JP5381134B2 - 光走査装置及びこれを使用する画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、電子写真方式を用いたレーザプリンタ、デジタル複写機等の画像形成装置に用いられる、像担持体上に潜像を形成し、かつカラー画像の色ずれ補正ができる光走査装置及びこれを使用する画像形成装置に関するものである。

レーザプリンタ又はデジタル複写機においては、高品質な画像、高速度、省スペース、省エネルギ、低コストなどが要求され、さまざまな画像形成装置が製品化されている。
レーザプリンタ、デジタル複写機等の画像形成装置における上述したさまざまな要求を満足させるために各種の技術が提案されている（例えば、特許文献１乃至３参照）。
特許文献１及び２には、１対の非平行フォトダイオード間を走査ビームが通過する時間を計測し、時間差を求めることにより副走査方向の走査位置、すなわち書き込み開始位置を検知する副走査ビーム位置検出手段を設置し、光軸方向に空間を隔てていない設置場所で検出する技術が開示されている。
詳述すれば、特許文献２には、その図４を参照して説明するように、フォトダイオードＰＤ１、ＰＤ１’の受光面は走査ビームに直交し、フォトダイオードＰＤ２、ＰＤ２’の受光面はフォトダイオードＰＤ１、ＰＤ１’の受光面に対して傾いている。この傾きをα１とする。また、上記ヒータ熱による温度変化前の走査ビームをＬ１、温度変化後の走査ビームをＬ２とした時、副走査方向に△Ｚ（未知）ずれたとする。
この場合、１対の非平行フォトダイオード間、すなわち、非平行フォトダイオードＰＤ１とＰＤ２との間、或いは、非平行フォトダイオードＰＤ１’とＰＤ２’との間を走査ビームＬ１、Ｌ２が通過する時間Ｔ１、Ｔ２を計測し、Ｔ２−Ｔ１の時間差を求めることにより、副走査方向の走査位置、すなわち、書き込み開始位置をモニタ、検知することが記載されている。このような構成の場合においては、副走査ビーム位置検出において誤差が生じる。
特許文献３には、副走査ビーム位置を検出する手段として、対向する２以上の辺縁が平行で直線をなし、平行で直線をなす辺縁のうち、少なくとも１つの辺縁が副走査方向と非平行な角度を持つように配置された複数のセンサからなる、被走査面上での光ビームの走査位置を検出してビーム位置検出信号を出力する手段１９を用いる技術が開示されている。

しかしながら、上述した従来技術においては、光ビームの主走査及び副走査位置を検出して画像の補正を行なう例が提案されているが、複数の反射手段を用いた光走査装置では光ビームが副走査方向に複雑に進行する場合があり、その際の光ビームの副走査方向の検出に関して誤差が大きくなる場合がある。
図１２は光走査装置の従来例を示す平面展開図である。図１２の従来の光走査装置１０６においては、レーザ光を発振する半導体レーザ２１から射出されたレーザ光は、コリメートレンズ２２を透過し、アパーチャ２３にてビーム整形され、線像結像光学系であるシリンドリカルレンズ２４に入射する。
このシリンドリカルレンズ２４は副走査方向にパワーを有しており、光偏向手段（ポリゴンミラー）２５の反射面近傍に集光させる。光偏向手段２５により反射された光ビームは、光偏向手段２５の等速回転に伴って等角速度的に偏向され、走査レンズ２６を透過し、感光体１０上に至る。

図１２では平面上に示したが、実際には、その間の光路中に適宜反射手段（ミラー）を配置している。レーザ光は画像信号に基づいて変調され、感光体上１０に潜像を形成する。
光ビームは感光体１０上を走査するのに先立って、同期検知装置３０にて水平同期信号を得、走査ごとの同期を取る。図１２で、符号２８は同期ミラー、３１は同期レンズ、３２は光電変換素子、３３は同期回路基板である。
光ビームの副走査位置は、光路中にある各光学素子（レンズやミラー）の取り付け姿勢や熱膨張による形状の変化などに起因して変化する。そのため、従来から副走査ビーム位置を補正することが行なわれている。
画像形成動作を伴う補正方法（中間転写手段上に通常の画像形成と同じようにして補正値検出パターン画像を形成し、それを検出することによって補正値を得る）の場合、トナーが消費されてしまう。

