JP6318316B2 - 曲面基材への塗布液の塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Description

本発明は、曲面基材への塗布液の塗布装置及びその塗布方法に関するものである。

近年、ディスプレイパネルの市場等では、表面が凸状曲面であり裏面が平面である、片側凸ガラスの需要が高まってきており、この片側凸ガラスは、凸状曲面ガラスの裏面（凹状曲面）に平坦に接着剤を塗布し、平面ガラスと貼り合わせることによって製造されている。

従来、平面ガラスに接着剤のような塗布液を塗布する場合、特許文献１に示されるようなテーブルコーターが用いられている。また、凹状曲面に接着剤のような塗布液を塗布する場合、特許文献２に示されるように、円弧状のノズルを使用して塗布したり、特許文献３に示されるように、凹状曲面の最上位部分に塗布し、塗布液が凹状曲面上を自重で移動するのに任せたりする方法がある。

特開２００２−２００４５０号公報 特開２００４−１６７４２２号公報 特開２０１１−２５６０６０号公報

しかし、上記のいずれの方法においても、凹状曲面に塗布液を塗布するにあたり、塗布された塗布液の上面が平面となるよう塗布することは困難であった。

そこで、本発明では、曲面基材へ塗布液を塗布するにあたり、塗布された塗布液の上面が平面となるような、塗布液の塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。

本願の第１発明は、
曲面基材への塗布液の塗布装置であって、
前記塗布液を貯留する貯留タンクと、
前記塗布液を前記曲面基材に塗布するスリットノズルと、
前記貯留タンクから前記スリットノズルへ前記塗布液を供給する供給部と、
前記塗布装置を制御する制御部と、を備えており、
前記制御部は、前記スリットノズルへの前記塗布液の供給圧力を一定とするよう前記供給部を制御し、さらに、前記スリットノズルの移動速度を、前記スリットノズルのスリット先端部から前記曲面基材の塗布面までの距離に反比例させるよう前記スリットノズルを制御することを特徴とする。

前記構成によれば、スリットノズルへの塗布液の供給圧力を一定にした状態で、スリットノズルの移動速度を、スリット先端部から曲面基材までの距離に反比例させるようにスリットノズルを移動させることによって、曲面基材に対して、塗布液の上面が平面となるよう塗布液を塗布することができる。

本願の第２発明は、
曲面基材への塗布液の塗布装置であって、
前記塗布液を貯留する貯留タンクと、
前記塗布液を前記曲面基材に塗布するスリットノズルと、
前記貯留タンクから前記スリットノズルへ前記塗布液を供給する供給部と、
前記塗布装置を制御する制御部と、を備えており、
前記制御部は、前記スリットノズルへの前記塗布液の供給量を一定とするよう前記供給部を制御し、さらに、前記スリットノズルの移動速度を、前記スリットノズルのスリット先端部から前記曲面基材の塗布面までの距離に反比例させるよう前記スリットノズルを制御することを特徴とする。

前記構成によれば、スリットノズルへの塗布液の供給量を一定にした状態で、スリットノズルの移動速度を、スリット先端部から曲面基材までの距離に反比例させるようにスリットノズルを移動させることによって、曲面基材に対して、塗布液の上面が平面となるよう塗布液を塗布することができる。

前記第１発明及び前記第２発明は、更に、次のような構成を備えるのが好ましい。
（１）前記曲面基材の塗布面が凹状曲面を有している。

前記構成（１）によれば、凹状曲面に塗布液として接着剤を塗布することによって、凹状曲面において接着剤の上面が平面となるよう接着剤を塗布することができる。その結果、凸状曲面ガラスと平面ガラスとの貼り合わせが容易となり、片側凸ガラスを容易に形成することができる。

本願の第３発明は、
曲面基材への塗布液の塗布方法であって、
前記塗布液を前記曲面基材に塗布するスリットノズルへの前記塗布液の供給圧力を一定とし、
前記スリットノズルの移動速度を、前記スリットノズルのスリット先端部から前記曲面基材の塗布面までの距離に反比例させて前記スリットノズルを移動させることを特徴とする。

前記構成によれば、スリットノズルへの塗布液の供給圧力を一定にした状態で、スリット先端部から曲面基材までの距離に反比例させるようにスリットノズルを移動させることによって、曲面基材に対して、塗布液の上面が平面となるよう塗布液を塗布することができる。

