JP5510901B2 - ガラスフィルムの製造方法及びガラスフィルムの処理方法並びにガラスフィルム積層体 - Google Patents
ガラスフィルムの製造方法及びガラスフィルムの処理方法並びにガラスフィルム積層体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5510901B2 JP5510901B2 JP2010205158A JP2010205158A JP5510901B2 JP 5510901 B2 JP5510901 B2 JP 5510901B2 JP 2010205158 A JP2010205158 A JP 2010205158A JP 2010205158 A JP2010205158 A JP 2010205158A JP 5510901 B2 JP5510901 B2 JP 5510901B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- film
- glass film
- supporting
- inorganic thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 369
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title 1
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 230
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 77
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 29
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 7
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017493 Nd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 Ta 2 O 5 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/10—Removing layers, or parts of layers, mechanically or chemically
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/06—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the heating method
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/06—Interconnection of layers permitting easy separation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/77—Coatings having a rough surface
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/266—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension of base or substrate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
縦250mm、横250mm、厚み700μmの矩形状の透明なガラス板を支持ガラスとして使用した。支持ガラスの上に積層するガラスフィルムとして、縦230mm、横230mm、厚み100μmのガラスフィルムを使用した。支持ガラスとガラスフィルムは、日本電気硝子株式会社製の無アルカリガラス(製品名:OA−10G、30〜380℃における熱膨張係数:38×10−7/℃)を使用した。オーバーフローダウンドロー法によって成形されたガラスを、未研磨の状態でそのまま使用するか、研磨及びケミカルエッチングの量を適宜制御することによって、Raの制御を行った。支持ガラス上には、表1に示す通り、無機薄膜としてITO及びTiを50〜200nm成膜した。成膜は、BOC社製インラインスパッタ装置を使用して行った。次に、支持ガラス上の無機薄膜の表面、及びガラスフィルムの積層側の表面の表面粗さRaをVeeco社製AFM(Nanoscope III a)を用い、スキャンサイズ10μm、スキャンレイト1Hz、サンプルライン512の条件で測定した。表面粗さRaは、測定範囲10μm四方の測定値から算出した。測定後、表1で示した試験区に支持ガラス及びガラスフィルムの夫々について区分けを行った。
上述した積層試験と同一の支持ガラス及びガラスフィルムを使用した。支持ガラス上には、表2に示す通り、無機薄膜としてITO及びTiに加えて、SiO2とNb2O3を使用した。製膜方法、及びその後の表面粗さRaの測定も上述の積層試験と同様である。その後、それぞれ表2に示された区分けに従って、支持ガラスの無機薄膜の表面にガラスフィルムを直接重ね合わせ、実施例8〜11のガラスフィルム積層体を得た。支持ガラスに無機薄膜の製膜を行わずにガラスフィルムを積層したガラスフィルム積層体を、比較例4とした。実施例8〜11、比較例4のガラスフィルム積層体の積層状態を確認したところ、いずれも支持ガラスとガラスフィルムとが強固に貼り付いており、積層可能であった。
2 ガラスフィルム
3 支持ガラス
4 無機薄膜
5 段差
8 製膜手段
9 加熱を伴う処理手段
Claims (10)
- 支持ガラスの表面に、成膜後の表面粗さRaが2.0nm以下となるように無機薄膜を形成する第1の工程と、前記無機薄膜の表面に、表面粗さRaが2.0nm以下のガラスフィルムを接触させた状態で積層してガラスフィルム積層体とする第2の工程と、前記ガラスフィルム積層体に対して加熱を伴う処理を行う第3の工程、前記加熱を伴う処理後に前記ガラスフィルムを前記支持ガラスから剥離する第4の工程とを有することを特徴とするガラスフィルムの製造方法。
