JP5519772B2 - セリウム系粒子組成物およびその調製 - Google Patents

セリウム系粒子組成物およびその調製 Download PDF

Info

Publication number
JP5519772B2
JP5519772B2 JP2012505022A JP2012505022A JP5519772B2 JP 5519772 B2 JP5519772 B2 JP 5519772B2 JP 2012505022 A JP2012505022 A JP 2012505022A JP 2012505022 A JP2012505022 A JP 2012505022A JP 5519772 B2 JP5519772 B2 JP 5519772B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cerium
oxide
particle composition
polishing
metal elements
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012505022A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012524129A (ja
Inventor
アイミン フアン
チュオフア チョウ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Solvay China Co Ltd
Original Assignee
Solvay China Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Solvay China Co Ltd filed Critical Solvay China Co Ltd
Publication of JP2012524129A publication Critical patent/JP2012524129A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5519772B2 publication Critical patent/JP5519772B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/24—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B13/00—Machines or devices designed for grinding or polishing optical surfaces on lenses or surfaces of similar shape on other work; Accessories therefor
    • B24B13/015—Machines or devices designed for grinding or polishing optical surfaces on lenses or surfaces of similar shape on other work; Accessories therefor of television picture tube viewing panels, headlight reflectors or the like
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F17/00—Compounds of rare earth metals
    • C01F17/30—Compounds containing rare earth metals and at least one element other than a rare earth metal, oxygen or hydrogen, e.g. La4S3Br6
    • C01F17/32—Compounds containing rare earth metals and at least one element other than a rare earth metal, oxygen or hydrogen, e.g. La4S3Br6 oxide or hydroxide being the only anion, e.g. NaCeO2 or MgxCayEuO
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/50—Solid solutions
    • C01P2002/52—Solid solutions containing elements as dopants
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Description

