JP6191135B2 - 高分子電解質組成物成形体、およびそれを用いた固体高分子型燃料電池 - Google Patents
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Description
(1)前記ブロック共重合体を成形し、共連続様またはラメラ様のミクロ相分離構造を形成したブロック共重合体成形体を製造する工程。
(2)前記ブロック共重合体成形体を、酸を用いて処理し、酸処理成形体を製造する工程。
(3)前記酸処理成形体に、前記親水性添加剤を加える工程。
である。前記工程の(1)と(2)を入れ替え、ブロック共重合体の成形前に酸処理を行った場合、ブロック共重合体に含まれるイオン性基が酸型となるために分子間の水素結合が強くなりハンドリングが悪くなることがある。また、(2)と(3)を入れ替えて前記添加剤を加えた後に酸処理を行った場合、添加剤が溶出し本発明の効果が失われるおそれがある。方法(A)を用いた場合には、ブロック共重合体と添加剤を同時に溶解させる必要があるため、工程(2)と(3)が入れ替わる。一方、方法(B)、(C)を用いた場合には工程(1)、(2)、(3)の順番で前記高分子電解質組成物成形体を製造することが可能である。
(1)プロトン置換し、純水で十分に洗浄したブロック共重合体、或いは高分子電解質組成物成形体の表面の水分を拭き取った後、100℃にて12時間以上真空乾燥し、乾燥重量を求める。
(2)5重量%硫酸ナトリウム水溶液を50mL加え、12時間静置してイオン交換する。
(3)0.01mol/L水酸化ナトリウム水溶液を用いて、生じた硫酸を滴定する。指示薬として市販の滴定用フェノールフタレイン溶液0.1w/v%を加え、薄い赤紫色になった点を終点とする。
(4)イオン交換容量は下記の式により求める。
イオン交換容量(meq/g)=〔水酸化ナトリウム水溶液の濃度(mmol/mL)×滴下量(mL)〕/試料の乾燥重量(g)
方法a.両末端に−OM基を有する前記式(S1)で表されるセグメントおよび/またはセグメント前駆体と両末端に−OM基を有する前記式(S2)で表されるセグメントおよび/またはセグメント前駆体のいずれかにジハライドリンカーとを反応させた後、もう一方のセグメントと交互的に重合させてブロック共重合体を製造する方法、
方法b.両末端に−OM基を有する前記式(S1)で表されるセグメントおよび/またはセグメント前駆体と両末端に−OM基を有する前記式(S2)で表されるセグメントおよび/またはセグメント前駆体とジハライドリンカーとをランダム的に重合させてブロック共重合体を製造する方法、
方法c.前記式(S1)で表されるセグメントおよび/またはセグメント前駆体の未スルホン化物を用いて、上記方法aまたはbに記載の方法でブロック共重合体を製造した後、式(S1)で表されるセグメントおよび/またはセグメント前駆体の未スルホン化部分に選択的にイオン性基を導入する方法、
方法d.上記方法a〜cの組み合わせる方法、などが挙げられる。
(1)前記一般式(S1)で表される構成単位、および/または、前記一般式(S1)で表される構成単位の前駆体となる構成単位を含有し、両末端に−OM基(Mは、H、金属カチオン、アンモニウムカチオンを表す。)を有する、イオン性基を含有するセグメント(A1)を合成する工程、
(2)前記一般式(S2)で表される構成単位、および/または、前記一般式(S2)で表される構成単位の前駆体となる構成単位を含有し、両末端に−OM基(Mは、H、金属カチオン、アンモニウムカチオンを表す。)を有する、イオン性基を含有しないセグメント(A2)を合成する工程、
(3)イオン性基を含有するセグメント(A1)またはイオン性基を含有しないセグメント(A2)の両末端の−OM基(Mは、H、金属カチオン、アンモニウムカチオンを表す。)にリンカー部位を導入せしめる工程、
(4)(3)で合成したセグメントの両末端リンカー部位と、もう一方のセグメントの両末端の−OM基(Mは、H、金属カチオン、アンモニウムカチオンを表す。)を重合せしめることによりブロック共重合体およびブロック共重合体前駆体を製造する工程。
