JP5229503B2 - 水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置 - Google Patents

水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5229503B2
JP5229503B2 JP2009500073A JP2009500073A JP5229503B2 JP 5229503 B2 JP5229503 B2 JP 5229503B2 JP 2009500073 A JP2009500073 A JP 2009500073A JP 2009500073 A JP2009500073 A JP 2009500073A JP 5229503 B2 JP5229503 B2 JP 5229503B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrogen
palladium
reaction
alloy
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009500073A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2008102509A1 (ja
Inventor
英二 岡田
純 吉原
太志 生駒
登 武政
竜規 田山
健二 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Gas Chemical Co Inc filed Critical Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority to JP2009500073A priority Critical patent/JP5229503B2/ja
Publication of JPWO2008102509A1 publication Critical patent/JPWO2008102509A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5229503B2 publication Critical patent/JP5229503B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/50Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification
    • C01B3/56Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by contacting with solids; Regeneration of used solids
    • C01B3/58Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by contacting with solids; Regeneration of used solids including a catalytic reaction
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/02Inorganic material
    • B01D71/022Metals
    • B01D71/0223Group 8, 9 or 10 metals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/02Inorganic material
    • B01D71/022Metals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/02Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
    • B01D53/04Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/22Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
    • B01D53/228Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion characterised by specific membranes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0039Inorganic membrane manufacture
    • B01D67/0044Inorganic membrane manufacture by chemical reaction
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0039Inorganic membrane manufacture
    • B01D67/0069Inorganic membrane manufacture by deposition from the liquid phase, e.g. electrochemical deposition
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0039Inorganic membrane manufacture
    • B01D67/0072Inorganic membrane manufacture by deposition from the gaseous phase, e.g. sputtering, CVD, PVD
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D69/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D69/02Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor characterised by their properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/02Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
    • C01B3/32Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of gaseous or liquid organic compounds with gasifying agents, e.g. water, carbon dioxide, air
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/50Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification
    • C01B3/501Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion
    • C01B3/503Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion characterised by the membrane
    • C01B3/505Membranes containing palladium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2256/00Main component in the product gas stream after treatment
    • B01D2256/16Hydrogen
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/10Single element gases other than halogens
    • B01D2257/102Nitrogen
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/50Carbon oxides
    • B01D2257/502Carbon monoxide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/50Carbon oxides
    • B01D2257/504Carbon dioxide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/70Organic compounds not provided for in groups B01D2257/00 - B01D2257/602
    • B01D2257/702Hydrocarbons
    • B01D2257/7022Aliphatic hydrocarbons
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/80Water
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2325/00Details relating to properties of membranes
    • B01D2325/06Surface irregularities
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/02Processes for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/0205Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step
    • C01B2203/0227Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step containing a catalytic reforming step
    • C01B2203/0233Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step containing a catalytic reforming step the reforming step being a steam reforming step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/02Processes for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/0205Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step
    • C01B2203/0227Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step containing a catalytic reforming step
    • C01B2203/0244Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step containing a catalytic reforming step the reforming step being an autothermal reforming step, e.g. secondary reforming processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/02Processes for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/025Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a partial oxidation step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/02Processes for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/0266Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a decomposition step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/04Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
    • C01B2203/0405Purification by membrane separation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/04Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
    • C01B2203/0465Composition of the impurity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/04Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
    • C01B2203/0465Composition of the impurity
    • C01B2203/047Composition of the impurity the impurity being carbon monoxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/04Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
    • C01B2203/0465Composition of the impurity
    • C01B2203/0475Composition of the impurity the impurity being carbon dioxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/04Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
    • C01B2203/0465Composition of the impurity
    • C01B2203/048Composition of the impurity the impurity being an organic compound
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/04Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
    • C01B2203/0465Composition of the impurity
    • C01B2203/0495Composition of the impurity the impurity being water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/12Feeding the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/1205Composition of the feed
    • C01B2203/1211Organic compounds or organic mixtures used in the process for making hydrogen or synthesis gas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/12Feeding the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/1205Composition of the feed
    • C01B2203/1211Organic compounds or organic mixtures used in the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/1217Alcohols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/12Feeding the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/1205Composition of the feed
    • C01B2203/1211Organic compounds or organic mixtures used in the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/1235Hydrocarbons
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02CCAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/40Capture or disposal of greenhouse gases of CO2
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/151Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions, e.g. CO2

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)