本発明はセリウム系粒子組成物に関する。特に、本発明は、液晶ディスプレイおよびハード記録媒体用ガラスを艶出研磨するための研磨材に関する。
セリウム系研磨材は、光学ガラスの従来の艶出研磨においてだけでなく、液晶ディスプレイおよびハード記録媒体用ガラスを艶出研磨するためにも使用される。この種の研磨材は、高い艶出研磨速度を有しかつ優れた品質を具えた研磨された表面を製造することが求められる。
一般に、セリウム系艶出研磨用粉末は以下の方法によって製造される：希土類元素（セリウムおよび任意にランタン、および任意にさらなる希土類元素を含む）の炭酸塩がスラリー化され、湿式粉砕され、ＨＦなどの鉱酸で処理される。得られるスラリーは濾過され、乾燥され、そして焙焼され、次いで所望の粒径を得るためにその後の粉状化および分級が行われる。このプロセスは、研磨材の組成を調整できないという短所を有し、それゆえ艶出研磨速度および研磨された表面の品質は大きくは改善され得ない。
特許文献１は、総希土類元素酸化物（ＴＲＥＯ）に対する酸化セリウム含量が９０質量％以上であるセリウム艶出研磨材を開示する。このセリウム艶出研磨材は、Ｔｉおよび８０以下の原子番号を有する第５〜１２族元素からなる群から選択される少なくとも１つの特定の元素が艶出研磨速度の総質量に対して０．００１〜２．０質量％の量で含有されるということを特徴とする。
特許文献２は、研磨材として使用することができるセリウムの酸化物から主に構成される酸化物固溶体粉末を記載する。カルシウムの酸化物が主に酸化セリウムから構成される希土類元素酸化物の中に固溶体として溶解している酸化物固溶体粉末を使用することによって、ガラス基材などのガラス材料が艶出研磨されるとき、この酸化物固溶体粉末は、研磨された表面の高度な正確さを有する研磨された表面を提供することができ、そして研磨材に適している。
特許文献３は、Ｆを含まず、かつ高研磨速度でおよび良好な研磨精度で働くセリウム系研磨材を開示する。得られた研磨材は、０．５重量％以下のＦ含量、ならびに０．３〜５重量％（元素に関する）のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の含量またはアルカリ金属およびアルカリ土類金属の総含量を有する。
要求される高艶出研磨速度および優れた表面品質を満たすために、Ｔｉ、Ｚｒ、およびＣａなどのいくつかの遷移金属元素およびアルカリ土類金属元素が研磨材で使用された。しかしながら、高艶出研磨速度を得るために、９０％を超えるセリウム含量を有することが要求された。いくつかの場合には、固溶体を得るために、そして高艶出研磨速度および研磨された表面の高い品質の両方を同時に得るために、上記元素のうちの２以上が必要とされた。
国際公開第２００７／０５２５５５（Ａ１）号パンフレット 欧州特許出願公開第１７０７５３４（Ａ１）号明細書 特開２００７−９２１４号公報
より高い艶出研磨速度および優れた研磨された表面の要求を満足するために、本発明は、液晶ディスプレイおよびハード記録媒体用ガラスを艶出研磨するのに適した研磨材を提供する。
本発明は、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｍｎなどを含む一連のセリウム系艶出研磨用研磨材を開発する。この研磨材は、反応時間、ｐＨ、温度などの制御された沈殿条件下で製造され、次いで焼成、湿式粉砕、ふるい分けなど従来の仕上げ工程にかけられる。得られた最終の研磨材は、高艶出研磨速度および優れた研磨された表面品質の両方を有する。
本発明の上記の目的および他の目的は、添付の図面と併用して読まれると、以下の説明からより明確に理解されるであろう。
本発明の比較の実施形態のうちの１つにおける組成物からの得られた生成物粒子のＳＥＭ写真である。 本発明の好ましい実施形態における種々の組成物からの得られた生成物の粒子のＳＥＭ写真である。 本発明の好ましい実施形態における種々の組成物からの得られた生成物の粒子のＳＥＭ写真である。 本発明の好ましい実施形態における種々の組成物からの得られた生成物の粒子のＳＥＭ写真である。 本発明の好ましい実施形態における種々の組成物からの得られた生成物の粒子のＳＥＭ写真である。 本発明の好ましい実施形態における種々の組成物からの得られた生成物の粒子のＳＥＭ写真である。 本発明の好ましい実施形態における種々の組成物からの得られた生成物の粒子のＳＥＭ写真である。
驚くべきことに、当該研磨材の研磨品質は、セリウム系研磨材組成物に特定量の酸化ランタンを加えると、組成物中の酸化セリウムの含量が低いときでさえも非常に改善されるということが見出される。どの既存の理論にも結びつけられないが、当該酸化セリウムおよび酸化ランタンの組み合わせが艶出研磨速度および研磨された表面品質の向上を支援することになるということが理解される。
第１の態様では、本発明は、５０〜９０重量％の酸化セリウム、および少なくとも１０重量％の酸化ランタンを含むセリウム系粒子組成物を提供する。好ましくは、この組成物は、少なくとも１５重量％の酸化ランタンを含む。一般に、しかし本発明を限定するつもりはないが、本発明の組成物は３０重量％以下の酸化ランタンを含む。
本発明の好ましい実施形態のうちの１つでは、当該組成物は、１以上の遷移金属元素および／またはアルカリ土類金属元素に基づく添加剤をさらに含む。この添加剤は、生成物の形態学および結晶構造を変化させるために使用される。具体的に言うと、この添加剤は、粒子を、サイズがより均一に、そして規則的な球形に近づけるように機能し、これは、艶出研磨のためにはよいことである。
好ましくは、当該組成物は、６０〜８５重量％の酸化セリウムを含む。添加剤の重量は、当該組成物の総重量の０．２〜５％である。
当該添加剤は、Ｆｅ系添加剤、Ｚｒ系添加剤、Ｍｎ系添加剤、およびＡｌ系添加剤の群から選択される。
当該組成物中の添加剤は、上記粒子の中に固溶体として分散または溶解されている酸化物の形態にある。一般に、当該粒子組成物の粒径は０．５〜１．５μｍである。
これまでで、または本願明細書のこれ以降の箇所で特に記載されない限り、「セリウム系」、「Ｆｅ系」、または「Ａｌ系」という用語は、それぞれセリウム、ＦｅまたはＡｌという元素が、そのバルクの特性のほとんどに寄与するということを意味する。一般に、それぞれ、セリウム、Ｆｅ、またはＡｌの含有量が主要な構成要素であり、つまり、その濃度はおそらくは５０％よりも高い。「酸化セリウム」または「酸化ランタン」という用語は、それぞれセリウムまたはランタンの異なる価数状態を有する元素セリウムまたはランタンの様々な酸化物を包含し、これらは少量の他の元素を含んでいてもよい。しかしながら、好ましくは、これら酸化物は、酸化セリウムまたは酸化ランタンの純粋な化合物に向けられる。
第２の態様では、本発明は、当該セリウム系研磨材組成物を調製するための方法を提供する。この方法は、望ましい量の塩化物または硝酸塩などの水溶性のＦｅ、Ｚｒ、またはＭｎ塩を、炭酸ナトリウムなどの炭酸塩および／または水酸化物とともに沈殿するＣｅＬａＣｌ３溶液と混合して、Ｆｅ、Ｚｒ、またはＭｎがドーピングされた希土類元素炭酸塩を得ること；次いでこの炭酸塩を適切な加熱プロファイルを使用して焼成し、Ｆｅ、Ｚｒ、またはＭｎがドーピングされた希土類元素酸化物を得ることを含み、破砕し、粉砕しそしてふるい分けした後に、この生成物は、０．５〜１．５μｍの中間粒径およびアルミノホウケイ酸ガラスに対する高艶出研磨速度を有する。
第３の態様では、本発明は、当該粒子組成物を含む研磨材、およびその応用を提供する。液晶ディスプレイおよびハード記録媒体用ガラスを艶出研磨するための研磨材、特にガラス基材の工業的な艶出研磨の使用における研磨材を得るために、本発明の研磨材組成物は、任意に添加剤の存在下で水と混合することができる。
以下の実施例は、説明のために提供されるが、請求項に係る発明を限定するものではない。
実施例１（比較例）
鉄を添加することはなく同じセリウムおよびランタン含有量を有する生成物を調製した。塩化セリウム水溶液５２０ｍｌ、および塩化ランタン水溶液２８０ｍｌを混合し、混合物液体約８００ｍｌを得た。混合した液体中のそれぞれの希土類元素の酸化物質量に関する割当量は、６５：３５（＝ＣｅＯ２：Ｌａ２Ｏ３）であった。１．２倍当量の炭酸ナトリウム水溶液８００ｍｌ（０．１４８ｇ／ｍｌ）を調製した。次いで、３００ｍｌの純水をこの反応器に加えた。撹拌しながら、これまでに得た混合物および炭酸ナトリウム水溶液を、別々に１３．３３ｍＬ／分で反応器へと供給し、その間、撹拌速度を１５０ｒｐｍに保ち、炭酸塩を含有する共沈粒子を得た。次に、この共沈した粒子を含有する懸濁液を室温で１．５時間熟成した。熟成後の懸濁液を濾過して、共沈した粒子のケーキを得て、これを、２Ｌの純水で２回リンスした。次に、得たケーキを焼成用加熱炉の中で焼成し、５時間かけて５０℃から７５０℃まで加熱し、７５０℃で１．５時間保った）。その後、希土類元素系酸化物を得た。得た研磨材の平均粒径は４．０μｍであった。破砕および粉砕後、平均粒径は０．９〜１．０μｍに減少した。図１に示すように、得られた生成物の一次粒子は、サイズおよび形状が均一ではなく、これは、艶出研磨されたガラスの表面上の擦り傷につながる。
得られた生成物を、艶出研磨速度評価のために、１５０ｇ／ｃｍ２の作動圧力および９０ｒｍｐの回転速度でＬａｂｍａｓｔｅｒ−１５艶出研磨機（製造はＢａｉｋｏｗｓｋｉであり、モデルはＬａｂｍａｓｔｅｒ−１５である）で試験した。使用したガラスは、ＬＣＤで一般に使用されるアルミノホウケイ酸塩であった。得られた生成物は、０．７５μｍ／分の除去速度を有する。
実施例２ − Ｆｅ系添加剤を含む粒子