また、連続で画像を出力する場合に、副ビーム位置変動による色ずれが規定値を超えると予測された時点で、画像形成動作を中断して、補正動作を行なうことがある。
これは使用者が連続で画像を出力したいという要求に反して、出力を中断させるため、いわゆるダウンタイムを作ってしまい、画像形成装置の生産性を悪化させることになる。これらの不具合は、画像形成動作を伴わない補正動作を行なうことができれば解消することができる。
実際は、画像形成を全く行わないで画像補正を行なうことは難しく、画像形成を伴う補正にて定量的な補正を行ない、画像形成を伴わない補正にて相対的な（補間的な）補正を行なうことで、上記のような連続画像出力時に画像形成を中断するような不具合を解消する。
画像形成を伴わない補正方法としては、感光体上の光ビームの照射位置を測定し、その結果をフィードバックする方法が考えられる。感光体上のビーム照射位置は、感光体上もしくはその近傍で直接ビームを検出すれば、誤差の少ない検出が可能である。

しかし、感光体の近傍には必然的に現像装置があり、検出手段がトナーなどで汚れることにより検出機能が低下してしまうことが懸念される。そこで、光ビーム検出手段を光走査装置内に設ける構成が考えられるが、この場合は、感光体近傍で検出する場合と比べて、検出誤差が大きくなることが懸念される。
そこで、本発明の目的は、上述した実情を考慮して、光走査装置内に光ビーム検出手段を搭載し、この光ビーム検出手段を光軸方向に空間を隔てた２箇所に配置することにより、これら２箇所での検出結果に基づいて、ビームの副走査方向の位置変動を正確に検出して感光体上での光ビーム照射位置を精度よく検出する光走査装置及びこの光走査装置を搭載する画像形成装置を提供することにある。

上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、変調された書き込みデータに応じて発光する光源と、該光源から発光された光を偏向走査する光偏向手段と、前記光源から前記光偏向手段の間に配置された第１光学系と、前記光偏向手段により偏向された走査光を像担持体上に結像する第２光学系と、該走査光学系を透過した走査光を前記像担持体に導くために反射する複数の反射手段と、前記光源、前記光偏向手段、前記第１光学系、前記第２光学系、前記反射手段を収容するハウジングと、を備え、電子写真方式を用いた画像形成装置の像担持体上に光ビームを照射する光走査装置において、前記ハウジング内部であって、少なくとも１つの像担持体に向かう走査光路中の最終段の反射手段以降に、前記最終段の反射手段により反射された走査光である光ビームの進行方向及び主走査方向に距離を隔てた２箇所で、光ビームの副走査位置を検出する第１のビーム検出手段と第２のビーム検出手段とからなるビーム位置検出手段を配置する光走査装置を特徴とする。
また、請求項２に記載の発明は、走査ビームの走査開始側及び走査終端側の２箇所に前記ビーム位置検出手段を配置する請求項１記載の光走査装置を特徴とする。
また、請求項３に記載の発明は、それぞれのビーム位置検出手段において検出した２箇所の位置情報から光ビームの前記像担持体上での照射位置を算出し、その値に基づいて各光ビームの副走査位置の補正値を算出する請求項１又は２記載の光走査装置を特徴とする。
また、請求項４に記載の発明は、像担持体上に光ビームを照射して静電潜像を形成する構成を有する光走査装置として請求項１乃至３のいずれか１項記載の光走査装置を使用する画像形成装置を特徴とする。

本発明によれば、光ビーム検出手段を光軸方向に空間を隔てた２箇所に配置することにより、これら２箇所での検出結果に基づいて、ビームの副走査方向の位置変動を正確に検出して、副走査方向の光ビーム位置を精度よく検出することが可能である。