Description

本発明は、水素以外に水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒素の少なくともひとつの成分が1%以上含む水素含有ガスから、水素を高効率に分離・精製する水素精製方法、これに用いる水素分離膜、及びこれを用いた水素精製装置に関する。
従来、水素含有ガスから水素を分離する方法として、工業的にはPSA(圧力スイング吸着)法が数多く採用されている。PSA装置は吸着剤を充填した複数の吸着塔とこれを制御する自動弁から構成されており、装置が大きく且つ複雑のものとなる。そのため近年、装置の小型化・簡素化の観点から膜分離技術が注目されている。
水素を分離するための膜としては、ポリイミドなどの有機高分子膜、多孔質セラミックなどの無機多孔質膜、パラジウムやパラジウム合金を代表とする金属膜及びこれらを組み合わせた複合膜などがある。有機高分子膜や無機多孔質膜はその原料が安価であるという利点を持っているが、分子ふるいの作用を利用しているため高純度の水素を得るのは難しい。
それに対し、パラジウム合金を代表とする金属膜は、水素の固溶・拡散を利用しているため極めて高純度な水素を製造できるという利点を持っている。しかし、原料が高価であるという欠点を持ち、現在では極めて高純度の水素が求められる用途にのみ実用化されている。
実用化されているパラジウム合金膜を利用した高純度水素精製装置は、原料ガスに水素濃度99%以上のガスを用いている。このときの水素透過量は原料側の水素分圧P1と精製側の水素分圧P2とパラジウム合金膜の膜厚tと該合金膜の膜面積が主な要素となる関係式が知られている。なお、単位面積当りの水素透過量Qは「Q=A・t-1・(√P1−√P2)」の関係にある。なお、式中のAは合金膜の種類や操作条件などによって異なる数字となる。
上記の関係式から、水素透過膜の性能を向上させる、つまり単位面積当りの水素透過量を向上させるためには、I合金種によって異なる定数Aの大きい合金を開発する、II水素透過膜の膜厚を薄くする、III水素の分圧差を大きくする、ことが考えられる。
定数Aの大きい合金、つまり水素透過能の高い合金としては、バナジウム合金が開示されている(例えば、特許文献1〜3参照)。バナジウム合金は酸化されやすく単体では実用的でない。酸化防止のため表面にパラジウム又はパラジウム合金を被覆する必要がある。
パラジウム合金をベースとした水素透過膜では、主に膜厚を薄くして水素透過能を向上させる方法が考えられている。薄膜を安定した品質で低コストに製造する方法(例えば、特許文献4参照)や膜の一部を薄くする方法(例えば、特許文献5参照)が開示されている。しかし、膜厚を薄くすると単独での機械強度が弱くなる。水素透過量は水素の分圧差の影響を受けるため、薄膜化と強度との両立が求められる。そのため、膜厚の薄いパラジウム合金は機械強度を補うため多孔質体を組み合わせて使用される。
パラジウム合金薄膜は多孔質体と組み合わせて主に使われることから、多孔質体とパラジウム合金を一体化した分離膜の製造方法が数多く開示されている。その中でも多孔質体上にパラジウム合金を被覆した水素分離膜に関する特許が数多く開示されている (例えば、特許文献6〜11参照)。これらの方法は薄いパラジウム合金膜を作製できるが、ピンホールが開きやすいという欠点を持つ。
パラジウム合金膜を代表とする水素の固溶・拡散を利用した金属膜は、その膜自身の透過特性と膜厚だけでなく、原料ガス中に含まれる共存ガスにも影響されることが知られている。具体的には、原料ガスに水蒸気改質ガスなど水素濃度の比較的低いガスを用いて水素透過を行うと、不純物の少ない原料から想定される水素透過量が得られないことが知られている。例えば、非特許文献1では、パラジウム銀合金を用いて水素中の共存ガスの影響を報告している。水素濃度の比較的低いガスを用いて水素透過を行うと、パラジウム合金膜は共存ガスにより表面阻害を受けて水素透過量が少なくなるという問題点がある。
特開平1−262924号公報 特開平2−265631号公報 特公平6−98281号公報 特開平10−330992号公報 特開2004−8966号公報 特開昭62−121616号公報 特開昭63−171617号公報 特開昭64−4216号公報 特開平3−52630号公報 特開平3−288534号公報 特許3373006号公報 第26回水素エネルギー協会大会 予稿集 P.117−120
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、水素以外に水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒素の少なくともひとつの成分を1%以上含む水素含有ガスから、高い水素透過能を保持しながら高効率に水素を分離・精製する方法、これに用いる水素分離膜、及び水素精製装置を提供するものである。