本願の第４発明は、
曲面基材への塗布液の塗布方法であって、
前記塗布液を前記曲面基材に塗布するスリットノズルへの前記塗布液の供給量を一定とし、
前記スリットノズルの移動速度を、前記スリットノズルのスリット先端部から前記曲面基材の塗布面までの距離に反比例させて前記スリットノズルを移動させることを特徴とする。

前記構成によれば、スリットノズルへの塗布液の供給量を一定にした状態で、スリット先端部から曲面基材までの距離に反比例させるようにスリットノズルを移動させることによって、曲面基材に対して、塗布液の上面が平面となるよう塗布液を塗布することができる。

要するに、本発明によると、曲面基材へ塗布液を塗布するにあたり、塗布された塗布液の上面が平面となるような、塗布液の塗布装置及び塗布方法を提供することができる。

本発明の実施形態に係る塗布装置の概略図である。 スリットノズル部分近傍の概略斜視図である。 保持トレイの正面概略図である。 曲面基材上のスリットノズルの位置に対する、スリット先端部から塗布面までの距離、スリットノズルの移動速度、スリットノズルの吐出量又は吐出圧力の関係を示すグラフである。 他の実施形態に係る図４に対応するグラフである。 他の実施形態に係る図４に対応するグラフである。

（全体構成）
図１は、本発明の実施形態に係る塗布装置１０の概略図である。図１に示されるように、塗布装置１０は、塗布液を貯留する貯留タンク１と、塗布液を保持トレイ２上の曲面基材１１に塗布するスリットノズル３と、貯留タンク１からスリットノズル３へ塗布液を供給する供給部４と、塗布装置１０を制御する制御部と、を備えている。スリットノズル３は、ノズル自体に塗布液を吐出するための所定幅のスリットを形成し、スリットノズル３を移動させることによって、基材に塗布液を塗布する、テーブルコーター用のスリットノズルである。

貯留タンク１には、高圧空気が供給されるようになっており、この高圧空気の圧力によって、塗布液を下方から押し出すようになっている。なお、貯留タンク１内の塗布液は、高圧空気を使用せず、重力によっても押し出されることもできる。

貯留タンク１は、二方弁１２を介して供給部４に接続されている。供給部４は、モータ４３によって駆動されるシリンジポンプ４４と、三方弁４８と、を備えている。貯留タンク１は、二方弁１２を介して第１供給管路４５に接続され、第１供給管路４５は、三方弁４８を介してシリンジポンプ４４に接続されている。シリンジポンプ４４は、三方弁４８を介して第２供給管路４９に接続されている。第２供給管路４９は、スリットノズル３に接続されている。スリットノズル３は、保持トレイ２に対して水平方向に移動可能となっており、スリットノズル３から塗布された塗布液によって、保持トレイ２上の曲面基材１１に塗膜が形成されるようになっている。なお、制御部は、供給部４を制御することによって、具体的には、モータ４３によって駆動されるシリンジポンプ４４の作動及び三方弁４８の作動を制御することによって、貯留タンク１からスリットノズル３への塗布液の供給圧力及び／又は供給量を制御するようになっている。

図２は、スリットノズル３部分近傍の概略斜視図である。図２に示されるように、スリットノズル３において、塗布液の吐出口であるスリットが、スリットノズル３のノズル移動方向（Ｘ方向）に所定幅だけ形成されており、Ｘ方向に直交するスリット方向Ｙに延びるよう形成されている。そして、スリットノズル３をＸ方向に移動させることによって、保持トレイ２上の曲面基材１１に所定幅で塗布液を塗布するようになっている。制御部は、スリットノズル３のＸ方向の移動速度を調整可能となっている。具体的には、制御部は、スリットノズル３のＸ方向の移動速度を、スリットノズル３のスリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面１１ａまでの距離Ｄに反比例させるよう、スリットノズル３を制御する。

曲面基材１１は、Ｙ方向から見て、上面の塗布面１１ａが凹状曲面を有するよう、下方に突出するよう湾曲しており、さらに、凹状曲面は一定の曲率を有している。そして、曲面基材１１は、凹状曲面がＹ方向に延びた構成を有している。