塩化セリウム水溶液５２０ｍｌ、塩化ランタン水溶液２８０ｍｌを混合し、そして塩化鉄六水和物３．３８ｇをさらに加えて、混合物液体約８００ｍｌを得た。混合した液体の中に含有されるそれぞれの希土類元素および鉄の酸化物質量に関する割当量は、６５：３５：１（＝ＣｅＯ２：Ｌａ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３）であった。１．２倍当量の炭酸ナトリウム水溶液８００ｍｌ（０．１４８ｇ／ｍｌ）を調製した。次いで、３００ｍｌの純水をこの反応器に加えた。撹拌しながら、これまでに得た混合物および炭酸ナトリウム水溶液を、別々に１３．３３ｍＬ／分で反応器へと供給し、その間、撹拌速度を１５０ｒｐｍに保ち、炭酸塩を含有する共沈粒子を得た。次に、この共沈した粒子を含有する懸濁液を室温で１．５時間熟成した。熟成後の懸濁液を濾過して、共沈した粒子のケーキを得て、これを、２Ｌの純水で２回リンスした。次に、得たケーキを焼成用加熱炉の中で焼成し、５時間かけて５０℃から７５０℃まで加熱し、７５０℃で１．５時間保った）。その後、鉄を含有する希土類元素系酸化物を得た。得た研磨材の平均粒径は２．０μｍであった。図２に示すように、得られた生成物の一次粒子は、サイズおよび形状がより均一であり、含まれる添加剤がない一次粒子よりも小さく、これは、比較例（実施例１）と比較して、艶出研磨されたガラスのより良好な品質につながる可能性がある。同じことを、実施例３〜７で行った。破砕および粉砕後、平均粒径は０．９〜１．０μｍに減少した。
得られた生成物を、艶出研磨速度評価のために、１５０ｇ／ｃｍ２の作動圧力および９０ｒｍｐの回転速度でＬａｂｍａｓｔｅｒ−１５艶出研磨機（製造はＢａｉｋｏｗｓｋｉであり、モデルはＬａｂｍａｓｔｅｒ−１５である）で試験した。使用したガラスは、ＬＣＤで一般に使用されるアルミノホウケイ酸塩であった。生成物は、１．０９μｍ／分の除去速度を有する。
実施例３ − Ｚｒ系添加剤を含む粒子
オキシ塩化ジルコニウム八水和物１３．１ｇを加えることによる以外は、実施例２と同じプロセスを使用して、ジルコニウムを含む以外は同じセリウムおよびランタン含有量を有する生成物を調製した。生成物を、実施例２に列挙したのと同じ条件下で試験した。この生成物は、１．０９μｍ／分の除去速度を有する。実施例３から得た粒子のＳＥＭ写真については、図３を参照されたい。
実施例４ − Ｍｎ系添加剤を含む粒子
塩化マンガン四水和物５．５８ｇを加えることによる以外は、実施例２と同じプロセスを使用して、マンガンを含む以外は同じセリウムおよびランタン含有量を有する生成物を調製した。生成物を、実施例２に列挙したのと同じ条件下で試験した。この生成物は、０．９６μｍ／分の除去速度を有する。実施例４から得た粒子のＳＥＭ写真については、図４を参照されたい。
実施例５ − Ａｌ系添加剤を含む粒子
焼成前にアルミニウム２ｇを加えることによる以外は、実施例２と同じプロセスを使用して、アルミニウムを含む以外は同じセリウムおよびランタン含有量を有する生成物を調製した。生成物を、実施例２に列挙したのと同じ条件下で試験した。この生成物は、０．４μｍ／分の除去速度を有する。実施例５から得た粒子のＳＥＭ写真については、図５を参照されたい。
塩化鉄六水和物０．６７６ｇを加えることによる以外は、実施例２と同じプロセスを使用して調製した、異なる量の鉄を含む以外は同じセリウムおよびランタン含有量を有する生成物など異なる量の添加剤に関するデータを提示することも、考えられるかもしれない。この生成物は、０．９１μｍ／分の除去速度を有する。
実施例６ − 低い割合のＬａを有するＦｅ系添加剤を含む粒子
塩化セリウム水溶液７２０ｍｌ、および塩化ランタン水溶液８０ｍｌを混合し、そして塩化鉄六水和物３．３８ｇをさらに加えて、混合物液体約８００ｍｌを得た。混合した液体の中に含有されるそれぞれの希土類元素および鉄の酸化物質量に関する割当量は、９０：１０：１（＝ＣｅＯ２：Ｌａ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３）であった。実施例２と同じプロセスを使用して粉末を調製し、得られた生成物を、実施例２に記載したのと同じ条件下で試験した。この粉末は、０．５６μｍ／分の除去速度を有する。実施例６から得た粒子のＳＥＭ写真については、図６を参照されたい。
実施例７ − 高い割合のＬａを有するＦｅ系添加剤を含む粒子
塩化セリウム水溶液４００ｍｌ、塩化ランタン水溶液４００ｍｌを混合し、そして塩化鉄六水和物３．３８ｇをさらに加えて、混合物液体約８００ｍｌを得た。混合した液体の中に含有されるそれぞれの希土類元素および鉄の酸化物質量に関する割当量は、５０：５０：１（＝ＣｅＯ２：Ｌａ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３）であった。実施例２と同じプロセスを使用して粉末を調製し、得られた生成物を、実施例２に記載したのと同じ条件下で試験した。この粉末は、０．５６μｍ／分の除去速度を有する。実施例７から得た粒子のＳＥＭ写真については、図７を参照されたい。
Figure 0005519772

Claims (7)

  1. セリウム系粒子組成物であって、前記組成物は、５０〜９０重量％の酸化セリウム、少なくとも１０重量％の酸化ランタン、並びに、Ｆｅ系添加剤、Ｚｒ系添加剤、Ｍｎ系添加剤、およびＡｌ系添加剤の群から選択される０．２〜５重量％の前記添加剤を含み、
    前記添加剤は、前記粒子の中に固溶体として分散または溶解されている酸化物の形態にある、セリウム系粒子組成物。
  2. 前記組成物は、少なくとも１５重量％の酸化ランタンを含む、請求項１に記載の粒子組成物。
  3. 前記粒子組成物の粒径は０．５〜１．５μｍである、請求項１または請求項２に記載の粒子組成物。
  4. 前記組成物は、６０〜８５重量％の酸化セリウムを含む、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の粒子組成物。
  5. 請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の粒子組成物を調製するための方法であって、
    遷移金属元素および／またはアルカリ金属元素の１以上の水溶性の塩を、ＣｅＬａＣｌ３溶液と混合することと；
    混合された前記溶液を、炭酸塩および／または水酸化物と沈殿させて、前記１以上の遷移金属元素および／またはアルカリ金属元素によってドーピングされた希土類元素炭酸塩を得ることと；
    前記炭酸塩を焼成し、前記１以上の遷移金属元素および／またはアルカリ金属元素によってドーピングされた希土類元素金属酸化物を得ることと；
    前記希土類元素金属酸化物を破砕して、前記粒子組成物を得ることと、
    を含むことを特徴とする方法。
  6. 請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の粒子組成物を含むことを特徴とするセリウム系研磨材。
  7. 請求項６に記載のセリウム系研磨材を使用することを特徴とする、ガラス基材を艶出研磨する方法。
JP2012505022A 2009-04-15 2009-04-15 セリウム系粒子組成物およびその調製 Active JP5519772B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/CN2009/000401 WO2010118553A1 (en) 2009-04-15 2009-04-15 A cerium-based particle composition and the preparation thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012524129A JP2012524129A (ja) 2012-10-11
JP5519772B2 true JP5519772B2 (ja) 2014-06-11

Family

ID=42982101

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012505022A Active JP5519772B2 (ja) 2009-04-15 2009-04-15 セリウム系粒子組成物およびその調製

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8727833B2 (ja)
EP (1) EP2419486A4 (ja)
JP (1) JP5519772B2 (ja)
KR (1) KR101376057B1 (ja)
CN (1) CN102395643B (ja)
CA (1) CA2758315C (ja)
WO (1) WO2010118553A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104148116B (zh) * 2014-08-12 2016-05-18 淄博加华新材料资源有限公司 低成本大比表面积氧化铈的制备方法
CN109096922A (zh) * 2018-08-24 2018-12-28 甘肃稀土新材料股份有限公司 一种含钇的稀土抛光液及其制备方法
CN108821324B (zh) * 2018-09-17 2020-05-19 珠海琴晟新材料有限公司 一种纳米氧化铈及其制备方法和应用
WO2024014425A1 (ja) * 2022-07-12 2024-01-18 株式会社レゾナック セリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3097083A (en) * 1959-07-02 1963-07-09 American Potash & Chem Corp Polishing composition and process of forming same
GB1501570A (en) * 1975-11-11 1978-02-15 Showa Denko Kk Abrader for mirror polishing of glass and method for mirror polishing
FR2472601A1 (fr) 1979-12-27 1981-07-03 Rhone Poulenc Ind Procede de fabrication de compositions de polissage a base de cerium
FR2549846B1 (fr) * 1983-07-29 1986-12-26 Rhone Poulenc Spec Chim Nouvelle composition de polissage a base de cerium et son procede de fabrication
CN85106015A (zh) * 1985-07-23 1987-01-21 上海跃龙化工厂 镧铈混合稀土
JPH08505175A (ja) * 1992-12-23 1996-06-04 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチュアリング・カンパニー 酸化マンガンを含有する砥粒
JPH09183966A (ja) 1995-12-29 1997-07-15 Seimi Chem Co Ltd セリウム研摩材の製造方法
KR19980019046A (ko) * 1996-08-29 1998-06-05 고사이 아키오 연마용 조성물 및 이의 용도(Abrasive composition and use of the same)
US6602439B1 (en) * 1997-02-24 2003-08-05 Superior Micropowders, Llc Chemical-mechanical planarization slurries and powders and methods for using same
US6607570B1 (en) * 2000-02-02 2003-08-19 3M Innovative Properties Company Fused Al2O3-rare earth oxide eutectic abrasive particles, abrasive articles, and methods of making and using the same
US6454821B1 (en) * 2000-06-21 2002-09-24 Praxair S. T. Technology, Inc. Polishing composition and method
US6666750B1 (en) * 2000-07-19 2003-12-23 3M Innovative Properties Company Fused AL2O3-rare earth oxide-ZrO2 eutectic abrasive particles, abrasive articles, and methods of making and using the same
US6986798B2 (en) * 2000-11-30 2006-01-17 Showa Denko K.K. Cerium-based abrasive, production process thereof
US7887714B2 (en) * 2000-12-25 2011-02-15 Nissan Chemical Industries, Ltd. Cerium oxide sol and abrasive
DE60233180D1 (de) * 2001-02-20 2009-09-17 Nat Inst For Materials Science Verfahren zur Herstellung von Rutheniumperovskit
DE50114065D1 (de) 2001-03-24 2008-08-14 Evonik Degussa Gmbh Mit einer Hülle umgebene, dotierte Oxidpartikeln
US6749653B2 (en) * 2002-02-21 2004-06-15 3M Innovative Properties Company Abrasive particles containing sintered, polycrystalline zirconia
JP4236857B2 (ja) 2002-03-22 2009-03-11 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材およびその製造方法
JP3463999B1 (ja) * 2002-05-16 2003-11-05 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材の製造方法
US7010939B2 (en) * 2002-06-05 2006-03-14 Hoya Corporation Glass substrate for data recording medium and manufacturing method thereof
US6942554B1 (en) * 2002-07-22 2005-09-13 Optimax Systems, Inc. Apparatus and process for polishing a substrate
CN1206026C (zh) 2002-10-15 2005-06-15 清华大学 一种以铈为基的四元纳米级稀土复合氧化物及其制备方法
CN1206027C (zh) 2002-10-15 2005-06-15 清华大学 一种以铈为基的三元纳米级稀土复合氧化物及其制备方法
JP4795614B2 (ja) * 2002-10-23 2011-10-19 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法
US7229600B2 (en) * 2003-01-31 2007-06-12 Nanoproducts Corporation Nanoparticles of rare earth oxides
TWI313707B (en) * 2003-04-17 2009-08-21 Mitsui Mining & Smelting Co Cerium-based abrasive
US7300478B2 (en) * 2003-05-22 2007-11-27 Ferro Corporation Slurry composition and method of use
KR100706096B1 (ko) 2003-06-30 2007-04-13 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 세륨계 연마재 및 그 원료
CN100410176C (zh) 2004-01-21 2008-08-13 三井金属鉱业株式会社 氧化物固溶体粉末
AT502308B1 (de) 2005-07-20 2010-03-15 Treibacher Ind Ag Glasschleifmittel auf ceroxidbasis und verfahren zu dessen herstellung
JP4756996B2 (ja) 2005-11-02 2011-08-24 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材
KR101055454B1 (ko) 2006-03-13 2011-08-08 쇼와 덴코 가부시키가이샤 희토류 불화물을 함유하는 조성물로부터 희토류 원소를 회수하는 방법
JP4585991B2 (ja) 2006-07-04 2010-11-24 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材
US20100022171A1 (en) * 2006-10-16 2010-01-28 Nevin Naguib Glass polishing compositions and methods
JP5248096B2 (ja) 2006-12-28 2013-07-31 花王株式会社 研磨液組成物
DE102007020067B4 (de) * 2007-04-27 2013-07-18 Osram Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Molybdänfolie für den Lampenbau und Molybdänfolie sowie Lampe mit Molybdänfolie
CN101481130B (zh) 2009-02-20 2010-10-27 包头市金蒙稀土有限责任公司 一种低铁高比表面积氧化镧铈的制备方法
US9368367B2 (en) * 2009-04-13 2016-06-14 Sinmat, Inc. Chemical mechanical polishing of silicon carbide comprising surfaces

Also Published As

Publication number Publication date
US8727833B2 (en) 2014-05-20
EP2419486A4 (en) 2013-07-10
EP2419486A1 (en) 2012-02-22
CN102395643B (zh) 2013-12-18
JP2012524129A (ja) 2012-10-11
CA2758315A1 (en) 2010-10-21
CA2758315C (en) 2014-06-03
US20120045972A1 (en) 2012-02-23
CN102395643A (zh) 2012-03-28
WO2010118553A1 (en) 2010-10-21
KR101376057B1 (ko) 2014-03-19
KR20120012972A (ko) 2012-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7071495B2 (ja) 材料除去操作を行うための組成物及びその形成方法
JP5278631B1 (ja) ガラス研磨用複合粒子
TW200535098A (en) Oxide solid solution powder
JP6191608B2 (ja) 研磨材粒子の製造方法
JP2012011526A (ja) 研磨材およびその製造方法
JP2009067627A (ja) 酸化セリウム及びその製造方法
JP5519772B2 (ja) セリウム系粒子組成物およびその調製
JP2013111725A (ja) 研磨材およびその製造方法
TWI668189B (zh) Composite particle for polishing, method for producing composite particle for polishing, and slurry for polishing
JP2012011525A (ja) 研磨材およびその製造方法
JP2005529053A (ja) 高精度研磨用金属酸化物粉体及びその製造方法
JP2004219391A (ja) 研磨材粒子の品質評価方法、研磨方法及びガラス研磨用研磨材
JP6102922B2 (ja) 研磨材粒子及びその製造方法
CN110724460A (zh) 一种铈铝复合氧化物抛光粉的制备方法
KR100753994B1 (ko) 유리 연마용 세륨계 연마재 조성물의 제조방법 및 이를연마에 사용하는 방법
TWI705947B (zh) 帶負電性基板之硏磨方法、及高表面平滑性之帶負電性基板之製造方法
JP2008001907A (ja) セリウム系研摩材スラリー及びセリウム系研摩材スラリーの製造方法
JP4099615B2 (ja) 研磨用組成物
TWI523943B (zh) A method for producing abrasive material, abrasive material and grinding method
JP6458554B2 (ja) 複合金属酸化物研磨材料の製造方法及び複合金属酸化物研磨材料
JP2015140402A (ja) 遊離砥粒、遊離砥粒研磨用研磨剤及びその製造方法
JP5627108B2 (ja) 研磨剤
JP2014084420A (ja) 遊離砥粒研磨用酸化マンガン研磨剤及びその製造方法
JP2007126525A (ja) セリウム系研摩材
TW201522595A (zh) 硏磨料及硏磨料漿

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130315

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130326

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130626

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140325

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140403

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5519772

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250