JP6148991B2 - 基板処理装置、編集方法及び記憶媒体 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 176
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 167
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 49
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 93
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 238000011022 operating instruction Methods 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 77
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 70
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 45
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 29
- 230000008569 process Effects 0.000 description 25
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 15
- 230000006870 function Effects 0.000 description 15
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 10
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 9
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
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- G06F1/00—Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
- G06F1/26—Power supply means, e.g. regulation thereof
- G06F1/32—Means for saving power
- G06F1/3203—Power management, i.e. event-based initiation of a power-saving mode
- G06F1/3234—Power saving characterised by the action undertaken
- G06F1/325—Power saving in peripheral device
- G06F1/3265—Power saving in display device
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/04—Programme control other than numerical control, i.e. in sequence controllers or logic controllers
- G05B19/042—Programme control other than numerical control, i.e. in sequence controllers or logic controllers using digital processors
- G05B19/0426—Programming the control sequence
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F1/00—Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
- G06F1/26—Power supply means, e.g. regulation thereof
- G06F1/32—Means for saving power
- G06F1/3203—Power management, i.e. event-based initiation of a power-saving mode
- G06F1/3234—Power saving characterised by the action undertaken
- G06F1/3287—Power saving characterised by the action undertaken by switching off individual functional units in the computer system
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/048—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI]
- G06F3/0487—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI] using specific features provided by the input device, e.g. functions controlled by the rotation of a mouse with dual sensing arrangements, or of the nature of the input device, e.g. tap gestures based on pressure sensed by a digitiser
- G06F3/0488—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI] using specific features provided by the input device, e.g. functions controlled by the rotation of a mouse with dual sensing arrangements, or of the nature of the input device, e.g. tap gestures based on pressure sensed by a digitiser using a touch-screen or digitiser, e.g. input of commands through traced gestures
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/20—Pc systems
- G05B2219/24—Pc safety
- G05B2219/24001—Maintenance, repair
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/20—Pc systems
- G05B2219/25—Pc structure of the system
- G05B2219/25389—Macro's, subroutines
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
Description
19 制御装置
19B 表示装置
19C 入力装置
Claims (17)
