JP6424475B2 - チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体、およびこれを含有する密着性向上剤 - Google Patents

チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体、およびこれを含有する密着性向上剤 Download PDF

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Description

本発明は、密着性向上剤等に好適に用いられる新規なチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体に関する。
従来、各種塗料をガラス等の無機基材に塗工する際に、密着性を向上させる目的でシランカップリング剤等の密着性向上剤が塗料に添加されている(例えば、特許文献1を参照)。しかしながら、シランカップリング剤は加熱すると分解するため、量産ラインで使用すると、オーブン等の加熱炉に酸化ケイ素が析出して汚染の原因となることが問題となっている。また、シランカップリング剤単独では密着性向上効果も充分とは言えず、例えばチタン、ジルコニウム等の塩や、イミダゾール等のアミン、リン酸エステル、ウレタン樹脂等の密着性助剤も同時に添加することによって初めて実用レベルの密着性を実現できる場合も多かった。また、密着性助剤の添加は、製造工数増大やコスト増大につながるだけではなく、密着性助剤を添加することによって、塗料の室温における保存安定性が悪化したり、塗膜の耐熱性や硬度が低下するといった問題があった。
特許文献2には、上記の問題を解消するために、特定の構造のチオエーテル含有ウレア誘導体を密着性向上剤として用いることにより、密着性助剤無しでも密着性を高められることが開示されている。
また、特許文献3には、シランカップリング剤にポリチオール化合物またはポリエン化合物を付加した付加反応物と光重合開始剤とを含有する光硬化性樹脂組成物が、優れた接着力を発揮することが開示されている。
特開平7−300491号公報 特開2013−249282号公報 特開2001−89568号公報
しかしながら、寒冷地において、柔軟性を有するフィルム基材に対する塗料の密着性の検討を行った結果、上記チオエーテル含有ウレア誘導体、または、ポリチオール化合物若しくはポリエン化合物とシランカップリング剤との付加反応物を塗料の密着性向上剤として用いた場合、得られる塗膜が柔軟性に乏しく、塗膜の屈曲時にクラックが生じやすいといった課題があることが判明した。
本発明は上記実状に鑑みて成し遂げられたものであり、その目的は、塗料等に添加した場合、寒冷地においても密着性助剤無しで基材に対する高い密着性向上効果を発揮し、且つ、得られる塗膜が柔軟性を有する材料を提供することにある。
前記の目的を達成するために、本発明のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、下記式1で表される構造を有している。

(式中のaは1〜3の整数であり、bは0または1であり、cは1〜3の整数であり、aとbとcの和は4である。Rは、メチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、下記式2または下記式3で表される2価の官能基である。Rは、メチル基またはエチル基である。Rは、炭素数が1〜12の炭化水素基である。)

(Rは水素原子またはメチル基である。)

(Rは水素原子またはメチル基である。)
上記式1で表される構造を有するチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、下記式4で表されるアクリル化合物と下記式5で表される多価チオール化合物とを反応させてなることが好ましい。

(式中のR4は炭素数が1〜12の炭化水素基である。Rは、水素原子またはメチル基である。)

(式中のgは0または1であり、hは3または4であり、gとhの和は4である。Rはメチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、メチル基またはエチル基である。)
また、本発明のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、下記式6で表される構造を有していても良い。

(式中のdは1〜5の整数であり、eは0〜2の整数であり、fは1〜5の整数であり、dとeとfの和は6である。Rは、メチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、下記式2または下記式3で表される2価の官能基である。Rは、メチル基またはエチル基である。Rは、炭素数が1〜12の炭化水素基である。Rは下記式7で表される6価の官能基である。)

(Rは水素原子またはメチル基である。)

(Rは水素原子またはメチル基である。)
上記式6で表される構造を有するチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、下記式4で表されるアクリル化合物と下記式8で表される多価チオール化合物とを反応させてなることが好ましい。

