フィルム。
6. 前記防眩性ハードコート層の平均膜厚が８〜４０μｍであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の防眩フィルム。
7. 前記防眩性ハードコート層に含まれる少なくとも１種の透光性粒子の平均粒径が５．５〜１５μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防眩フィルム。
8. 前記透明プラスチック基材フィルムが、セルロースアシレート系ポリマーを主成分とすることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の防眩フィルム。
9. 前記透明プラスチック基材フィルムが、
   誘電率が３５以上の溶媒を含む少なくとも２種類以上の互いに相溶しない溶媒を含む混合溶媒中に、ポリマー組成物を溶解してポリマー溶液を調製し、該ポリマー溶液を製膜することによって得られたフィルムであることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の防眩フィルム。
10. 前記混合溶媒が、誘電率が３５以上の溶媒を０．３〜３０質量％含む溶媒であることを特徴とする請求項９に記載の防眩フィルム。
11. 前記混合溶媒が、更に誘電率が２〜１０未満の溶媒及び誘電率が１０〜３５未満の溶媒を含むことを特徴とする請求項９又は１０に記載の防眩フィルム。
12. 前記誘電率が３５以上の溶媒が、水であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の防眩フィルム。
13. 前記防眩性ハードコート層の上に、直接または他の層を介して、前記防眩性ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を積層してなることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の反射防止フィルム。
14. 偏光膜と該偏光膜の両側に保護フィルムを有する偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムが請求項１〜１２のいずれかに記載の防眩フィルム又は請求項１３に記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
15. 請求項１〜１２のいずれかに記載の防眩フィルム、請求項１３に記載の反射防止フィルム又は請求項１４に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置
16. 誘電率が３５以上の溶媒を含む少なくとも２種類の互いに相溶しない溶媒を含む混合溶媒中に、ポリマー組成物を溶解してポリマー溶液を調製し、該ポリマー溶液を製膜し、透明プラスチック基材フィルムを調製する工程と、該調製された透明プラスチック基材フィルム上に防眩性ハードコート層を設ける工程とを有することを特徴とする防眩フィルムの製造方法。