- 基板処理装置を通常運転状態から人手によるメンテナンスに適した状態に自動的に移行させるための立ち下げ動作命令と、人手によるメンテナンスが終了した後に当該基板処理装置を通常運転に適した状態に自動的に移行させるための立ち上げ動作命令とを、一つのマクロとして保存する機能を有し、前記マクロに基づき当該基板処理装置の動作を制御する制御装置を備える基板処理装置において、
前記制御装置に動作命令を入力するための入力装置と、
前記制御装置に入力された動作命令に関連する情報を表示する表示装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記立ち下げ動作命令および立ち上げ動作命令の両方を、前記表示装置の一つの編集画面上の異なる表示領域にそれぞれ表示させるとともにこの一つの編集画面上のそれぞれの表示領域で前記入力装置を介して前記マクロを編集可能とすることを特徴とする、基板処理装置。 - 前記マクロに含まれる立ち下げ動作命令及び前記立ち上げ動作命令の少なくとも一部が、通常運転状態時において用いられる搬送レシピまたは当該搬送レシピに従属するレシピに含まれるレシピステップに対応する動作命令から選択される、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記編集画面では、一群の立ち下げ動作命令の実行順序および一群の立ち上げ動作命令の実行順序をそれぞれの表示領域で設定可能である、請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記マクロの実行のために前記表示装置に一つの実行画面が表示され、この一つの実行画面上には、前記マクロを構成する前記一群の立ち下げ動作命令および立ち上げ動作命令の両方が異なる表示領域にそれぞれ表示される、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記実行画面上において現在実行中の動作命令に対応する領域をハイライト表示する、請求項4記載の基板処理装置。
- 前記制御装置は、前記編集画面上において、前記立ち下げ動作命令として選択可能な命令のリストを表示させるための仮想ボタンと、前記立ち上げ動作命令として選択可能な命令のリストを表示させるための仮想ボタンと、を個別に表示させる、請求項1〜5のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記編集画面では、前記立ち下げ動作命令を表示させる領域と、前記立ち上げ動作命令を表示させる領域と、の間に、オペレータないし作業者が開始及び終了を入力指示することが予め設定された人手によるメンテナンスが存在することを示す表示領域が配置されている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 基板処理装置を通常運転状態から人手によるメンテナンスに適した状態に自動的に移行させるための立ち下げ動作命令と、人手によるメンテナンスが終了した後に当該基板処理装置を通常運転に適した状態に自動的に移行させるための立ち上げ動作命令とを、一つのマクロとして保存する機能を有し、前記マクロに基づき基板処理装置の動作を制御するコンピュータからなる制御装置と、前記制御装置に動作命令を入力するための入力装置と、前記制御装置に入力された動作命令に関連する情報を表示する表示装置と、を備えた基板処理装置において、前記コンピュータにより実行されることにより、メンテナンスレシピの編集及び表示する機能を実現するプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記機能は、
前記立ち下げ動作命令および立ち上げ動作命令の両方を、前記表示装置の一つの編集画面上の異なる表示領域にそれぞれ表示させるとともにこの一つの編集画面上のそれぞれの表示領域で前記入力装置を介して前記マクロを編集可能とする機能を含むことを特徴とする、記憶媒体。 - 基板処理装置を通常運転状態から人手によるメンテナンスに適した状態に自動的に移行させるための立ち下げ動作命令と、人手によるメンテナンスが終了した後に当該基板処理装置を通常運転に適した状態に自動的に移行させるための立ち上げ動作命令とを、一つのマクロとして保存する機能を有する基板処理装置において用いられる動作命令を編集する編集装置であって、
前記立ち下げ動作命令と前記立ち上げ動作命令とを表示装置の一つの編集画面上の異なる表示領域にそれぞれ表示させる表示部と、
入力装置による入力に応じて、前記一つの編集画面上のそれぞれの表示領域で動作命令および立ち上げ動作命令の両方を含む一つのマクロを編集可能とする編集部と、
前記編集部により編集された前記一つのマクロを前記基板処理装置に対して送信する送信部と、
を備える、編集装置。 - 前記マクロに含まれる立ち下げ動作命令及び前記立ち上げ動作命令の少なくとも一部が、通常運転状態時において用いられる搬送レシピまたは当該搬送レシピに従属するレシピに含まれるレシピステップに対応する動作命令から選択される、請求項9記載の編集装置。
- 前記編集画面では、一群の立ち下げ動作命令の実行順序および一群の立ち上げ動作命令の実行順序をそれぞれの表示領域で設定可能である、請求項9又は10に記載の編集装置。
- 前記マクロの実行のために前記表示装置に一つの実行画面が表示され、この一つの実行画面上には、前記マクロを構成する前記一群の立ち下げ動作命令および立ち上げ動作命令の両方が異なる表示領域にそれぞれ表示される、請求項9記載の編集装置。
- 前記実行画面上において現在実行中の動作命令に対応する領域をハイライト表示する、請求項12記載の編集装置。
- 前記制御装置は、前記編集画面上において、前記立ち下げ動作命令として選択可能な命令のリストを表示させるための仮想ボタンと、前記立ち上げ動作命令として選択可能な命令のリストを表示させるための仮想ボタンと、を個別に表示させる、請求項9〜13のいずれか1項に記載の編集装置。
- 前記編集画面では、前記立ち下げ動作命令を表示させる領域と、前記立ち上げ動作命令を表示させる領域と、の間に、オペレータないし作業者が開始及び終了を入力指示することが予め設定された人手によるメンテナンスが存在することを示す表示領域が配置されている、請求項9〜14のいずれか1項に記載の編集装置。
- 基板処理装置を通常運転状態から人手によるメンテナンスに適した状態に自動的に移行させるための立ち下げ動作命令と、人手によるメンテナンスが終了した後に当該基板処理装置を通常運転に適した状態に自動的に移行させるための立ち上げ動作命令とを、一つのマクロとして保存する機能を有する基板処理装置において用いられる動作命令を編集する編集方法であって、
前記立ち下げ動作命令と前記立ち上げ動作命令とを一つの編集画面上の異なる表示領域にそれぞれ表示させる表示ステップと、
入力装置による入力に応じて、前記一つの編集画面上のそれぞれの表示領域で動作命令および立ち上げ動作命令の両方を含む一つのマクロを編集可能とする編集ステップと、
前記編集ステップにおいて編集された前記一つのマクロを前記基板処理装置に対して送信する送信ステップと、
を備える、編集方法。 - 基板処理装置を通常運転状態から人手によるメンテナンスに適した状態に自動的に移行させるための立ち下げ動作命令と、人手によるメンテナンスが終了した後に当該基板処理装置を通常運転に適した状態に自動的に移行させるための立ち上げ動作命令とを、一つのマクロとして保存する機能を有する基板処理装置において用いられる動作命令を編集する編集方法のプログラムを格納した記憶媒体であって、前記編集方法は、
前記立ち下げ動作命令と前記立ち上げ動作命令とを一つの編集画面上の異なる表示領域にそれぞれ表示させる表示ステップと、
入力装置による入力に応じて、前記一つの編集画面上のそれぞれの表示領域で動作命令および立ち上げ動作命令の両方を含む一つのマクロを編集可能とする編集ステップと、