また、曲面基材１１に塗布される塗布液は、チキソ性を備えていることが好ましい。チキソ性とは、ゲルのような塑性固体とゾルのような非ニュートン液体との中間的な物質が示す性質であり、粘度が時間経過と共に変化する性質を意味している。具体的には、剪断応力を受け続けると粘度が次第に低下し液状となり、静止すると粘度が次第に上昇し最終的に固体状となるものを意味する。本実施形態において、塗布液がチキソ性を備えることによって、塗布液は、スリットノズル３から吐出される際は、剪断応力が付加されて液状化し、曲面基材１１に塗布されると、次第に粘度が上昇し最終的に固体状となる。要するに、通常は高い粘度であるが、圧力をかけた時は粘度が低下し、流動性がよくなるという液体（身近な例で言えば、ペンキ、ケチャップ、マヨネーズのようなもの）であり、本発明のように、塗膜の厚いところから薄いところへ塗料が流出する恐れがある場合には、圧力をかけて流動性よく吐出を行った後、塗布面に付着した時点では粘度が上昇し、流出しにくいという点で好適な液体である。

（保持トレイ）
図３は、保持トレイ２の正面概略図である。図２及び図３に示されるように、曲面基材１１を保持する保持トレイ２は、スリットノズル３のスリット方向（Ｙ方向）の一端部において、スリットノズル３のノズル移動方向（Ｘ方向）における曲面基材１１の両端部で、曲面基材１１を挟むように保持する、一対の挟持部材２１、２２と、Ｘ方向において、一対の挟持部材２１、２２間に配置され、曲面基材１１を下方より支持する、支持部材２３、２４と、を備えている。さらに、保持トレイ２は、スリットノズル３のスリット方向（Ｙ方向）の他端部において、スリットノズル３のノズル移動方向（Ｘ方向）における曲面基材１１の両端部で、曲面基材１１を挟むように保持する、一対の挟持部材２５、２６と、Ｘ方向において、一対の挟持部材２５、２６間に配置され、曲面基材１１を下方より支持する、支持部材２７、２８と、を備えている。そして、挟持部材２１と支持部材２３、及び、挟持部材２５と支持部材２７は、スリットノズル３のスリット方向（Ｙ方向）における曲面基材１１の両端部で、一対として設けられており、挟持部材２２と支持部材２４、及び、挟持部材２６と支持部材２８は、スリットノズル３のスリット方向（Ｙ方向）における曲面基材１１の両端部で、一対として設けられている。

挟持部材２１は、上下方向に延びる鉛直部分２１ａと、鉛直部分２１ａの上端部から水平方向に延びる水平部分２１ｂと、を備えている。ここで、図３において、鉛直部分２１ａの長さＡ、スリットノズル３と鉛直部分２１ａとの鉛直方向長さＢ、及び、スリットノズル３（初期位置）と鉛直部分２１ａとのＸ方向長さＣは一定である。したがって、挟持部材２１で曲面基材１１を挟持すると、曲面基材１１の厚さや曲率が変化しても、長さＡ、長さＢ及び長さＣが一定であるので、曲面基材１１の曲率が変わっても、塗布装置１０の作動の初期条件を一定とすることができる。なお、挟持部材２１、２２、２５、２６は、曲面基材１１の両端部を同じ高さで挟持するように、水平部分の下端の高さ、すなわち鉛直部分の長さＡが同じとなるように形成されている。

挟持部材２２は、ノズル移動方向（Ｘ方向）における曲面基材１１の長さに合わせて、挟持部材２１、２２間の距離を調整することができるよう、挟持部材２１に対して、Ｘ方向に沿って移動可能となっている。具体的には、挟持部材２２と係合するボールネジ２０１が、テーブル２０のＸ方向端部からＸ方向内側に延びるよう設けられており、ボールネジ２０１の先端部のハンドル２０２を回転させることによって、ボールネジ２０１に係合した挟持部材２２がＸ方向に移動可能となる。さらに、挟持部材２２及び支持部材２４は、テーブル２０の上部に取り付けられＸ方向に移動可能な移動台２０３に取り付けられているので、ボールネジ２０１によって挟持部材２２がＸ方向に移動すると、移動台２０３もＸ方向に移動し、さらに、支持部材２４もＸ方向に移動する。その結果、挟持部材２２と支持部材２４とは一体としてＸ方向に移動するようになっている。

挟持部材２２と同様に、挟持部材２６は、ノズル移動方向（Ｘ方向）における曲面基材１１の長さに合わせて、挟持部材２５、２６間の距離を調整することができるよう、挟持部材２５に対して、Ｘ方向に沿って移動可能となっている。そして、支持部材２８は、挟持部材２６と一体としてＸ方向に移動するようになっている。

