JP5448698B2 - 半導体装置及びそのテスト方法 - Google Patents
半導体装置及びそのテスト方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5448698B2 JP5448698B2 JP2009235489A JP2009235489A JP5448698B2 JP 5448698 B2 JP5448698 B2 JP 5448698B2 JP 2009235489 A JP2009235489 A JP 2009235489A JP 2009235489 A JP2009235489 A JP 2009235489A JP 5448698 B2 JP5448698 B2 JP 5448698B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- test
- circuit
- chip
- signal
- memory
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/48—Arrangements in static stores specially adapted for testing by means external to the store, e.g. using direct memory access [DMA] or using auxiliary access paths
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/1201—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising I/O circuitry
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
- G11C5/04—Supports for storage elements, e.g. memory modules; Mounting or fixing of storage elements on such supports
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01037—Rubidium [Rb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01055—Cesium [Cs]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Description
4〜6 内部回路
10 半導体装置
11a,11b クロック端子
11c クロックイネーブル端子
12a〜12e コマンド端子
13 アドレス端子
14 データ入出力端子
15a,15b データストローブ端子
16 キャリブレーション端子
17a,17b 電源端子
21 クロック発生回路
22 DLL回路
23 入出力バッファ回路
24 キャリブレーション回路
25 データラッチ回路
31 コマンド入力バッファ
32 コマンドデコーダ/コントロールロジック
33 不良チップ情報保持回路
34 テストモードレジスタ
35 テスト回路
41 アドレス入力バッファ
42 モードレジスタ
43 パワーオン検出回路
44 層アドレス設定回路
45 層アドレスコントロール回路
46 層アドレス発生回路
47 層アドレス比較回路
50 メモリセルアレイ
51 ロウデコーダ
52 カラムデコーダ
53 センス回路
54 データコントロール回路
55 入出力回路
56 データアンプ
61 ロウ制御回路
61a アドレスバッファ
61b リフレッシュカウンタ
62 カラム制御回路
62a アドレスバッファ
62b バーストカウンタ
63 コントロールロジック回路
63 コントロールロジック
64 モードレジスタ
65 コマンドデコーダ
66 テストモードレジスタ
67 テスト回路
68 ウェハ試験用入出力バッファ
69 切替回路
69a デコーダ
69b AND回路
70 内部電圧発生回路
71 パワーオン検出回路
80 比較回路部
81 テスト出力制御部
81a AND回路
81b D−Latch回路
81c NOT回路
81d NAND回路
81e AND回路
81f RDFIFO
81g AND回路
82 Y2,/Y2比較部
82a NOR回路
82b NAND回路
82c NOT回路
82d NOR回路
82e NAND回路
83 Y1,Y0比較部
84 Y11,/Y11比較部
85 X13,/X13比較部
87 テスト出力制御部
87a NAND回路
87b NAND回路
87c NOT回路
87d NAND回路
87e AND回路
87f RDFIFO
90 シリコン基板
91 層間絶縁膜
92 絶縁リング
93 貫通電極の端部
94 裏面バンプ
95 表面バンプ
101 電極
102 スルーホール電極
103 再配線層
104 NCF
105 リードフレーム
106 アンダーフィル
107 封止樹脂
500 データ処理システム
510 システムバス
520 データプロセッサ
540 ストレージデバイス
550 I/Oデバイス
CC0〜CC7 コアチップ
IF インターフェースチップ
IP インターポーザ
L0〜L3 各配線層
TSV 貫通電極
TSVPT 並列テスト用貫通電極
TTSVPT 並列テスト用貫通電極端子
Claims (12)
- それぞれメモリセルアレイを有し、積層された複数のメモリチップと、
前記複数のメモリチップを貫通して設けられる複数の電流パスとを備え、
前記各メモリチップは、対応する前記メモリセルアレイから読み出されたテストデータに応じた層テスト結果信号を前記メモリチップごとに異なる前記電流パスに出力する第1のテスト回路を有することを特徴とする半導体装置。 - 前記各メモリチップとともに積層されたインターフェースチップをさらに備え、
前記インターフェースチップは、前記各電流パスを通じて前記各メモリチップから前記層テスト結果信号を受信し、外部に転送する第2のテスト回路を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記各メモリチップは、複数の貫通電極が設けられた基板をそれぞれ有し、
前記複数の電流パスは、前記各メモリチップの基板に設けられた複数の貫通電極のうち、スパイラル接続された貫通電極群により構成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。 - 前記第1のテスト回路は、前記基板内の前記複数のメモリチップに共通の所定位置に設けられた貫通電極に、前記層テスト結果信号を出力することを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
- 前記層テスト結果信号は、前記メモリセルアレイから読み出されたテストデータの情報量を圧縮してなる信号であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記第1のテスト回路は複数のメモリセルにそれぞれ記憶されるテストデータを比較する比較回路を含み、該比較回路の比較結果に基づいて前記層テスト結果信号を生成することを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。
