JP5304793B2 - 炭化珪素単結晶の製造方法 - Google Patents
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Description
(1)0.50<x<0.68、0.08<y<0.35および0.08<z<0.35、又は
(2)0.40<x≦0.50、0.15<y<0.40および0.15<z<0.35
を満たす組成を有する合金であることを特徴とするSiC単結晶の製造方法である。
(1)0.50<x<0.68、0.08<y<0.35および0.08<z<0.35、又は
(2)0.40<x≦0.50、0.15<y<0.40および0.15<z<0.35
なる条件を満たす場合にのみ、成長SiC単結晶への窒素の混入が効果的に抑制され、キャリア密度が低下することを見出した。
本発明の方法に従って単結晶基板上にSiC単結晶薄膜を成長させることにより、キャリア密度が低く、着色が少ない大型のエピタキシャル膜付きウエハを効率よく製造することができる。こうして製造されたSiC単結晶薄膜はMOSFETなどのパワーデバイスの活性層として有用である。
(1)0.50<x<0.68、0.08<y<0.35、及び0.08<z<0.35、又は
(2)0.40<x≦0.50、0.15<y<0.40、及び0.15<z<0.35
の一方の条件を満たす組成を有する。溶媒がこの条件を満たす組成のSi−Cr−Ti合金である場合にのみ、成長SiC単結晶への窒素の混入が大幅に抑制され、キャリア密度が5×1017/cm3以下と低く、従って高抵抗で、かつ透明なSiC単結晶を成長させることが可能となる。特に、キャリア密度を1x1017/cm3未満に低下させたい場合には、0.53<x<0.65、0.1<y<0.3、かつ0.1<z<0.3を満たす組成が好適である。
この単結晶製造装置は、融液状態のSiC溶液1を収容した、内径80mm、高さ150mmの高純度黒鉛坩堝2を備え、坩堝2は水冷ステンレスチャンバー8内に配置されている。黒鉛坩堝の外周は断熱材6により保温されており、さらにその外周に誘導加熱用の高周波コイル7が設けている。この高周波コイルの巻き数、巻き間隔および黒鉛坩堝と高周波コイルの相対的な位置関係を調節することによって、溶液の高さ方向の温度分布を制御することができる。単結晶製造装置内の雰囲気は、ガス導入口9とガス排気口10を利用して、大気圧下の不活性ガス(アルゴンガス)雰囲気に調整されている。底面に種結晶基板4が取り付けられた結晶保持具(シード軸)3は、内部に水冷機構が組み込まれている。
Claims (5)
- Si合金の融液からなる溶媒中にCが溶解したSiC溶液に種結晶を浸漬し、少なくとも種結晶近傍の溶液を過冷却により過飽和状態とすることによって種結晶上にSiC単結晶を成長させるSiC単結晶の製造方法であって、
前記Si合金が、SixCryTizで示され、かつ、x、y及びz(それぞれ原子%)が、
(1)0.50<x<0.68、0.08<y<0.35および0.08<z<0.35、又は
(2)0.40<x≦0.50、0.15<y<0.40および0.15<z<0.35
を満たす組成を有する合金であることを特徴とするSiC単結晶の製造方法。 - x、yおよびzが0.53<x<0.65、0.1<y<0.3および0.1<z<0.3を満たす、請求項1記載のSiC単結晶の製造方法。
- 前記SiC溶液が大気圧の不活性ガス雰囲気下に保持されている請求項1又は2に記載のSiC単結晶の製造方法。
- 種結晶基板上にSiC単結晶の薄膜を有するSiCエピタキシャル膜付きウエハの製造方法であって、請求項1又は2に記載の方法によってSiC単結晶の薄膜を前記基板上に成長させることを特徴とする、SiCエピタキシャル膜付きウエハの製造方法。
- 前記SiC単結晶薄膜のキャリア密度が5×1017/cm3以下である、請求項4に記載のSiCエピタキシャル膜付きウエハの製造方法。
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