(式中のR4は炭素数が1〜12の炭化水素基である。Rは、水素原子またはメチル基である。)

(式中のiは0〜2の整数であり、jは4〜6の整数であり、iとjの和は6である。Rはメチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、メチル基またはエチル基である。Rは、下記式7で表される6価の官能基である。)
また、本発明は上記チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体のいずれかを有効成分とする密着性向上剤も提供する。
なお、本明細書中において、「(メタ)アクリレート」とは、「メタクリレート」と「アクリレート」の両方を含む概念である。また、本明細書中における「○○〜××」の記載は、別途記載が無い限り、「○○以上、××以下」を意味する。
本発明のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、塗料等に配合された場合に、例えば−10℃といった寒冷環境下においても、密着性助剤無しで基材に対する高い密着性向上効果を発揮し、且つ、得られる塗膜が柔軟性を有する効果を有している。上記効果は、寒冷環境下において、特定の炭素鎖を有するエステル基が塗料に柔軟性を付与し、且つ、このエステル基がチオエーテル基と基材との接近を妨げないことで、チオエーテル基による密着性向上効果が的確に発揮されると考えられる。
実施例1−1で得られた合成物1のIRスペクトルである。 実施例1−2で得られた合成物2のIRスペクトルである。 実施例1−3で得られた合成物3のIRスペクトルである。 実施例1−4で得られた合成物4のIRスペクトルである。 参考例1−5で得られた合成物5のIRスペクトルである。 参考例1−6で得られた合成物6のIRスペクトルである。 実施例1−1で得られた合成物1の1H−NMRスペクトルである。 実施例1−2で得られた合成物2の1H−NMRスペクトルである。 実施例1−3で得られた合成物3の1H−NMRスペクトルである。 実施例1−4で得られた合成物4の1H―NMRスペクトルである。 参考例1−5で得られた合成物5の1H―NMRスペクトルである。 参考例1−6で得られた合成物6の1H―NMRスペクトルである。
以下に本発明を具体化した実施形態について詳細に説明する。
<チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体>
(実施形態1)
本実施形態のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、下記式1で表される化合物である。

(式中のaは1〜3の整数であり、bは0または1であり、cは1〜3の整数であり、aとbとcの和は4である。Rは、メチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、下記式2または下記式3で表される2価の官能基である。Rは、メチル基またはエチル基である。Rは、炭素数が1〜12の炭化水素基である。)

(Rは水素原子またはメチル基である。)

(Rは水素原子またはメチル基である。)
上記式1中のRである炭素数が1〜12の炭化水素基としては、直鎖のアルキル基、側鎖を持つアルキル基、環状のアルキル基が挙げられる。上記式1中のRは、メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基であり、密着性向上効果が高くなることから、エチレン基、イソプロピレン基が特に好ましい。
上記式1で表されるチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、塗料等に配合された場合、例えば−10℃といった環境下においても、密着性助剤無しで基材に対する高い密着性向上効果を発揮し、且つ、得られる塗膜に柔軟性を付与する効果に優れる。更に、上記式1で表されるチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、後述の実施形態2のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体よりも分子量が小さいことから溶解性に優れる。従って、上記式1で表されるチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、多くの樹脂に対して実施形態2のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体よりも高い相溶性を有することから、幅広い塗料に対して使用可能であり、汎用性が高い。
(実施形態2)
チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体の実施形態2として、下記式6で表される化合物が挙げられる。

(式中のdは1〜5の整数であり、eは0〜2の整数であり、fは1〜5の整数であり、dとeとfの和は6である。Rは、メチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、下記式2または下記式3で表される2価の官能基である。Rは、メチル基またはエチル基である。Rは、炭素数が1〜12の炭化水素基である。Rは下記式7で表される6価の官能基である。)

(Rは水素原子またはメチル基である。)

(Rは水素原子またはメチル基である。)
上記式6中のRである炭素数が1〜12の炭化水素基としては、直鎖のアルキル基、側鎖を持つアルキル基、環状のアルキル基が挙げられる。上記式6中のRは、メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基であり、密着性向上効果が高くなることから、エチレン基、イソプロピレン基が特に好ましい。
上記式6で表されるチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、例えば−10℃といった環境下においても、塗料や接着剤等の樹脂組成物へ、密着性向上剤として少量添加するだけで、高い密着性を付与することができると共に、得られる塗膜に柔軟性を付与することが出来る。
<チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体の製造方法>
上記式1で表される実施形態1のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、例えば下記式4で表される(メタ)アクリレート基を有するアクリル化合物(以降、A成分という)と、下記式5で表されるチオール基(−SH)を有する多価チオール化合物(以降、B成分という)とを反応させることによって得ることができる。

(式中のR4は炭素数が1〜12の炭化水素基である。Rは、水素原子またはメチル基である。)

(式中のgは0または1であり、hは3または4であり、gとhの和は4である。Rはメチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、メチル基またはエチル基である。)
一方、上記式6で表される実施形態2のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、例えば上記式4で表される(メタ)アクリレート基を有するアクリル化合物(A成分)と、下記式8で表されるチオール基(−SH)を有する多価チオール化合物(B成分)とを反応させることによって得ることができる。

(式中のiは0〜2の整数であり、jは4〜6の整数であり、iとjの和は6である。Rはメチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、メチル基またはエチル基である。Rは、下記式7で表される6価の官能基である。)
上記式4で表されるアクリル化合物(A成分)として、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸ドデシルなどが挙げられる。
上記式5、または、上記式8で表される多価チオール化合物(B成分)として、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールエタントリス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)などが挙げられる。
A成分とB成分との2成分は、A成分の(メタ)アクリレート基と、B成分のチオール基とが下記式9で表される反応式で反応する。なお、Xは水素原子またはメチル基、YはA成分の(メタ)アクリロイル基の二重結合に結合するX以外の残基を表し、ZはB成分のチオール基に結合する残基を表す。
式9に示すように、A成分の(メタ)アクリレート基の二重結合を形成する2つの炭素のどちらもチオール基のSと結合し得る。2つの生成物の生成比率は反応条件により異なり、例えば本反応の触媒にアミンなどの塩基性触媒を反応系に添加した場合には、生成物(1)が多く生成し、ラジカル発生剤を反応系に添加した場合には生成物(2)が多く生成する傾向にある。多くの場合、製造後のチオエーテル含有アクリル誘導体は生成物(1)と(2)の混合物となっている。
チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体を製造するためには、A成分とB成分とを5℃以上の温度で反応させれば良く、60〜100℃で反応させることが好ましい。60℃以上で反応させると、短時間で反応させることができる。一方、100℃を超えた温度で反応させた場合は、A成分同士の重合が生じだし、目的とするチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体のみが得られないため、好ましくない。更に、塩基性触媒やラジカル発生剤を反応系に添加すれば、より短時間で反応を進行できると共に、チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体の収率を高めることもできる。
塩基性触媒としては、アミン系の塩基性触媒が好ましく、一級、二級あるいは三級のアミン類、もしくはイミダゾール系化合物が使用できる。例えば一級アミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン等が挙げられる。二級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、メチルエチルアミン、ジフェニルアミン等が挙げられる。三級アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリフェニルアミン、1,8−ジアザビシクロ [5.4.0]ウンデカ−アミノメチル)フェノール等が挙げられる。イミダゾール系化合物としては、例えば1−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1,4−ジメチル−2−エチルイミダゾール、1−フェニルイミダゾール等のイミダゾール同族体、1−メチル−2−オキシメチルイミダゾール、1−メチル−2−オキシエチルイミダゾール等のアルキル誘導体、1−メチル−4(5)−ニトロイミダゾール、1,2−ジメチル−5(4)−アミノイミダゾール等のニトロおよびアミノ誘導体、ベンゾイミダゾール、1−メチルベンゾイミダゾール、1−メチル−ベンジルベンゾイミダゾール等が挙げられる。
ラジカル発生剤としては、過酸化物もしくはアゾ化合物が好ましい。過酸化物として、例えば、過酸化ジベンゾイル、tert-ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート、ジラウロイルペルオキシドなどが挙げられる。アゾ化合物としては、例えばアゾビス(イソ−ブチロニトリル)や2、2’−アゾビス(2−メチルブタンニトリル)などが挙げられる。
このチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体の製造方法においては、無溶剤でも反応を進行させることができるが、低温で反応させる場合など、粘度を下げたい場合には溶剤を加えて反応させることもできる。その際には、(メタ)アクリレート基の炭素−炭素二重結合やチオール基と反応しない溶剤、例えばアルコール類、ケトン類、エステル類が好ましい。
溶剤として用いられるアルコール類は炭素−炭素二重結合やチオール基と反応する、炭素−炭素二重結合、チオール基、エポキシ基、イソシアネート基、カルボキシル基、スルホニル基、ニトリル基、ハロゲン原子等の官能基を含んではならない。上記の官能基を含まないアルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ターシャリーブタノール、ヘキサノール、プロピレングリコール、グリセリン、エチレングリコールのアルキルエーテルやエステル等が挙げられる。なかでも、沸点が80℃以上のアルコール類が反応温度を高く保てるために好ましい。
溶剤として用いられるケトン類は炭素−炭素二重結合やチオール基と反応する、炭素−炭素二重結合、チオール基、エポキシ基、イソシアネート基、カルボキシル基、スルホニル基、ニトリル基、ハロゲン原子等の官能基を含んではならない。上記の官能基を含まないケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン等が挙げられる。なかでも、沸点が80℃以上のケトン類が反応温度を高く保てるために好ましい。
溶剤として用いられるエステル類は炭素−炭素二重結合やチオール基と反応する、炭素−炭素二重結合、チオール基、エポキシ基、イソシアネート基、カルボキシル基、スルホニル基、ニトリル基、ハロゲン原子等の官能基を含んではならない。上記の官能基を含まないケトン類としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸エチル、プロピレングリコールアセテート等が挙げられる。なかでも、沸点が80℃以上のエステル類が反応温度を高く保てるために好ましい。
<密着性向上剤>
本実施形態のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体は、塗料や接着剤等の樹脂組成物に配合することで、無機材料と有機材料の両方に対する密着性を向上させることができる。そのため、そのままで、あるいは溶剤等と調合して、密着性向上剤として用いることができる。特に、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセチレンなどの二重結合を有する化合物等に配合することによって、高い密着性向上効果を発揮することができる。この密着性向上剤の密着性向上効果は、チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体のチオエーテル基に起因している。したがって、チオエーテル基と化学的な結合を形成する(化学的な親和力の高い)基材、例えば、遷移金属あるいはその合金や珪素化合物、リン化合物、硫黄化合物、又はホウ素化合物等の無機基材、不飽和結合(芳香環を含む)を有する有機物、水酸基やカルボキシル基を有する有機物、又はプラズマやUVオゾン処理された有機物等への密着性向上効果に優れる。具体的には、無機基材としては、ガラス、シリコン、各種金属などが挙げられる。有機基材として、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ABS樹脂、ポリビニルアルコール、塩化ビニル、ポリアセタールなどが好ましく挙げられる。
このチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体を有効成分とする密着性向上剤は、樹脂成分を含む塗料や接着剤等の樹脂組成物100質量%に対し、有効成分として0.1〜80質量%添加すると高い密着性を発揮することができる。この密着性向上剤は、エステル基により樹脂の柔軟性を高める効果も有し、得られる塗膜は優れた柔軟性を備える。
以下に、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
(実施例1−1)
[チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体の合成]
温度計、攪拌機、滴下ポンプを備えた3つ口フラスコに、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)(B成分)を85.9g仕込み、60℃に昇温後、アクリル酸ブチル(A成分)14.1gを1時間かけて滴下した。滴下終了後さらに60℃で2時間攪拌をして反応させ、チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体(合成物1)を得た。
(実施例1−2〜1−4、参考例1−5〜1−6)
次に、実施例1−2〜1−4、参考例1−5〜1−6において、下記表1に記載されたA成分とB成分とを用いた以外は実施例1−1と同様にして、チオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体(合成物2〜6)を合成した。なお、用いたA成分及びB成分は次のとおりである。
<A成分:アクリル化合物>
A−1:アクリル酸ブチル
A−2:アクリル酸イソブチル
A−3:アクリル酸ドデシル
A−4:アクリル酸−2−エチルヘキシル
<B成分:多価チオール化合物>
B−1:ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)
B−2:トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)
B−3:ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)
[赤外線吸収スペクトル分析(IR)]
得られた合成物1〜6ついて、下記条件にて赤外線吸収スペクトル分析(IR)を行った。そのIRスペクトルを図1〜6示すとともに、代表的なIRピークを以下に示す。
機種:(株)エス・テイ・ジャパン製 Travel IR
分解:8cm−1、積算回数:32回
実施例1−1(合成物1):図1
2960cm−1:99%T、2898cm−1:99%T、1733cm−1:80%T、1466cm−1:98%T、1389cm−1:96%T、1355cm−1:94%T、1289cm−1:96%T、1243cm−1:90%T、1150cm−1:84%T、1054cm−1:95%T、1015cm−1:95%T、938cm−1:96%T、895cm−1:97%T、868cm−1:97%T、837cm−1:97%T、803cm−1:97%T、777cm−1:98%T
実施例1−2(合成物2):図2
2960cm−1:99%T、1732cm−1:80%T、1470cm−1:97%T、1385cm−1:96%T、1354cm−1:95%T、1289cm−1:96%T、1243cm−1:90%T、1153cm−1:84%T、1054cm−1:95%T、1011cm−1:94%T、938cm−1:96%T、907cm−1:97%T、864cm−1:97%T、837cm−1:98%T、822cm−1:97%T、791cm−1:98%T、760cm−1:98%T
実施例1−3(合成物3):図3
2925cm−1:97%T、2856cm−1:99%T、1737cm−1:83%T、1466cm−1:98%T、1412cm−1:97%T、1389cm−1:97%T、1354cm−1:95%T、1289cm−1:96%T、1243cm−1:91%T、1189cm−1:90%T、1153cm−1:87%T、1050cm−1:96%T、1007cm−1:96%T、934cm−1:97%T、891cm−1:97%T、864cm−1:97%T、826cm−1:98%T、760cm−1:98%T
実施例1−4(合成物4):図4
2956cm−1:98%T、2933cm−1:98%T、2871cm−1:99%T、1737cm−1:82%T、1632cm−1:99%T、1466cm−1:97%T、1389cm−1:96%T、1355cm−1:95%T、1289cm−1:96%T、1243cm−1:90%T、1154cm−1:95%T、1011cm−1:95%T、934cm−1:97%T、868cm−1:97%T、826cm−1:97%T、795cm−1:97%T、776cm−1:97%T
参考例1−5(合成物5):図5
2960cm−1:98%T、1733cm−1:81%T、1463cm−1:97%T、1416cm−1:97%T、1389cm−1:96%T、1355cm−1:95%T、1243cm−1:90%T、1150cm−1:86%T、1057cm−1:96%T、1019cm−1:96%T、938cm−1:97%T、880cm−1:97%T、860cm−1:97%T、837cm−1:97%T、783cm−1:97%T
参考例1−6(合成物6):図6
2964cm−1:99%T、1733cm−1:80%T、1470cm−1:98%T、1412cm−1:96%T、1389cm−1:96%T、1355cm−1:94%T、1289cm−1:96%T、1243cm−1:89%T、1150cm−1:83%T、1053cm−1:95%T、1019cm−1:95%T、934cm−1:96%T、876cm−1:97%T、852cm−1:97%T、818cm−1:98%T、799cm−1:98%T、783cm−1:98%T
上記赤外線吸収スペクトル分析の結果からも明らかなように、C=Cに由来する1600〜1680cm−1のピークが観測されないことから、各合成物においてA成分はB成分と反応していることがわかった。
[核磁気共鳴スペクトル分析(H−NMR)]
実施例1−1〜1−4、参考例1−5〜1−6で得られた合成物1〜6について、下記条件において核磁気共鳴スペクトル分析を行った。その結果を図7〜12に示すと共に、各スペクトルにおけるピークの帰属とそれにより解析された各合成物の構造を下記に示す。
機種:日本ブルカー(株)製、400MHz−Advance400
積算回数:32回
溶媒:重クロロホルム
基準:TMS
実施例1−1(合成物1):図7

o:0.7〜0.9ppm、n:1.2〜1.5ppm、a、m:1.5〜1.7ppm、b、c、h、i、j、k:2.4〜3.0ppm、e、f:3.2〜3.5ppm、d、g、l:3.9〜4.2ppm
実施例1−2(合成物2):図8

n、o:0.7〜1.0ppm、a:1.5〜1.7ppm、m:1.8〜2.0ppm、b、c、h、i、j、k:2.4〜3.0ppm、e、f:3.2〜3.5ppm、l:3.7〜3.9ppm、d、g:3.9〜4.3ppm
実施例1−3(合成物3):図9

w:0.7〜0.9ppm、n、o、p、q、r、s、t、u、v:1.0〜1.4ppm、a、m:1.4〜1.7ppm、b、c、h、i、j、k:2.4〜3.0ppm、e、f:3.2〜3.5ppm、d、g、l:3.8〜4.2ppm
実施例1−4(合成物4):図10

q、s:0.7〜1.0ppm、n、o、p、r:1.1〜1.4ppm、a、m:1.4〜1.8ppm、b、c、h、i、j、k:2.3〜3.0ppm、e、f:3.0〜3.7ppm、d、g、l:3.8〜4.2ppm
参考例1−5(合成物5):図11

o、f:0.7〜1.0ppm、a、e、m、n:1.2〜1.7ppm、b、c、h、i、j、k:2.4〜3.0ppm、d、g、l:3.8〜4.2ppm
参考例1−6(合成物6):図12