- 前記無機薄膜は、酸化物薄膜であることを特徴とする請求項1に記載のガラスフィルムの製造方法。
- 前記ガラスフィルムと前記支持ガラスとは、縁部の少なくとも一部において段差を設けて積層されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のガラスフィルムの製造方法。
- 支持ガラスの表面に、成膜後の表面粗さRaが2.0nm以下となるように無機薄膜を形成する第1の工程と、前記無機薄膜の表面に、表面粗さRaが2.0nm以下のガラスフィルムを接触させた状態で積層してガラスフィルム積層体とする第2の工程と、前記ガラスフィルム積層体に対して加熱を伴う処理を行う第3の工程と、前記加熱を伴う処理後に前記ガラスフィルムを前記支持ガラスから剥離する第4の工程とを有することを特徴とするガラスフィルムの処理方法。
- 支持ガラスにガラスフィルムを積層したガラスフィルム積層体であって、
前記ガラスフィルムが積層される前記支持ガラスの表面に、成膜後の表面粗さRaが2.0nm以下となるように無機薄膜が形成され、
前記ガラスフィルムの少なくとも積層側の表面の表面粗さRaが2.0nm以下であり、
前記無機薄膜の表面と前記ガラスフィルムの表面とが接触した状態で積層されていることを特徴とするガラスフィルム積層体。 - 前記ガラスフィルムの積層側の表面と前記無機薄膜の表面のGI値がそれぞれ1000pcs/m2以下であることを特徴とする請求項5に記載のガラスフィルム積層体。
- 前記ガラスフィルムの厚みは、300μm以下であることを特徴とする請求項5又は6に記載のガラスフィルム積層体。
- 前記支持ガラスの厚みは、400μm以上であることを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
- 前記ガラスフィルムと前記支持ガラスとの30〜380℃における熱膨張係数の差が、5×10−7/℃以内であることを特徴とする請求項5〜8のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
- 前記ガラスフィルムと前記支持ガラスは、それぞれオーバーフローダウンドロー法によって成形されていることを特徴とする請求項5〜9のいずれかに記載のガラスフィルム積層体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010205158A JP5510901B2 (ja) | 2009-09-18 | 2010-09-14 | ガラスフィルムの製造方法及びガラスフィルムの処理方法並びにガラスフィルム積層体 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009217448 | 2009-09-18 | ||
JP2009217448 | 2009-09-18 | ||
JP2010028737 | 2010-02-12 | ||
JP2010028737 | 2010-02-12 | ||
JP2010205158A JP5510901B2 (ja) | 2009-09-18 | 2010-09-14 | ガラスフィルムの製造方法及びガラスフィルムの処理方法並びにガラスフィルム積層体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011184284A JP2011184284A (ja) | 2011-09-22 |
JP5510901B2 true JP5510901B2 (ja) | 2014-06-04 |
Family
ID=43758638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010205158A Active JP5510901B2 (ja) | 2009-09-18 | 2010-09-14 | ガラスフィルムの製造方法及びガラスフィルムの処理方法並びにガラスフィルム積層体 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20110123787A1 (ja) |
EP (1) | EP2479151B1 (ja) |
JP (1) | JP5510901B2 (ja) |
KR (1) | KR101730901B1 (ja) |
CN (1) | CN102471129B (ja) |
TW (1) | TWI465409B (ja) |
WO (1) | WO2011034034A1 (ja) |
Families Citing this family (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5733600B2 (ja) * | 2009-07-03 | 2015-06-10 | 日本電気硝子株式会社 | 素子封止体の製造方法、及び素子封止体 |
JP5594522B2 (ja) | 2009-07-03 | 2014-09-24 | 日本電気硝子株式会社 | 電子デバイス製造用ガラスフィルム積層体 |
KR101899412B1 (ko) | 2010-01-12 | 2018-09-17 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 유리 필름 적층체와 그 제조 방법 및 유리 필름의 제조 방법 |
CN102770268B (zh) | 2010-07-28 | 2016-05-11 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃膜层叠体 |
US10543662B2 (en) | 2012-02-08 | 2020-01-28 | Corning Incorporated | Device modified substrate article and methods for making |
CN104349894B (zh) * | 2012-05-29 | 2016-06-08 | 旭硝子株式会社 | 玻璃层叠体和电子器件的制造方法 |
JP5999340B2 (ja) | 2012-10-05 | 2016-09-28 | 日本電気硝子株式会社 | タッチパネル用ガラスフィルム積層体、及びタッチパネル、並びにタッチパネル用ガラスフィルム積層体の製造方法 |
WO2014073455A1 (ja) * | 2012-11-09 | 2014-05-15 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルム積層体及び電子・電気デバイスの製造方法 |
US10086584B2 (en) * | 2012-12-13 | 2018-10-02 | Corning Incorporated | Glass articles and methods for controlled bonding of glass sheets with carriers |
US10014177B2 (en) | 2012-12-13 | 2018-07-03 | Corning Incorporated | Methods for processing electronic devices |
US9340443B2 (en) | 2012-12-13 | 2016-05-17 | Corning Incorporated | Bulk annealing of glass sheets |
TWI617437B (zh) | 2012-12-13 | 2018-03-11 | 康寧公司 | 促進控制薄片與載體間接合之處理 |
WO2014133007A1 (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-04 | 日本電気硝子株式会社 | 電子デバイスの製造方法 |
KR20140144326A (ko) * | 2013-05-03 | 2014-12-19 | 코닝정밀소재 주식회사 | 써모크로믹 윈도우 및 그 제조방법 |
KR102065370B1 (ko) * | 2013-05-03 | 2020-02-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 박리 방법 및 기판 박리 장치 |
KR102156555B1 (ko) * | 2013-05-07 | 2020-09-16 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 유리 필름 적층체 |
JP6350277B2 (ja) * | 2013-05-10 | 2018-07-04 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの製造方法及び電子デバイスの製造方法 |
KR20150001006A (ko) | 2013-06-26 | 2015-01-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유리 필름 적층체, 이의 제조 방법 및 유리 필름의 제조 방법 |
CN103435257B (zh) * | 2013-08-09 | 2016-04-27 | 刘国正 | 玻璃膜层叠板及其制造方法 |
JP2015063427A (ja) * | 2013-09-25 | 2015-04-09 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの表面処理方法、ガラスフィルム積層体、およびガラスフィルム |
US10510576B2 (en) | 2013-10-14 | 2019-12-17 | Corning Incorporated | Carrier-bonding methods and articles for semiconductor and interposer processing |
KR102151247B1 (ko) * | 2013-11-11 | 2020-09-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 플렉서블 표시 패널의 제조 방법 및 플렉서블 표시 장치의 제조 방법 |
JP6119567B2 (ja) * | 2013-11-11 | 2017-04-26 | 旭硝子株式会社 | ガラス積層体の製造方法および電子デバイスの製造方法 |
JP6176067B2 (ja) * | 2013-11-11 | 2017-08-09 | 旭硝子株式会社 | ガラス積層体および電子デバイスの製造方法 |
KR20150056316A (ko) | 2013-11-15 | 2015-05-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 소자 기판 제조 방법 및 상기 방법을 이용하여 제조한 표시 장치 |
EP3099483B1 (en) | 2014-01-27 | 2022-06-01 | Corning Incorporated | Articles and methods for controlled bonding of thin sheets with carriers |
KR20160145062A (ko) | 2014-04-09 | 2016-12-19 | 코닝 인코포레이티드 | 디바이스 변경된 기판 물품 및 제조 방법 |
CN106232351A (zh) * | 2014-04-25 | 2016-12-14 | 旭硝子株式会社 | 玻璃层叠体及电子器件的制造方法 |
US9922709B2 (en) * | 2014-05-20 | 2018-03-20 | Sandisk Technologies Llc | Memory hole bit line structures |
WO2015182558A1 (ja) * | 2014-05-28 | 2015-12-03 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の製造方法、及び電子デバイス |
JP6260869B2 (ja) * | 2014-06-13 | 2018-01-17 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの製造方法、及びこのガラスフィルムを含む電子デバイスの製造方法 |