支持部材２３、２４、２７、２８は、同様の構造を備えている。以下、支持部材２３を例として説明する。支持部材２３は、上端部に曲面基材１１と接触する支持部２３ａを備えており、支持部２３ａは、圧縮空気、電磁力、又は機械的な構造等によって、上下方向に昇降可能となっている。支持部２３ａの頂部は、球形状を有しており、樹脂でできている。さらに、支持部材２３は、上下方向に付勢される、付勢部材２３ｂを備えている。付勢部材２３ｂは、例えばバネであり、曲面基材１１を支持する上での緩衝機能を備えている。付勢部材２３ｂは管状部材２３ｃに収容されており、支持部２３ａが上下に昇降するようになっている。

塗布装置１０は、次のように作動するようになっている。

まず、貯留タンク１に高圧空気を供給して加圧し、二方弁１２を開放する。そして、三方弁４８を吸引側とし、モータ４３を吸引側に回転させると、貯留タンク１内の塗布液が、第１供給管路４５を通り、三方弁４８を介してシリンジポンプ４４に充填される。

シリンジポンプ４４への充填が完了すると、三方弁４８を吐出側に切り替える。そして、モータ４３を吐出側に回転させると、シリンジポンプ４４内の塗布液が、三方弁４８から第２供給管路４９を通り、スリットノズル３に供給される。制御部は、シリンジポンプ４４内の塗布液をスリットノズル３に供給する際、塗布液の供給圧力又は供給量を一定となるよう、モータ４３を制御する。そして、塗布液は、スリットノズル３の吐出口３ｂから、保持トレイ２上の曲面基材１１に供給圧力又は供給量が一定となるよう吐出され、塗膜となる。

制御部は、スリットノズル３から曲面基材１１に塗布液を吐出する際、スリットノズル３の移動速度（Ｘ方向）を、スリットノズル３のスリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面までの距離に反比例させるよう、スリットノズル３を制御する。図４は、曲面基材１１上のスリットノズル３の位置に対する、スリット先端部３ａから塗布面１１ａまでの距離、スリットノズル３の移動速度、スリットノズル３の吐出量又は吐出圧力の関係を示すグラフである。図４に示されるように、スリットノズル３のスリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面１１ａまでの距離Ｄは、曲面基材１１のＸ方向基端部で最も短く、Ｘ方向中央部に向かって長くなり、Ｘ方向中央部で最も長くなり、Ｘ方向中央部からＸ方向先端部に向かって短くなり、Ｘ方向先端部で最も短くなる。そして、スリットノズル３のスリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面までの距離Ｄは、Ｘ方向基端部とＸ方向先端部とでは、同じとなる。したがって、スリットノズル３の移動速度は、曲面基材１１のＸ方向基端部で最も速く、Ｘ方向中央部に向かって速度が減少し、Ｘ方向中央部で最も遅くなり、Ｘ方向中央部からＸ方向先端部に向かって速度が増加し、Ｘ方向先端部で最も速くなる。そして、スリットノズル３の移動速度は、Ｘ方向基端部とＸ方向先端部とでは、同じ速度となる。なお、塗布液の供給圧力又は供給量は、スリットノズル３の位置に関わらず一定となる。

前記構成の塗布装置１０によれば、次のような効果を発揮できる。

（１）スリットノズル３への塗布液の供給圧力を一定にした状態で、スリットノズル３の移動速度を、スリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面１１ａまでの距離Ｄに反比例させるようにスリットノズル３を移動させることによって、曲面基材１１に対して、塗布液の上面が平面となるよう塗布液を塗布することができる。

（２）スリットノズル３への塗布液の供給量を一定にした状態で、スリットノズル３の移動速度を、スリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面１１ａまでの距離Ｄに反比例させるようにスリットノズル３を移動させることによって、曲面基材１１に対して、塗布液の上面が平面となるよう塗布液を塗布することができる。

（３）曲面基材１１の凹状曲面に塗布液として接着剤を塗布することによって、凹状曲面において接着剤の上面が平面となるよう接着剤を塗布することができる。その結果、凸状曲面ガラスと平面ガラスとの貼り合わせが容易となり、片側凸ガラスを容易に形成することができる。

（４）塗布液がチキソ性を有していると、曲面基材１１に塗布された塗布液の移動を抑制することができ、曲面基材１１の所定の領域内に塗布液を平坦に塗布することができる。また、塗布液がチキソ性を有していると、吐出後の塗布液は粘度が高くなるため、曲面基材１１に平面塗布する場合のように、塗布中に塗布する厚みが変化する場合であっても、厚みの厚いところから薄いところへ塗布液が流れて厚みが変化するということが発生しにくく、塗布液の上面を適切な平面に仕上げることができる。

（５）曲面基材１１の凹状曲面が一定の曲率を有しているので、スリットノズル３の移動速度をスリット先端部３ａから曲面基材１１までの距離に反比例させることを、容易に達成できる。

（６）スリットノズル３の先端部３ａから曲面基材１１の塗布面１１ａまでの距離Ｄが連続して変化する場合の他の塗布方法としては、スリットノズル３のＸ方向の移動速度を一定とし、塗布液の供給圧力又は供給量を、距離Ｄに比例させて塗布するという方法が考えられる。しかし、このような方法を行った場合、単位時間あたりの塗布量が変化し、塗布液が揮発して固化するまでにかかる時間が一定にならない（厚く塗布した場合は、揮発に時間がかかる）ため、曲面基材１１の塗布面１１における固化後の塗布液の品質の均一性が欠けるという問題がある。これに対して、本発明では、塗布液の供給圧力又は供給量を一定とするため、塗布のどの時点においても塗布液が固化するまでの時間を一定にでき、固化後の塗布液の品質の均一性を、塗布液の供給圧力又は供給量を距離Ｄに比例させて塗布する場合と比べて向上させることができるという効果を有している。

上記実施形態では、支持部材はノズル移動方向（Ｘ方向）に２つ設けられているが、１つ又は３以上設けられても良い。

上記実施形態では、挟持部材と支持部材は、スリットノズル３のスリット方向（Ｙ方向）における曲面基材１１の両端部で、一対として設けられているが、挟持部材と支持部材は、Ｙ方向において、所定間隔を有して、３以上設けられていても良い。

上記実施形態では、曲面基材１１が一定の曲率を有する凹形状を有しているが、曲面基材１１の形状はそれに限定されず、例えば、図５に示されるように、全面が凸形状を有する曲面基材でもよく、また、図６に示されるように、Ｘ方向の途中で凸形状を有する曲面基材でもよい。

図５は、他の実施形態に係る曲面基材１１上のスリットノズル３の位置に対する、スリット先端部３ａから塗布面１１ａまでの距離、スリットノズル３の移動速度、スリットノズル３の吐出量又は吐出圧力の関係を示すグラフである。図５に示されるように、スリットノズル３のスリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面１１ａまでの距離Ｄは、曲面基材１１のＸ方向基端部で最も長く、Ｘ方向中央部に向かって短くなり、Ｘ方向中央部で最も短くなり、Ｘ方向中央部からＸ方向先端部に向かって長くなり、Ｘ方向先端部で最も長くなる。そして、スリットノズル３のスリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面までの距離Ｄは、Ｘ方向基端部とＸ方向先端部とでは、同じとなる。したがって、スリットノズル３の移動速度は、曲面基材１１のＸ方向基端部で最も遅く、Ｘ方向中央部に向かって速度が増加し、Ｘ方向中央部で最も速くなり、Ｘ方向中央部からＸ方向先端部に向かって速度が減少し、Ｘ方向先端部で最も遅くなる。そして、スリットノズル３の移動速度は、Ｘ方向基端部とＸ方向先端部とでは、同じ速度となる。なお、塗布液の供給圧力又は供給量は、スリットノズル３の位置に関わらず一定となる。

図６は、他の実施形態に係る曲面基材１１上のスリットノズル３の位置に対する、スリット先端部３ａから塗布面１１ａまでの距離、スリットノズル３の移動速度、スリットノズル３の吐出量又は吐出圧力の関係を示すグラフである。図６に示されるように、スリットノズル３のスリット先端部３ａから曲面基材１１の塗布面１１ａまでの距離Ｄは、曲面基材１１のＸ方向基端部からＸ方向に向かって長くなり、途中においてＸ方向中央部に向かって短くなり、さらに、Ｘ方向中央部からＸ方向に向かって長くなり、途中においてＸ方向先端部に向かって短くなる。そして距離Ｄは、Ｘ方向基端部とＸ方向先端部とでは、同じとなる。したがって、スリットノズル３の移動速度は、曲面基材１１のＸ方向基端部からＸ方向に向かって遅くなり、途中においてＸ方向中央部に向かって速くなり、さらに、Ｘ方向中央部からＸ方向に向かって遅くなり、途中においてＸ方向先端部に向かって速くなる。なお、塗布液の供給圧力又は供給量は、スリットノズル３の位置に関わらず一定となる。