以下の1)〜4)に記載の中和滴定法により測定した。測定は3回行って、その平均値を取った。
1)プロトン置換し、純水で十分に洗浄した電解質膜の膜表面の水分を拭き取った後、100℃にて12時間以上真空乾燥し、乾燥重量を求めた。
2)電解質に5重量%硫酸ナトリウム水溶液を50mL加え、12時間静置してイオン交換した。
3)0.01mol/L水酸化ナトリウム水溶液を用いて、生じた硫酸を滴定した。指示薬として市販の滴定用フェノールフタレイン溶液0.1w/v%を加え、薄い赤紫色になった点を終点とした。
4)イオン交換容量は下記の式により求めた。
イオン交換容量(meq/g)=〔水酸化ナトリウム水溶液の濃度(mmol/mL)×滴下量(mL)〕/試料の乾燥重量(g)
膜状の試料を25℃の純水に24時間浸漬した後、80℃、相対湿度25〜95%の恒温恒湿槽中にそれぞれのステップで30分保持し、定電位交流インピーダンス法でプロトン伝導度を測定した。
ポリマーの数平均分子量、重量平均分子量をGPCにより測定した。紫外検出器と示差屈折計の一体型装置として東ソー社製HLC−8022GPCを、またGPCカラムとして東ソー社製TSK gel SuperHM−H(内径6.0mm、長さ15cm)2本を用い、N−メチル−2−ピロリドン溶媒(臭化リチウムを10mmol/L含有するN−メチル−2−ピロリドン溶媒)にて、サンプル濃度0.1重量%、流量0.2mL/min、温度40℃で測定し、標準ポリスチレン換算により数平均分子量、重量平均分子量を求めた。
ミツトヨ社製グラナイトコンパレータスタンドBSG−20にセットしたミツトヨ社製ID−C112型を用いて測定した。
染色剤として2重量%酢酸鉛水溶液中に試料片を浸漬させ、25℃下で24時間放置した。染色処理された試料を取りだし、可視硬化樹脂で包埋し、可視光を30秒照射し固定した。
上記(5)記載の方法にて作成した薄片試料を、コロジオン膜上にマウントし、以下の条件に従って観察を実施した。
装置:電界放出型電子顕微鏡(HRTEM)JEOL製JEM 2100F
画像取得:Digital Micrograph
システム:マーカー法
加速電圧 :200kV
撮影倍率 :30,000倍
傾斜角度:+60°〜−62°
再構成解像度:0.71nm/pixel
画像処理ソフトImage Jを用い、下記1)〜7)の方法に従って、透過型電子顕微鏡(TEM)観察により得られた相分離構造の画像処理が与える自己相関関数、およびこれから見積もられるミクロ相分離の周期長を算出した。
1)画像を読み込む(ファイルサイズを512×512ピクセルあるいは、1024×1024ピクセルなどに変更し、画像解像度をチェックする。)
2)Process/FFT/FD Mathを実行すると自己相関関数がResultとして、画像が出力される(画像タイプは16bitを推奨)。
3)Image/Adust/Brightness Contrastを実行し、色調補正を実施する。
4)ラインツールを用いて画像中央の高輝度の点を通るように、ラインプロファイルを実行する。
5)Analyze/Plot Profileを実行し、Plot of Resultを出力する。
6)Listボタンを実行し、強度と距離を出力、グラフを作成する。
7)自己相関関数(出力された画像)の中央の輝度から第一近接ピークまでの距離を計測し、周期長を算出する。
上記TEMを測定する際に、EDXを用いて元素分析を行った。親水性ドメイン、疎水性ドメイン、各々について50点において元素分析を行いそれらの平均を求め、ブロック共重合体の寄与を除いた上で、添加剤に含まれる元素の存在比率から各ドメインにおける添加剤の存在量を算出した。機器としては、rTEM検出器(アメテック製)を上記TEMに接続して使用した。
添加剤の粉末を水またはアルコール類に分散した後に、TEMグリッドに滴下した上で溶媒を揮発させる。こうして作製したサンプルを、上記TEM観察に供し、100個の粒子のサイズを測定し、その平均をとることで添加剤の粒径を測定した。
下記条件のガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析した。
カラム:DB−5(J&W社製) L=30m Φ=0.53mm D=1.50μm
キャリヤー:ヘリウム(線速度=35.0cm/sec)
分析条件
Inj.temp.; 300℃
Detct.temp.; 320℃
Oven; 50℃×1min
Rate; 10℃/min
Final; 300℃×15min
SP ratio; 50:1
高分子電解質組成物成形体(電解質膜)の耐熱水性は95℃、熱水中での寸法変化率を測定することにより評価した。電解質膜を長さ約5cm、幅約1cmの短冊に切り取り、25℃の水中に24時間浸漬後、ノギスで長さ(L1)を測長した。該電解質膜を95℃の熱水中に8時間浸漬後、再度ノギスで長さ(L2)を測長し、その寸法変化の大きさを目視で観察した。
下記の測定条件で、1H−NMRの測定を行い、構造確認、およびイオン性基を含有するセグメント(A1)とイオン性基を含有しないセグメント(A2)のモル組成比の定量を行った。該モル組成比は、8.2ppm(ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノン由来)と6.5〜8.0ppm(ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノンを除く全芳香族プロトン由来)に認められるピークの積分値から算出した。
装置 :日本電子社製EX−270
共鳴周波数 :270MHz(1H−NMR)
測定温度 :室温
溶解溶媒 :DMSO−d6
内部基準物質:TMS(0ppm)
積算回数 :16回
装置 :Chemagnetics社製CMX−300Infinity
測定温度 :室温
内部基準物質:Siゴム(1.56ppm)
測定核 :75.188829MHz
パルス幅 :90°パルス、4.5μsec
パルス繰り返し時間:ACQTM=0.03413sec、PD=9sec
スペクトル幅:30.003kHz
試料回転 :7kHz
コンタクトタイム:4msec
電解質膜の化学的安定性は、約10mgのサンプルを80℃で、大過剰の1重量%の過酸化水素水に浸漬することにより評価した。浸漬前、100時間後の80℃、相対湿度25%でのプロトン伝導度を測定すると共に重量平均分子量を測定し、分子量保持率=(浸漬後の重量平均分子量)/(浸漬前の重量平均分子量)×100(%)、を計算した。
下記1)〜4)の手順に従って分析した。測定は2回以上行ってその平均値を取るものとする。
1)試料約50mgを白金坩堝に秤取し、バーナー及び電気炉を用いて1000℃まで加熱し灰化する。
2)得られた灰に、95重量%硫酸1mL、70wt%硝酸1mL、50重量%フッ化水素酸1mLを加え80℃に加熱し分解する。
3)得られた溶液を分解後、0.1mol/L硝酸で希釈し10mLとする。
4)ICP発光分光分析を行い、下記式を用いて得られた測定値から試料1gあたりに含まれる金属元素の量を算出する。
M=(10×S)/m
M:試料1g中に含まれる金属元素の量(μg/g)
S:ICP発光分光分析における金属元素の検出量(μg/g)
m:試料の質量(g)
装置:ICP発光分光分析装置 エスアイアイ・ナノテクノロジー社製SPS4000
下記手順に従って分析した。測定は2回以上行ってその平均値を取るものとする。
1)試料約50mgを分析装置内に導入し、熱分解・酸化させる。
2)発生した一酸化窒素を、化学発光法により定量する。下記式を用いて得られた測定値から試料1gあたりに含まれる金属元素の量を算出する。
M’=(10×N)/m’
M’:試料1g中に含まれる窒素の量(μg/g)
N:有機窒素分析における窒素の検出量(μg/g)
m’:試料の質量(g)
装置:微量窒素分析装置ND−100型(三菱化学株式会社製)
電気炉温度(横型反応炉)
熱分解部分:800℃
触媒部分:900℃
メインO2流量:300mL/min
O2流量:300mL/min
Ar流量:400mL/min
Sens:Low
下記一般式(G1)で表される2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,3−ジオキソラン(K−DHBP)の合成
下記一般式(G2)で表されるジソジウム 3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノンの合成
(下記一般式(G3)で表されるイオン性基を含有しないオリゴマーa1’の合成)
かき混ぜ機、窒素導入管、Dean−Starkトラップを備えた500mL三口フラスコに、炭酸カリウム0.56g(アルドリッチ試薬、4mmol)、イオン性基を含有するオリゴマーa2(末端OM基)16g(1mmol)を入れ、窒素置換後、N−メチルピロリドン(NMP)100mL、シクロヘキサン30mL中にて100℃で脱水後、昇温してシクロヘキサン除去し、イオン性基を含有しないオリゴマーa1’(末端フルオロ基)11g(1mmol)を入れ、105℃で24時間反応を行った。多量のイソプロピルアルコールで再沈殿することで精製を行い、ブロック共重合体b1を得た。重量平均分子量は32万であった。
(下記一般式(G5)で表されるスルホン酸基導入ポリフェニレンスルフィドc1の製造)
合成例3にて得た19gのブロック共重合体b1を60gのN−メチルピロリドン(NMP)に溶解した。この溶液に、上記スルホン酸基導入ポリフェニレンスルフィドc1を1g添加し、撹拌機で20,000rpm、3分間撹拌しポリマー濃度25質量%の透明な溶液を得た。得られた溶液を、ガラス繊維フィルターを用いて加圧ろ過後、ガラス基板上に流延塗布し、100℃にて4h乾燥後、窒素下150℃で10分間熱処理し、ポリケタールケトン膜(膜厚25μm)を得た。ポリマーの溶解性は極めて良好であった。95℃で10重量%硫酸水溶液に24時間浸漬してプロトン置換、脱保護反応した後に、大過剰量の純水に24時間浸漬して充分洗浄し、高分子電解質膜f1を得た。
ブロック共重合体b1を14g、スルホン酸基導入ポリフェニレンスルフィドc1を6gにした以外は、実施例1と同様にして電解質膜f2を製造した。
ブロック共重合体b1を19.8g、スルホン酸基導入ポリフェニレンスルフィドc1を0.2gにした以外は、実施例1と同様にして電解質膜f3を製造した。
(酸化マンガン(IV)粒子含有高分子電解質膜f4の製造)
スルホン酸基導入ポリフェニレンスルフィドc1の代わりに酸化マンガン(IV)粒子を使用したこと、NMPの量が57gであること以外は、実施例1と同様にして電解質膜f4を製造した。TEM観察の結果、酸化マンガン(IV)粒子の平均粒径は3nmであった。
(酸化セリウム(III)粒子含有高分子電解質膜f5の製造)
酸化マンガン(IV)粒子の代わりに酸化セリウム(III)粒子を使用したこと以外は、実施例4と同様にして電解質膜f5を製造した。TEM観察の結果、酸化セリウム(III)粒子の平均粒径は3nmであった。
(マンガン(IV)・セリウム(III)酸化物粒子混合高分子電解質膜f6の製造)
酸化マンガン(IV)粒子を0.503gとし、酸化セリウム(III)粒子0.497gを加えた以外は、実施例4と同様にして電解質膜f6を製造した。
(タングステン酸セリウム(III)粒子含有高分子電解質膜f7の製造))
酸化マンガン(IV)粒子の代わりにタングステン酸セリウム(III)粒子を使用したこと以外は、実施例4と同様にして電解質膜f7を製造した。TEM観察の結果、タングステン酸セリウム(III)粒子の平均粒径は4nmであった。
(硝酸セリウム浸漬によりセリウムイオンを導入した高分子電解質膜f8の製造)
合成例3にて得た20gのブロック共重合体b1を80gのN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に溶解した。得られた溶液を、ガラス繊維フィルターを用いて加圧ろ過後、ガラス基板上に流延塗布し、100℃にて4時間乾燥後、窒素下150℃で10分間熱処理し、ポリケタールケトン膜(膜厚25μm)を得た。ポリマーの溶解性は極めて良好であった。95℃で10重量%硫酸水溶液に24時間浸漬してプロトン置換、脱保護反応した後に、大過剰量の純水に24時間浸漬して洗浄後25℃にて12時間静置し乾燥させ親水性添加剤を含まないポリエーテルケトン膜f8”を製造した。