WO2016017645A1 (ja) | 2014-08-01 | 2016-02-04 | 旭硝子株式会社 | 無機膜付き支持基板およびガラス積層体、ならびに、それらの製造方法および電子デバイスの製造方法 |
JP6365087B2 (ja) * | 2014-08-05 | 2018-08-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの剥離方法および電子デバイスの製造方法 |
KR101762308B1 (ko) * | 2014-10-31 | 2017-07-28 | 부경대학교 산학협력단 | 유연 열변색 필름 |
JP6607550B2 (ja) * | 2015-03-16 | 2019-11-20 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
JP2016210157A (ja) * | 2015-05-13 | 2016-12-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス積層体および電子デバイスの製造方法 |
WO2016187186A1 (en) | 2015-05-19 | 2016-11-24 | Corning Incorporated | Articles and methods for bonding sheets with carriers |
CN117534339A (zh) | 2015-06-26 | 2024-02-09 | 康宁股份有限公司 | 包含板材和载体的方法和制品 |
JP6548993B2 (ja) * | 2015-08-31 | 2019-07-24 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の熱処理方法およびガラス基板の製造方法 |
JP6598071B2 (ja) * | 2016-03-28 | 2019-10-30 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の熱処理方法 |
US10410883B2 (en) * | 2016-06-01 | 2019-09-10 | Corning Incorporated | Articles and methods of forming vias in substrates |
US10794679B2 (en) | 2016-06-29 | 2020-10-06 | Corning Incorporated | Method and system for measuring geometric parameters of through holes |
KR20190034682A (ko) * | 2016-08-22 | 2019-04-02 | 코닝 인코포레이티드 | 조절 가능하게 결합된 시트의 물품 및 이의 제조 방법 |
TW202216444A (zh) | 2016-08-30 | 2022-05-01 | 美商康寧公司 | 用於片材接合的矽氧烷電漿聚合物 |
TWI810161B (zh) | 2016-08-31 | 2023-08-01 | 美商康寧公司 | 具以可控制式黏結的薄片之製品及製作其之方法 |
US11078112B2 (en) | 2017-05-25 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same |
US10580725B2 (en) | 2017-05-25 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same |
JP6839419B2 (ja) * | 2017-07-31 | 2021-03-10 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの製造方法 |
CN111372772A (zh) | 2017-08-18 | 2020-07-03 | 康宁股份有限公司 | 使用聚阳离子聚合物的临时结合 |
JP6492140B1 (ja) * | 2017-09-22 | 2019-03-27 | ジオマテック株式会社 | 樹脂基板積層体及び電子デバイスの製造方法 |
WO2019118660A1 (en) | 2017-12-15 | 2019-06-20 | Corning Incorporated | Method for treating a substrate and method for making articles comprising bonded sheets |
US12180108B2 (en) | 2017-12-19 | 2024-12-31 | Corning Incorporated | Methods for etching vias in glass-based articles employing positive charge organic molecules |
US11554984B2 (en) | 2018-02-22 | 2023-01-17 | Corning Incorporated | Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness |
JP7290097B2 (ja) * | 2019-09-30 | 2023-06-13 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの変形測定方法、ガラスフィルムの検査方法及びガラスフィルムの製造方法 |
CN111933020B (zh) * | 2020-07-16 | 2022-12-20 | 晟通科技集团有限公司 | 标签及建筑模板 |
CN112677573A (zh) * | 2020-12-08 | 2021-04-20 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 一种柔性中间膜及夹层玻璃 |
CN114133226B (zh) * | 2021-12-30 | 2022-11-08 | 苏州晶生新材料有限公司 | 一种光学镀层基材及使用方法 |
CN114956533B (zh) * | 2022-05-07 | 2023-10-03 | 河北省沙河玻璃技术研究院 | 超薄柔性玻璃制备方法及装置 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2084247A1 (en) * | 1992-03-18 | 1993-09-19 | Francis Paul Fehlner | Lcd panel production |
JP3081122B2 (ja) * | 1994-07-18 | 2000-08-28 | シャープ株式会社 | 基板搬送用治具及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法 |
JP3698171B2 (ja) * | 1994-12-07 | 2005-09-21 | 日本電気硝子株式会社 | 表示装置用ガラス板の熱処理方法 |
SG49584A1 (en) * | 1994-12-28 | 1998-06-15 | Hoya Corp | Plate glass flattening method method of manufacturing an information recording glass substrate using flattened glass method of manufacturing a magnetic |
JP3267846B2 (ja) * | 1994-12-28 | 2002-03-25 | ホーヤ株式会社 | 板ガラスの平坦化方法、および該方法を用いた磁気記録媒体の製造方法 |
JPH09221342A (ja) * | 1996-02-09 | 1997-08-26 | Nikon Corp | 光学部材の接着方法、及び、これを用いて接着された光学部品 |
JP4326635B2 (ja) * | 1999-09-29 | 2009-09-09 | 三菱樹脂株式会社 | ガラスフィルムの取扱い方法及びガラス積層体 |
US6191433B1 (en) * | 2000-03-17 | 2001-02-20 | Agilent Technologies, Inc. | OLED display device and method for patterning cathodes of the device |
JP3531865B2 (ja) * | 2000-07-06 | 2004-05-31 | 独立行政法人 科学技術振興機構 | 超平坦透明導電膜およびその製造方法 |
JP3971139B2 (ja) * | 2001-08-02 | 2007-09-05 | 三菱樹脂株式会社 | 積層体 |
US20050136625A1 (en) * | 2002-07-17 | 2005-06-23 | Debora Henseler | Ultra-thin glass devices |
US20050049049A1 (en) * | 2003-08-26 | 2005-03-03 | Igt | Cocktail table |
DE10348946B4 (de) * | 2003-10-18 | 2008-01-31 | Schott Ag | Bearbeitungsverbund für ein Substrat |
US20050124417A1 (en) * | 2003-12-04 | 2005-06-09 | Sosnoski Michael J. | Gaming machine with electro-magnetic interference shielding |
EP1720175B1 (en) * | 2004-02-27 | 2010-05-12 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Transparent conductive film and transparent conductive base material utilizing the same |
JP4688431B2 (ja) * | 2004-04-21 | 2011-05-25 | 日東電工株式会社 | フラットパネルディスプレイ用マザーガラス保護フィルムおよびその用途 |
DE102004047705A1 (de) * | 2004-09-30 | 2006-04-20 | Wacker Chemie Ag | Beschichtung von Haushaltsgegenständen mittels thermoplastischer Elastomere |
FR2893750B1 (fr) * | 2005-11-22 | 2008-03-14 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication d'un dispositif electronique flexible du type ecran comportant une pluralite de composants en couches minces. |
WO2007129554A1 (ja) * | 2006-05-08 | 2007-11-15 | Asahi Glass Company, Limited | 薄板ガラス積層体、薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法および、支持ガラス基板 |
CN101516798A (zh) * | 2006-09-14 | 2009-08-26 | 日本电气硝子株式会社 | 板状玻璃层叠结构体及多层板状玻璃层叠结构体 |
JP5177790B2 (ja) | 2006-10-24 | 2013-04-10 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスリボンの製造装置及びその製造方法 |
US20090314032A1 (en) * | 2006-10-24 | 2009-12-24 | Nippon Electric Glass Co., Ltd | Glass ribbon producing apparatus and process for producing the same |
US8115326B2 (en) * | 2006-11-30 | 2012-02-14 | Corning Incorporated | Flexible substrates having a thin-film barrier |
JP2010037648A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-02-18 | Univ Of Tokyo | 無機薄膜及びその製造方法、並びにガラス |
US8697228B2 (en) * | 2009-05-06 | 2014-04-15 | Corning Incorporated | Carrier for glass substrates |
JP5594522B2 (ja) * | 2009-07-03 | 2014-09-24 | 日本電気硝子株式会社 | 電子デバイス製造用ガラスフィルム積層体 |
JP5582446B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2014-09-03 | 日本電気硝子株式会社 | フィルム状ガラスの製造方法及び製造装置 |
JP5403487B2 (ja) * | 2009-08-19 | 2014-01-29 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスロール |
-
2010
- 2010-09-14 KR KR1020117028623A patent/KR101730901B1/ko active IP Right Grant
- 2010-09-14 EP EP10817147.1A patent/EP2479151B1/en active Active
- 2010-09-14 WO PCT/JP2010/065778 patent/WO2011034034A1/ja active Application Filing
- 2010-09-14 CN CN201080027614.9A patent/CN102471129B/zh active Active
- 2010-09-14 JP JP2010205158A patent/JP5510901B2/ja active Active
- 2010-09-15 US US12/882,523 patent/US20110123787A1/en not_active Abandoned
- 2010-09-16 TW TW099131437A patent/TWI465409B/zh active
-
2016
- 2016-11-29 US US15/363,065 patent/US20170072675A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101730901B1 (ko) | 2017-04-27 |
TWI465409B (zh) | 2014-12-21 |
EP2479151A4 (en) | 2016-06-15 |
CN102471129A (zh) | 2012-05-23 |
EP2479151A1 (en) | 2012-07-25 |
EP2479151B1 (en) | 2020-10-28 |
CN102471129B (zh) | 2015-04-15 |
KR20120069608A (ko) | 2012-06-28 |
JP2011184284A (ja) | 2011-09-22 |
TW201114714A (en) | 2011-05-01 |
US20110123787A1 (en) | 2011-05-26 |
US20170072675A1 (en) | 2017-03-16 |
WO2011034034A1 (ja) | 2011-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5510901B2 (ja) | ガラスフィルムの製造方法及びガラスフィルムの処理方法並びにガラスフィルム積層体 | |
JP5794325B2 (ja) | 電子デバイス用ガラス基板の製造方法、及び、電子デバイス用カバーガラスの製造方法 | |
JP5645123B2 (ja) | ガラスフィルム積層体及びその製造方法並びにガラスフィルムの製造方法 | |
WO2015163134A1 (ja) | ガラス積層体および電子デバイスの製造方法 | |
JP5692513B2 (ja) | ガラスフィルム積層体 | |
JP2014019597A (ja) | ガラスフィルムの製造方法及びガラスフィルム積層体 | |
JP2013184346A (ja) | ガラス積層体、電子デバイスの製造方法 | |
TWI807441B (zh) | 積層體、電子裝置之製造方法、積層體之製造方法 | |
CN107709258B (zh) | 载体基板、层叠体、电子器件的制造方法 | |
WO2014073455A1 (ja) | ガラスフィルム積層体及び電子・電気デバイスの製造方法 | |
WO2018092688A1 (ja) | 積層基板および電子デバイスの製造方法 | |
JP2010215436A (ja) | ガラスフィルム積層体 | |
JP6327437B2 (ja) | 電子デバイスの製造方法 | |
WO2016017649A1 (ja) | ガラス積層体、無機層付き支持基板、電子デバイスの製造方法及び、無機層付き支持基板の製造方法 | |
JP2016034736A (ja) | ガラスフィルム積層体及びその製造方法 | |
JP2017164903A (ja) | ガラス積層体、無機層付き支持基板、電子デバイスの製造方法、無機層付き支持基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130801 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140303 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5510901 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140316 |