JP5510337B2 - ガラス組成物、ガラスフリット、および基板上にガラス層を具備する部材 - Google Patents

Description

本発明は、高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材に関する。

従来、（１）高屈折率（ｄ線の屈折率が１．８８以上２．２０以下）、（２）低軟化温度（４９０℃以下）、かつ（３）平均熱膨張係数が小さい（平均熱膨張係数が６５〜９０×１０^−７／Ｋ）、ガラス組成物および基板上にそれを具備する部材（以下、ガラス組成物等と称する）は存在していなかった。
上記３つの条件のうち、多くて２つの条件を同時に備えたガラス組成物等が提案されている（特許文献１〜５）。
なお、近年、酸化鉛を含むガラスの溶解では、環境汚染が重大な問題となっている。従って、ガラスには酸化鉛を含まないことが要求されている。

日本国特開２００３−３００７５１号公報 日本国特開２００３−１６０３５５号公報 日本国特開２００６−１１１４９９号公報 日本国特開２００２−２０１０３９号公報 日本国特開２００７−５１０６０号公報

しかしながら、いずれの特許文献１〜５も、上述した３つの条件を同時に備えることを開示および示唆していない。これら３つの条件を同時に備えることが、ガラスフリット・ガラスペースト焼成によってソーダライム基板上に高屈折率膜を形成するために必要である。特許文献１〜３のガラスは、精密プレス成形レンズ用途として開発されたものである。そのため、特許文献１〜３のガラスは、フリットとして焼成することを目的としていないため、平均熱膨張係数が大きいという問題がある。
また、特許文献４のガラスは、ビスマスを多量に含有する。そのため、特許文献４のガラスは、着色が大きく、平均熱膨張係数も大きいという問題がある。
また、特許文献５のガラスは、精密プレス成形レンズが用途として開発されたものである。そのため、特許文献５のガラスは、フリットとして焼成することを目的としていないため、ガラス転移温度が高いという問題がある。
本発明は、高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。

本発明のガラス組成物は、
屈折率（ｎ_ｄ）が１．８８以上２．２０以下、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が４５０℃以上４９０℃以下、および５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であって、
酸化物基準のモル％表示で、
Ｐ _２ Ｏ _５ １５〜３０％、
Ｂｉ _２ Ｏ _３ ５〜２５％
Ｎｂ _２ Ｏ _５ ５〜２７％、
ＺｎＯ ４〜３５％、
を含むことを特徴とする。
本発明のガラスフリットは、
屈折率（ｎ_ｄ）が１．８８以上２．２０以下、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が４５０℃以上４９０℃以下、および５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であって、
酸化物基準のモル％表示で、
Ｐ _２ Ｏ _５ １５〜３０％、
Ｂｉ _２ Ｏ _３ ５〜２５％
Ｎｂ _２ Ｏ _５ ５〜２７％、
ＺｎＯ ４〜３５％、
を含むことを特徴とする。
本発明の部材は、
屈折率（ｎ_ｄ）が１．８８以上２．２０以下、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が４５０℃以上４９０℃以下、および５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であって、
酸化物基準のモル％表示で、
Ｐ _２ Ｏ _５ １５〜３０％、
Ｂｉ _２ Ｏ _３ ５〜２５％
Ｎｂ _２ Ｏ _５ ５〜２７％、
ＺｎＯ ４〜３５％、
を含むガラス組成物若しくはガラスフリットにより構成されるガラス層を基板上に具備することを特徴とする。

本発明によれば、高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供することができる。

ガラスまたはセラミックス基板上にガラスフリット焼成層を形成した部材を示す図 ガラスフリット焼成層中に散乱物質を含有している部材を示す図 ガラスフリット焼成層上に透光性電極層を成膜した部材を示す図

本発明のガラス組成物の屈折率（ｎ_ｄ）は１．８８以上２．２０以下の範囲である。この範囲であると有機ＬＥＤ散乱層として用いる場合に発光光を取り出せる効果が大きい。
本発明のガラス組成物の屈折率（ｎ_ｄ）は１．９５以上２．１０以下が好ましい。

本発明のガラス組成物のガラス転移温度（Ｔ_ｇ）は４５０℃以上４９０℃以下である。この範囲であると、ソーダライムガラス基板上で本発明のガラスフリットを焼成し軟化させても、基板が温度による変形をしない。ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）は４５０℃以上４８０℃以下が好ましく、４５０℃以上４７５℃以下がさらに好ましい。ここで、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）とは、ガラスの粘性係数η＝１０^１４ｄＰａ・Ｓに相当する温度で定義される。

本発明のガラス組成物の平均熱膨張係数は、５０℃から３００℃までの範囲で、６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下である。これを満たすと、ソーダライムガラス基板上で本発明のガラスフリットを焼成し軟化させた後でも、割れたり基板が大きく反ったりすることがない。５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数は、６５×１０^−７／Ｋ以上８５×１０^−７／Ｋ以下が好ましく、７０×１０^−７／Ｋ以上７５×１０^−７／Ｋ以下が特に好ましい。平均熱膨張係数は、熱機械分析装置（ＴＭＡ）によって測定された数値である。

本発明のガラス組成物は、Ｐ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＺｎＯを必須成分として含み、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＴｉＯ_２、ＷＯ_３、ＴｅＯ_２、ＧｅＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、アルカリ土類金属酸化物を任意成分として含むことができる。

各成分含有量の範囲は、モル％表示で、Ｐ_２Ｏ_５ １５〜３０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ５〜２５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ５〜２７％、ＺｎＯ ４〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１７％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１４％、Ｎａ_２Ｏ ０〜７％、Ｋ_２Ｏ ０〜７％、ＴｉＯ_２ ０〜１３％、ＷＯ_３ ０〜２０％、ＴｅＯ_２ ０〜７％、ＧｅＯ_２ ０〜７％、Ｓｂ_２Ｏ_３ ０〜２％、アルカリ土類金属酸化物０〜１０％、であり、アルカリ金属酸化物の合量が１４％以下である。

本発明のガラス組成物の成分において、Ｐ_２Ｏ_５は、ガラスの骨格となる網目構造を形成する必須成分であり、ガラスの安定性を付与する。Ｐ_２Ｏ_５が１５モル％未満では、失透しやすくなり、３０モル％を超えると、本発明に必要な高屈折率が得ることが難しくなる。好ましい範囲は１９〜２８モル％であり、さらに好ましい範囲は２０〜２６モル％である。

Ｂｉ_２Ｏ_３は、高屈折率を付与し、ガラスの安定性を高める必須成分であり、５％未満では、その効果が不十分となる。また同時に、Ｂｉ_２Ｏ_３は、平均熱膨張係数を高くしてしまうとともに、着色を大きくしてしまうため、その含有量は２５モル％以下である。好ましい範囲は１０〜２３モル％であり、さらに好ましい範囲は１３〜２０モル％である。

Ｎｂ_２Ｏ_５は、高屈折率を付与するとともに平均熱膨張係数を下げる必須成分であり、５モル％未満では、その効果が不十分となる。また同時に、Ｎｂ_２Ｏ_５は、ガラス転移温度を高くしてしまうため、その含有量は２７モル％以下である。Ｎｂ_２Ｏ_５が２７モル％を超えるとガラス転移温度が高くなり過ぎるとともに失透しやすくなる。好ましい範囲は７〜２０モル％であり、さらに好ましい範囲は１０〜１８モル％である。

ＺｎＯは、平均熱膨張係数の過度の上昇を抑えながらガラス転移温度を大きく下げるとともに高屈折率を付与する効果を有する必須成分である。４モル％未満ではその効果が不十分となる。一方、ＺｎＯが３５モル％を超えると、ガラスの失透傾向が強まる。ＺｎＯの含有量は、４〜３５モル％であり、１６〜３５モル％（質量％表記では７〜１７％）とすることが好ましく、２１〜３５モル％（質量％表記では９〜１７％）とすることがより好ましく、２３モル％を超えかつ１０質量％を超え３５モル％までとすることが特に好ましい。ただし、ＺｎＯを２１モル％以上含有させる場合は、失透を避けるため、ＴｉＯ_２を実質的に含有させないことが好ましい。

Ｂ_２Ｏ_３は、必須成分ではないが、ガラスの溶解性を向上させる効果を有し、１７モル％を超えると失透や分相が生じやすくなるとともに、本発明に必要な高屈折率を得ることが難しくなる。

Ｌｉ_２Ｏは、ガラスの耐失透性を付与するとともにガラス転移温度を下げる効果を有するが、同時に平均熱膨張係数を大きくしてしまう。Ｌｉ_２Ｏを過剰に含有することにより、平均熱膨張係数が大きくなり過ぎるため、Ｌｉ_２Ｏの含有量は、０〜１４モル％とすることが好ましく、２〜７モル％とすることがより好ましい。

Ｎａ_２Ｏは、ガラスの耐失透性を付与する効果を有するが、その含有により、平均熱膨張係数がきわめて大きくなる。Ｎａ_２Ｏは、０〜７モル％（質量％表記では０〜２．５％）の範囲で含むことができるが、実質的に含まないことがより好ましい。

Ｋ_２Ｏは、ガラスの耐失透性を付与する効果を有するが、その含有により、平均熱膨張係数がきわめて大きくなる。Ｋ_２Ｏは、０〜７モル％の範囲で含むことができるが、実質的に含まないことがより好ましい。

ＴｉＯ_２は、高屈折率を付与する効果を有するが、その含有により、ガラス転移温度が上昇するとともに失透しやすくなる。ＴｉＯ_２は、０〜１３モル％の範囲で含むことができるが、０〜９モル％とすることが好ましく、実質的に含まないことがより好ましい。

ＷＯ_３は、平均熱膨張係数とガラス転移温度を大きく変化させずに高屈折率を付与する効果を有するが、２０モル％を超えると着色が大きくなるとともに、失透しやすくなる。

ＴｅＯ_２は、平均熱膨張係数の過度の上昇を抑えながらガラス転移温度を下げる効果を有するが、高価であるとともに白金坩堝を侵食するおそれがあるため７モル％以下である。

ＧｅＯ_２は高屈折率を付与する効果を有するが、高価であるため７モル％を超えることは好ましくない。

Ｓｂ_２Ｏ_３は清澄剤として有効であるばかりでなく、着色を抑制する効果も有し、０〜２モル％の範囲で加えることができる。

アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのうち１種以上）はガラスの安定性を向上させるが、１０モル％を超えて含有すると、屈折率を低下させるとともに平均熱膨張係数およびガラス転移温度を大きくしてしまう。

アルカリ金属酸化物は、ガラスの耐失透性を付与するとともにガラス転移温度を下げる効果を有するが、同時に平均熱膨張係数を大きくしてしまうため、合量は１４モル％以下とすることが好ましく、２〜７モル％とすることがより好ましい。

また、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏは、Ｌｉ_２Ｏに比して特に熱膨張係数を大きくしてしまうため、Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏを実質的に含まず、Ｌｉ_２Ｏのみを用いることが好ましい。

本発明のガラス組成物は、発明の効果を失わない範囲で、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_３、Ｃｓ_２Ｏ、遷移金属酸化物等も含有することができる。その含有量は合計で５％未満に留めることが好ましく、３モル％未満にすることがより好ましく、実質的に含有しない（含有量が実質的に零である）ことが一層好ましい。
なお、本発明のガラスは、酸化鉛を実質的に含有しない（含有量が実質的に零である）ため、環境汚染を引き起こす可能性が低い。
ここで実質的に含有しないとは、積極的に含有しないということであり、他の成分由来による不純物として混入される場合を含むものとする

本発明のガラス組成物は、酸化物、リン酸塩、メタリン酸塩、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等の原料を使用し、それらを所定の組成になるよう秤取し、混合した後、白金等の坩堝を用いて９５０〜１５００℃の温度で溶解し、鋳型に鋳込むか双ロールの隙間に注いで急冷することによって得ることができる。また、徐冷して歪みを取り除くこともある。

本発明のガラスフリットは、前記の方法で作製したガラス組成物を、乳鉢、ボールミル、ジェットミル等により粉砕し、必要に応じて分級することによって得られる。ガラスフリットの質量基準平均粒径は、典型的には、０．５〜１０μｍである。界面活性剤やシランカップリング剤によってガラスフリットの表面を改質しても良い。ここで質量基準平均粒径はレーザー回折式粒度分布測定法で測定された粒径である。

本発明の部材は、図１に示すように、ガラスまたはセラミック基板上に所定の組成のガラス層を形成した部材である。ガラス層の厚みは典型的には５〜５０μｍである。ここで用いる基板は、５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が７５×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であることが好ましく、例えばソーダライムガラスや旭硝子株式会社製ＰＤ２００が挙げられ、その表面にシリカ膜等がコートされていても構わない。この部材は典型的には、前記ガラスフリットを、必要に応じて溶剤やバインダーなどと混練後、前記基板上に塗布し、前記ガラスフリットのガラス転移温度より６０℃程度以上高い温度で焼成してガラスフリットを軟化させ、室温まで冷却することによって得られる。溶剤としては、α−テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、フタル酸エステル、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート等が、バインダーとしては、エチルセルロース、アクリル樹脂、スチレン樹脂、フェノール樹脂、ブチラール樹脂等が、それぞれ例示される。なお、本発明の目的を損なわない範囲で溶剤またはバインダー以外の成分を含有してもよい。なお、バインダーを用いる場合は、ガラスフリットを軟化させる前に、ガラス転移温度よりも低い温度で焼成してバインダーを気化させる工程を含むことが好ましい。

本発明の部材は、図２に示すように、そのガラスフリット焼成層中に散乱物質を含有することができる。ただし、散乱物質の焼成層内における分布は、焼成層内部から表面へ向かって小さくなっていることが重要である。このような分布をしていれば、散乱物質がガラスフリット焼成層表層に存在する確率が、散乱層内部より低くなるため、平滑な表面を得ることができる。このため、例えば有機ＬＥＤ素子を形成する場合、透光性電極層や有機層を均一に形成することができ、有機層上に形成される反射性電極層との間の電極間距離も均一となる。その結果、素子の長寿命化をはかることができる。散乱物質は、気泡である場合と、前記ガラスフリットとは異なる組成をもつ材料粒子である場合と、前記ガラスフリットからの析出結晶である場合とがあり、これら単体でもよいし、混合状態でもよい。

本発明の部材は、図３に示すように、ガラスフリット焼成層の上に透光性電極層をスパッタリング等の成膜方法によって形成することも可能である。有機ＬＥＤ散乱層用途として用いる場合、透光性電極層の屈折率は、前記ガラスフリットの屈折率以下であることが好ましく、この要件を満たすことにより、有機層からの発光光を効率良く取り出すことができる。透光性電極層は、典型的にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）であり、ＳｎＯ_２、ＺｎＯ、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）等を用いることもできる。

（実施例１〜２７）
表１〜３に各実施例のモル％表示によるガラスの組成と、屈折率（ｎ_ｄ）、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）、５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）とを示す。また、モル％表示による組成に基づいて換算した質量％表示による組成も併記する。各ガラス組成物について、ガラス転移温度が４９０℃以下、かつ平均熱膨張係数が６０×１０^−７／Ｋ以上８５×１０^−７／Ｋ以下である場合に「良」と評価し、とりわけ、ガラス転移温度が４７５℃以下かつ平均熱膨張係数が７０×１０^−７／Ｋ以上７５×１０^−７／Ｋ以下である場合に「優」と評価した。いずれのガラス組成物とも各成分の原料として各々、酸化物、リン酸塩、メタリン酸塩、炭酸塩を使用し、ガラス化した後に表１に示す組成となるように前記原料を秤量し、十分混合した後、白金坩堝を用いて電気炉で９５０〜１３５０℃の温度範囲で溶融した後、カーボン製の鋳型に鋳込み、鋳込んだガラスを転移温度まで冷却してから直ちにアニール炉に入れ、室温まで徐冷して各ガラス組成物を得た。

得られたガラス組成物について、屈折率（ｎ_ｄ）、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）、５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）を以下のようにして測定した。
（１）屈折率（ｎ_ｄ）
ガラスを研磨した後、カルニュー社製精密屈折計ＫＰＲ−２０００によって、Ｖブロック法で測定した。
（２）ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）
ガラスを直径５ｍｍ長さ２００ｍｍの丸棒状に加工した後、ブルッカー・エイエックスエス社製熱機械分析装置（ＴＭＡ）ＴＤ５０００ＳＡによって、昇温速度を５℃／ｍｉｎにして測定した。
（３）５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）
ガラスを直径５ｍｍ長さ２００ｍｍの丸棒状に加工した後、ブルッカー・エイエックスエス社製熱機械分析装置（ＴＭＡ）ＴＤ５０００ＳＡによって、昇温速度を５℃／ｍｉｎにして測定した。５０度におけるガラス棒の長さをＬ_５０とし、３００度におけるガラス棒の長さをＬ_３００としたとき、５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）は、α_{５０−３００}＝｛（Ｌ_３００／Ｌ_５０）―１｝／（３００−５０）によって求められる。

（実施例２８〜３１）
実施例１、２、４、５に示した各組成のフレーク状ガラスを、実施例１〜２９と同様の方法で秤量、混合、溶融した後、その融液を双ロールの隙間に注いで急冷することによって作製した。各フレークをアルミナ製のボールミルで１時間乾式粉砕して、各ガラスフリットを得た。各ガラスフリットの質量基準平均粒径は、いずれも、３μｍ程度であった。得られた各ガラスフリット７５ｇを、有機ビヒクル（α―テルピネオールにエチルセルロースを１０質量％溶解したもの）２５ｇと混練してガラスペーストを作製した。このガラスペーストを、シリカ膜を表面コートされた大きさ１０ｃｍ角、厚さ０．５５ｍｍのソーダライムガラス基板上に、焼成後の膜厚が３０μｍとなるよう均一に９ｃｍ角のサイズで中央に印刷し、これを１５０℃で３０分間乾燥した。その後一旦室温に戻し、４５０℃まで３０分で昇温し、４５０℃で３０分間保持し、その後、５５０℃まで１２分で昇温し、５５０℃で３０分間保持し、その後、室温まで３時間で降温し、ソーダライムガラス基板上にガラスフリット焼成層を形成した。そして、各々について、焼成層および基板の割れが発生しているかを観察し、また、焼成層の四隅における基板の反りの平均値を測定し、反りが許容できる程度であるかどうかを判断した。なお、反りの平均値が１．００ｍｍを超える場合に許容できないと判断した。結果を表４に記載した。使用したソーダライムガラスの５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）は８３×１０^−７／Ｋである。

（比較例１〜１０）
表５に各比較例のモル％表示によるガラスの組成と、屈折率（ｎ_ｄ）、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）、５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）を示す。また、表６にモル％表示による組成に基づいて換算した質量％表示による組成も併記する。各ガラスについて、ガラス転移温度が４９０℃以下かつ平均熱膨張係数が６０×１０^−７／Ｋ以上８５×１０^−７／Ｋ以下、でない場合に「不可」と評価した。各々の物性値は実施例１〜２７と同様の方法で作製されたガラスについて、実施例１〜２７と同様の方法で測定したが、比較例９の屈折率（ｎ_ｄ）は、着色が大きいため、測定不可能であった。
なお、比較例１、２はそれぞれ前述した特許文献３（日本国特開２００６−１１１４９９号公報）の実施例５、１２に相当し、比較例３は前述した特許文献１（日本国特開２００３−３００７５１号公報）の実施例３に相当し、比較例４、５はそれぞれ前述した特許文献２（日本国特開２００３−１６０３５５号公報）の実施例１、２に相当し、比較例６、７、８はそれぞれ前述した特許文献５（日本国特開２００７−５１０６０号公報）の実施例１、１０、１３に相当し、比較例９は前述した特許文献４（日本国特開２００２−２０１０３９号公報）の実施例３に相当する。

（比較例１１、１２）
比較例１、１０に示した各組成のガラスフリットを、実施例２８〜３１と同様の方法で作製し、同様のソーダライムガラス基板上に同様の方法で焼成した後、各々について、焼成層および基板の割れが発生しているかを観察し、また、焼成層の四隅における基板の反りの平均値を測定し、反りが許容できる程度であるかどうかを判断した。なお、反りの平均値が１．００ｍｍを超える場合に許容できないと判断した。結果を表７に記載する。使用したソーダライムガラスの５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）は８３×１０^−７／Ｋである。

本出願は、2009年1月26日出願の日本特許出願（特願2009−014331）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

本発明により、高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物を光学部材に適用し、特に有機ＬＥＤ用途の高効率な散乱性光取出し部材の製造を可能とする。特に、本発明によれば、有機ＬＥＤ光取出しを向上させられる散乱層に好適なガラスフリットを提供することができる。また、本発明のガラスフリットは、ソーダライムガラス基板上で焼成し軟化させたあと基板に変形や許容できない反りを与えず、割れも発生しない。そのため、本発明のガラスフリットは、有機ＬＥＤ散乱層の基板としてソーダライムガラスを使用することを可能とし、製造コストを下げることが可能である。

１００ ガラスまたはセラミック基板
１０１ ガラス層またはガラスフリットの焼成層
１０２ 散乱物質
１０３ 透光性電極層

Claims (9)

1. 屈折率（ｎ_ｄ）が１．８８以上２．２０以下、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が４５０℃以上４９０℃以下、および５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であって、
   酸化物基準のモル％表示で、
   Ｐ _２ Ｏ _５ １５〜３０％、
   Ｂｉ _２ Ｏ _３ ５〜２５％
   Ｎｂ _２ Ｏ _５ ５〜２７％、
   ＺｎＯ ４〜３５％、
   を含むことを特徴とするガラス組成物。
2. 酸化物基準のモル％表示で、
   Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１７％、
   Ｌｉ_２Ｏ ０〜１４％、
   Ｎａ_２Ｏ ０〜７％、
   Ｋ_２Ｏ ０〜７％、
   ＴｉＯ_２ ０〜１３％、
   ＷＯ_３ ０〜２０％、
   ＴｅＯ_２ ０〜７％、
   ＧｅＯ_２ ０〜７％、
   Ｓｂ_２Ｏ_３ ０〜２％、
   アルカリ土類金属酸化物０〜１０％の各成分を含み、
   アルカリ金属酸化物の合量が１４％以下であることを特徴する請求項１に記載のガラス組成物。
3. Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏを実質的に含有しないことを特徴とする請求項１または２に記載のガラス組成物。
4. アルカリ金属酸化物の合量が２〜７モル％である請求項１から３のいずれか一つに記載のガラス組成物。
5. ＺｎＯの含有量が２３モル％を超えかつ１０質量％を超え、ＴｉＯ_２を実質的に含有しない請求項１から４のいずれか一つに記載のガラス組成物。
6. 酸化鉛を実質的に含有しないことを特徴とする請求項１から５のいずれか一つに記載のガラス組成物。
7. 請求項１から６のいずれかに記載の組成のガラスフリット。
8. ガラスまたはセラミック基板上に請求項１から６のいずれかに記載の組成のガラス層を具備する部材。
9. ガラスまたはセラミック基板上で請求項７に記載のガラスフリットを焼成して得られるガラス層を具備する部材。

Images