JP5410673B2 - 高融点金属製造用反応容器およびその処理方法 - Google Patents
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Description
本発明に係る高融点金属製造用反応容器は、素材は限定されないが、反応温度に耐え、かつその内面が炭素鋼で内張りされた反応容器であればいずれの反応容器であっても良い。特に、ステンレス鋼の反応容器であれば好ましく本発明を適用することができる。以下、ステンレス鋼で構成された反応容器を例にして、反応容器に対する合金層の形成方法について以下に説明する。
[実施例1]
図1に示した反応容器を用い、下記の条件にて、反応容器の内面に金属チタンの合金層を形成した。
1.反応容器
材質:SUS316、
大きさ:直径1900mm×長さ5000mm
2.原料金属
種類:スポンジチタン
サイズ:50mm〜150mm
気孔率:30%〜50%
3.処理条件
温度:1000℃
真空度:10〜50Pa
加熱時間:41時間
実施例1において、メーカーより納品された反応容器をチタンコーティング処理しない状態でスポンジチタンを製造した。その後、実施例1と同様に製品スポンジチタンの歩留まりを調査した。
実施例1において、スポンジチタンの代わりに板状のチタンスクラップを用いた以外は同じ条件で金属チタンの合金層の形成を試みた。しかしながら、前記処理後の反応容器内面を観察したところ、元のステンレスの地肌が観察されて金属チタンの合金層は観察されなかった。
2 原料金属
3 原料金属保持容器
4 台座
5 減圧装置
6 バルブ
Claims (2)
- チタン、ジルコニウム、ハフニウムから選択される高融点金属の塩化物を還元して上記高融点金属を製造する炭素鋼またはステンレス鋼製の反応容器において、上記反応容器の内壁表面に、製造される高融点金属と同じ金属と、上記反応容器を構成する金属とからなる厚みが10μm〜50μmの合金層が形成されており、
上記高融点金属の合金層は、未使用の上記反応容器内に、鉛直方向に複数段の皿状容器を配設し、上記皿状容器上に上記合金層形成用のスポンジチタン、スポンジジルコニウムまたはスポンジハフニウムを装入した後、上記反応容器内を10〜100Paの減圧下にて900℃〜1000℃の範囲で加熱保持して上記スポンジ状高融点金属を蒸発させ、上記反応容器の内壁表面に形成したものであることを特徴とする高融点金属製造用反応容器。 - チタン、ジルコニウム、ハフニウムから選択される高融点金属の塩化物を還元して上記高融点金属を製造する炭素鋼またはステンレス鋼製の反応容器において、
未使用の上記反応容器内に、鉛直方向に複数段の皿状容器を配設し、上記皿状容器上に上記合金層形成用のスポンジチタン、スポンジジルコニウムまたはスポンジハフニウムを装入し、
上記反応容器内を10〜100Paの減圧下にて900℃〜1000℃の範囲で加熱保持して上記スポンジ状高融点金属を蒸発させ、
上記反応容器の内壁表面に、製造される高融点金属と同じ金属と、上記反応容器を構成する金属とからなる厚みが10μm〜50μmの合金層を形成することを特徴とする高融点金属製造用反応容器の処理方法。
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