JP5304255B2 - 炭化ケイ素基板、エピタキシャルウエハおよび炭化ケイ素基板の製造方法 - Google Patents
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Description
また残渣は、コロイダルシリカ、酸化クロム、ダイヤモンド、接着剤、およびワックスからなる群より選ばれた少なくとも一種の物質よりなる。これにより、下地基板を準備するための研磨する工程時に、上記材料の研磨剤、固定剤などを用いることができる。
また残渣は、0.01nm以上10μm以下の直径を有する。10μmを超える直径の残渣は洗浄中、自重で落ちやすいため、SiC基板の主面に付着しにくい。つまり、10μm以下の直径の残渣が容易に測定される。一方、0.01nm未満の残渣は、欠陥に起因する残渣となりにくい。つまり、0.01nm以上の残渣がそれ自体が起因となる欠陥をエピタキシャル層に発生する。このため、上記直径の残渣を特定することで、エピタキシャル層に発生する欠陥をより抑制することができる。
図1を参照して、本発明の一実施の形態のSiC基板10を説明する。SiC基板10は、主面11を有している。
本実施の形態におけるSiC基板は、図1に示す実施の形態1のSiC基板10と同様である。
本実施の形態におけるSiC基板は、図1に示す実施の形態1のSiC基板10と同様である。
図6を参照して、本実施の形態におけるエピタキシャルウエハ20を説明する。本実施の形態におけるエピタキシャルウエハ20は、実施の形態1〜3のSiC基板10と、SiC基板10の主面11上に形成されたエピタキシャル層21とを備えている。
本発明例1のSiC基板の製造方法は、基本的には実施の形態1のSiC基板の製造方法にしたがった。
本発明例2のSiC基板の製造方法は、基本的には実施の形態3のSiC基板の製造方法にしたがった。つまり、本発明例2のSiC基板の製造方法では、アルカリ性溶液を用いて下地基板を洗浄する工程は3回であった。
本発明例3のSiC基板の製造方法は、基本的には本発明例2のSiC基板の製造方法と同様の工程を備えていたが、第2アルカリ洗浄工程(S13)を備えていない点において異なっていた。つまり、本発明例3のSiC基板の製造方法では、アルカリ性溶液を用いて下地基板を洗浄する工程は2回であった。なお、本発明例3のSiC基板として、10枚製造した。
比較例1のSiC基板の製造方法は、基本的には本発明例1のSiC基板の製造方法と同様の工程を備えていたが、第2アルカリ洗浄工程(S13)を備えていない点において異なっていた。つまり、比較例1のSiC基板の製造方法では、アルカリ性溶液を用いて下地基板を洗浄する工程は1回であった。なお、比較例1のSiC基板として、10枚製造した。
本発明例1〜3および比較例1について、アルカリ性の溶液を用いて洗浄した後に、主面の残渣を測定した。その結果を下記の表1に記載する。残渣の測定は、SiC基板の主面について、50μm四方の視野で、AFMを用いて5点測定したときの平均値とした。5点は、図1(B)に示すような以下の領域とした。まず、主面の中心から1cm四方の範囲内の1点とした。また、<11−20>方向へ中心を挟んで中心から半径の70%の長さまで離れたそれぞれ位置を中心とした直径の1/2cm四方の範囲の2点とした。また、<1−100>方向へ中心を挟んで中心から半径の70%の長さまで離れたそれぞれ位置を中心とした直径の1/2cm四方の範囲の2点とした。測定した残渣は、0.01nm以上10μm以下の直径を有していた。
表1に示すように、アルカリ性溶液で2回以上洗浄した本発明例1〜3では、エッチング工程(S18)前の主面の残渣が5個以上199個以下であった。一方、アルカリ性溶液で1回しか洗浄しなかった比較例1では、エッチング工程(S18)前の主面の残渣が200〜300個であった。
Claims (11)
- 主面を有し、かつ炭化ケイ素からなる下地基板を準備する工程と、
前記主面を第1のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程と、
前記第1のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程後に、前記主面を第2のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程とを備えた炭化ケイ素基板であって、
前記主面を有し、
前記主面の残渣は、コロイダルシリカ、酸化クロム、ダイヤモンド、接着剤、およびワックスからなる群より選ばれた少なくとも一種の物質よりなり、かつ0.01nm以上10μm以下の直径を有し、
前記主面の前記残渣が50μm四方で0.2個以上200個未満である、炭化ケイ素基板。 - 前記主面の前記残渣が50μm四方で0.2個以上50個以下である、請求項1に記載の炭化ケイ素基板。
- 主面を有し、かつ炭化ケイ素からなる下地基板を準備する工程と、
前記主面を第1のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程と、
前記第1のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程後に、前記主面を第2のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程と、
前記第2のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程後に、前記主面をエッチングする工程とを備えた炭化ケイ素基板であって、
前記主面を有し、
前記主面の残渣は、コロイダルシリカ、酸化クロム、ダイヤモンド、接着剤、およびワックスからなる群より選ばれた少なくとも一種の物質よりなり、かつ0.01nm以上10μm以下の直径を有し、
前記主面の前記残渣が50μm四方で0.2個以上5個以下である、炭化ケイ素基板。 - 前記主面の前記残渣が50μm四方で0.2個以上0.4個以下である、請求項3に記載の炭化ケイ素基板。
- 前記接着剤または前記ワックスは、ホットメルト系、アクリル系、およびエポキシ系からなる群より選ばれた少なくとも一種の物質よりなる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の炭化ケイ素基板。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の炭化ケイ素基板と、
前記炭化ケイ素基板の前記主面上に形成されたエピタキシャル層とを備えた、エピタキシャルウエハ。 - 主面を有し、かつ炭化ケイ素からなる下地基板を準備する工程と、
前記主面を第1のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程と、
前記第1のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程後に、前記主面を第2のアルカリ性溶液を用いて洗浄することにより、コロイダルシリカ、酸化クロム、ダイヤモンド、接着剤、およびワックスからなる群より選ばれた少なくとも一種の物質よりなり、かつ0.01nm以上10μm以下の直径を有する残渣を前記主面において50μm四方で0.2個以上200個未満とする工程とを備えた、炭化ケイ素基板の製造方法。 - 前記第1のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程に先立って、前記主面を水酸化カリウムを含む第3のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程をさらに備えた、請求項7に記載の炭化ケイ素基板の製造方法。
- 前記主面を酸性溶液を用いて洗浄する工程をさらに備えた、請求項7または8に記載の炭化ケイ素基板の製造方法。
- 前記第2のアルカリ性溶液を用いて洗浄する工程後に、前記主面をエッチングする工程をさらに備えた、請求項7〜9のいずれか1項に記載の炭化ケイ素基板の製造方法。
- 前記エッチングする工程では、水素ガスおよび塩化水素ガスの少なくとも一方を含むガスを用いて行なう、請求項10に記載の炭化ケイ素基板の製造方法。
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