本発明を適用し得る画像形成装置の構成を示す概略図である。 本発明の光走査装置の構成の第１の実施の形態を模式的に示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図である。 反射手段が複数ある場合のビームの変位を拡大して示す概略図である。 本発明の光走査装置の構成を示す部分断面図である。 防塵部材での屈折を示す拡大図である。 本発明の光走査装置の構成の第２の実施の形態を模式的に示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図である。 本発明による光ビームの副走査位置補正を説明する簡略ブロック回路図である。 （ａ）及び（ｂ）は、ピッチ単位で補正する例として４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位をグラフで示す第１の図である。 （ａ）及び（ｂ）は、ピッチ単位で補正する例として４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位をグラフで示す第２の図である。 （ａ）及び（ｂ）は、ピッチ単位で補正する例として４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位をグラフで示す第３の図である。 （ａ）及び（ｂ）は、ピッチ単位で補正する例として４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位をグラフで示す第４の図である。 光走査装置の従来例を示す平面展開図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は本発明を適用し得る画像形成装置の構成を示す概略図である。図１を用いて画像形成装置１０１について説明する。
この画像形成装置１０１の、複数の感光体ドラム（感光体）１１０には、回転方向の順に帯電手段１０８、露光手段（光走査装置）１０６、現像手段１０２、転写手段１１２、１１３、クリーニング手段１０７、がそれぞれ配設されている。
帯電手段はローラ状に形成された導電性の帯電ローラ１０８からなり、この帯電ローラ１０８に帯電バイアス電圧が電源装置（図示せず）から供給され、感光体ドラム１１０表面を一様に帯電させる。
光走査装置（露光手段）１０６は、画像データに基づいて、点灯／消灯するレーザ光を感光体ドラム１１０表面に照射し、感光体ドラム１１０上に静電潜像を形成する。
現像手段１０２は、感光体ドラム１１０上に形成された静電潜像を、トナーを含む現像剤にて顕像化する。転写手段１１２は、感光体ドラム１１０上の顕像を感光体ドラム１１０から転写する。クリーニング手段１０７は、転写後に感光体ドラム１１０上に残留する現像剤を除去する。

図１は、複数の感光体ドラム１１０上のトナー像を中間転写体１１１に各々転写した後、転写手段１１３によって紙等の転写材（記録媒体）に転写する構成の例である。転写材１０３ａは給紙手段１０３のローラ１０３ｂにより１枚ずつ分離されてレジストローラ１０３ｃに搬送され、さらに上記の転写手段１１３に搬送される。
給紙ローラ１０３ｂを構成する支持部材１０３ｅが存在する。転写材１０３ａは定着手段１０４に搬送され、トナー像を定着させ、上部の排紙ローラ１０５に搬送されて画像形成装置外部に排紙される。図１において、感光体ドラム１１０と光走査装置１０６との位置関係は、光走査装置１０６が上方で感光体ドラム１１０が下方になっているが、逆の位置関係においても、同様に配置が可能である。
画像形成装置１０１内に配置する複数の感光体ドラム１１０は、等間隔に略一列に並べるのが一般的な構成である。現在、カラー画像形成のために、４つの色（黒（Ｋ）マゼンタ（Ｍ）シアン（Ｃ）イエロー（Ｙ））を用いたプロセスが一般的であるが、最近では、カラー画像の色再現の向上のためにさらに多くの色を用いるプロセスも現われている。

感光体ドラム１１０の間隔が等間隔であるのが一般的と述べたが、カラー画像形成装置で白黒画像を出力する時の利便性を考慮して、Ｋ感光体ドラム１１０のみを他の感光体ドラム１１０の配列から少しずらせてあるものもある。例えば、図１では、右端のＫ感光体ドラム１１０の位置が他の３つの感光体ドラム１１０の位置に比べて上下方向で幾らか下にある。
また、２つずつの感光体ドラム１１０を等間隔にして互いには異なる距離に配置されているものもある。それらは作像プロセスに関するいろいろな理由で工夫されている例である。
光走査装置１０６は、４つの感光体ドラム１１０に各々１つのビームを照射している。光偏向手段２５を挟んで両側に第２光学系を構成する走査レンズ２６を配置している。感光体ドラム１１０間距離と両側の走査レンズ間の距離はほぼ同程度であり、ミラーの配置を工夫して、４つの感光体ドラム１１０へビームを照射するようにしている。

図２は本発明の光走査装置の構成の第１の実施の形態を模式的に示す正面図（ａ）、平面図（ｂ）、側面図（ｃ）である。光ビームをその進行方向に空間を隔てた２箇所で検出することにより、ビームの位置及び方向を得、このビームの位置及び方向を用いて光ビームの感光体照射位置を算出する。
光ビームの進行方向に、空間を隔てた２箇所にビーム検出手段５０、５１を設け、走査光の走査開始側で、通常同期検知を行ない、画像の主走査方向の同期を取る。この同期検知の機能を含めて光ビームを検出する。
図２の正面図（ａ）、平面図（ｂ）、及び側面図（ｃ）において、第１のビーム検出手段５０と第２のビーム検出手段５１とがビームの進行方向Ａ及び主走査方向Ｂに距離を隔てて配置されている。画像領域外のビームを受光して、副走査方向の位置を検出する。
検出手段としては、ラインＣＣＤや非平行フォトダイオード（ＰＤ）などが挙げられる。ラインＣＣＤでは、ビームが通過した位置のＣＣＤの出力が大きいので、それにより副走査方向の位置が検出できる。非平行フォトダイオード（ＰＤ）では、２つの非平行フォトダイオード（ＰＤ）間を通過する時間をカウントすることで、副走査方向の位置を検出できる。

図２では１本の線でビームを示しているが、実際は連続的な走査ビームがビーム検出手段５０、５１に入射する。まず、第１のビーム検出手段５０を露光走査し、次いで、第２のビーム検出手段５１を露光走査する。
また、図２では第１のビーム検出手段５０が上方（感光体ドラム１１０から遠い）、第２のビーム検出手段５１が下方（感光体ドラム１１０に近い）に描いているが、その位置関係はそれに限定されるものではなく、逆でもよい。これら２つのビーム検出手段５０、５１でのビーム位置によって、その後の光路が把握できるので、感光体ドラム１１０上の照射位置を精度よく算出することができる。
光路中に反射手段が複数ある場合、それぞれの反射手段の取り付け姿勢の変化によるビーム位置の変化が重ね合わされるため、それぞれの反射手段での変化の方向が同じ場合は加算され、変化の方向が逆の場合は打ち消される。
そのため、光路中の１箇所でビーム位置を検出した場合、感光体ドラム１１０上のビーム位置を正確に検出できない場合がある。実際の変位は１００μｍ程度である。しかし、以下の図３では、説明のためにこの変位を拡大して示している。

図３は反射手段が複数ある場合のビームの変位を拡大して示す概略図である。図３に示すように、実線で示したビームａに対して、ミラー６１が左回りに、ミラー６２が左回りに、ミラー６３が右回りにそれぞれ微小な角度変位した場合、破線で示すビームｂのような経路で図示しない感光体ドラムに到る。
この時、矢印Ｃで示す箇所にビーム位置検出手段があった場合には、ビーム位置がほとんど変化していないので、出力もほとんど変化しないが、実際に感光体ドラム上のビーム位置ｂは、ビームａに対して図に示すようにかなりずれている。
この時、矢印Ｃで示す箇所と空間を隔てた別の箇所（矢印ｄ）においてもビームを検出することにより、ビームの位置及び方向が得られるので、光走査装置から出射後の光路を精度よく算出することができる。このように、空間を隔てた２箇所でビームを検出することが重要である。

図４は本発明の光走査装置の構成を示す部分断面である。図４のように、この光走査装置のハウジング（筐体）３４内の光ビーム検出手段５０、５１の後段で、ハウジング３４の底部にハウジング３４から走査光を出射するために開口５２が設けられている。この開口５２には外部からの塵埃の侵入を防ぐために防塵部材５３が取り付けられることが多い。
防塵部材５３としては平板ガラスが一般的である。平板ガラスなどの平行平板はレンズのような作用がないため、光が透過した後の光の進行方向は平行である。この時、副走査方向にずれる量ｅは、屈折の法則と平行平板の厚さｔを用いて算出できる。
図５は防塵部材での屈折を示す拡大図である。図５において、防塵部材５３は厚さｔを有している。図中の符号ｎ₁、ｎ₂は媒質の屈折率、θ₁は入射角、θ₂は屈折角、ｅはビームのずれ量である。
ずれ量ｅは以下のように求められる。
ｎ₁ｓｉｎθ₁＝ｎ₂ｓｉｎθ₂
ｅ＝［ｔ・ｃｏｓ（θ₁−θ₂）］／ｃｏｓθ₂

図６は本発明の光走査装置の構成の第２の実施の形態を模式的に示す正面図、平面図、及び側面図である。この第２の実施の形態では、走査光の走査開始側及び終端側の空間を隔てた感光体上の２箇所で、光ビームをその進行方向に空間を隔てた２箇所で検出することにより、ビームの位置及び方向を得、このビームの位置及び方向を用いて光ビームの感光体照射位置を算出する。
光ビームの進行方向に、空間を隔てた２箇所にビーム検出手段を設け、走査光の走査開始側で、通常同期検知を行ない、画像の主走査方向の同期を取る。この同期検知の機能を含めて光ビームを検出する。
図６の正面図（ａ）、平面図（ｂ）、及び側面図（ｃ）において、走査光の走査開始側及び終端側の空間にそれぞれ第１の検出手段５０と第２の検出手段５１とがビームの進行方向Ａ及び主走査方向Ｂに距離を隔てて配置されている。画像領域外のビームを受光して、副走査方向の位置を検出する。

走査光ビームの走査開始側及び終端側の空間を隔てた２箇所に、ビーム位置検出手段を配置して副走査方向の光ビーム位置の偏差を精度よく検出することにより、副走査光ビーム位置の平均的な変位が算出できる。これにより、副走査方向の光ビームの位置変化を平均的な値で見積もることができる。
検出箇所が第１の実施の形態のように開始側のみの場合も、また、開始側と終端側の２箇所で行なう場合でも、実際の副走査ビーム位置の変化の傾向を予め把握しておくことが大事である。
副走査ビーム位置の連続的な補正は、光ビームの副走査位置を連続的に検知しながら、その結果に合せて、公知技術である特開２００４−００４１９１号公報に記載された副走査位置変換素子を動作させて、所望の位置に停止することができる。

従来のように画像形成を伴った画像補正動作の場合は、数１０秒の時間を要したが、この例のように、画像形成を伴わずに補正を行なう場合は、数秒あるいはそれ以下の時間で補正を行なうことができる。これらの動作のメリットは、とくに画像を連続で出力する際に有用である。
副走査ビーム位置の不連続な（ピッチ単位）補正は、副走査位置変換素子などを用いずに位置補正する方法として、画像信号の副走査のタイミングを変化させることが挙げられる。
この場合、走査ピッチ単位での補正になる（例えば、６００ｄｐｉ画像では、４２．３μｍピッチ）。画像による補正を行なった際、その結果（データ（甲））を記憶すると同時に光ビームの副走査位置検出値（データ（乙））を記憶しておく。
光ビームの副走査位置検出値とデータ（乙）との差より、副走査位置の変化（相対値）を捉え、データ（甲）と合せて勘案することにより、副走査位置補正を行なうかどうかを算出する。

図７は本発明による光ビームの副走査位置補正を説明する簡略ブロック回路図である。図７において、記憶手段６４には副走査位置検出値（データ（甲）、データ（乙））が記憶されており、第１のビーム検出手段５０と第２のビーム検出手段５１による副走査方向の光ビーム位置検出値に基づいて演算手段（ＣＰＵ）６５にてビーム位置を算出し、データ（乙）との比較により相対的なビーム位置偏差を精度よく検出し、副走査光ビーム位置の補正を行なうかどうかの判断を行なう。
図８はピッチ単位で補正する例として４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位をグラフで示す第１の図である。図９はピッチ単位で補正する例として４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位をグラフで示す第２の図である。
図１０はピッチ単位で補正する例として４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位をグラフで示す第３の図である。図１１はピッチ単位で補正する例として４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位をグラフで示す第４の図である。

図８乃至図１１には、４つのビームの副走査方向の時間経過に対する変位を色ずれとともに示している。４つのビームの副走査方向の変位の傾向が図８（ａ）のようである場合、最大の色ずれは、ビーム２とビーム３の差であり、図８（ｂ）の太線で示したようになる。
実際の画像形成装置においては、初期の色ずれは図８のようにゼロではなく、図９のように或る値を持っている。ビーム２やビーム４のように時間経過とともにプラスに変位するものとビーム１やビーム３のようにマイナス変位するものが分布している。
この時、Ｋ、Ｍ、Ｃ、Ｙのどの色のビームがどういう傾向で変化するかは予め解かっているので、開始時点での値（データ（甲））に変化する値（データ（乙））を合せることで、その時々の色ずれの大きさを予測することができる。
６００ｄｐｉでは４つのビームの副走査位置のずれの最大値は、ピッチの３／４で約３１μｍである。仮に、色ずれが３１μｍになる時に補正を入れるとすると、図８（ｂ）で太線が３１μｍを超える時刻（２分）でビーム２の副走査位置を１ピッチ補正して、図１０（ｂ）のようになる。
さらに時間が経って、再び３１μｍを超える時刻（７分２０秒）で、次は、ビーム１及びビーム３の副走査位置を１ピッチ補正する（図１１（ｂ））。このような動作を繰り返し行なう。

上述した時刻についてさらに説明すると、図１０（ｂ）のグラフに記載の太線（色ずれ）の値が縦軸スケールで３１μｍとクロスする位置を横軸スケールで見ると、２分を示し、図１１（ｂ）のグラフに記載の太線（色ずれ）の値が縦軸スケールで３１μｍとクロスする位置を横軸スケールで見ると、７分２０秒を示している。
本発明の画像形成装置によれば、それぞれのビーム位置検出手段において検出した２箇所の位置情報から光ビームの像担持体上での照射位置を算出し、その値に基づいて各光ビームの副走査位置の補正値を算出する。光ビームの副走査方向位置の補正を精度よくかつ画像形成を介さずに短時間で行なうことが可能であり、画像形成装置の生産性向上、寿命向上、経費節減・画質向上などに貢献することができる。

２０ 光走査装置、２１ 光源（レーザ光源）、２２ 第１光学系（コリメートレンズ）、２３ 第１光学系（開口（アパーチャ））、２４ 第１光学系（シリンドリカルレンズ）、２５ 光偏向手段（ポリゴンミラー）、２６ 第２光学系（走査レンズ）、２７ 第２光学系（反射手段（ミラー））、２８ 同期用ミラー、３０ 同期検知装置、３１ 同期レンズ、３２ 受光素子、３３ 同期検知基板、３４ ハウジング（筐体）、５０ ビーム位置検出手段（第１の検出手段）、５１ ビーム位置検出手段（第２の検出手段）、５２ 開口、５３ 防塵部材、１０１ 画像形成装置、１０２ 現像手段、１０３ 給紙手段、１０４ 定着手段、１０６ 光走査装置（露光手段）、１０７ クリーニング手段、１０８ 帯電手段、１１０ 像担持体（感光体ドラム）、１１１ 中間転写体、１１２ １次転写手段、１１３ ２次転写手段

特開２００７−０７６３０５公報 特開２００７−２１２９３８公報 特開２００５−１５６９９２公報

Claims (4)

1. 変調された書き込みデータに応じて発光する光源と、該光源から発光された光を偏向走査する光偏向手段と、前記光源から前記光偏向手段の間に配置された第１光学系と、前記光偏向手段により偏向された走査光を像担持体上に結像する第２光学系と、該走査光学系を透過した走査光を前記像担持体に導くために反射する複数の反射手段と、前記光源、前記光偏向手段、前記第１光学系、前記第２光学系、前記反射手段を収容するハウジングと、を備え、電子写真方式を用いた画像形成装置の像担持体上に光ビームを照射する光走査装置において、
   前記ハウジング内部であって、少なくとも１つの像担持体に向かう走査光路中の最終段の反射手段以降に、前記最終段の反射手段により反射された走査光である光ビームの進行方向及び主走査方向に距離を隔てた２箇所で、光ビームの副走査位置を検出する第１のビーム検出手段と第２のビーム検出手段とからなるビーム位置検出手段を配置することを特徴とする光走査装置。
2. 走査ビームの走査開始側及び走査終端側の２箇所に前記ビーム位置検出手段を配置することを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
3. それぞれのビーム位置検出手段において検出した２箇所の位置情報から光ビームの前記像担持体上での照射位置を算出し、その値に基づいて各光ビームの副走査位置の補正値を算出することを特徴とする請求項１又は２記載の光走査装置。
4. 像担持体上に光ビームを照射して静電潜像を形成する構成を有する光走査装置として請求項１乃至３のいずれか１項記載の光走査装置を使用することを特徴とする画像形成装置。

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