m:0.7〜1.0ppm、a、k、l:1.1〜1.7ppm、b、c、f、g、h、i:2.4〜2.9ppm、d、e、j:3.8〜4.3ppm
図7〜12および上記帰属から、5.0〜5.8ppm付近にある−CH=C(CH)−に由来するピークが観測されないため、各合成物においてA成分はB成分と反応していることがわかった。
(実施例2−1)
フェノールノボラック型エポキシ樹脂[東都化成(株)製、YDPN638]98質量%に触媒[イミダゾール型触媒:(株)アデカ製、EH−4344S]を2質量%混合した樹脂組成物(C−1)へ、密着性向上剤として合成物1を80質量%混合し、下記試験方法によって、その性能を評価した。評価結果を下記表2に示す。
(実施例2−2〜2−4、参考例2−5〜2−6、比較例2−1〜2−7)
次に、実施例2−2〜2−4、参考例2−5〜2−6において、密着性向上剤として下記表2に記載の合成物2〜6を用いた以外は実施例2−1と同様にして、樹脂組成物(C−1)と合成物2〜6とを混合し、その性能を評価した。さらに、比較例2−1〜2−7において、密着性向上剤として表2に記載のA成分若しくはB成分又は未反応のA成分及びB成分を用いた以外は、実施例2−1と同様にして、樹脂組成物(C−1)とA成分及びB成分の少なくとも一方とを混合し、その性能を評価した。その結果を下記表2に示す。なお、表2中の数値の単位は質量%である。
<試験方法>
[評価用試験片の作成]
各実施例及び比較例で得られた混合物を25mm幅のPETフィルム[東レ(株)製、ルミラーU46−100]上にバーコーターで100ミクロンの厚みに塗布し、対向基材に上記PETフィルムを重ねた後、150℃、1時間の条件で硬化させ評価用試験片を得た。
[密着性1]
上記評価用試験片を、25℃で24時間静置した後、5分以内にJIS K6854−3に規定されるT型はく離法で測定し、以下の通り評価した。
○:引っ張り強度が5N/mm以上(PET破断も含む)
×:引っ張り強度が5N/mm未満
[密着性2]
上記評価用試験片を、−10℃で24時間静置した後、5分以内にJIS K6854−3に規定されるT型はく離法で測定し、以下の通り評価した。
○:引っ張り強度が5N/mm以上(PET破断も含む)
×:引っ張り強度が5N/mm未満
[柔軟性]
上記評価用試験片を、−10℃で24時間静置した後、5分以内に直径8mmの棒に1分間巻きつけ、目視にて観察を行い、以下の通り評価した。
○:クラック0本
×:クラック1本以上
[保存安定性]
樹脂組成物(C−1)と密着性向上剤を混合した直後に25℃における粘度(混合後の粘度)を測定するとともに、40℃で12時間加熱した後に再度粘度(加熱後の粘度)を測定し、加熱後の粘度を混合後の粘度で除して増粘率を算出し、以下の通り評価した。なお、粘度は、東機産業株式会社製のR型粘度計を用い、下記条件にて測定した。
使用ロータ:1°34′×R24
測定範囲:0.5183〜103.7Pa・s
○:増粘率1.0〜5.0
×:増粘率1.0未満、又は5.0超
実施例2−1〜2−の結果より、A成分とB成分とを反応させて得られた合成物を密着性向上剤として用いると、塗膜は、常温条件での密着性(密着性1)のみならず、寒冷条件での密着性(密着性2)、柔軟性に優れ、更に、樹脂組成物の優れた保存安定性を実現出来ることが明らかとなった。一方、比較例2−1では、密着性向上剤を含まないため、密着性及び柔軟性の向上はみられなかった。比較例2−2,2−3,2−7において、A成分を単独又は未反応のままB成分と共に用いると、柔軟性は向上するものの、密着性向上効果は認められないことが明らかとなった。また、比較例2−4,2−5,2−6,2−7の結果から、B成分を単独又は未反応のままA成分と共に用いたとしても、寒冷条件下では密着性向上効果が得られないことが明らかとなった。しかも、B成分とA成分とを反応させずに用いた比較例2−7では、保存安定性が低下した。これらの結果より、A成分とB成分とを反応させることによってこそ、寒冷条件下でも密着性向上剤として有効に機能する材料が得られることが明らかとなった。

Claims (2)

  1. 下記式6で表されるチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体。

    (式中のdは1〜5の整数であり、eは0〜2の整数であり、fは1〜5の整数であり、dとeとfの和は6である。Rは、メチレン基、エチレン基またはイソプロピレン基である。Rは、下記式2または下記式3で表される2価の官能基である。Rは、メチル基またはエチル基である。Rは、炭素数が1〜12の炭化水素基である。Rは下記式7で表される6価の官能基である。)

    (Rは水素原子またはメチル基である。)

    (Rは水素原子またはメチル基である。)
  2. 請求項1に記載のチオエーテル含有(メタ)アクリレート誘導体を有効成分とする密着性向上剤。
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JP5828225B2 (ja) * 2011-05-31 2015-12-02 日油株式会社 硬化性樹脂組成物
JP5894943B2 (ja) * 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子

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