(硝酸マンガン溶液浸漬によりマンガンイオンを導入した高分子電解質膜f9の製造)
硝酸セリウム(III)六水和物0.52gの代わりに、硝酸マンガン(II)六水和物0.34g(Aldrich試薬、1.2mmol)を用いた以外は、実施例8と同様にして電解質膜9を得た。
(エチレンジアミン四酢酸二ナトリウムマンガン錯体溶液浸漬により該錯体を導入した高分子電解質膜f10の製造)
硝酸セリウム(III)六水和物0.52gの代わりに、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウムマンガン塩四水和物0.55g(純正化学試薬、1.2mmol)を用いた以外は、実施例8と同様にして電解質膜10を得た。
(酸化劣化を防止する添加剤を含まない高分子電解質膜f1’の製造)
スルホン酸基導入ポリフェニレンスルフィドc1を使用していない以外は、実施例1と同様にして電解質膜f1’を製造した。
(無置換ポリフェニレンスルフィド粒子含有高分子電解質膜f2’の製造)
スルホン酸基導入ポリフェニレンスルフィドc1の代わりに無置換のポリ(1,4フェニレンスルフィド)を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f2’を製造した。
(高温重合によるイオン性基を含有するセグメント(A1)としてオリゴマーa2、イオン性基を含有しないセグメント(A2)としてオリゴマーa1、リンカー部位としてオクタフルオロビフェニレンを含有するブロック共重合体b2の合成)
かき混ぜ機、窒素導入管、Dean−Starkトラップを備えた500mL三口フラスコに、炭酸カリウム0.56g(アルドリッチ試薬、4mmol)、イオン性基を含有するオリゴマーa2(末端ヒドロキシル基)16g(1mmol)を入れ、窒素置換後、N−メチルピロリドン(NMP)100mL、シクロヘキサン30mL中にて100℃で脱水後、昇温してシクロヘキサン除去し、イオン性基を含有しないオリゴマーa1’(末端フルオロ基)11g(1mmol)を入れ、140℃で24時間反応を行った。多量のイソプロピルアルコールで再沈殿することで精製を行い、ブロック共重合体b2を得た。重量平均分子量は31万であった。
105℃にて合成したブロック共重合体b1の代わりに140℃にて合成したブロック共重合体b2を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f3’を製造した。
(高温重合により合成したブロック共重合体と酸化マンガンからなる高分子電解質膜f4’の製造)
105℃にて合成したブロック共重合体b1の代わりに140℃にて合成したブロック共重合体b2を使用した以外は、実施例4と同様にして電解質膜f4’を製造した。
(高温重合により合成したブロック共重合体のスルホン酸プロトンの一部をマンガンイオンにて置換した高分子電解質膜f5’の製造)
105℃にて合成したブロック共重合体b1の代わりに140℃にて合成したブロック共重合体b2を使用した以外は、実施例9と同様にして電解質膜f5’を製造した。
(前記一般式(G3)で表されるイオン性基を含有しないオリゴマーa3’の合成)
4,4’−ジフルオロベンゾフェノンの仕込量を19.6g(アルドリッチ試薬、90mmol)に変えた以外は合成例3に記載の方法で、イオン性基を含有しないオリゴマーa3(末端OM基)の合成を行った。数平均分子量は5000であった。
3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノンの仕込量を41.4g(98mmol)に変えた以外は、合成例3に記載の方法で、前記式(G4)で示されるイオン性基を含有するオリゴマーa4(末端OM基)を得た。数平均分子量は28000であった。
