JP4940066B2 - 洗浄装置、洗浄方法、およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 - Google Patents
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Description
まず、洗浄方法の第1の実施形態について図6のフローチャートおよび図7の模式図に基づいて説明する。本実施形態では、処理液によりウエハWの表裏面洗浄を行い、その後のリンス処理の際に液吐出プレート24の洗浄も行う。本実施形態における以下の洗浄処理動作は、記憶部123に格納されたレシピに基づいてプロセスコントローラ121によって制御される。なお、図6、7および以下の説明ではウエハWの裏面の洗浄と液吐出プレート24の洗浄について説明するが、ウエハW裏面の処理液による洗浄処理および純水によるリンス処理に対応してウエハW表面の処理液による洗浄処理および純水によるリンス処理が行われる。
2;ウエハ保持部
3;回転モータ
4;回転カップ
5;表面側液供給ノズル
6;裏面側液供給ノズル
7;排気・排液部
8;ケーシング
9;気流導入部
11;回転プレート
11a;孔
12;回転軸
13;昇降部材
14;保持部材
22;ノズル保持部材
22a;ノズルアーム
24;液吐出プレート
31;庇部
32;外側壁部
33;隙間
35;案内部材
51;排液カップ
52;排気カップ
85;液供給機構
100;基板処理装置
121;プロセスコントローラ
122;ユーザーインターフェース
123;記憶部
W;ウエハ
Claims (14)
- 回転可能に水平に配置された回転プレートおよびこの回転プレートの上方に適長離間して基板を水平状態で前記回転プレートと一体的に保持する保持部材を有する基板保持部と、
前記回転プレートを基板とともに回転させる回転機構と、
前記回転プレートの回転中心近傍に位置し、前記基板保持部に保持された基板の中心部に液を吐出する液吐出口と、
前記液吐出口に連続し、前記液吐出口を介して基板の裏面側に処理液およびリンス液を吐出させるように処理液およびリンス液を供給する裏面側液供給ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板を囲繞するカップと、
前記基板の回転および液の供給を制御する制御機構と
を具備し、
前記制御機構は、前記回転プレートを前記保持部材により保持された基板とともに回転させ、その状態で前記裏面側液供給ノズルから前記吐出口を介して処理液を吐出させて基板の裏面に処理液の液膜を形成させ、それにより洗浄処理を進行させ、その後基板を回転させたままの状態で連続して前記裏面側液供給ノズルから前記液吐出口を介してリンス液を吐出させて基板の裏面にリンス液の液膜を形成させ、引き続き前記裏面側液供給ノズルからのリンス液の供給を一旦停止させて前記裏面側液供給ノズル内をリンス液で満たした状態とし、その後再びリンス液を最初のリンス液吐出量よりも少量吐出させて前記液吐出口の周囲部分にも液膜を形成させ、引き続きリンス液の供給量を増加させて基板と液吐出口の周囲部分とをリンス処理させ、次いで、リンス液の供給量を減少させ、その後、リンス液の供給を停止させ、その後、前記裏面側液供給ノズル内のリンス液を排出させ、その後、基板を所定の回転数で回転させて振り切り乾燥させるように制御することを特徴とする洗浄装置。 - 基板裏面の中央部に乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給機構をさらに具備し、前記制御機構は、リンス液を排出させた後、振り切り乾燥に先立って、前記乾燥ガス供給機構から基板裏面の中央部に乾燥ガスを供給させるように制御することを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記回転プレートはその中心部に孔を有し、前記洗浄装置は、前記孔に配置され前記液吐出口を有する非回転の液吐出プレートをさらに具備することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の洗浄装置。
- 前記液吐出プレートは、前記孔に昇降可能に挿通され、前記基板保持部に対する基板の受け渡しの際に基板を保持して昇降することを特徴とする請求項3に記載の洗浄装置。
- 前記液吐出プレートは少なくともその表面が疎水性の材料で構成されていることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の洗浄装置。
- 前記制御機構は、洗浄処理およびリンス処理の際の基板の回転数を200〜700rpmに制御し、前記乾燥処理の際の基板の回転数を500〜1000rpmに制御することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 前記カップは、前記基板保持部に保持された基板を囲繞し、前記回転プレートおよび基板とともに回転し、基板を回転した際に基板から振り切られた処理液またはリンス液を受ける回転カップと、この回転カップから排出された処理液またはリンス液を受けて排液する非回転の排液カップとを有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 回転可能に水平に配置された回転プレートおよびこの回転プレートの上方に適長離間して基板を水平状態で前記回転プレートと一体的に保持する保持部材を有する基板保持部と、前記回転プレートを基板とともに回転させる回転機構と、前記回転プレートの回転中心近傍に位置し、前記基板保持部に保持された基板の中心部に液を吐出する液吐出口と、前記液吐出口に連続し、前記液吐出口を介して基板の裏面側に処理液およびリンス液を吐出させるように処理液およびリンス液を供給する裏面側液供給ノズルと、前記基板保持部に保持された基板を囲繞するカップとを具備する洗浄装置を用いて洗浄処理を行う洗浄方法であって、
前記基板保持部に基板を保持させる工程と、
前記回転プレートを基板とともに回転させる工程と、
基板を回転させた状態で前記裏面側液供給ノズルから前記吐出口を介して処理液を吐出させ、基板の裏面に処理液の液膜を形成し、それにより洗浄処理を進行させる工程と、
その後基板を回転させたままの状態で連続して前記裏面側液供給ノズルから前記液吐出口を介してリンス液を吐出させて基板の裏面にリンス液の液膜を形成する工程と、
引き続き前記裏面側液供給ノズルからのリンス液の供給を一旦停止させて前記裏面側液供給ノズル内をリンス液で満たした状態とする工程と、
その後再びリンス液を最初のリンス液吐出量よりも少量吐出させて前記液吐出口の周囲部分にも液膜を形成する工程と、
引き続きリンス液の供給量を増加させて基板と液吐出口の周囲部分とをリンス処理する工程と、
次いで、リンス液の供給量を減少させる工程と、
その後、リンス液の供給を停止させる工程と、
その後、前記裏面側液供給ノズル内のリンス液を排出する工程と、
その後、基板を所定の回転数で回転させて振り切り乾燥する工程と
を有することを特徴とする洗浄方法。 - 前記洗浄装置は、基板裏面の中央部に乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給機構をさらに具備し、前記リンス液を排出する工程を行った後、前記振り切り乾燥する工程に先立って行われる、前記乾燥ガス供給機構から基板裏面の中央部に乾燥ガスを供給する工程をさらに有することを特徴とする請求項8に記載の洗浄方法。
- 前記回転プレートはその中心部に孔を有し、前記洗浄装置は、前記孔に配置され前記液吐出口を有する非回転の液吐出プレートをさらに具備することを特徴とする請求項8または請求項9に記載の洗浄方法。
- 前記液吐出プレートは、前記孔に昇降可能に挿通され、前記基板保持部に対する基板の受け渡しの際に基板を保持して昇降することを特徴とする請求項10に記載の洗浄方法。
- 前記液吐出プレートは少なくともその表面が疎水性の材料で構成されていることを特徴とする請求項10または請求項11に記載の洗浄方法。
- 洗浄処理およびリンス処理の際の基板の回転数を200〜700rpmとし、前記乾燥処理の際の基板の回転数を500〜1000rpmとすることを特徴とする請求項8から請求項12のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- コンピュータ上で動作し、洗浄装置を制御するためのプログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、前記制御プログラムは、実行時に、請求項8から請求項13のいずれかに記載の洗浄方法が行われるように、コンピュータに前記洗浄装置を制御させることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。
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