また、図面は省略するが、スリットノズル３の先端部３ａから曲面基材１１の塗布面１１ａまでの距離Ｄに対してスリットノズル３の移動速度を反比例される制御においては、予め曲面基材１１の形状が判明しておれば、それに合わせたプログラムでスリットノズル３を制御すればよく、また、曲面基材１１毎に形状が異なる場合、スリットノズル３の進行方向前方に距離センサを設け、連続的にスリットノズル３の進行方向前方における距離Ｄを測定することによって、距離Ｄに対して反比例させた移動速度でスリットノズル３を移動させてもよく、またその他の方法を用いてもよい。

また、上記実施形態では、供給部４の塗布液をスリットノズル３から吐出させる機構としては、シリンジポンプ４４のように圧力によって吐出量（供給量）を変化させるもので説明しているが、ギヤポンプのように回転数で供給量を変化させるものでもよい。本発明では、これらの作動圧力や回転数を一定にすることによって、スリットノズル３からの供給量を一定にしている。

特許請求の範囲に記載された本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、各種変形及び変更を行うことも可能である。

本発明では、曲面基材へ塗布液を塗布するにあたり、塗布された塗布液の上面が平面となるような、塗布液の塗布装置及び塗布方法を提供することができるので、産業上の利用価値が大である。

１ 貯留タンク
２ 保持トレイ
２０ テーブル ２０１ ボールネジ ２０２ ハンドル ２０３ 移動台
２１ 挟持部材 ２１ａ 鉛直部分 ２１ｂ 水平部分
２２ 挟持部材
２３ 支持部材 ２３ａ 支持部 ２３ｂ 付勢部材
２４ 支持部材
２５ 挟持部材 ２６ 挟持部材 ２７ 支持部材 ２８ 支持部材
３ スリットノズル
３ａ スリット先端部 ３ｂ 吐出口
４ 供給部
４３ モータ ４４ シリンジポンプ ４５ 第１供給管路
４８ 三方弁 ４９ 第２供給管路
１０ 塗布装置
１１ 曲面基材
１１ａ 塗布面
１２ 二方弁
Ｄ スリットノズルの先端部から曲面基材の塗布面までの距離

Claims (5)

1. 曲面基材への塗布液の塗布装置であって、
   前記塗布液を貯留する貯留タンクと、
   前記塗布液を前記曲面基材に塗布するスリットノズルと、
   前記貯留タンクから前記スリットノズルへ前記塗布液を供給する供給部と、
   前記塗布装置を制御する制御部と、を備えており、
   前記制御部は、前記スリットノズルへの前記塗布液の供給圧力を一定とするよう前記供給部を制御し、さらに、前記スリットノズルの移動速度を、前記スリットノズルのスリット先端部から前記曲面基材の塗布面までの距離に反比例させるよう前記スリットノズルを制御することを特徴とする、塗布装置。
   
2. 曲面基材への塗布液の塗布装置であって、
   前記塗布液を貯留する貯留タンクと、
   前記塗布液を前記曲面基材に塗布するスリットノズルと、
   前記貯留タンクから前記スリットノズルへ前記塗布液を供給する供給部と、
   前記塗布装置を制御する制御部と、を備えており、
   前記制御部は、前記スリットノズルへの前記塗布液の供給量を一定とするよう前記供給部を制御し、さらに、前記スリットノズルの移動速度を、前記スリットノズルのスリット先端部から前記曲面基材の塗布面までの距離に反比例させるよう前記スリットノズルを制御することを特徴とする、塗布装置。
   
3. 前記曲面基材の塗布面が凹状曲面を有している、請求項１又は２に記載の塗布装置。
   
4. 曲面基材への塗布液の塗布方法であって、
   前記塗布液を前記曲面基材に塗布するスリットノズルへの前記塗布液の供給圧力を一定とし、
   前記スリットノズルの移動速度を、前記スリットノズルのスリット先端部から前記曲面基材の塗布面までの距離に反比例させて前記スリットノズルを移動させることを特徴とする、塗布方法。
   
5. 曲面基材への塗布液の塗布方法であって、
   前記塗布液を前記曲面基材に塗布するスリットノズルへの前記塗布液の供給量を一定とし、
   前記スリットノズルの移動速度を、前記スリットノズルのスリット先端部から前記曲面基材の塗布面までの距離に反比例させて前記スリットノズルを移動させることを特徴とする、塗布方法。

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