JP5302551B2 - シリコン異方性エッチング液組成物 - Google Patents
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Description
i)水和ヒドラジン1容積に対し無水エチレンジアミン0.5乃至1容積を混合したアルカリ性エッチング液を用いることにより、従来の水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ヒドラジンが有するシリコンエッチングの異方性を維持しながら、マイクロ・ピラミッドの発生を抑える技術が開示されている(特許文献1参照)。
ii)アルカリ水溶液とアルコールからなるエッチング液を使用する上で処理槽内のエッチング速度を均一にする工夫が開示されている(特許文献2参照)。
iii)エッチング液の引火点より低い温度で使用することにより、p型にドーピングした領域をエッチングせず、他の領域を高い選択性にてエッチングするアルカリ化合物と高級アルコールとからなるシリコンエッチング剤が開示されている(特許文献3参照)。
iv)エッチング面が平坦で、かつエッチング底面が基板の主面と平行となり、さらにシリコンのエッチング速度が速く、マスクであるシリコン酸化膜を浸食する度合いの極めて少ない、0.3以上の水酸化カリウムとヒドラジンおよび水の3成分からなるアルカリ性エッチング剤が開示されている(特許文献4参照)。 v)水酸化カリウムとエチレンジアミン、水酸化カリウムと水酸化テトラメチルアンモニウム、または水酸化カリウムとアンモニアのように最もエッチング速度が速い結晶面が異なる2つ以上のアルカリを混合したエッチング剤により、滑らかなエッチング壁面を得る技術が開示されている(特許文献5参照)。
vi)加圧下にて、水酸化カリウム溶液に還元剤を加えてシリコンエッチングすることにより、エッチング速度の向上と均一なエッチング面を得る技術が開示されている(特許文献6参照)。
従来、アルミニウムまたはアルミニウム合金を有する半導体装置の製造にアルカリ性エッチング液を用いる場合には、下記のような方法が採られていた。
2)アルカリ性異方性エッチングに耐性を有する保護膜(例えば、酸化膜等)により、アルミニウムまたはアルミニウム合金を保護する。
3)電極材料をアルミニウムまたはアルミニウム合金から、アルカリ性異方性エッチング液に耐性を有する金属、例えばチタニウム(Ti)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)等の金属に代える。
4)アルカリ性異方性エッチング液にシリコンや酸化剤を添加して、アルミニウムやアルミニウム合金のエッチングを低減させる(特許文献7,8参照)。
5)無機アルカリ性又は有機アルカリ性異方性エッチング液に還元剤を添加することにより、アルミニウムやアルミニウム合金のエッチングを低減させ、かつエッチング速度を向上させる(特許文献9参照)。
2)の方法は、酸化膜などの通常使用される保護膜は導電性を持たないので、アルミニウム層またはアルミニウム合金層との電気的接触を行うためには保護膜の除去が必要となる。しかし、この保護膜除去はフォトリソグラフィやエッチングで行うことは困難である。
3)の方法では、アルミニウム以外の金属材料を用いるため半導体装置の汚染問題が発生する。さらに、通常半導体装置はアルミニウムまたはアルミニウム合金を使用して作製するため、信号処理回路との集積化ができなくなる。
4)の方法では、アルミニウムまたはアルミニウム合金に対して十分な防食効果は認められず、かつエッチング時間が長いためアルミニウムまたはアルミニウム合金へのダメージが大きくなる。また、
5)の方法はアルミニウムまたはアルミニウム合金のエッチング速度は著しく増加するが、アルミニウムやアルミニウム合金の腐食は抑制できるが、まだ十分な防食効果は得られていない。
有機アルカリ化合物及び無機アルカリ化合物の濃度を上記範囲とすることにより、本発明のエッチング液組成物に特有のエッチング特性、すなわち、エッチング選択性と高いエッチング機能の両方を具備したエッチング液組成物を実現するための基本的な要件を備えることができる。
また、電極を微細な加工寸法で仕上げようとする場合、一般的にドライエッチングの方法が用いられるが、この際にシリコン基板の表面にダメージが与えられてしまい、エッチングが行われない現象が発生することがあるが、本発明のシリコン異方性エッチング液を用いた場合には、そのような現象は発生しない。
さらに、本発明のシリコン異方性エッチング液は、シリコン酸化膜のエッチングレートを有しているので、シリコンエッチングを行う前に、フッ酸系の薬液で処理する工程を必要とすることなく、シリコンエッチングと同時にシリコン基板上に生成した自然酸化膜の除去を行うことも可能である。
本発明の要件を満たすシリコン異方性エッチング液組成物として、表1の実施例1〜8のエッチング液組成物を用意し、所定の条件下でその特性を調べた。
まず、実施例1では、シリコン異方性エッチング液組成物として、有機アルカリとして水酸化テトラメチルアンモニウム(以下TMAHと略記する)5.0重量%、無機アルカリとして水酸化カリウム1.0重量%、含珪素化合物としてコロイダル・シリカ3.0重量%を含有する水溶液(シリコン異方性エッチング液組成物)を調製した。
超純水にてリンス後、乾燥を行い、シリコン単結晶の面(100)方向およびシリコン単結晶の面(111)の方向へのエッチング量を測定し、エッチング速度を求めた。
また、同一組成のエッチング液組成物を用いてアルミニウム合金(Al−Cu)を成膜したウエハを使用し、同様にしてアルミニウム合金のエッチング速度を求めた。その結果を表1に示す。
比較のため、表2に示すように、
1)有機アルカリ化合物を含むが、無機アルカリ化合物および含珪素化合物を含まないエッチング液組成物(比較例1)、
2)有機アルカリ化合物および無機アルカリ化合物を含むが、含珪素化合物を含まないエッチング液組成物(比較例2)、
3)有機アルカリ化合物および含珪素化合物を含むが無機アルカリ化合物は含まないエッチング液組成物(比較例3)、
4)有機アルカリ化合物および還元性化合物を含むが無機アルカリ化合物および含珪素化合物は含まないエッチング液組成物(比較例4)、
5)有機アルカリ化合物、無機アルカリ化合物、および還元性化合物は含むが含珪素化合物は含まないエッチング液組成物(比較例5)、
6)有機アルカリ化合物、含珪素化合物はおよび還元性化合物は含むが無機アルカリ化合物は含まないエッチング液組成物(比較例6)、
を調製し、上記実施例1の場合と同じ条件で、シリコンウエハサンプルのエッチングを行い、シリコンエッチング速度を調べるとともに、アルミニウム合金(Al−Cu)を成膜したシリコンウエハのエッチングを行い、アルミニウムエッチング速度を測定した。その結果を表2に示す。
したがって、本発明は、シリコンウエハなどの微細加工を行う技術分野に広く適用することが可能である。
Claims (8)
- (a)有機アルカリ化合物と無機アルカリ化合物の混合物であるアルカリ化合物と、
(b)含珪素化合物と、
を含有する水溶液であって、
前記含珪素化合物の濃度が0.01〜30重量%の範囲にあること
を特徴とするシリコン異方性エッチング液組成物。 - 前記有機アルカリ化合物が、第4級水酸化アンモニウムまたはエチレンジアミンからなる群から選択される1種以上であることを特徴とする請求項1記載のシリコン異方性エッチング液組成物。
- 前記無機アルカリ化合物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアまたはヒドラジンからなる群から選択される1種以上であることを特徴とする請求項1または2記載のシリコン異方性エッチング液組成物。
- 前記含珪素化合物が含珪素無機化合物及び含珪素有機化合物の少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のシリコン異方性エッチング液組成物。
- 前記含珪素無機化合物が、金属珪素、ヒュームド・シリカ、コロイダル・シリカ、シリカゲル、シリカゾル、珪藻土、酸性白土、活性白土からなる群から選択される1種以上であり、
前記含珪素有機化合物が、珪酸アルキル若しくはアルキル珪酸の第四級アンモニウム塩からなる群から選択される1種以上であること
を特徴とする請求項4記載のシリコン異方性エッチング液組成物。 - さらに、(c)還元性化合物を含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のシリコン異方性エッチング液組成物。
- 前記還元性化合物が、ヒドロキシルアミン類、ヒドラジン類、リン酸塩類、次亜リン酸塩類、還元糖類、アスコルビン酸、およびグリオキシル酸並びにそれらの誘導体から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項6記載のシリコン異方性エッチング液組成物。
- 前記還元性化合物が、ヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、硫酸ヒドロキシルアミン、塩化ヒドロキシルアミン、シュウ酸ヒドロキシルアミン、リン酸ヒドロキシルアミン、ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩、ヒドラジン、一塩酸ヒドラジン、二塩酸ヒドラジン、硫酸ヒドラジン、炭酸ヒドラジン、リン酸ヒドラジン、メチルヒドラジン、マルトース、ラクトース、メリビオース、セリビオース、イソマルトオリゴ糖、アスコルビン酸、またはグリオキシル酸からなる群から選択される1種以上であることを特徴とする請求項6または7記載のシリコン異方性エッチング液組成物。
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