JP5855671B2 - 金属粉末及び電子部品 - Google Patents

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Description

本発明は、金属粉末及び電子部品に関し、より特定的には、金属粒子の表面に絶縁処理が施された複合粒子からなる金属粉末及び電子部品に関する。
従来の金属粉末としては、例えば、特許文献1に記載の複合磁性粒子が知られている。該複合磁性粒子では、金属磁性粒子の表面がNiZnフェライトにより被覆されている。これにより、複合磁性粒子では、金属磁性粒子の表面に絶縁処理が施されている。
しかしながら、本願発明者は、特許文献1に記載の複合磁性粒子では、金属磁性粒子がNiZnフェライトによって十分に被覆されていないことを発見した。
特開2005−150257号公報
そこで、本発明の目的は、金属粒子に対する被膜の被覆性を向上させることができる金属粉末及び電子部品を提供することである。
本発明の一形態に係る金属粉末は、金属粒子がNiを含有していないZn系フェライト膜により被覆された複合粒子からなり、前記Zn系フェライト膜がNi−Zn系フェライト膜により被覆されていること、を特徴とする。
本発明の形態に係る電子部品は、前記金属粉末を含有している本体と、前記本体に設けられているコイルと、を備えていること、を特徴とする
本発明によれば、金属粒子に対する被膜の被覆性を向上させることができる。
第1の実施形態に係る金属粉末を構成している複合粒子の断面構造図である。 第2のサンプルの断面構造の写真である。 第3のサンプルの断面構造の写真である。 第4のサンプルの断面構造の写真である。 第2の実施形態に係る金属粉末を構成している複合粒子の断面構造図である。 第2の実施形態に係る金属粉末のSEM写真である。 本発明の一実施形態に係る電子部品の外観斜視図である。 一実施形態に係る電子部品の積層体の分解斜視図である。 電子部品の積層体を構成している絶縁体層の拡大図である。 金属粉末とガラスとの混合材料により作製された絶縁体層の拡大図である。
以下に本発明の実施形態に係る金属粉末及び電子部品について図面を参照しながら説明する。
(第1の実施形態)
以下に、本発明の第1の実施形態に係る金属粉末について図面を参照しながら説明する。図1は、第1の実施形態に係る金属粉末を構成している複合粒子1の断面構造図である。
金属粉末は、図1に示すように、Ag粒子2がZn系フェライト膜3により被覆された複合粒子1により構成されている。Ag粒子2の直径は、例えば、10μm程度である。また、Zn系フェライト膜3は、例えば、ZnxFe3-x4の組成を有する絶縁性を有するフェライトであって、Niを含有していないフェライトである。ただし、xは、0.15以上1未満である。
以上のように構成された金属粉末は、以下の手順により作製される。
まず、直径10μmのAg粒子2からなる金属粉末を準備する。
次に、フェライトめっき法によりAg粒子2の表面にZn系フェライト膜3を形成する。より詳細には、FeCl2・4H2Oの水溶液とZnCl2の水溶液を所定の比率で混合し、Fe2+及びZn2+を含む反応溶液を作製する。この際、反応溶液において酸化が生じないように、N2ガスによるバブリングを行う。
次に、Ag粒子2からなる金属粉末及びpH調整剤(例えば、KOH)をめっき槽に投入した後、一定の速度で反応溶液を滴下する。フェライトめっき法の条件の一例を以下に示す。以下の条件により、厚さ0.3μmのZn系フェライト膜3が形成される。
pH:8.5
液温:60℃
滴下速度:5mL/min
めっき時間:60分
以上の工程を経て、本実施形態に係る金属粉末が作製される。
以上のように構成された金属粉末では、Zn系フェライト膜3によりAg粒子2が被覆されているので、特許文献1に記載の複合磁性粒子よりも、フェライト膜の被覆性が向上する。より詳細には、フェライトめっき法では、Fe2+、Zn2+等を含む反応溶液が用いられる。ここで、反応溶液にFe2+以外の金属イオンが多量に含まれていると、Ag粒子2へのFe2+の吸着・析出が阻害される。そこで、本実施形態では、Niを含まないZn系フェライト膜3によりAg粒子2を被膜している。これにより、反応溶液にNi2+が含まれなくなる。その結果、Ag粒子2へのFe2+の吸着・析出が生じやすくなる。よって、本実施形態に係る金属粉末では、特許文献1に記載の複合磁性粒子よりも、フェライト膜の被覆性が向上する。
本願発明者は、本実施形態に係る金属粉末が奏する効果をより明確にするために、以下に説明する実験を行った。具体的には、反応溶液内のFe2+、Zn2+及びNi2+の割合を表1に示すように変化させ、第1のサンプルないし第4のサンプルを作製した。表1は、第1のサンプルないし第4のサンプルの作製に用いた反応溶液のFe2+、Zn2+及びNi2+の割合を示した表である。
そして、第1のサンプルないし第4のサンプルの組成をFE−WDX(装置名:JXA−8500 日本電子社製)により分析した。分析条件は、加速電圧を15kV、照射電流を50nA、プローブ径をfocusedとした。以下に、分析結果を示す。
第1のサンプル:測定不可
第2のサンプル:Zn0.33Fe2.674
第3のサンプル:Zn0.15Fe2.854
第4のサンプル:Zn0.17Ni0.53Fe2.314
更に、FEI社製のFIB(集束イオンビーム:FIB200TEM)装置によりFIB加工した第1のサンプルないし第4のサンプルの断面をSIM(走査型イオン顕微鏡)により観察した。図2ないし図4は、第2のサンプルないし第4のサンプルの断面構造の写真である。なお、第1のサンプルでは、Zn2+が反応溶液に含まれていないので、フェライト膜が殆ど形成されなかったため、写真を掲載していない。
図4によれば、Ni2+が含まれている反応溶液により作製された第4のサンプルでは、フェライト膜により被覆されていない部分がAg粒子の表面に発生した。一方、図2及び図3によれば、Ni2+が含まれていない反応溶液により作製された第2のサンプル及び第3のサンプルでは、Ag粒子の表面の全体がフェライト膜により被覆された。よって、本実験によれば、Ni2+が含まれない反応溶液を用いて形成されたZn系フェライト膜3は、Ni2+が含まれる反応溶液を用いて形成されたNiZn系フェライト膜よりも高い被覆性を有していることが分かる。
(第2の実施形態)
以下に第2の実施形態に係る金属粉末について図面を参照しながら説明する。図5は、第2の実施形態に係る金属粉末を構成している複合粒子1aの断面構造図である。
複合粒子1aは、複合粒子1においてAg粒子2がパーマロイ粒子2aに置き換えられている。パーマロイ粒子2aは、Fe−Ni合金からなる粒子であり、金属磁性粒子である。なお、複合粒子1aのその他の構成は、複合粒子2と同じであるので説明を省略する。また、第2の実施形態に係る金属粉末の製造方法は、第1の実施形態に係る金属粉末の製造方法と同じであるので、説明を省略する。
第2の実施形態に係る金属粉末によれば、第1の実施形態に係る金属粉末と同様に、特許文献1に記載の複合磁性粒子よりも、フェライト膜の被覆性が向上する。図6は、第2の実施形態に係る金属粉末のSEM写真である。図6によれば、パーマロイ粒子2aの表面がZn系フェライト膜3によって良好に被覆されていることが分かる。
また、第2の実施形態に係る金属粉末によれば、高いインダクタンス値を有し、直流重畳特性に優れたコイルを備えた電子部品を得ることができる。より詳細には、パーマロイ等の金属磁性材料は、高い透磁率を有し、かつ、磁気飽和が発生しにくいという性質を有している。
しかしながら、金属磁性材料は、導電性を有しているため、例えば、コイルの本体に用いることができない。
そこで、第2の実施形態に係る金属粉末では、パーマロイ粒子2aをZn系フェライト膜3により被覆している。これにより、複合粒子1aに対して絶縁処理が施されている。その結果、第2の実施形態に係る金属粉末をコイルの本体の材料として用いることが可能となる。よって、第2の実施形態に係る金属粉末によれば、高いインダクタンス値を有し、直流重畳特性に優れたコイルを備えた電子部品を得ることができる。
なお、第2の実施形態に係る金属粉末において、Zn系フェライト膜3がNi−Zn系フェライト層により被覆されていてもよい。パーマロイ粒子2aの表面に対して高い被覆性でNi−Zn系フェライトを形成することは困難であるのに対して、Zn系フェライトに対して高い被覆性でNi―Zn系フェライトを形成することは比較的に容易である。これにより、第2の実施形態に係る金属粉末において、より高い絶縁性を得ることが可能となる。
次に、第2の実施形態に係る金属粉末が用いられた電子部品について図面を参照しながら説明する。図7は、本発明の一実施形態に係る電子部品10の外観斜視図である。図8は、一実施形態に係る電子部品10の積層体12の分解斜視図である。図9は、電子部品10の積層体12を構成している絶縁体層16の拡大図である。
以下、電子部品10の積層方向をz軸方向と定義し、電子部品10のz軸方向の正方向側の上面の2辺に沿った方向をx軸方向及びy軸方向と定義する。x軸方向とy軸方向とz軸方向とは直交している。
電子部品10は、図7及び図8に示すように、積層体(本体)12、外部電極14(14a,14b)及びコイルLを備えている。
積層体12は、図7に示すように、直方体状をなしており、コイルLを内蔵している。以下では、積層体12のz軸方向の正方向側の面を上面と定義し、積層体12のz軸方向の負方向側の面を下面と定義する。また、積層体12のその他の面を側面と定義する。
積層体12は、図8に示すように、絶縁体層16(16a〜16j)がz軸方向の正方向側から負方向側へとこの順に並ぶように積層されることにより構成されている。絶縁体層16(すなわち、積層体12)は、図9に示すように、第2の実施形態に係る金属粉末及びフェライト磁性材料4との混合材料により作製されている。第2の実施形態に係る金属粉末は、焼結したフェライト磁性材料4内に分散している。以下では、絶縁体層16のz軸方向の正方向側の面を表面と称し、絶縁体層16のz軸方向の負方向側の面を裏面と称す。
外部電極14aは、図7に示すように、積層体12のx軸方向の負方向側の側面を覆うように設けられている。外部電極14bは、図7に示すように、積層体12のx軸方向の正方向側の側面を覆うように設けられている。更に、外部電極14a,14bは、積層体12の上面及び下面、並びに、y軸方向の正方向側及び負方向側の積層体12の側面に対して折り返されている。外部電極14a,14bは、電子部品10外の回路とコイルLとを電気的に接続する接続端子として機能する。
コイルLは、積層体12に内蔵され、図8に示すように、コイル導体18(18a〜18g)及びビアホール導体b1〜b6により構成されている。コイルLは、コイル導体18及びビアホール導体b1〜b6が接続されることにより螺旋状をなしている。
コイル導体18a〜18gは、図8に示すように、絶縁体層16c〜16iの表面上に設けられており、z軸方向の正方向側から平面視したときに、時計回りに旋回するコ字型の線状導体層である。コイル導体18a〜18gは、z軸方向から平面視したときに、重なりあって長方形状の環状の軌道を形成している。より詳細には、コイル導体18a〜18gは、3/4ターンのターン数を有しており、絶縁体層16c〜16iの三辺に沿っている。コイル導体18aは、絶縁体層16cにおいて、x軸方向の負方向側の短辺以外の三辺に沿って設けられている。また、コイル導体18aは、x軸方向の負方向側の短辺に引き出されており、外部電極14aと接続されている。コイル導体18bは、絶縁体層16dにおいて、y軸方向の負方向側の長辺以外の三辺に沿って設けられている。コイル導体18cは、絶縁体層16eにおいて、x軸方向の正方向側の短辺以外の三辺に沿って設けられている。コイル導体18dは、絶縁体層16fにおいて、y軸方向の正方向側の長辺以外の三辺に沿って設けられている。コイル導体18eは、絶縁体層16gにおいて、x軸方向の負方向側の短辺以外の三辺に沿って設けられている。コイル導体18fは、絶縁体層16hにおいて、y軸方向の負方向側の長辺以外の三辺に沿って設けられている。コイル導体18gは、絶縁体層16iにおいて、x軸方向の正方向側の短辺以外の三辺に沿って設けられている。また、コイル導体18gは、x軸方向の正方向側の短辺に引き出されており、外部電極14bと接続されている。