イオン性基を含有するオリゴマーa2(末端OM基)に変えて、イオン性基を含有するオリゴマーa4(末端OM基)28g(1mmol)を入れ、イオン性基を含有しないオリゴマーa1’(末端フルオロ基)に変えて、イオン性基を含有しないオリゴマーa3’(末端フルオロ基)6g(1mmol)を入れた以外は合成例3に記載の方法で、ブロック共重合体b3を得た。重量平均分子量は27万であった。
モル組成比A1/A2=1.27であるブロック共重合体b1の代わりにA1/A3=4.08であるブロック共重合体b3を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f6’を製造した。
(海島構造を形成するブロック共重合体と酸化マンガンからなる高分子電解質膜f7’の製造)
モル組成比A1/A2=1.27であるブロック共重合体b1の代わりにA1/A3=4.08であるブロック共重合体b3を使用した以外は、実施例4と同様にして電解質膜f7’を製造した。
M2:ラメラ構造
M3:シリンダー構造
M4:海島構造
Claims (10)
- イオン性基を含有する親水性セグメント(A1)とイオン性基を含有しない疎水性セグメント(A2)をそれぞれ1個以上有するブロック共重合体と添加剤とを含有する高分子電解質組成物成形体であって、前記成形体が共連続様またはラメラ様の相分離構造を形成し、かつ、前記添加剤が親水性であると共に、前記添加剤が、表面にイオン性基を導入したポリフェニレンスルフィド粒子、並びにMnおよび/またはCeを含有する化合物からなる群より選択される添加剤であることを特徴とする高分子電解質組成物成形体。
- 前記親水性セグメント(A1)からなる親水性ドメイン中に存在する添加剤の含有量が、前記疎水性セグメント(A2)からなる疎水性ドメイン中に存在する添加剤の含有量の2倍以上であることを特徴とする請求項1に記載の高分子電解質組成物成形体。
- 前記添加剤の含有量が、高分子電解質組成物成形体全体に対して、0.01質量%〜40質量%である請求項1または2に記載の高分子電解質組成物成形体。
- 透過型電子顕微鏡観察により得られる相分離構造の画像処理が与える自己相関関数から見積もられるミクロ相分離の周期長が2〜200nmである請求項1〜3のいずれかに記載の高分子電解質組成物成形体。
- 前記添加剤が粒子であり、その平均粒子径が1〜20nmである請求項1〜4のいずれかに記載の高分子電解質組成物成形体。
- 前記添加剤が、(1)Mnイオン、(2)Ceイオン、(3)Mnイオン及び/またはCeイオンを含む錯体、からなる群から選ばれる1種以上である請求項1〜5のいずれかに記載の高分子電解質組成物成形体。
- 前記ブロック共重合体が芳香族ポリエーテルケトンである請求項1〜6のいずれかに記載の高分子電解質組成物成形体。
- イオン性基を含有するセグメント(A1)およびイオン性基を含有しないセグメント(A2)が、それぞれ下記一般式(S1)および(S2)で表される構成単位を含有する請求項7に記載の高分子電解質組成物成形体。
- イオン性基を含有する親水性セグメント(A1)とイオン性基を含有しない疎水性セグメント(A2)をそれぞれ1個以上有するブロック共重合体と添加剤とを含有する高分子電解質組成物成形体の製造方法であって、前記成形体が共連続様またはラメラ様の相分離構造を形成し、かつ、前記添加剤が親水性であると共に、前記添加剤が、表面にイオン性基を導入したポリフェニレンスルフィド粒子、並びにMnおよび/またはCeを含有する化合物からなる群より選択された添加剤であり、以下の工程(1)〜(3)を含むことを特徴とする高分子電解質組成物膜の製造方法。
(1)前記ブロック共重合体を成形し、共連続様またはラメラ様のミクロ相分離構造を形成したブロック共重合体成形体を製造する工程。
(2)前記ブロック共重合体成形体を、酸を用いて処理し、酸処理成形体を製造する工程。
(3)前記酸処理成形体に、前記添加剤を加える工程。
固体高分子型燃料電池。 - 請求項1〜8に記載の高分子電解質組成物成形体を用いて構成されることを特徴とする固体高分子型燃料電池。
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