- それぞれ基板及びメモリセルアレイを有し、積層された複数のメモリチップと、
それぞれ前記各メモリチップの基板を貫通する複数の貫通電極によって構成される複数の電流パスとを備え、
前記各メモリチップは、対応する前記メモリセルアレイに予め書き込まれたテストデータを圧縮してなる層テスト結果信号を前記メモリチップごとに異なる前記電流パスに出力する第1のテスト回路を有することを特徴とする半導体装置。 - 前記電流パスを構成する前記複数の貫通電極は、対応する前記基板内の、前記メモリチップごとに異なる位置に設けられることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
- 前記電流パスを構成する前記複数の貫通電極は、対応する前記基板内の、前記複数のメモリチップに共通の所定位置に設けられることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
- それぞれメモリセルアレイを有し、積層された複数のメモリチップと、
前記複数のメモリチップを貫通して設けられる複数の電流パスとを備える半導体装置のテスト方法であって、
前記メモリセルアレイにテストデータパターンを書き込むステップと、
前記メモリセルアレイから前記テストデータパターンを読み出して層テスト結果信号を生成するステップと、
前記各メモリチップから、前記メモリチップごとに異なる前記電流パスに前記層テスト結果信号を出力するステップとを備えることを特徴とする半導体装置のテスト方法。 - 前記半導体装置は、前記各メモリチップとともに積層されたインターフェースチップをさらに備え、
前記インターフェースチップが、前記各電流パスを通じて前記各メモリチップから前記層テスト結果信号を受信し、外部に転送するステップをさらに備えることを特徴とする請求項10に記載の半導体装置のテスト方法。 - 前記各メモリチップは、複数の貫通電極が設けられた基板をそれぞれ有し、
前記複数の電流パスは、前記各メモリチップの基板に設けられた複数の貫通電極のうち、スパイラル接続された貫通電極群により構成され、
前記各メモリチップから前記層テスト結果信号を出力するステップでは、前記基板内の前記複数のメモリチップに共通の所定位置に設けられた貫通電極に、前記層テスト結果信号を出力することを特徴とする請求項10又は11に記載の半導体装置のテスト方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009235489A JP5448698B2 (ja) | 2009-10-09 | 2009-10-09 | 半導体装置及びそのテスト方法 |
US12/923,750 US8981808B2 (en) | 2009-10-09 | 2010-10-06 | Semiconductor device and test method thereof |
KR1020100098466A KR101298032B1 (ko) | 2009-10-09 | 2010-10-08 | 반도체 디바이스 및 그 테스트 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009235489A JP5448698B2 (ja) | 2009-10-09 | 2009-10-09 | 半導体装置及びそのテスト方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013264853A Division JP2014096197A (ja) | 2013-12-24 | 2013-12-24 | 半導体装置及びそのテスト方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011082448A JP2011082448A (ja) | 2011-04-21 |
JP5448698B2 true JP5448698B2 (ja) | 2014-03-19 |
Family
ID=43854358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009235489A Expired - Fee Related JP5448698B2 (ja) | 2009-10-09 | 2009-10-09 | 半導体装置及びそのテスト方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8981808B2 (ja) |
JP (1) | JP5448698B2 (ja) |
KR (1) | KR101298032B1 (ja) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5654855B2 (ja) * | 2010-11-30 | 2015-01-14 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. | 半導体装置 |
JP2012138401A (ja) * | 2010-12-24 | 2012-07-19 | Elpida Memory Inc | 半導体装置の製造方法 |
JP2012156238A (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-16 | Elpida Memory Inc | 半導体装置 |
JP2012155814A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Elpida Memory Inc | 半導体装置及びこれを備える情報処理システム |
JP2012226794A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Elpida Memory Inc | 半導体装置、及び半導体装置の制御方法。 |
US8880968B2 (en) * | 2011-04-26 | 2014-11-04 | Texas Instruments Incorporated | Interposer having functional leads, TAP, trigger unit, and monitor circuitry |
JP2012243910A (ja) | 2011-05-18 | 2012-12-10 | Elpida Memory Inc | 半導体チップのクラックのチェックテスト構造を有する半導体装置 |
KR20130002672A (ko) | 2011-06-29 | 2013-01-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 |
US8914692B2 (en) * | 2011-08-17 | 2014-12-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | DRAM test architecture for wide I/O DRAM based 2.5D/3D system chips |
US9570196B2 (en) | 2011-09-01 | 2017-02-14 | Rambus Inc. | Testing through-silicon-vias |
TW201327567A (zh) * | 2011-09-16 | 2013-07-01 | Mosaid Technologies Inc | 具有包含專用的冗餘區域之層之記憶體系統 |
JP2013083619A (ja) * | 2011-09-27 | 2013-05-09 | Elpida Memory Inc | 半導体チップ、半導体装置、及びその測定方法 |
US9157960B2 (en) | 2012-03-02 | 2015-10-13 | Micron Technology, Inc. | Through-substrate via (TSV) testing |
US8982598B2 (en) | 2012-04-18 | 2015-03-17 | Rambus Inc. | Stacked memory device with redundant resources to correct defects |
JP5980556B2 (ja) | 2012-04-27 | 2016-08-31 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
KR101965906B1 (ko) * | 2012-07-12 | 2019-04-04 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 |
US9030026B2 (en) | 2012-12-17 | 2015-05-12 | SK Hynix Inc. | Stack type semiconductor circuit with impedance calibration |
KR102031074B1 (ko) * | 2013-05-28 | 2019-10-15 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 집적회로 칩 및 이를 포함하는 멀티 칩 시스템 |
JP2015005637A (ja) | 2013-06-21 | 2015-01-08 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. | 半導体装置 |
US9222983B2 (en) | 2013-09-16 | 2015-12-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Circuit and method for monolithic stacked integrated circuit testing |
US9110136B2 (en) * | 2013-09-27 | 2015-08-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Circuit and method for monolithic stacked integrated circuit testing |
KR102103865B1 (ko) * | 2013-11-05 | 2020-04-24 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 시스템 |
KR20160027349A (ko) | 2014-08-28 | 2016-03-10 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체장치 및 이를 포함하는 반도체시스템 |
US10074417B2 (en) * | 2014-11-20 | 2018-09-11 | Rambus Inc. | Memory systems and methods for improved power management |
KR102236572B1 (ko) * | 2014-12-30 | 2021-04-07 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 및 이를 이용한 반도체 시스템 |
KR102336455B1 (ko) | 2015-01-22 | 2021-12-08 | 삼성전자주식회사 | 집적 회로 및 집적 회로를 포함하는 스토리지 장치 |
KR20160123890A (ko) * | 2015-04-17 | 2016-10-26 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 검증용 인터포저 |
KR20170024661A (ko) | 2015-08-25 | 2017-03-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체장치 및 반도체시스템 |
KR102467885B1 (ko) * | 2016-01-07 | 2022-11-17 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 |
US10095591B2 (en) | 2016-04-18 | 2018-10-09 | Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University | Test circuit for 3D semiconductor device and method for testing thereof |
KR102312384B1 (ko) * | 2017-06-21 | 2021-10-15 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 |
KR101884573B1 (ko) * | 2017-10-10 | 2018-08-01 | 연세대학교 산학협력단 | 3차원 반도체 장치의 테스트 회로 및 그의 테스트 방법 |
KR102457825B1 (ko) | 2018-04-10 | 2022-10-24 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체시스템 |
US10777232B2 (en) * | 2019-02-04 | 2020-09-15 | Micron Technology, Inc. | High bandwidth memory having plural channels |
KR20200106734A (ko) | 2019-03-05 | 2020-09-15 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 테스트방법 및 이를 이용한 반도체칩 |
US11275111B2 (en) | 2019-09-20 | 2022-03-15 | Micron Technology, Inc. | Plurality of edge through-silicon vias and related systems, methods, and devices |
KR20220037283A (ko) | 2020-09-17 | 2022-03-24 | 삼성전자주식회사 | 테스트 보드 및 이를 포함하는 반도체 소자 테스트 시스템 |
CN117437948B (zh) * | 2023-12-21 | 2024-04-09 | 浙江力积存储科技有限公司 | 三维堆叠存储器架构及其处理方法、存储器 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0574195A (ja) | 1991-09-13 | 1993-03-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
KR100322525B1 (ko) | 1998-03-23 | 2002-06-22 | 윤종용 | 출력드라이버를공유하는병렬비트테스트회로및이를이용한병렬비트테스트방법 |
KR100319887B1 (ko) | 1999-05-04 | 2002-01-10 | 윤종용 | 프로그래머블 출력핀 지정 수단을 구비하는 반도체 메모리장치 및 이의 테스트 모드시의 독출방법 |
KR100364635B1 (ko) | 2001-02-09 | 2002-12-16 | 삼성전자 주식회사 | 칩-레벨에 형성된 칩 선택용 패드를 포함하는 칩-레벨3차원 멀티-칩 패키지 및 그 제조 방법 |
JP2004053276A (ja) * | 2002-07-16 | 2004-02-19 | Fujitsu Ltd | 半導体装置および半導体集積回路 |
JP4419049B2 (ja) | 2003-04-21 | 2010-02-24 | エルピーダメモリ株式会社 | メモリモジュール及びメモリシステム |
JP4577688B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2010-11-10 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体チップ選択方法、半導体チップ及び半導体集積回路装置 |
JP4799157B2 (ja) | 2005-12-06 | 2011-10-26 | エルピーダメモリ株式会社 | 積層型半導体装置 |
KR100816758B1 (ko) * | 2006-11-07 | 2008-03-25 | 삼성전자주식회사 | 반사파억제를 통한 신호특성이 향상된 멀티 칩 패키지 모듈을 테스트하는 테스트 장치 |
KR100850208B1 (ko) * | 2007-01-09 | 2008-08-04 | 삼성전자주식회사 | Pbt 장치 및 그 방법 |
US8059443B2 (en) * | 2007-10-23 | 2011-11-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Three-dimensional memory module architectures |
US7925949B2 (en) * | 2008-10-15 | 2011-04-12 | Micron Technology, Inc. | Embedded processor |
US20100332177A1 (en) * | 2009-06-30 | 2010-12-30 | National Tsing Hua University | Test access control apparatus and method thereof |
-
2009
- 2009-10-09 JP JP2009235489A patent/JP5448698B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-10-06 US US12/923,750 patent/US8981808B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-08 KR KR1020100098466A patent/KR101298032B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8981808B2 (en) | 2015-03-17 |
KR101298032B1 (ko) | 2013-08-20 |
KR20110039205A (ko) | 2011-04-15 |
JP2011082448A (ja) | 2011-04-21 |
US20110084722A1 (en) | 2011-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5448698B2 (ja) | 半導体装置及びそのテスト方法 | |
JP5559507B2 (ja) | 半導体装置及びこれを備える情報処理システム | |
JP5697898B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP5593053B2 (ja) | 半導体装置 | |
US9053771B2 (en) | Semiconductor system | |
US8848473B2 (en) | Semiconductor device and test method thereof | |
JP5564230B2 (ja) | 積層型半導体装置 | |
JP5684590B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5586915B2 (ja) | 半導体記憶装置及びこれを備える情報処理システム | |
JP5448697B2 (ja) | 半導体記憶装置及びデータ処理システム | |
JP2012209497A (ja) | 半導体装置 | |
JP2012155814A (ja) | 半導体装置及びこれを備える情報処理システム | |
JP2012226794A (ja) | 半導体装置、及び半導体装置の制御方法。 | |
JP2011081885A (ja) | 半導体装置及びその制御方法並びにデータ処理システム | |
JP2011180848A (ja) | 半導体装置及びこれを備える情報処理システム、並びに、半導体装置を制御するコントローラ | |
JP2011081884A (ja) | 半導体記憶装置及びこれを備える情報処理システム | |
JP2011082449A (ja) | 半導体装置 | |
JP2011081886A (ja) | 半導体装置 | |
JP2011081730A (ja) | 半導体装置及びこれを備える情報処理システム | |
JP2013105512A (ja) | 半導体装置 | |
JP6467618B2 (ja) | 積層型半導体装置 | |
JP2014096197A (ja) | 半導体装置及びそのテスト方法 | |
JP5972938B2 (ja) | 半導体記憶装置及びこれを備える情報処理システム | |
JP2011138999A (ja) | 半導体装置及びその制御方法 | |
JP2015008034A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120802 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20130730 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130822 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131224 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |