CN105511234A - 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 - Google Patents
基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105511234A CN105511234A CN201610023022.9A CN201610023022A CN105511234A CN 105511234 A CN105511234 A CN 105511234A CN 201610023022 A CN201610023022 A CN 201610023022A CN 105511234 A CN105511234 A CN 105511234A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- work stage
- workpiece
- exposure
- wireless energy
- workpiece platform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置属于半导体制造装备技术,该装置包括支撑框架、平衡质量块、磁浮工件台、工件台测量装置、无线能量发射装置、无线能量接收装置,两个工件台工作于测量位和曝光位之间,采用激光干涉仪对工件台位置进行测量,采用无线能量传输装置对微动台中传感器提供能量,工件台采用磁悬浮平面电机驱动,双工件台交换过程中,采用平面电机驱动两个工件台实现单节拍弧线快速换台;本发明解决了现有换台方案节拍多、轨迹长、起停环节多、稳定时间长等问题,减少换台环节,缩短了换台时间,提高了光刻机的产率。
Description
技术领域
本发明属于半导体制造装备技术领域,主要涉及基于一种无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧回转换台方法及装置。
背景技术
光刻机是极大规模集成电路制造中重要的超精密装备之一。作为光刻机关键子系统的工件台在很大程度上决定了光刻机的分辨率、套刻精度和产率。
产率是光刻机发展的主要追求目标之一。在满足分辨率和套刻精度的条件下,提高工件台运行效率进而提高提高光刻机产率是工件台技术的发展方向。提高工件台运行效率最直接的方式就是提高工件台的运动加速度和速度,但是为保证原有精度,速度和加速度不能无限制提高。最初的工件台只有一个硅片承载装置,光刻机一次只能处理一个硅片,全部工序串行处理,生产效率低。为此有人提出了双工件台技术,这也是目前提高光刻机生产效率的主流技术手段。双工件台技术在工件台上设有曝光、预处理两个工位和两个工件台,曝光和测量调整可并行处理,大大缩短了时间,提高了生产效率。目前的代表产品为荷兰ASML公司基于Twinscan技术即双工件台技术的光刻机。
提高双工件台的运行效率是目前光刻机工件台技术的发展目标之一。双工件台技术的牵扯到工件台在两个工位之间切换的问题,换台效率直接影响到光刻机工件台的运行效率即光刻机的产率。如何在尽可能缩短换台时间的条件下减小换台对其他系统的干扰一直是研究的重点。在传统双台切换过程中,工件台在曝光和预处理工序中一样为直线驱动,双台专利US2001/0004105A1和W098/40791中,每个工件台有两个可交换配合的单元来实现双台的交换,在不提高工件台运动速度的前提下提高了产率,但由于工件台与导轨之间采用耦合连接方式,在换台过程中工件台与驱动单元会出现短暂的分离,对工件台的定位精度产生较大影响。同时运动单元和导轨较长,运动质量较大,对于运动速度和加速度的提高都产生不利影响。中国专利CN101609265提出了一种平面电机驱动的硅片台多台交换系统,平面电机定子设置在基台顶部,动子设置在硅片台底部,相对于直线电机驱动不存在工件台和驱动单元的分离;中国专利CN101694560中提出了一种采用气浮支撑永磁平面电机驱动的双台交换系统,工件台采用平面电机驱动并通过气浮支撑,避免了前述换台过程中驱动单元与工件台分离问题,减小了工件台运行阻力,减小了平面电机驱动电流,减小了散热问题。
上述专利换台时采用直线换台方案,回转换台方案较直线换台方案有独特优势,因此出现了采用回转换台的双工件台技术。中国专利CN101071275采用回转整个基台的方式实现双工件台的换位,简化了系统结构,同时两个工件台运动无重叠区域,避免了碰撞安全隐患。但是通过回转整个基台实现工件台换位存在转动惯量大,大功率回转电机精密定位困难和发热量大引起系统温升等问题,同时回转半径大,使光刻机主机结构显著增大。中国专利CN102495528在基台中心采用一种回转转接台完成双工件台换台,换台分为三个节拍,提高了换台效率,但回转换台机构结构复杂,回转定位精度较低。
工件台内含有众多传感器,传统方案对传感器的能量供应为线缆传输能量或者采用蓄电池,采用线缆传输能量,由于线缆的拖拽作用,会对微动台的定位产生影响,降低微动台的定位精度;采用蓄电池供应能量,由于蓄电池有一定质量,势必增加微动台的质量,不利于分辨率和套刻精度的提高,也不是最近选择。
发明内容
针对上述现有技术的不足,本发明提出了一种基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧回转换台方法及装置,达到实现工件台单节拍快速弧线换台、减少换台环节、缩短换台时间、有效提高了光刻机产率的目的。
本发明的目的是这样实现的:
一种基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法,该方法包括以下步骤:初始工作状态,测量位第一工件台处于预对准状态,曝光位第二工件台处于曝光状态;第一步,测量位第一工件台预对准完毕后由动磁钢驱动运动到测量位换台预定位置A并充电和等待,曝光位第二工件台曝光完毕后由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C;第二步,第一工件台与第二工件台通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹逆时针运动,在运动过程中,两个工件台的相位不发生变化,运动位置由激光干涉仪进行测量,当第一工件台由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C、第二工件台由动磁钢驱动运动到测量位预定位置D时,换台结束,第一工件台在曝光位进行硅片光刻曝光,第二工件台在测量位进行硅片上片及硅片预对准操作;第三步,测量位第二工件台预对准完毕后由动磁钢驱动运动到测量位换台预定位置A'并充电和等待,曝光位第一工件台曝光完毕后由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C;第四步,第二工件台与第一工件台通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹顺时针运动,当第二工件台由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C、第一工件台由动磁钢驱动运动到测量位预定位置D时,换台结束,曝光位第二工件台进入曝光状态,测量位第一工件台进行上下片及预对准操作,此时系统回到初始工作状态,完成了包含两次换台操作的一个工作周期,在测量、曝光和换台过程中采用无线能量传输方式完成第一工件台和第二工件台的充电。
一种基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台装置,该装置包括支撑框架、平衡质量块、第一工件台、第二工件台,所述平衡质量块位于支撑框架上方,宏动平面电机定子安装在平衡质量块上的平面上,第一工件台和第二工件台配置在宏动平面电机定子上方,所述第一工件台和第二工件台运行于测量位和曝光位之间,计量框架通过气浮支撑位于支撑框架上方,6台激光干涉仪安装在计量框架上,第一无线能量发射装置、第二无线能量发射装置位于第一工件台、第二工件台上方,所述第一工件台和第二工件台为六自由度磁浮微动台,所述六自由度磁浮微动台由Chuck、吸盘、微动电机、防撞框、宏动平面电机动子、无线能量接收装置、调平调焦传感器组成,所述微动电机由微动平面电机动子与重力补偿器动子集成在一起构成,所述吸盘安装在Chuck上,Chuck四个角上安装有四个无线能量接收装置和四个调平调焦传感器,Chuck固定在微动电机上,在微动电机四周安装有防撞框,所述宏动平面电机动子安装在防撞框下方,宏动平面电机动子由磁钢阵列交错排布构成,宏动平面电机定子由线圈阵列成人字形排布构成。
本发明具有以下创新点和突出优点:
1)提出的圆弧矢量换台方案可有效缩短换台时间,提高了换台效率。采用矢量换台策略将双工件台现有的多节拍直线换台优化为单节拍快速换台,起停次数少、稳定环节少;同时采用弧线轨迹规划缩短了换台路径,回转冲击小、稳定时间短,这是本发明的创新点和突出优点之一;
2)提出的动磁钢磁浮平面电机,采用复合电流驱动实现高功效矢量控制,具有运动范围大、推力密度大、动态特性好、绕组利用率高、温度分布均匀、热变形小等特点,定位精度高,这是本发明的创新点和突出优点之二;
3)提出的微动台无线能量传输供电模式,可有效避免传统方案中的线缆台与微动台无法达到完全同步运动,引起的线缆对微动台的拖拽作用,进而提高微动台的定位精度;同时,采用无线能量传输供电,可以减轻微动台的质量,结构简单,对平衡质量块的冲击力减小,这是本发明的创新点和突出优点之三。
附图说明
图1是单节拍优化规划弧线快速换台流程示意图。
图2是基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台装置总体结构示意图。
图3是双工件台系统的俯视示意图。
图4是六自由度磁浮微动台结构示意图。
图5是微动平面电机动子与重力补偿器集成机构示意图。
图6是宏动平面电机动子磁刚阵列排布示意图。
图7是宏动平面电机定子线圈阵列排布示意图。
图中件号:1-支撑框架;2-平衡质量系统;3-宏动平面电机定子;4a-第一工件台;4b-第二工件台;5a-第一无线能量发射装置;5b-第二无线能量发射装置;6-激光干涉仪;9-气浮支撑;10-计量框架;11-测量位;12-曝光位;401-Chuck;402-吸盘;403-微动电机;404-防撞框;405-宏动平面电机动子;406-无线能量接收装置;407-调平调焦传感器;408-微动平面电机动子;409-重力补偿器动子;411-磁钢阵列;412-线圈阵列。
具体实施方式
下面结合附图对本发明实施方案作进一步详细说明:
一种基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法,该方法包括以下步骤:初始工作状态,测量位第一工件台处于预对准状态,曝光位第二工件台处于曝光状态;第一步,测量位第一工件台预对准完毕后由动磁钢驱动运动到测量位换台预定位置A并充电和等待,曝光位第二工件台曝光完毕后由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C;第二步,第一工件台与第二工件台通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹逆时针运动,在运动过程中,两个工件台的相位不发生变化,运动位置由激光干涉仪进行测量,当第一工件台由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C、第二工件台由动磁钢驱动运动到测量位预定位置D时,换台结束,第一工件台在曝光位进行硅片光刻曝光,第二工件台在测量位进行硅片上片及硅片预对准操作;第三步,测量位第二工件台预对准完毕后由动磁钢驱动运动到测量位换台预定位置A'并充电和等待,曝光位第一工件台曝光完毕后由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C;第四步,第二工件台与第一工件台通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹顺时针运动,当第二工件台由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C、第一工件台由动磁钢驱动运动到测量位预定位置D时,换台结束,曝光位第二工件台进入曝光状态,测量位第一工件台进行上下片及预对准操作,此时系统回到初始工作状态,完成了包含两次换台操作的一个工作周期,在测量、曝光和换台过程中采用无线能量传输方式完成第一工件台和第二工件台的充电。
一种基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台装置,该装置包括支撑框架1、平衡质量块2、第一工件台4a、第二工件台4b,所述平衡质量块2位于支撑框架1上方,宏动平面电机定子3安装在平衡质量块2上的平面上,第一工件台4a和第二工件台4b配置在宏动平面电机定子3上方,所述第一工件台4a和第二工件台4b运行于测量位11和曝光位12之间,计量框架10通过气浮支撑9位于支撑框架1上方,6台激光干涉仪6安装在计量框架上,第一无线能量发射装置5a、第二无线能量发射装置5b位于第一工件台4a、第二工件台4b上方,所述第一工件台4a和第二工件台4b为六自由度磁浮微动台,所述六自由度磁浮微动台由Chuck401、吸盘402、微动电机403、防撞框404、宏动平面电机动子405、无线能量接收装置406、调平调焦传感器407组成,所述微动电机403由微动平面电机动子408与重力补偿器动子409集成在一起构成,所述吸盘402安装在Chuck401上,Chuck401四个角上安装有四个无线能量接收装置406和四个调平调焦传感器407,Chuck401固定在微动电机403上,在微动电机403四周安装有防撞框404,所述宏动平面电机动子405安装在防撞框404下方,宏动平面电机动子405由磁钢阵列411交错排布构成,宏动平面电机定子3由线圈阵列412成人字形排布构成。
本发明工作流程如下:
第一工件台4a在测量位11预对准完毕后由平面电机动驱动运动到换台位置A,等待第二工件台4b在曝光位12完成曝光,第二工件台4b完成曝光后由平面电机驱动运动到换台位置B,然后第一工件台4a与第二工件台4b通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹逆时针运动完成换台操作;换台完成后,第一工件台4a向曝光位12运动在曝光位12进行曝光,第二工件台4b向测量位11运动在测量位11进行上片和预对准操作;率先完成硅片预对准完毕的第二工件台4b运动到测量位换台位置A',等待第一工件台4a完成曝光后运动到换台位置B',然后,第二工件台4b与第一工件台4a通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹顺时针运动,完成第二次换台;换台完成后,第一工件台4a向测量位11运动,第二工件台4b向曝光位12运动,这样完成了一次完整的工作周期。
Claims (2)
1.一种基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法,其特征在于该方法包括以下步骤:初始工作状态,测量位第一工件台处于预对准状态,曝光位第二工件台处于曝光状态;第一步,测量位第一工件台预对准完毕后由动磁钢驱动运动到测量位换台预定位置A并充电和等待,曝光位第二工件台曝光完毕后由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C;第二步,第一工件台与第二工件台通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹逆时针运动,在运动过程中,两个工件台的相位不发生变化,运动位置由激光干涉仪进行测量,当第一工件台由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C、第二工件台由动磁钢驱动运动到测量位预定位置D时,换台结束,第一工件台在曝光位进行硅片光刻曝光,第二工件台在测量位进行硅片上片及硅片预对准操作;第三步,测量位第二工件台预对准完毕后由动磁钢驱动运动到测量位换台预定位置A'并充电和等待,曝光位第一工件台曝光完毕后由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C;第四步,第二工件台与第一工件台通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹顺时针运动,当第二工件台由动磁钢驱动运动到曝光位预定位置C、第一工件台由动磁钢驱动运动到测量位预定位置D时,换台结束,曝光位第二工件台进入曝光状态,测量位第一工件台进行上下片及预对准操作,此时系统回到初始工作状态,完成了包含两次换台操作的一个工作周期,在测量、曝光和换台过程中采用无线能量传输方式完成第一工件台和第二工件台的充电。
2.一种基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台装置,该装置包括支撑框架(1)、平衡质量块(2)、第一工件台(4a)、第二工件台(4b),所述平衡质量块(2)位于支撑框架(1)上方,宏动平面电机定子(3)安装在平衡质量块(2)上的平面上,第一工件台(4a)和第二工件台(4b)配置在宏动平面电机定子(3)上方,所述第一工件台(4a)和第二工件台(4b)运行于测量位(11)和曝光位(12)之间,计量框架(10)通过气浮支撑(9)位于支撑框架(1)上方,6台激光干涉仪(6)安装在计量框架上,其特征在于第一无线能量发射装置(5a)、第二无线能量发射装置(5b)位于第一工件台(4a)、第二工件台(4b)上方,所述第一工件台(4a)和第二工件台(4b)为六自由度磁浮微动台,所述六自由度磁浮微动台由Chuck(401)、吸盘(402)、微动电机(403)、防撞框(404)、宏动平面电机动子(405)、无线能量接收装置(406)、调平调焦传感器(407)组成,所述微动电机(403)由微动平面电机动子(408)与重力补偿器动子(409)集成在一起构成,所述吸盘(402)安装在Chuck(401)上,Chuck(401)四个角上安装有四个无线能量接收装置(406)和四个调平调焦传感器(407),Chuck(401)固定在微动电机(403)上,在微动电机(403)四周安装有防撞框(404),所述宏动平面电机动子(405)安装在防撞框(404)下方,宏动平面电机动子(405)由磁钢阵列(411)交错排布构成,宏动平面电机定子(3)由线圈阵列(412)成人字形排布构成。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610023022.9A CN105511234A (zh) | 2016-01-14 | 2016-01-14 | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
PCT/CN2016/097501 WO2017121126A1 (zh) | 2016-01-14 | 2016-08-31 | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
US16/069,198 US10331044B2 (en) | 2016-01-14 | 2016-08-31 | Dynamic-magnetic steel magnet levitation double-workpiece-stage vector arc switching method and apparatus based on wireless energy transmission |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610023022.9A CN105511234A (zh) | 2016-01-14 | 2016-01-14 | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105511234A true CN105511234A (zh) | 2016-04-20 |
Family
ID=55719313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610023022.9A Pending CN105511234A (zh) | 2016-01-14 | 2016-01-14 | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10331044B2 (zh) |
CN (1) | CN105511234A (zh) |
WO (1) | WO2017121126A1 (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017121126A1 (zh) * | 2016-01-14 | 2017-07-20 | 哈尔滨工业大学 | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
CN109254502A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-01-22 | 哈尔滨工业大学 | 基于气磁悬浮和动磁钢的扫描曝光装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110595690B (zh) * | 2019-01-07 | 2020-11-13 | 哈尔滨工业大学 | 基于形心质心重心惯性中心矢量极小化的大型高速回转装备测量与智能学习装配方法和装置 |
CN113029235B (zh) * | 2021-02-25 | 2021-09-10 | 哈尔滨工业大学 | 小行程纳米级运动台及热相关滞回数据测量方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2938172Y (zh) * | 2006-07-18 | 2007-08-22 | 上海微电子装备有限公司 | 双台轮换曝光精密定位系统 |
WO2009083889A1 (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Contactless lifting of an object by an inverted planar motor |
CN102495528A (zh) * | 2011-11-12 | 2012-06-13 | 哈尔滨工业大学 | 基于随动防转机构双工件台同相位回转交换方法与装置 |
CN103309176A (zh) * | 2013-06-17 | 2013-09-18 | 清华大学 | 一种带升降真空爪的六自由度微动台 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118773A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-04-27 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
US6785005B2 (en) * | 2001-09-21 | 2004-08-31 | Nikon Corporation | Switching type dual wafer stage |
US6665054B2 (en) * | 2001-10-22 | 2003-12-16 | Nikon Corporation | Two stage method |
KR20070099609A (ko) * | 2005-01-17 | 2007-10-09 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 이동 디바이스 |
TWI454859B (zh) * | 2006-03-30 | 2014-10-01 | 尼康股份有限公司 | 移動體裝置、曝光裝置與曝光方法以及元件製造方法 |
CN102393611B (zh) * | 2011-11-12 | 2013-10-16 | 哈尔滨工业大学 | 光刻机工件台磁预紧平衡定位系统 |
CN102393613B (zh) * | 2011-11-12 | 2014-02-05 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于同步齿轮调向的双工件台回转交换装置 |
CN103592820B (zh) * | 2012-08-13 | 2016-09-28 | 上海微电子装备有限公司 | 一种全局调平边沿扫描的装置和方法 |
CN103543613B (zh) * | 2013-09-25 | 2015-12-23 | 清华大学 | 一种动铁式无线缆的六自由度磁浮运动平台 |
CN105511234A (zh) * | 2016-01-14 | 2016-04-20 | 哈尔滨工业大学 | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
-
2016
- 2016-01-14 CN CN201610023022.9A patent/CN105511234A/zh active Pending
- 2016-08-31 WO PCT/CN2016/097501 patent/WO2017121126A1/zh active Application Filing
- 2016-08-31 US US16/069,198 patent/US10331044B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2938172Y (zh) * | 2006-07-18 | 2007-08-22 | 上海微电子装备有限公司 | 双台轮换曝光精密定位系统 |
WO2009083889A1 (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Contactless lifting of an object by an inverted planar motor |
CN102495528A (zh) * | 2011-11-12 | 2012-06-13 | 哈尔滨工业大学 | 基于随动防转机构双工件台同相位回转交换方法与装置 |
CN103309176A (zh) * | 2013-06-17 | 2013-09-18 | 清华大学 | 一种带升降真空爪的六自由度微动台 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
张磊: "《哈尔滨工业大学硕士学位论文》", 17 August 2015 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017121126A1 (zh) * | 2016-01-14 | 2017-07-20 | 哈尔滨工业大学 | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
CN109254502A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-01-22 | 哈尔滨工业大学 | 基于气磁悬浮和动磁钢的扫描曝光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190033731A1 (en) | 2019-01-31 |
US10331044B2 (en) | 2019-06-25 |
WO2017121126A1 (zh) | 2017-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105487343A (zh) | 基于平面光栅测量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105629676A (zh) | 基于回转平衡质量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105629673A (zh) | 基于干涉仪测量的气磁结合气浮双工件台矢量圆弧回转换台方法及装置 | |
CN105511234A (zh) | 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN102495528B (zh) | 基于随动防转机构双工件台同相位回转交换方法与装置 | |
CN103454864B (zh) | 一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统 | |
CN101609265B (zh) | 采用磁悬浮平面电机的硅片台多台交换系统 | |
CN105629674A (zh) | 基于双层水冷的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105509644B (zh) | 基于两个平面光栅的气浮台三自由度位移测量系统 | |
CN103926805A (zh) | 一种平面电动机驱动的粗微动一体掩模台 | |
CN103105743B (zh) | 带平面衍射光栅测量的具有六自由度粗动台的掩膜台系统 | |
CN111948906A (zh) | 一种光刻机双工件台及其驱动方法 | |
CN102419517B (zh) | 一种基于双导轨双驱步进扫描的双工件台交换装置与方法 | |
CN103116250B (zh) | 带激光干涉仪测量的具有六自由度粗动台的掩膜台系统 | |
CN105629675A (zh) | 基于六边形磁钢布局的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105549330A (zh) | 基于主动平衡质量动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105425550A (zh) | 基于交错磁钢排布的动线圈气磁结合气浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105487345A (zh) | 基于电制冷片的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105527799A (zh) | 基于平面光栅测量的动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105425548A (zh) | 基于人字形线圈排布的动线圈磁浮无线微动台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105487342A (zh) | 基于无线通信的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105549329A (zh) | 基于电制冷片动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105425549A (zh) | 基于干涉仪测量的动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105487348B (zh) | 基于主动平衡质量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 | |
CN105425552A (zh) | 基于平面光栅测量动磁钢气磁结合气浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20160420 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |