JP5725059B2 - 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Claims (12)
- 互いに直交する第1軸及び第2軸を含む二次元平面に沿って移動する第1移動部材と、
基板を保持する基板保持部を有し、且つ前記第1移動部材に支持され、前記第1軸に沿った第1方向の位置情報及び前記第2軸に沿った第2方向に関する位置情報が計測される第2移動部材と、
前記第1移動部材と前記第2移動部材との間に設けられた複数の駆動部を有する駆動装置と、を備え、
前記複数の駆動部のうちの1つは、前記第1及び第2方向のそれぞれに交差し、且つ前記二次元平面に沿った第3方向の力を前記第1移動部材と前記第2移動部材との間に作用させ、
前記駆動装置は、前記複数の駆動部で発生した力の合力によって前記第2移動部材を前記第1移動部に対して前記第1方向及び前記第2方向に駆動可能である移動体装置。 - 前記駆動装置は、互いに異なる位置で前記第3方向に沿った力を前記第1移動部材と前記第2移動部材との間に作用させる第1の駆動部と第2の駆動部とを有する請求項1に記載の移動体装置。
- 前記第1の駆動部と前記第2の駆動部は、前記第1、第2、及び第3方向のそれぞれに交差し前記二次元平面に平行な第4方向に沿って配置されている請求項2に記載の移動体装置。
- 前記駆動装置は、前記第3方向に沿って配置されていて、それぞれ前記第4方向の力を前記第1移動部材と前記第2移動部材との間に作用させる第3の駆動部と第4の駆動部とをさらに備える請求項3に記載の移動体装置。
- 前記第1、第2、第3、及び第4の駆動部が発生する力により、前記第2移動部材に前記二次元平面内における並進駆動力及び前記二次元平面内での回転駆動力の少なくとも一方を発生させる請求項4記載の移動体装置。
- ベース部材と、
該ベース部材と前記第1移動部材との間に、前記第1方向に沿った力及び前記第2方向に沿った力を作用させる第2の駆動装置をさらに備える請求項1〜5のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記第2の駆動装置は平面モータである請求項6に記載の移動体装置。
- 前記第1移動部材に設けられ、前記第2移動部材の自重を支持する自重キャンセル機構を更に備える請求項1〜7のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第2移動部材と前記自重キャンセル機構との間は、非接触の状態である請求項8に記載の移動体装置。
- 前記自重キャンセル機構は、前記第2移動部材に対して、前記二次元平面に交差する方向に移動する力、及び前記二次元平面に対して傾斜する方向に移動する力を作用させる請求項8または請求項9に記載の移動体装置。
- エネルギビームを照射して基板を露光する露光装置であって、
請求項1〜10のいずれか一項に記載の移動体装置と、前記第2移動部材に保持された基板に前記エネルギビームを照射して前記基板上にパターンを形成するパターン生成装置と、を備える露光装置。 - リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
請求項11に記載の露光装置を用いて基板上にパターンを形成するデバイス製造方法。
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---|---|---|---|---|
US8421994B2 (en) * | 2007-09-27 | 2013-04-16 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
US8279399B2 (en) | 2007-10-22 | 2012-10-02 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8115906B2 (en) * | 2007-12-14 | 2012-02-14 | Nikon Corporation | Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and measurement device, and device manufacturing method |
US8711327B2 (en) * | 2007-12-14 | 2014-04-29 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
CN102540767B (zh) * | 2007-12-28 | 2015-05-20 | 株式会社尼康 | 曝光装置、移动体驱动系统、图案形成装置、以及曝光方法 |
US8274639B2 (en) * | 2008-04-30 | 2012-09-25 | Nikon Corporation | Stage device, pattern formation apparatus, exposure apparatus, stage drive method, exposure method, and device manufacturing method |
US8817236B2 (en) * | 2008-05-13 | 2014-08-26 | Nikon Corporation | Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8553204B2 (en) * | 2009-05-20 | 2013-10-08 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
IT1399285B1 (it) * | 2009-07-03 | 2013-04-11 | Applied Materials Inc | Sistema di lavorazione substrato |
US8493547B2 (en) * | 2009-08-25 | 2013-07-23 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
CN101752983B (zh) * | 2009-12-24 | 2012-06-27 | 哈尔滨工业大学 | 长行程高精度多自由度平面电机 |
NL2006699A (en) | 2010-06-03 | 2011-12-06 | Asml Netherlands Bv | Stage apparatus and lithographic apparatus comprising such stage apparatus. |
NL2006714A (en) * | 2010-06-07 | 2011-12-08 | Asml Netherlands Bv | Displacement device, lithographic apparatus and positioning method. |
US8988655B2 (en) * | 2010-09-07 | 2015-03-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, movable body apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method |
KR101691106B1 (ko) * | 2010-10-22 | 2016-12-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | 평면모터 구조 및 이를 이용한 대상물 대응방법 |