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、パラジウム合金膜の表面をパラジウムの微粒子で修飾した膜を用いることで、従来技術に比べ高効率に水素を分離・精製することができることを見出し本発明に到達した。
すなわち本発明は、つぎのとおりである。
1.パラジウム合金膜の表面に、メッキ法、スパッタリング法、又はパラジウム化合物を含有する溶液を塗布した後、溶媒の蒸発、パラジウムの還元を行なう方法により、パラジウムの微粒子を付着させた水素分離膜を用いて、水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン及び窒素のうち少なくとも1つの成分を1%以上含む水素含有ガスから水素を分離・精製することを特徴とする水素精製方法。
2.前記パラジウム合金膜が、パラジウムと銀との合金、パラジウムと銀と金との合金又はパラジウムと銅との合金を主成分とする膜である第1項記載の水素精製方法。
3.前記水素含有ガスが、アルコール類、エーテル類又は炭化水素類の水蒸気改質反応、分解反応、部分酸化反応及びオートサーマル改質反応からなる群より選ばれる反応又はこれらの反応のうち少なくとも1つの反応を含み他の反応と同時に若しくは逐次に複数組み合わせた反応によって得られるガスである第1項記載の水素精製方法。
4.前記水素含有ガスが、メタノールの水蒸気改質反応、分解反応、部分酸化反応及びオートサーマル改質反応からなる群より選ばれる反応又はこれらの反応のうち少なくとも1つの反応を含み他の反応と同時に若しくは逐次に複数組み合わせた反応によって得られるガスである第1項1記載の水素精製方法。
5.前記水素含有ガスが、ジメチルエーテルの水蒸気改質反応、分解反応、部分酸化反応及びオートサーマル改質反応からなる群より選ばれる反応又はこれらの反応のうち少なくとも1つの反応を含み他の反応と同時に若しくは逐次に複数組み合わせた反応によって得られるガスである第1項記載の水素精製方法。
6.パラジウム合金膜の表面にパラジウムの微粒子を付着させた水素分離膜。
7.第6項記載の水素分離膜を備える水素精製装置。
8.アルコール類、エーテル類又は炭化水素類の水蒸気改質反応、分解反応、部分酸化反応及びオートサーマル改質反応からなる群より選ばれる反応又はこれらの反応のうち少なくとも1つの反応を含み他の反応と同時に若しくは逐次に複数組み合わせた反応によって水素含有ガスを製造する反応器と第7項記載の水素精製装置を組み合わせた水素製造装置。
本発明により、水素以外に水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン及び窒素のうち少なくともひとつの成分を1%以上含む水素含有ガスから、水素透過能を落とさずに高効率に水素を分離・精製することができる。このため、メタノール等の改質ガスをそのまま原料として超高純度の水素を製造でき、従来技術を用いた時に比べて大幅に装置の小型化・低廉化が可能となる。
実施例1の方法で得られた水素分離膜表面の電子顕微鏡写真(5,000倍)である。 実施例3の方法で得られた水素分離膜表面の電子顕微鏡写真(100,000倍)である。 実施例で使用したパラジウム合金表面の電子顕微鏡写真(100,000倍)である。
本発明において用いる水素分離膜は、パラジウム合金膜の表面にパラジウムの微粒子を付着させたものである。本発明に用いるパラジウム合金膜は、パラジウムと銀との合金、パラジウムと銀と金との合金又はパラジウムと銅との合金を主成分とする合金膜であることが好ましい。また、該合金膜に対して、種々の特性を向上させる目的で、金、白金、イットリウムなど、その他の成分を適宜添加してもよい。
本発明において用いるパラジウム合金膜の膜厚は特に制限されないが、水素透過量は膜の厚さに反比例するためできるだけ薄くすることが望ましい。しかし、膜厚が薄くなると加工しにくくなる。そのため、パラジウム合金膜の膜厚は水素透過量と加工性を考慮して選定される。例えば、1〜100μm、好ましくは5〜50μm、より好ましくは10〜20μmである。
本発明における、パラジウム微粒子の付着方法は、従来から知られているメッキ法、スパッタリング法、又はパラジウム化合物を含有する溶液を膜に塗布した後、溶媒の蒸発、パラジウムの還元を行なう方法などを用いることができる。付着量に制限はないが、付着方法により最適値を選定する。例えば、メッキ法では付着層が0.5〜5μmの範囲が適している。
ここで、パラジウムの微粒子について説明する。後述の実施例1(めっき法)で得られた水素分離膜表面の電子顕微鏡写真(5000倍)を図1に示す。
図1からわかるように、パラジウム合金膜の表面には、パラジウムの針状微粒子が表面を覆って付着している。又、一部のパラジウムは、凝集状態を呈してクサビ上の微粒子として付着している。
又、後述の実施例3(スパッタリング法)で得られた水素分離膜表面の電子顕微鏡写真(100,000倍)を図2に示す。
図2からわかるように、パラジウム合金膜の表面には、パラジウムの球状微粒子が表面を覆って付着している。
このように本発明で言うパラジウム微粒子は、針状、クサビ状、又は球状等の形態を問わず、パラジウム合金膜の表面に前記方法により付着したパラジウム粒子を指す。
なお、図3は、パラジウム合金自体の表面の電子顕微鏡(100,000倍)である。これからわかるように、パラジウム合金自体の表面はほぼ平坦状を示している。
水素の透過速度は温度が高いほど大きくなる。しかし、温度が高いと表面修飾に用いたパラジウム微粒子が基礎となるパラジウム合金膜と相互拡散するため注意を要する。本発明において用いられる水素分離膜の操作温度は200〜700℃の範囲、好ましくは250〜600℃の範囲、より好ましくは300〜450℃の範囲である。
本発明におけるパラジウム微粒子の付着による表面修飾は、片面又は両面に行うことで効果が得られる。片面に修飾した場合は、修飾した面を原料側に配置する必要がある。
本発明における水素含有ガスとは、水素のほかに水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン及び窒素のうち少なくとも1つの成分を1%以上含むものである。この水素含有ガスはアルコール類、エーテル類、炭化水素類の水蒸気改質反応、分解反応、部分酸化反応及びオートサーマル改質反応からなる群より選ばれる反応又はこれらの反応のうち少なくとも1つの反応を含み他の反応と同時に若しくは逐次に複数組み合せた反応によって得ることができる。
アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノールなどが挙げられる。例えば、メタノールの水蒸気改質反応によって得られる水素含有ガスでは、水素濃度が約65%であり、共存ガスとしては水、一酸化炭素、二酸化炭素が主として存在する。また、メタノールの分解反応では、水素と一酸化炭素が2:1の割合で生成する。そのため水素含有ガスの水素の濃度は約65%となり、共存ガスとしては一酸化炭素が主となる。水蒸気改質反応と部分酸化反応を組み合わせた反応にオートサーマル改質反応がある。例えば、反応原料にメタノールと水と空気を用いてオートサーマル改質反応により水素含有ガスを得る場合、水素濃度は約55%となり、共存ガスとしては水、一酸化炭素、二酸化炭素、窒素が主として存在する。
エーテル類としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテルなどが挙げられる。例えば、ジメチルエーテルの水蒸気改質反応の場合、水素濃度は約60%であり、共存ガスとして水、一酸化炭素、二酸化炭素が主となる。また、ジメチルエーテルはメタノールの場合と同様に、分解反応やオートサーマル改質反応が可能である。
炭化水素類としては、メタン、エタン、都市ガス、灯油、ナフサなどが挙げられる。例えば、メタンの水蒸気改質反応は700〜800℃で行われる。これにより得られる水素含有ガスの水素濃度は約60%で、共存ガスとして水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタンが主として存在する。メタンにおいても、分解反応、オートサーマル改質反応が可能である。
本発明における水素精製装置とは、前記の表面修飾したパラジウム合金膜を利用して、前記水素含有ガスから高純度な水素を得る装置である。パラジウム合金膜の表面にパラジウムの微粒子を付着させた水素分離膜は、支持体や基材などと組み合わせて水素分離膜セルとし、これらを組み合わせて水素精製装置とすることができる。
本発明における水素製造装置とは前記水素含有ガスを得るための反応器と、これから得られる水素含有ガスから水素を分離・精製する水素精製装置を組み合わせたものである。このとき、反応器と水素精製装置が一体となった膜型反応器もこれに含まれる。
次に、本発明について、以下に実施例を挙げてさらに詳しく説明する。なお、本発明の範囲は実施例に限定されない。
冷間圧延により製作した厚さ20μmのパラジウム合金膜(パラジウム60重量%、銅40重量%の合金)にパラジウム微粒子をメッキ法にて付着させた。即ち、パラジウム合金膜を電解液(水酸化ナトリウム水溶液)に浸して電流を流して電気分解させてパラジウム合金膜中に水素を固溶させた。その後、塩化パラジウム塩酸水溶液中に該パラジウム合金膜を浸漬させて固溶した水素と溶液中のパラジウムイオンとの電荷移動により生成するパラジウム微粒子をパラジウム合金膜の両面に付着させた。このようにして付着させたパラジウム微粒子層を顕微鏡で観察した結果、厚さ1〜1.5μmであった。
該パラジウム微粒子付着パラジウム合金膜を用いて有効膜面積6cm2の水素分離膜セルを作製し水素透過試験を行った。
原料として、水素72%、二酸化炭素24%、一酸化炭素2%、メタン1%、窒素1%となるよう調合したガス(以下、混合ガスという)を用いた。原料側圧力0.9MPaG、精製側圧力大気圧、操作温度300℃、原料ガス供給量300cc/minであった。
その結果、150cc/minの水素透過量が得られた。精製した水素の純度は露点計にて測定し、−80℃以下であることを確認した。なお、原料に用いた混合ガスの露点は−45℃であった。
原料として、メタノールの水蒸気改質ガス(組成:二酸化炭素23%、一酸化炭素1%、水11%、メタン0.1%程度、水素残部)を用いて実施例1と同じ水素分離膜セルを用いた水素透過試験を行った。原料側圧力0.9MPaG、精製側圧力大気圧、操作温度300℃、原料ガス供給量260cc/minであった。その結果、120cc/minの精製水素が得られた。
冷間圧延により製作した厚さ20μmのパラジウム合金膜(パラジウム60重量%、銅40重量%の合金)にパラジウム微粒子をスパッタリング法にて付着させた。スパッタリングには(株)エイコー製IB−3装置を用いて、0.1〜0.2torrの真空下15分間パラジウムをスパッタリングした。このスパッタリング処理は膜の片面のみ実施した。このようにして付着させたパラジウム層を顕微鏡で観察した結果、厚さ0.1μmであった。
該パラジウム微粒子付着パラジウム合金膜を用いて有効膜面積6cm2の水素分離膜セルを作製し水素透過試験を行った。当該セルは、処理面を原料側に配置するよう作製した。
原料として、メタノールの水蒸気改質ガス(組成:二酸化炭素23%、一酸化炭素1%、水11%、メタン0.1%程度、水素残部)を用いた。原料側圧力0.9MPaG、精製側圧力大気圧、操作温度300℃、原料ガス供給量260cc/minであった。その結果、70cc/minの精製水素が得られた。
冷間圧延により製作した厚さ20μmのパラジウム合金膜(パラジウム合金膜はパラジウム60重量%、銅40重量%の合金)に、パラジウム溶液を膜に塗布する方法にてパラジウム微粒子を付着させた。塗布したパラジウム溶液は酢酸パラジウム0.0183gをアセトン20mlに溶解させたものである。
この溶液をパラジウム合金膜の表面に塗布した後、溶媒を蒸発させた。その後、透過試験条件設定までの処理により(窒素流通下300℃まで昇温、その後2時間保持し、水素に切り替え昇圧)、酢酸パラジウムの分解、還元が起こりパラジウムリッチの膜表面が得られると考えられる。
該パラジウム微粒子付着パラジウム合金膜を用いて有効膜面積6cm2の水素分離膜セルを作製し水素透過試験を行った。該水素分離膜セルは、処理面を原料側に配置するよう作製した。
原料としてメタノールの水蒸気改質ガス(組成:二酸化炭素23%、一酸化炭素1%、水11%、メタン0.1%程度、水素残部)を用いた。原料側圧力0.9MPaG、精製側圧力大気圧、操作温度300℃、原料ガス供給量260cc/minであった。その結果、65cc/minの精製水素が得られた。
各種水素含有ガスから水素を精製する性能を調べるため、原料水素中に、水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、又は窒素が共存する場合の水素の透過性能について調べた。実施例1と同じパラジウム微粒子付着パラジウム合金膜と、パラジウム微粒子を付着させていないパラジウム合金膜を用いて比較を行った。これらの合金膜は有効面積6cm2の水素分離膜セルを作製し水素透過試験を行った。水素透過試験は300℃で実施した。それぞれの原料ガスにおいて原料側の全圧を変化させて水素分圧差と水素透過量との関係を調べることで前記式中の定数Aを算出して水素透過能の比較をした。結果を表1に示した。
Figure 0005229503
表1より、水素ガスの他に夾雑ガスが含まれていても、パラジウム合金膜表面にパラジウムの微粒子を付着させた本発明の水素分離膜を用いることによって、前記パラジウムの微粒子を付着していない従来の水素分離膜よりも、はるかに優れた水素透過能を示すことがわかる。
比較例1
冷間圧延により製作した厚さ20μmのパラジウム合金膜(パラジウム60重量%、銅40重量%の合金)を用いて有効膜面積6cm2の水素分離膜セルを作製し水素透過試験を行った。
原料として前記混合ガスを用いて、原料側圧力0.9MPaG、精製側圧力大気圧、操作温度300℃、原料ガス供給量300cc/minで水素透過試験を行った。その結果、135cc/minの水素透過量が得られた。精製した水素の純度は露点計にて測定し、−80℃以下であることを確認した。
この結果から、上記の本発明の実施例1の結果に比べて、水素透過量がはるかに少ないことが分かる。
比較例2
原料としてメタノールの水蒸気改質ガス(組成:二酸化炭素23%、一酸化炭素1%、水11%、メタン0.1%程度、水素残部)を用いて比較例1と同様の水素分離膜セルを作製し水素透過試験を行った。
原料側圧力0.9MPaG、精製側圧力大気圧、操作温度300℃、原料ガス供給量260cc/minであった。その結果、50cc/minの精製水素が得られた。
この結果から、上記の本発明の実施例3、及び4の結果に比べて、水素透過量がはるかに少ないことが分かる。
本発明は、高純度水素ガスが必要とされる分野に広く利用される可能性がある。

Claims (6)

  1. パラジウムと銀との合金、パラジウムと銀と金との合金又はパラジウムと銅との合金を主成分とする膜であるパラジウム合金膜の表面に、メッキ法、スパッタリング法、又はパラジウム化合物を含有する溶液を塗布した後、溶媒の蒸発、パラジウムの還元を行なう方法により、パラジウムの微粒子を付着させた水素分離膜を用いて、水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン及び窒素のうち少なくとも1つの成分を1%以上含み、且つ一酸化炭素を1%〜2.5%含む水素含有ガスから水素を分離・精製することを特徴とする水素精製方法。
  2. パラジウムと銀との合金、パラジウムと銀と金との合金又はパラジウムと銅との合金を主成分とする膜であるパラジウム合金膜の表面に、メッキ法、スパッタリング法、又はパラジウム化合物を含有する溶液を塗布した後、溶媒の蒸発、パラジウムの還元を行なう方法により、パラジウムの微粒子を付着させた水素分離膜を用いて、水、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン及び窒素のうち少なくとも1つの成分を1%以上含み、且つ水を12%〜25%含む水素含有ガスから水素を分離・精製することを特徴とする水素精製方法。
  3. 前記パラジウム合金膜が、パラジウムと銅との合金を主成分とする膜である、請求項1又は2に記載の水素精製方法。
  4. 前記水素含有ガスが、アルコール類、エーテル類又は炭化水素類の水蒸気改質反応、分解反応、部分酸化反応及びオートサーマル改質反応からなる群より選ばれる反応又はこれらの反応のうち少なくとも1つの反応を含み他の反応と同時に若しくは逐次に複数組み合わせた反応によって得られるガスである請求項1〜3のいずれかに記載の水素精製方法。
  5. 前記水素含有ガスが、メタノールの水蒸気改質反応、分解反応、部分酸化反応及びオートサーマル改質反応からなる群より選ばれる反応又はこれらの反応のうち少なくとも1つの反応を含み他の反応と同時に若しくは逐次に複数組み合わせた反応によって得られるガスである請求項4に記載の水素精製方法。
  6. 前記水素含有ガスが、ジメチルエーテルの水蒸気改質反応、分解反応、部分酸化反応及びオートサーマル改質反応からなる群より選ばれる反応又はこれらの反応のうち少なくとも1つの反応を含み他の反応と同時に若しくは逐次に複数組み合わせた反応によって得られるガスである請求項4に記載の水素精製方法。
JP2009500073A 2007-02-19 2007-12-18 水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置 Active JP5229503B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009500073A JP5229503B2 (ja) 2007-02-19 2007-12-18 水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007037840 2007-02-19
JP2007037840 2007-02-19
JP2009500073A JP5229503B2 (ja) 2007-02-19 2007-12-18 水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置
PCT/JP2007/074302 WO2008102509A1 (ja) 2007-02-19 2007-12-18 水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2008102509A1 JPWO2008102509A1 (ja) 2010-05-27
JP5229503B2 true JP5229503B2 (ja) 2013-07-03

Family

ID=39709791

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009500073A Active JP5229503B2 (ja) 2007-02-19 2007-12-18 水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20100313754A1 (ja)
EP (1) EP2128082A4 (ja)
JP (1) JP5229503B2 (ja)
KR (1) KR20090110897A (ja)
CN (1) CN101610975A (ja)
TW (1) TW200844044A (ja)
WO (1) WO2008102509A1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2816688C (en) * 2010-12-24 2016-05-03 Renaissance Energy Research Corporation Gas separation apparatus, membrane reactor, and hydrogen production apparatus
US8721773B2 (en) * 2011-10-26 2014-05-13 Shell Oil Company Method for preparing a palladium-gold alloy gas separation membrane system
CN103373705B (zh) * 2012-04-17 2015-03-25 中国科学院工程热物理研究所 中低温太阳热能品位提升与co2一体化分离的方法和装置
KR101388649B1 (ko) * 2013-07-25 2014-04-24 한국에너지기술연구원 수소 분리막의 제조방법
US9616379B2 (en) 2013-07-25 2017-04-11 Korea Institute Of Energy Research Method for preparing hydrogen separation membrane and device for preparing hydrogen separation membrane
WO2015021501A1 (en) * 2013-08-14 2015-02-19 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Processes utilising selectively permeable membranes
EP2896595A1 (en) * 2014-01-16 2015-07-22 Japan Pionics Co., Ltd. Palladium alloy membrane unit, storage structure thereof, and method of purifying hydrogen by using the same
JP7038705B2 (ja) * 2016-06-06 2022-03-18 コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション 基材上にPd-Au合金層を形成する方法
KR101969200B1 (ko) * 2016-06-17 2019-04-16 한국화학연구원 메탄 함유 혼합가스를 이용한 수소 농축가스, 아세틸렌 농축가스, 에틸렌 농축가스 및 용접용 가스 제조방법 및 이의 장치
JP2018062602A (ja) * 2016-10-14 2018-04-19 日本特殊陶業株式会社 有機化合物の還元装置
JP2018145103A (ja) * 2017-03-01 2018-09-20 日本特殊陶業株式会社 水素添加方法、及び有機化合物の製造方法
TWI674143B (zh) * 2018-06-21 2019-10-11 國立成功大學 一種促進氣體混合物之分離方法
US11339104B2 (en) 2019-03-29 2022-05-24 Purdue Research Foundation Process for upgrading natural gas liquids from shale gas without front-end demethanizer
CN115806272A (zh) * 2021-09-16 2023-03-17 镫锋绿能科技股份有限公司 高分子膜结合钯膜的氢纯化系统以及氢纯化方法

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62121616A (ja) * 1985-11-21 1987-06-02 Ngk Insulators Ltd 水素ガス分離膜
JPS63171617A (ja) * 1987-01-09 1988-07-15 Shozaburo Saito 水素選択透過性に優れた複合膜およびその製造法
JPS644216A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Agency Ind Science Techn Production of thin membrane for separating gas
JPH01262924A (ja) * 1988-04-12 1989-10-19 Natl Res Inst For Metals 水素分離膜
JPH02265631A (ja) * 1989-04-05 1990-10-30 Natl Res Inst For Metals 水素分離用合金膜
JPH0352630A (ja) * 1989-07-18 1991-03-06 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 水素分離膜
JPH03288534A (ja) * 1990-04-04 1991-12-18 Ebara Corp 無電解Pd―Ag合金メッキ膜を有する水素分離膜及びその製造方法
JPH0698281B2 (ja) * 1990-05-25 1994-12-07 科学技術庁金属材料技術研究所長 水素分離用合金膜
JPH10330992A (ja) * 1997-06-04 1998-12-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Pd合金箔の製造方法
JP2000042388A (ja) * 1998-07-30 2000-02-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 水素精製膜及び水素製造方法
JP2002308605A (ja) * 2001-04-11 2002-10-23 Japan Pionics Co Ltd 水素ガスの精製方法
JP3373006B2 (ja) * 1993-09-17 2003-02-04 エヌオーケー株式会社 水素分離膜の製造法
JP2003225544A (ja) * 2002-02-04 2003-08-12 Toyota Motor Corp 水素透過膜およびその製造方法
JP2004008966A (ja) * 2002-06-07 2004-01-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 水素分離膜、水素分離ユニット、水素分離膜の製造方法
JP2004113950A (ja) * 2002-09-26 2004-04-15 Kobe Steel Ltd 水素透過体とその製造方法
WO2005075060A1 (en) * 2004-02-02 2005-08-18 Bossard Peter R Composite structure for high efficiency hydrogen separation and its associated methods of manufacture and use
JP2006520687A (ja) * 2003-03-21 2006-09-14 ウスター ポリテクニック インスティチュート 複合ガス分離モジュールを製造する方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6461408B2 (en) * 1995-11-06 2002-10-08 Robert E. Buxbaum Hydrogen generator
NO304220B1 (no) * 1996-04-30 1998-11-16 Sintef FremgangsmÕte til fremstilling av tynne metallmembraner
DE10135390A1 (de) * 2001-07-25 2003-02-20 Fraunhofer Ges Forschung Metallische Lösungs-Diffusions-Membran sowie Verfahren zur Herstellung
US7749305B1 (en) * 2003-06-04 2010-07-06 Bossard Peter R Composite structure for high efficiency hydrogen separation containing preformed nano-particles in a bonded layer
US7771520B1 (en) * 2006-09-06 2010-08-10 Bossard Peter R System and method for forming a membrane that is super-permeable to hydrogen

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62121616A (ja) * 1985-11-21 1987-06-02 Ngk Insulators Ltd 水素ガス分離膜
JPS63171617A (ja) * 1987-01-09 1988-07-15 Shozaburo Saito 水素選択透過性に優れた複合膜およびその製造法
JPS644216A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Agency Ind Science Techn Production of thin membrane for separating gas
JPH01262924A (ja) * 1988-04-12 1989-10-19 Natl Res Inst For Metals 水素分離膜
JPH02265631A (ja) * 1989-04-05 1990-10-30 Natl Res Inst For Metals 水素分離用合金膜
JPH0352630A (ja) * 1989-07-18 1991-03-06 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 水素分離膜
JPH03288534A (ja) * 1990-04-04 1991-12-18 Ebara Corp 無電解Pd―Ag合金メッキ膜を有する水素分離膜及びその製造方法
JPH0698281B2 (ja) * 1990-05-25 1994-12-07 科学技術庁金属材料技術研究所長 水素分離用合金膜
JP3373006B2 (ja) * 1993-09-17 2003-02-04 エヌオーケー株式会社 水素分離膜の製造法
JPH10330992A (ja) * 1997-06-04 1998-12-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Pd合金箔の製造方法
JP2000042388A (ja) * 1998-07-30 2000-02-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 水素精製膜及び水素製造方法
JP2002308605A (ja) * 2001-04-11 2002-10-23 Japan Pionics Co Ltd 水素ガスの精製方法
JP2003225544A (ja) * 2002-02-04 2003-08-12 Toyota Motor Corp 水素透過膜およびその製造方法
JP2004008966A (ja) * 2002-06-07 2004-01-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 水素分離膜、水素分離ユニット、水素分離膜の製造方法
JP2004113950A (ja) * 2002-09-26 2004-04-15 Kobe Steel Ltd 水素透過体とその製造方法
JP2006520687A (ja) * 2003-03-21 2006-09-14 ウスター ポリテクニック インスティチュート 複合ガス分離モジュールを製造する方法
WO2005075060A1 (en) * 2004-02-02 2005-08-18 Bossard Peter R Composite structure for high efficiency hydrogen separation and its associated methods of manufacture and use

Also Published As

Publication number Publication date
EP2128082A4 (en) 2011-09-07
WO2008102509A1 (ja) 2008-08-28
JPWO2008102509A1 (ja) 2010-05-27
EP2128082A1 (en) 2009-12-02
CN101610975A (zh) 2009-12-23
US20100313754A1 (en) 2010-12-16
TW200844044A (en) 2008-11-16
KR20090110897A (ko) 2009-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5229503B2 (ja) 水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置
JP5778656B2 (ja) 多孔質基材の修飾方法および修飾された多孔質基材
US7468093B2 (en) Multiple phase alloys and metal membranes for hydrogen separation-purification and method for preparing the alloys and the metal membranes
US8366805B2 (en) Composite structures with porous anodic oxide layers and methods of fabrication
JPWO2002045832A1 (ja) 水素透過構造体とその製造方法
US8778058B2 (en) Multilayer sulfur-resistant composite metal membranes and methods of making and repairing the same
JP2008012495A (ja) 水素透過合金膜
JPH01262924A (ja) 水素分離膜
US8652239B2 (en) High permeance sulfur tolerant Pd/Cu alloy membranes
KR101494186B1 (ko) 수소 분리막 및 그의 제조 방법
KR101763609B1 (ko) 폴리벤지이미다졸계 고분자 막을 지지체로 하는 팔라듐 도금 분리막 및 그 제조 방법
JPH11286785A (ja) 水素透過膜及びその作製方法
US8177890B2 (en) Stable supported Pd-alloy membranes
KR101784437B1 (ko) 수소 분리막용 멤브레인 및 이의 이용
JPH0579367B2 (ja)
CN115228307B (zh) 一种氧化石墨烯分离膜、制备方法以及在乙烯/乙烷分离中的应用
KR20130094259A (ko) 분리막, 이를 포함하는 수소 분리막 및 상기 수소 분리막을 포함하는 수소 분리 장치
Chi Fabrication and aplications of graphene hollow fibre membranes
JP2008279329A (ja) Pd系水素透過膜の製造方法
Pişkin Deposition and testing of thin film hydrogen separation membranes
JP2008272605A (ja) 水素透過膜およびその製造方法
KR101493682B1 (ko) 수소분리막 보호층 및 이의 코팅방법
JP2002119834A (ja) 無機水素分離膜の製造方法
Lanning et al. Un-supported palladium alloy membranes for the production of hydrogen
JP2008237977A (ja) 水素透過金属膜の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101126

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120119

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130123

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130305

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160329

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5229503

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151