前記編集ステップにおいて編集された前記一つのマクロを前記基板処理装置に対して送信する送信ステップと、
を備える、記憶媒体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014017713A JP6148991B2 (ja) | 2014-01-31 | 2014-01-31 | 基板処理装置、編集方法及び記憶媒体 |
TW104102096A TWI600989B (zh) | 2014-01-31 | 2015-01-22 | 基板處理裝置、編輯方法及記憶媒體 |
KR1020150014281A KR102374503B1 (ko) | 2014-01-31 | 2015-01-29 | 기판 처리 장치, 편집 방법 및 기억 매체 |
US14/609,901 US10254816B2 (en) | 2014-01-31 | 2015-01-30 | Substrate processing apparatus, editing apparatus and method and non-transitory storage medium |
CN201510051937.6A CN104821286B (zh) | 2014-01-31 | 2015-01-30 | 基板处理装置、基板处理方法、编辑装置以及编辑方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014017713A JP6148991B2 (ja) | 2014-01-31 | 2014-01-31 | 基板処理装置、編集方法及び記憶媒体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017101055A Division JP6356314B2 (ja) | 2017-05-22 | 2017-05-22 | 基板処理装置、編集方法及び記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015146340A JP2015146340A (ja) | 2015-08-13 |
JP6148991B2 true JP6148991B2 (ja) | 2017-06-14 |
Family
ID=53731545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014017713A Active JP6148991B2 (ja) | 2014-01-31 | 2014-01-31 | 基板処理装置、編集方法及び記憶媒体 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10254816B2 (ja) |
JP (1) | JP6148991B2 (ja) |
KR (1) | KR102374503B1 (ja) |
CN (1) | CN104821286B (ja) |
TW (1) | TWI600989B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018120449A (ja) * | 2017-01-26 | 2018-08-02 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 演算処理装置および情報処理システム |
JP6933960B2 (ja) * | 2017-11-15 | 2021-09-08 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP7226949B2 (ja) * | 2018-09-20 | 2023-02-21 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理システム |
CN111326441B (zh) * | 2018-12-17 | 2022-09-16 | 辛耘企业股份有限公司 | 基板处理设备及方法 |
CN113424294B (zh) * | 2019-03-20 | 2024-01-23 | 株式会社国际电气 | 制程生成方法、半导体器件的制造方法、基板处理装置及记录介质 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3116658B2 (ja) * | 1993-05-24 | 2000-12-11 | 富士電機株式会社 | 半導体製造装置のメンテナンス制御システム |
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JP4781505B2 (ja) | 2000-07-07 | 2011-09-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置の自動検査方法および自動復帰方法 |
EP2031638A3 (en) * | 2000-07-07 | 2012-04-04 | Tokyo Electron Limited | A method of automatically resetting a processing apparatus |
JP2004336024A (ja) | 2003-04-16 | 2004-11-25 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システム、基板処理方法及び該方法を実行するプログラム |
US7228257B1 (en) | 2003-06-13 | 2007-06-05 | Lam Research Corporation | Architecture for general purpose programmable semiconductor processing system and methods therefor |
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-
2014
- 2014-01-31 JP JP2014017713A patent/JP6148991B2/ja active Active
-
2015
- 2015-01-22 TW TW104102096A patent/TWI600989B/zh active
- 2015-01-29 KR KR1020150014281A patent/KR102374503B1/ko active IP Right Grant
- 2015-01-30 CN CN201510051937.6A patent/CN104821286B/zh active Active
- 2015-01-30 US US14/609,901 patent/US10254816B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015146340A (ja) | 2015-08-13 |
KR20150091251A (ko) | 2015-08-10 |
TWI600989B (zh) | 2017-10-01 |
US20150220136A1 (en) | 2015-08-06 |
CN104821286A (zh) | 2015-08-05 |
CN104821286B (zh) | 2018-11-06 |
US10254816B2 (en) | 2019-04-09 |
KR102374503B1 (ko) | 2022-03-14 |
TW201546590A (zh) | 2015-12-16 |
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