JP5838972B2 - チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体およびその用途 - Google Patents

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Description

本発明は、密着性向上剤等に好適に用いられる新規なチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体とその用途に関する。
従来より、各種塗料をガラス等の無機基材に塗工する際に、密着性を向上させる目的でシランカップリング剤が塗料に添加されている(例えば、特許文献1を参照)。
特開平7−300491号公報
しかしながら、シランカップリング剤の多くは炭素数1〜5個のアルキル基を主骨格とした構造であるため沸点が低く、高温塗工が必要な塗料に対しては多量に(例えば10〜20重量%)添加する必要があった。また、1分子当たりに1つのトリアルコキシシリル基しか有さないため密着性向上効果も充分とは言えず、例えばチタン、ジルコニウム等の塩や、イミダゾール等のアミン、リン酸エステル、ウレタン樹脂、チオール化合物等の密着性助剤も同時に添加することによって、初めて密着性を達成できる場合も多かった。しかしながら、これら密着性助剤の配合は工程数が増加するだけではなく、塗料特性を損なわない密着性助剤種や添加量の最適化作業が必要であった。また、トリアルコキシシリル基と反応性官能基を有するシランカップリング剤の多くはトリアルコキシシリル基と反応性基を結ぶ主骨格が炭素-炭素結合により構成されている。そのため、分子が剛直でアルコキシシリル基あるいは反応性基の反応効率が低くなっていた。
そこで、本発明は上記課題に鑑みて成し遂げられたものであり、その目的は、無機基材への密着性向上効果に優れる新規なチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体とその用途を提供することにある。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有するチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体が優れた密着性向上効果を有することを見出し、発明を完成するに至った。すなわち、本発明は次の〔1〕から〔4〕である。
〔1〕下記式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。
Figure 0005838972

(式中のaおよびbは0〜2の整数であり、cは1〜3の整数であり、a+b+c=3である。Rは下記式2で表される3価の基であり、Rは−CH−CHR−あるいは−CR(CH)−で表される2価の基あり、Rは−CH−CHR−あるいは−CR(CH)−で表される2価の基あり、RとRはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、Rはメチル基またはエチル基である。)
Figure 0005838972

(式中のmは1または2である。)
〔2〕下記式3で表されるアルコキシシリル基含有化合物と、下記式4で表される多価チオール化合物とを反応させてなる、〔1〕に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。
Figure 0005838972

(式中のRはメチル基またはエチル基であり、Rは水素原子またはメチル基である。)
Figure 0005838972

(式中のmは1または2である。)
〔3〕さらに、下記式5で表されるオキシラン環含有化合物を同時に反応させてなる、〔2〕に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。
Figure 0005838972

(Rは水素原子またはメチル基である。)
〔4〕〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤。
本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、優れた密着性向上効果を有しており、塗料に例えば0.1〜10重量%という比較的少量添加することで、密着性助剤の添加を必要とすることなく塗料に高い密着性を付与することが可能である。
チオールの結合角は炭素の結合角よりも大きいため、分子内にチオールエーテル基をもつ分子は炭素のみで結合している分子よりも多彩な構造を取ることができる。そのため本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、炭素のみ結合しているアルココキシシラン誘導体よりも基材への配向性が高まり密着性の向上が可能である。加えて、本発明は従来のシランカップリング剤に比べてチオエーテルの結合角が広いため、分子構造に自由度が増し密な分子配向を取ることができ、同分子量のものと比べると沸点が高く、且つ低揮発性となっている。そのため、例えば塗料に0.1〜10重量%という比較的少量添加するだけでも、密着性助剤の添加を必要とすることなく塗料に高いシリコン基板への密着性を付与することが可能である。
本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、主骨格にイソシアヌレート環を有するため基材への局在性に優れ、分子末端に存在するアルコキシシラン基が基材との間に化学結合を形成する、あるいは物理吸着することにより優れた密着性を発揮する。また、分子中に存在するチオエーテル結合は、CやOやNといった原子での結合と比べ結合角や結合長が柔軟に変化でき、様々な立体配座を取ることができるため、基材への配向性が高まると考えられる。本発明は低揮発性の多価チオール化合物とアルコキシシリル基含有化合物との反応生成物であるため、一般的なアルコキシシリル基含有化合物と比べ低揮発性となる。加えて、チオエーテル結合に由来するS原子は、CやOやNといった原子の最外殻がL殻であるのに対し、最外殻がM殻であるため、より大きな原子半径を有する。そのため、S原子を有することにより、より遠方に存在する分子へと相互作用を及ぼすことが可能となるため分子間力が向上し、低揮発化に繋がると考えられる。これにより本発明は、例えば塗料に0.1〜10重量%という比較的少量添加でも密着性助剤の添加を必要とすることなく塗料に高い密着性を付与することが可能である。
加えて、チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は密着性の付与効果に優れているため、塗料などに密着性を付与する密着性向上剤として有用である。
実施例1−1の核磁気共鳴スペクトルである。 実施例1−2の核磁気共鳴スペクトルである。 実施例1−3の核磁気共鳴スペクトルである。 実施例1−4の核磁気共鳴スペクトルである。
<チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体>
本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、下記式1で表される化合物である。
Figure 0005838972

(式中のaおよびbは0〜2の整数であり、cは1〜3の整数であり、a+b+c=3である。Rは下記式2で表される3価の基であり、Rは−CH−CHR−あるいは−CR(CH)−で表される2価の基あり、Rは−CH−CHR−あるいは−CR(CH)−で表される2価の基あり、RとRはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、Rはメチル基またはエチル基である。)
Figure 0005838972

(式中のmは1または2である。)
オキシラン環と反応する官能基を有する樹脂組成物に本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を添加する場合には、bが1以上であることが、密着性向上効果の面で好ましい。
式1で表される本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は多くの樹脂に相溶するため、幅広い用途に用いることが可能であり、少量の添加(例えば0.1〜10重量%)で高い密着性を得ることができる。例えば、本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を使用することで樹脂と無機材料の密着性を改善できるため、FRP(繊維強化プラスチック)、FRTP(繊維強化熱可塑性プラスチック)、レジンコンクリート、人造大理石、プラスチックマグネット、ゴムマグネット、磁気テープのような、無機材料と樹脂とを組み合わせた複合材料用の密着性向上剤として有用である。また、粘着剤、接着剤、封止剤、シーラントなどにおいて、樹脂成分中に本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を配合することで、無機基材との密着力向上に効果がある。特に、ガラス基板等の無機基材に各種塗料を塗工する際の密着性向上剤として好適である。
<チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法>
前記式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、少なくともアルコキシシリル基〔−Si(OR)3〕と二重結合を有する化合物(以下、A成分ということがある)と、チオール基(−SH)を有する多価チオール化合物(以下、B成分ということがある)とを反応させることによって得ることができる。具体的には、少なくとも下記式3で表されるアルコキシシリル基含有化合物と、下記式4で表される多価チオール化合物とを反応させることにより得ることができる。
Figure 0005838972

(式中のRはメチル基またはエチル基であり、Rは水素原子またはメチル基である。)
Figure 0005838972

(式中のmは1または2の整数である。)
式3で表されるアルコキシシリル基含有化合物としては、例えば、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどを使用することができる。
式4で表される多価チオール化合物としては、m=2のトリス[(3-メルカプトプロピオニロキシ)−エチル]イソシアヌレートが挙げられる。式4中m=1の多価チオール化合物としては、イソシアヌル酸トリス(2-ヒドロキシエチル)とチオグリコール酸との合成物が挙げられる。式4においてm≧3の化合物を使用した場合、疎水性かつ非極性である炭化水素数が増えることにより、チオエーテル基の基材への配向性が弱まり、本発明の効果である密着性を得にくくなる。
さらに、本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を、オキシラン環と反応する官能基を有する樹脂組成物に添加する場合には、式3で表されるアルコキシシリル基含有化合物と、式4で表される多価チオール化合物とに加えて、下記式5で表されるオキシラン環含有化合物も同時に反応させることが好ましい。これにより、より高い密着性が付与できる。
Figure 0005838972