以下では、コイル導体18において、z軸方向の正方向側から平面視したときに、時計回りの上流側の端部を上流端とし、時計回りの下流側の端部を下流端とする。なお、コイル導体18のターン数は、3/4ターンに限らない。よって、コイル導体18のターン数は、例えば、7/8ターンであってもよい。
ビアホール導体b1〜b6は、図8に示すように、絶縁体層16c〜16hをz軸方向に貫通するように設けられている。より詳細には、ビアホール導体b1は、絶縁体層16cをz軸方向に貫通し、コイル導体18aの下流端及びコイル導体18bの上流端に接続されている。ビアホール導体b2は、絶縁体層16dをz軸方向に貫通し、コイル導体18bの下流端及びコイル導体18cの上流端に接続されている。ビアホール導体b3は、絶縁体層16eをz軸方向に貫通し、コイル導体18cの下流端及びコイル導体18dの上流端に接続されている。ビアホール導体b4は、絶縁体層16fをz軸方向に貫通し、コイル導体18dの下流端及びコイル導体18eの上流端に接続されている。ビアホール導体b5は、絶縁体層16gをz軸方向に貫通し、コイル導体18eの下流端及びコイル導体18fの上流端に接続されている。ビアホール導体b6は、絶縁体層16hをz軸方向に貫通し、コイル導体18fの下流端及びコイル導体18gの上流端に接続されている。
次に、電子部品10の製造方法について図面を参照しながら説明する。なお、以下では、一つの電子部品10の製造方法について説明を行うが、実際には、大判のマザーセラミックグリーンシートが積層されてマザー積層体が作製され、更に、マザー積層体がカットされることにより、複数の積層体が同時に作製される。
まず、絶縁体層16となるべきセラミックグリーンシートを準備する。具体的には、酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ニッケル(NiO)及び酸化銅(CuO)を所定の比率で秤量したそれぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を800℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、フェライトセラミック粉末を得る。
また、第2の実施形態に係る金属粉末を作製する。第2の実施形態に係る金属粉末の製造方法については、既に説明を行ったのでこれ以上の説明を省略する。
次に、金属粉末及びフェライトセラミック粉末に対して、結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)、可塑剤、湿潤材及び分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、キャリアシート上にシート状に形成して乾燥させ、絶縁体層16となるべきセラミックグリーンシートを作製する。
次に、絶縁体層16c〜16hとなるべきセラミックグリーンシートのそれぞれに、ビアホール導体b1〜b6を形成する。具体的には、絶縁体層16c〜16hとなるべきセラミックグリーンシートにレーザビームを照射してビアホールを形成する。更に、ビアホールに対して、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などの導電性材料からなるペーストを印刷塗布などの方法により充填して、ビアホール導体b1〜b6を形成する。
次に、絶縁体層16c〜16iとなるべきセラミックグリーンシート上に、導電性材料からなるペーストをスクリーン印刷法により塗布することにより、コイル導体18a〜18gを形成する。導電性材料からなるペーストは、例えば、Agに、ワニス及び溶剤が加えられたものである。
