JP2016131178A - シリコンウェーハの製造方法及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
A>Y×D
を満たす必要がある。また、フォトレジスト20の厚さをBとし、シリコンに対するフォトレジスト20のエッチングレートの比をXとした場合、フォトレジスト20を残したまま異方性プラズマエッチングを行う場合には、
A>Y×(D−B/X)
を満たす必要がある。
10A シリコン酸化膜
20 フォトレジスト
30 フォトマスク
40 シート材
R1,R2 面取り部
W0 不使用部分
W1 第1のシリコンウェーハ
W1a 表面
W1b 溝
W2 第2のシリコンウェーハ
Claims (11)
- 回路が形成されていない第1のシリコンウェーハの一方の表面にハードマスクを形成する第1の工程と、
前記ハードマスクをパターニングする第2の工程と、
前記パターニングされたハードマスクをマスクとして異方性プラズマエッチングを行うことにより、前記第1のシリコンウェーハを複数の第2のシリコンウェーハに分割する第3の工程と、を備えることを特徴とするシリコンウェーハの製造方法。 - 前記ハードマスクがシリコン化合物であることを特徴とする請求項1に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 前記シリコン化合物が酸化シリコンであることを特徴とする請求項2に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 前記第1の工程は、前記第1のシリコンウェーハを熱酸化することにより行うことを特徴とする請求項3に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 前記第3の工程は、前記異方性プラズマエッチングを行う前及び後の少なくとも一方において、前記第1のシリコンウェーハを等方性プラズマエッチングする工程を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 前記第3の工程は、前記第1のシリコンウェーハの他方の表面にシート材を貼り付けた状態で行うことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 前記第1のシリコンウェーハの厚みが200〜550μmであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 第1のシリコンウェーハを分割することにより複数の第2のシリコンウェーハを形成する分割工程と、
前記第2のシリコンウェーハに回路を形成する回路形成工程と、を備え、
前記分割工程は、
前記第1のシリコンウェーハの一方の表面にハードマスクを形成する第1の工程と、
前記ハードマスクをパターニングする第2の工程と、
前記パターニングされたハードマスクをマスクとして異方性プラズマエッチングを行うことにより、前記第1のシリコンウェーハを前記複数の第2のシリコンウェーハに分割する第3の工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記回路が形成された前記第2のシリコンウェーハの厚さを減少させる薄型化工程をさらに備えることを特徴とする請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記薄型化工程を行う時点における前記第2のシリコンウェーハの厚みが200〜550μmであることを特徴とする請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記回路が形成された前記第2のシリコンウェーハを個片化することにより複数の半導体チップに分割する個片化工程をさらに備えることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
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