(Rは水素原子またはメチル基である。)
式5で表されるオキシラン環含有化合物としては、グリシジル(メタ)アクリレートが上げられる。
A成分とB成分とは、触媒またはラジカル発生剤の存在下で反応させることが好ましい。触媒やラジカル発生剤を添加すれば、より短時間で且つ高収率にて反応させることができるからである。
触媒としてはアミン系の塩基触媒が好ましく、一級、二級あるいは三級アミン類、もしくはイミダゾール系化合物が使用できる。例えば、一級アミンとしてメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン等、二級アミンとしてジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、メチルエチルアミン、ジフェニルアミン等、三級アミンとしてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリフェニルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等が挙げられる。イミダゾール系化合物として、例えば、1−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1,4−ジメチル−2−エチルイミダゾール、1−フェニルイミダゾール等のイミダゾール同族体、1−メチル−2−オキシメチルイミダゾール、1−メチル−2−オキシエチルイミダゾール等のオキシアルキル誘導体、1−メチル−4(5)−ニトロイミダゾール、1,2−ジメチル−5(4)−アミノイミダゾール等のニトロおよびアミノ誘導体、ベンゾイミダゾール、1−メチルベンゾイミダゾール、1−メチル−2−ベンジルベンゾイミダゾール等が挙げられる。
ラジカル発生剤としては、過酸化物もしくはアゾ化合物が好ましい。過酸化物として例えば、過酸化ジベンゾイル、tert−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート、ジラウロイルペルオキシド、tert−ブチルハイドロパーオキサイドなどが挙げられる。アゾ化合物としては例えば、アゾビス(イソ−ブチロニトリル)および2,2’−アゾビス(2−メチルブタンニトリル)などが挙げられる。
このA・B二成分は、A成分の二重結合とB成分のチオール基とが、下記式6で表される反応式で反応する。なお、Xは水素原子またはメチル基、YはA成分の二重結合に結合するX以外の残基を表し、ZはB成分のチオール基に結合する残基を表す。
Figure 0005838972
式6に示すように、A成分の二重結合を形成する2つの炭素のどちらもチオールのSと結合する。2つの生成物の生成比率は反応条件により異なり、例えば本反応の触媒にアミンなどの塩基触媒を反応系に添加した場合には、生成物(1)が多く生成し、ラジカル発生剤を反応系に添加した場合には生成物(2)が多く生成する傾向にある。多くの場合、製造後のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は生成物(1)と(2)の混合物となっている。
また、チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を製造するにあたり、B成分はチオール基を3個有しているため、式7のようにB成分のチオール基のうち一部がA成分と反応した生成物を得ることができる。なお、VはB成分のチオール基に結合する残基(イソシアヌレート環含有残基)を表す。
Figure 0005838972

式7におけるA成分の付加個数が式1のcに相当する。多くの場合、製造後のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は付加反応した置換基の数が異なる物質の混合物となっている。
チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法においては、5℃以上の温度で反応させることができるが、5時間以内といった短時間で反応させるためには、60〜80℃において塩基触媒やラジカル発生剤を添加することが好ましい。
チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法においては、無溶剤でも反応を進行させることができるが、低温で反応させる場合など、粘度を下げたい場合には溶剤を加えて反応させることもできる。その際には、アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しない溶剤、例えばアルコール類、ケトン類、エステル類または芳香族類が好ましい。
アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないアルコール類としては、炭素数が3以下で一級であるものが好ましく、また、沸点が反応温度よりも高い(例えば沸点が50〜190℃)ものが好ましい。その理由は、沸点が上記範囲よりも低い場合には、工業化した場合の製造が困難になるためであり、上記範囲よりも高い場合には、溶剤の除去が必要な場合に溶剤留去が困難になるためである。したがって、沸点はできるだけ高いものがよい。また、アルコール類としてより好ましいのは、メタノール、エタノールである。なぜなら、反応溶剤であるアルコール類と上記式3で示すアルコキシシリル基含有化合物とが反応中にエステル交換反応を起こす可能性があり、目的生成物の収率が低下する恐れがあるからである。そのため、上記式3においてRがメチル基の化合物を用いた場合には反応溶剤としてメタノールを、Rがエチル基の化合物を用いた場合には反応溶剤としてエタノールを使用することが好ましい。
アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないケトン類としては、沸点が反応温度よりも高いものが好ましい、また溶解性の観点から炭素数6以下のものが好ましい。これらを満たすものとして、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないエステル類としては、沸点が反応温度よりも高いものが好ましい、また溶解性の観点から直鎖炭素数6以下のものが好ましい。これらを満たすものとして、例えば酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等が挙げられる。
<密着性向上剤>
本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、特にガラスや金属等の無機基材に対して高い密着性向上性能を有していることから、密着性向上剤として用いることができる。チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、二重結合を有する化合物等に配合することによって、高い密着性向上効果を発揮することができる。
さらに、式1で表される化合物であり、aが0でないチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体はチオール基を有し、エポキシ基、二重結合、イソシアネート基と反応する。このため、式1においてaが0でないチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体をエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、二重結合を有する化合物に添加することにより、さらに高い密着性効果を発揮することができる。
さらに、式1で表される化合物であり、bが0でないチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体はオキシラン環を有し、エポキシ基、カルボキシル基、フェノール性水酸基、酸無水物基、アミノ基、アミド基と反応する。このため、式1においてbが0でないチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体をオキシラン環と反応する官能基を有する樹脂組成物に添加することにより、さらに高い密着性効果を発揮することができる。
チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤は、有効成分として樹脂に対し好ましくは0.1〜30質量%、さらに好ましくは0.1〜15質量%添加すると高い密着性を発揮することができる。
以下に、合成例、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。各実施例および比較例で用いた測定方法と評価方法を下記に示す。
<赤外線吸収スペクトル分析(IR)>
機種;日本分光(株)製 FT/IR-600
セル;KBr上に展開、分解;4cm−1、積算回数;16回
<核磁気共鳴スペクトル分析(NMR)>
機種;日本ブルカー(株)製、400MHz−Advance400、条件;積算回数16回、溶媒;重クロロホルム
<粘度>
機種;東機産業(株)製(R型粘度計)、温度;25℃
<密着性評価>
硬化膜を形成したサンプルを温度121℃、相対湿度(RH)100%で30時間処理した後、JIS K5600−5−6に規定される塗膜の機械的性質−付着性(クロスカット法)試験法で評価を行った。この試験で、全く剥離の無いものを「○」とした。さらには、温度121℃、相対湿度(RH)100%で40時間処理した後のサンプルに対し同様な試験を行った結果、全く剥離の無いものを「◎」とした。剥離が観測されたものは「×」とした。
以下に、本実施例および比較例で用いた試薬を示す。
<アルコキシシリル基を有する化合物:A成分>
A−1:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン。その構造を下記式12に示す。
Figure 0005838972
A−2:3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン。その構造を下記式13に示す。
Figure 0005838972
A−3:3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン。その構造を下記式14に示す。
Figure 0005838972
<多価チオール化合物:B成分>
B−1:トリス[(3−メルカプトプロピオニロキシ)−エチル]イソシアヌレート。その構造を下記式15に示す(粘度5.4Pa・s)。
Figure 0005838972
β−1:メチル−3−メルカプトプロピオネート。その構造を下記式16に示す。
Figure 0005838972
<オキシラン環含有化合物:C成分>
C−1:グリシジルメタクリレート。その構造を下記式17に示す。
Figure 0005838972
<アミン:触媒>
ジアザビシクロウンデセン(DBU)。
(実施例1−1〜1−4、比較例1)
セパラブルの4つ口フラスコに温度計と還流管を備え、内部を窒素雰囲気にした。この4つ口フラスコに、下記表1に従いA成分、B成分およびC成分を仕込み、表1の条件に従い90℃で8時間反応させた。反応後の粘度を表1に示す。
Figure 0005838972
各実施例のIRの結果を次に示す。
<IRの結果>
(実施例1−1)
3629cm−1:92%T、2945cm−1:51%T、2841cm−1:59%T、1736cm−1:21%T、1697cm−1:18%T、1462cm−1:26%T、1371cm−1:70%T、1192cm−1:32%T、1086cm−1:21%T、820cm−1:45%T、764cm−1:52%T
(実施例1−2)
3627cm−1:91%T、2947cm−1:65%T、2841cm−1:76%T、2571cm−1:97%T、2360cm−1:98%T、1736cm−1:14%T、1693cm−1:9%T、1462cm−1:15%T、1352cm−1:57%T、1284cm−1:62%T、1244cm−1:42%T、1159cm−1:32%T、1084cm−1:33%T、822cm−1:59%T、764cm−1:46%T
(実施例1−3)
2925cm−1:63%T、1734cm−1:74%T、1697cm−1:73%T、1462cm−1:69%T、1373cm−1:84%T、1080cm−1:76%T、958cm−1:83%T、764cm−1:80%T
(実施例1−4)
3527cm−1:77%T、2949cm−1:49%T、2841cm−1:66%T、2571cm−1:92%T、2360cm−1:93%T、1734cm−1:16%T、1695cm−1:13%T、1462cm−1:17%T、1371cm−1:44%T、1352cm−1:46%T、1161cm−1:23%T、1084cm−1:25%T、820cm−1:49%T、764cm−1:34%T、671cm−1:89%T
<NMRの結果>
実施例1−1のNMRスペクトルを図1に、実施例1−2のNMRスペクトルを図2に、実施例1−3のNMRスペクトルを図3に、実施例1−4のNMRスペクトルを図4にそれぞれ示す。
図1のNMRスペクトルにおけるピークの帰属を下記の式18に示す。
Figure 0005838972

a:3.5〜3.6ppm、b:0.6〜0.7ppm、c:1.7〜1.8、d:4.3〜4.4ppm、e:2.5〜2.7ppm、f:1.1〜1.3ppm、g:2.6〜2.8ppm、h:2.6〜2.8ppm、i:2.6〜2.7ppm、j:4.2〜4.4ppm、k:3.4〜3.5ppm
図2のNMRスペクトルにおけるピークの帰属を下記の式19に示す。
Figure 0005838972