なお、コイル導体18を形成する工程とビアホールに対して導電性材料からなるペーストを充填する工程とは、同じ工程において行われてもよい。
次に、絶縁体層16となるべきセラミックグリーンシートを一枚ずつ積層及び仮圧着して未焼成の積層体12を得る。絶縁体層16となるべきセラミックグリーンシートを1枚ずつ積層及び仮圧着する。この後、未焼成の積層体12に対して、静水圧プレスにて本圧着を施す。
次に、未焼成の積層体12に、脱バインダー処理及び焼成を施す。脱バインダー処理は、例えば、低酸素雰囲気中において500℃で2時間の条件で行う。焼成は、例えば、850℃で2.5時間の条件で行う。この後、積層体12の表面に、バレル研磨処理を施して、面取りを行う。
次に、Agを主成分とする導電性材料からなる電極ペーストを、積層体12のx軸方向の両端に位置する側面に塗布する。そして、塗布した電極ペーストを約800℃の温度で1時間の条件で焼き付ける。これにより、外部電極14となるべき銀電極を形成する。更に、外部電極14となるべき銀電極の表面に、Niめっき/Snめっきを施すことにより、外部電極14を形成する。以上の工程により、電子部品10が完成する。
なお、電子部品10の積層体12は、金属粉末とフェライトセラミック粉末との混合材料により作製されているが、例えば、金属粉末とガラス又は樹脂との混合材料により作製されてもよい。図10は、金属粉末とガラスとの混合材料により作製された絶縁体層16の拡大図である。図10に示すように、溶融した後、固化したガラス5内に金属粉末の複合粒子2aが分散している。ここで、ガラス又は樹脂は絶縁性を有している。そのため、複合粒子1aのZn系フェライト膜3がパーマロイ粒子2aからはがれたとしても、複合粒子1a間にガラス又は樹脂が存在するので、複合粒子1a間で短絡が発生しにくくなる。
なお、第2の実施形態に係る金属粉末は、モールドコイルにも適用可能である。モールドコイルとは、金属粉末と樹脂とを混練した磁性体モールド樹脂により空芯コイルを封止したコイルである。
以上のように、本発明は、金属粉末及び電子部品に有用であり、特に、金属粒子に対する被膜の被覆性を向上させることができる点において優れている。
L コイル
1,1a 複合粒子
2 Ag粒子
2a パーマロイ粒子
3 Zn系フェライト膜
4 フェライト磁性材料
10 電子部品
12 積層体
16a〜16j 絶縁体層

Claims (7)

  1. 金属粒子がNiを含有していないZn系フェライト膜により被覆された複合粒子からなり、
    前記Zn系フェライト膜がNi−Zn系フェライト膜により被覆されていること、
    を特徴とする金属粉末。
  2. 前記金属粒子は、金属磁性粒子であること、
    を特徴とする請求項1に記載の金属粉末。
  3. 前記Zn系フェライト膜は、めっきにより前記金属粒子の表面に形成されていること、
    を特徴とする請求項1又は請求項2のいずれかに記載の金属粉末。
  4. 前記Zn系フェライト膜は、ZnxFe3-x4の組成を有する絶縁性を有するフェライトであり、
    xは、0.15以上1未満であること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の金属粉末。
  5. 請求項2に記載の金属粉末を含有している本体と、
    前記本体に設けられているコイルと、
    を備えていること、
    を特徴とする電子部品。
  6. 前記本体は、前記金属粉末とフェライト磁性材料との混合材料により作製されていること、
    を特徴とする請求項5に記載の電子部品。
  7. 前記本体は、前記金属粉末とガラス又は樹脂との混合材料により作製されていること、
    を特徴とする請求項5に記載の電子部品。
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