NL2008696A (en) * | 2011-05-25 | 2012-11-27 | Asml Netherlands Bv | A multi-stage system, a control method therefor, and a lithographic apparatus. |
CN102854752B (zh) * | 2011-05-27 | 2014-07-23 | 恩斯克科技有限公司 | 接近式曝光装置 |
JP5961930B2 (ja) * | 2011-06-21 | 2016-08-03 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ステージ装置 |
KR20140084238A (ko) | 2011-10-27 | 2014-07-04 | 더 유니버시티 오브 브리티쉬 콜롬비아 | 변위 장치 및 변위 장치의 제조, 사용 그리고 제어를 위한 방법 |
CN103531502B (zh) * | 2012-07-03 | 2016-12-21 | 上海微电子装备有限公司 | 一种工件台装置 |
CN103576463B (zh) * | 2012-07-20 | 2015-09-30 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻机工作台及其工作方法 |
KR101716267B1 (ko) * | 2012-08-21 | 2017-03-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
KR102056273B1 (ko) | 2012-10-15 | 2019-12-16 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 작동 메카니즘, 광학 장치, 리소그래피 장치 및 디바이스들을 제조하는 방법 |
CN103809384B (zh) * | 2012-11-12 | 2016-03-09 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机 |
CN105452812B (zh) | 2013-08-06 | 2019-04-30 | 不列颠哥伦比亚大学 | 移位装置以及用于检测和估计与其相关联的运动的方法和设备 |
WO2015179962A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | The University Of British Columbia | Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
WO2015184553A1 (en) | 2014-06-07 | 2015-12-10 | The University Of British Columbia | Methods and systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device |
EP3155712A4 (en) | 2014-06-14 | 2018-02-21 | The University Of British Columbia | Displacement devices, moveable stages for displacement devices and methods for fabrication, use and control of same |
KR101598997B1 (ko) * | 2014-07-29 | 2016-03-03 | 전북대학교산학협력단 | 자기부상 이중서보 스테이지 |
US9904178B2 (en) * | 2015-04-09 | 2018-02-27 | Nikon Corporation | On-board supply system for a stage assembly |
WO2017004716A1 (en) | 2015-07-06 | 2017-01-12 | The University Of British Columbia | Methods and systems for controllably moving one or more moveable stages in a displacement device |
CN108028214B (zh) * | 2015-12-30 | 2022-04-08 | 玛特森技术公司 | 用于毫秒退火系统的气体流动控制 |
CN105511234A (zh) * | 2016-01-14 | 2016-04-20 | 哈尔滨工业大学 | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
JP6889534B2 (ja) * | 2016-09-28 | 2021-06-18 | 国立大学法人 東京大学 | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、およびデバイス製造方法 |
CN109863453B (zh) * | 2016-10-07 | 2021-09-14 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和方法 |
JP6364687B2 (ja) | 2016-10-31 | 2018-08-01 | Thk株式会社 | レンズ移動機構 |
EP4236042A3 (en) | 2017-03-27 | 2023-10-11 | Planar Motor Incorporated | Robotic devices and methods for fabrication, use and control of same |
KR102075686B1 (ko) * | 2018-06-11 | 2020-02-11 | 세메스 주식회사 | 카메라 자세 추정 방법 및 기판 처리 장치 |
CN112840542A (zh) | 2018-10-13 | 2021-05-25 | 普拉那汽车公司 | 用于识别磁性动子的系统和方法 |
US11637030B2 (en) * | 2019-06-18 | 2023-04-25 | Kla Corporation | Multi-stage, multi-zone substrate positioning systems |
US12091313B2 (en) | 2019-08-26 | 2024-09-17 | The Research Foundation For The State University Of New York | Electrodynamically levitated actuator |
JP7451133B2 (ja) * | 2019-10-11 | 2024-03-18 | キヤノン株式会社 | 無線電力伝送システム及び機械装置 |
EP4078791A4 (en) | 2019-12-16 | 2024-01-17 | Planar Motor Incorporated | STATOR MODULES AND ROBOT SYSTEMS |
Family Cites Families (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58115945A (ja) | 1981-12-29 | 1983-07-09 | Toyoda Gosei Co Ltd | ハンドル部への電力伝送と信号送受方法 |
JPS6144429A (ja) | 1984-08-09 | 1986-03-04 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 位置合わせ方法、及び位置合せ装置 |
US4654571A (en) * | 1985-09-16 | 1987-03-31 | Hinds Walter E | Single plane orthogonally movable drive system |
JPS62203526A (ja) | 1986-02-28 | 1987-09-08 | トヨタ自動車株式会社 | 無線電力伝送装置 |
JP2980745B2 (ja) | 1991-08-31 | 1999-11-22 | バンドー化学株式会社 | 広角織布の製造方法とその装置 |
KR100300618B1 (ko) | 1992-12-25 | 2001-11-22 | 오노 시게오 | 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법 |
JP3316833B2 (ja) | 1993-03-26 | 2002-08-19 | 株式会社ニコン | 走査露光方法、面位置設定装置、走査型露光装置、及び前記方法を使用するデバイス製造方法 |
JP3757430B2 (ja) | 1994-02-22 | 2006-03-22 | 株式会社ニコン | 基板の位置決め装置及び露光装置 |
JPH07270122A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Canon Inc | 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法 |
JP3726270B2 (ja) * | 1996-05-23 | 2005-12-14 | 株式会社ニコン | 露光装置及び方法 |
JPH10177942A (ja) | 1996-12-17 | 1998-06-30 | Nikon Corp | 露光装置および露光装置における感光基板の受け渡し方法 |
JPH11214482A (ja) * | 1998-01-28 | 1999-08-06 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置ならびにディバイス製造方法 |
TW448488B (en) * | 1998-03-19 | 2001-08-01 | Nippon Kogaku Kk | Planar motor apparatus, base stage apparatus, exposure apparatus as well as its manufacturing method, and the equipment as well as its manufacturing method |
JP2000349009A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-15 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
WO2001027978A1 (fr) | 1999-10-07 | 2001-04-19 | Nikon Corporation | Substrat, dispositif a etage, procede d'attaque d'etage, systeme d'exposition et procede d'exposition |
JP2001118773A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-04-27 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
WO2001035168A1 (en) | 1999-11-10 | 2001-05-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams |
JP2001148339A (ja) | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2001168008A (ja) | 1999-12-09 | 2001-06-22 | Canon Inc | 基板ステージ装置および該基板ステージ装置を用いた半導体露光装置 |
JP2001257252A (ja) | 2000-03-09 | 2001-09-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空処理装置の基板取り外し制御方法及び真空処理装置 |
JP2001338868A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-12-07 | Nikon Corp | 照度計測装置及び露光装置 |
US6437463B1 (en) * | 2000-04-24 | 2002-08-20 | Nikon Corporation | Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage |
JP2001319865A (ja) | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Canon Inc | 基板ステージ装置、露光装置および半導体デバイス製造方法 |
JP2002184662A (ja) | 2000-10-04 | 2002-06-28 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2002170765A (ja) | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
US6611316B2 (en) | 2001-02-27 | 2003-08-26 | Asml Holding N.V. | Method and system for dual reticle image exposure |
JP2002353118A (ja) | 2001-05-28 | 2002-12-06 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2002359170A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-13 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2003022960A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-24 | Canon Inc | ステージ装置及びその駆動方法 |
TW529172B (en) | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
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