a:3.5〜3.6ppm、b:0.6〜0.7ppm、c:1.7〜1.8、d:4.3〜4.4ppm、e:2.5〜2.7ppm、g:2.6〜2.8ppm、h:2.6〜2.8ppm、i:2.6〜2.7ppm、j:4.1〜4.2ppm、k:3.5〜3.6ppm、l:3.4〜3.5ppm、m:4.0〜4.2ppm、n:2.4〜2.6ppm、o:2.7〜2.9ppm、p:1.6〜1.7ppm
図3のNMRスペクトルにおけるピークの帰属を下記の式20に示す。
Figure 0005838972

a:1.2〜1.3ppm、a’:3.7〜3.9ppm、b:0.6〜0.7ppm、c:1.7〜1.8、d:4.3〜4.4ppm、e:2.5〜2.7ppm、f:1.1〜1.3ppm、g:2.6〜2.8ppm、h:2.6〜2.8ppm、i:2.6〜2.7ppm、j:4.1〜4.2ppm、k:3.7〜3.8ppm、l:3.7〜3.8ppm、m:4.0〜4.2ppm、n:2.5〜2.6ppm、o:2.7〜2.9ppm、p:1.7〜1.8ppm
図4のNMRスペクトルにおけるピークの帰属を下記の式21に示す。
Figure 0005838972

a:1.2〜1.3ppm、b:0.6〜0.7ppm、c:1.7〜1.8、d:4.3〜4.4ppm、e:2.5〜2.7ppm、f:1.0〜1.2ppm、g:2.6〜2.8ppm、h:2.6〜2.8ppm、i:2.5〜2.7ppm、j:4.1〜4.2ppm、k:3.7〜3.8ppm、l:3.7〜3.8ppm、m:4.0〜4.2ppm、n:2.5〜2.6ppm、o:2.7〜2.9ppm、p:2.6〜2.8ppm、q:2.6〜2.8ppm、r:1.1〜1.3ppm、s:4.0〜4.2ppm、t:2.8〜2.9ppm、u:2.5〜2.7ppm
図1〜4及び上記帰属から、実施例1−2および実施例1−3はチオールに由来するピークが確認されたが、実施例1−1および実施例1−4においてはチオール基由来のピークは観測されなかった。また、CH=CHに由来するピークが観測されないことから、A−1、A−2、A−3は反応していることがわかった。
(実施例2−1〜2−4、比較例2−1〜2−2)
エポキシ樹脂として、95質量%のYDPN638〔フェノールノボラック型エポキシ樹脂:東都化成(株)製、商品名〕と、5質量%のEH−4344S〔イミダゾール型触媒:(株)アデカ製、商品名〕の混合物を選択した(E−1)。このE−1へ、密着性向上剤として上記実施例1−1〜1−4、比較例1、及びB−1単独を、表2の配合量に従って配合した。当該配合したサンプルをOA−10〔無アルカリガラス:日本電気硝子(株)製、商品名〕にバーコーターで塗布し、150℃、1時間の条件で硬化させて樹脂成形物としての硬化膜を得た。得られた硬化膜の密着性を評価し、それらの結果を表2に示す。なお、表2中の数値はgである。
Figure 0005838972
表2に示した結果より、実施例2−1〜2−4では全く剥離は見られず、密着性が良好であった。その一方、比較例2−1〜2−2では本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体以外の化合物を用いたことから、いずれも剥離が生じて密着性は不良であった。

Claims (4)

  1. 下記式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。
    Figure 0005838972

    (式中のaおよびbは0〜2の整数であり、cは1〜3の整数であり、a+b+c=3である。Rは下記式2で表される3価の基であり、Rは−CH−CHR−あるいは−CR(CH)−で表される2価の基あり、Rは−CH−CHR−あるいは−CR(CH)−で表される2価の基あり、RとRはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、Rはメチル基またはエチル基である。)
    Figure 0005838972

    (式中のmは1または2である。)
  2. 下記式3で表されるアルコキシシリル基含有化合物と、下記式4で表される多価チオール化合物とを反応させてなる、チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法
    Figure 0005838972

    (式中のRはメチル基またはエチル基であり、Rは水素原子またはメチル基である。)
    Figure 0005838972

    (式中のmは1または2である。)
  3. さらに、下記式5で表されるオキシラン環含有化合物を同時に反応させてなる、請求項2に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法
    Figure 0005838972

    (Rは水素原子またはメチル基である。)
  4. 請求項1に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤。

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