JP5182913B2 - パターン描画装置およびパターン描画方法 - Google Patents
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Description
2 光照射部
4 制御部
6 照射領域群
6a 先行照射領域群
6b 後続照射領域群
22 DMD
31 ステージ移動機構
32 ヘッド部移動機構
61 照射領域
73a,73c 重複領域
222 微小ミラー群
223〜226,223a〜223e (無効化される)微小ミラー
711 先行ストライプ領域
712 後続ストライプ領域
721,722 非重複領域
S1〜S7 ステップ
Claims (8)
- 感光材料に光を照射して前記感光材料上にパターンを描画するパターン描画装置であって、
感光材料上に光を照射する光照射部と、
前記光照射部から光が照射される照射領域群を前記感光材料上において移動する照射領域移動機構と、
前記照射領域群の移動および前記照射領域群の各照射領域への光の照射を制御し、前記感光材料上の各位置に対して複数の照射領域を通過させつつ前記各位置に光を照射することにより前記感光材料上に描画を行う制御部と、
を備え、
前記光照射部が、空間光変調器を備え、
前記空間光変調器において複数の光変調素子が矩形領域内に2次元に配列され、前記複数の光変調素子に対応する前記感光材料上の複数の領域が、互いに垂直な行方向および列方向に矩形に配列されており、
前記列方向が主走査方向に対して傾斜し、
前記複数の光変調素子が、姿勢が個別に変更可能な複数の微小ミラーであり、
前記制御部の制御により、前記空間光変調器からの先行照射領域群への光の照射を制御するとともに前記先行照射領域群を前記主走査方向に平行に移動することにより、前記感光材料上の先行ストライプ領域に光の照射が行われ、前記空間光変調器からの後続照射領域群への光の照射を制御するとともに前記後続照射領域群を前記主走査方向に平行に移動することにより、副走査方向において前記先行ストライプ領域に隣接し、かつ、部分的に重なる後続ストライプ領域に光の照射が行われ、
前記先行ストライプ領域および前記後続ストライプ領域の描画時に能動化される光変調素子に対応する前記感光材料上の照射領域が、それぞれ前記先行照射領域群および前記後続照射領域群であり、
前記先行ストライプ領域および前記後続ストライプ領域における非重複領域の各位置において、前記先行照射領域群または前記後続照射領域群が連続的に一定の時間で通過し、
前記先行ストライプ領域と前記後続ストライプ領域とが重なる重複領域の各位置において、前記先行照射領域群および前記後続照射領域群が通過する累計時間を前記一定の時間とする場合に能動化される光変調素子の一部が、前記先行ストライプ領域および前記後続ストライプ領域の少なくともいずれか一方の描画時に無効化されることにより、前記累計時間が前記一定の時間より短いことを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1に記載のパターン描画装置であって、
前記光照射部が、前記空間光変調器と同様の他の空間光変調器をさらに備え、前記他の空間光変調器が前記空間光変調器に対して前記副走査方向に位置し、前記空間光変調器と前記他の空間光変調器との相対位置が固定され、
前記空間光変調器により、前記副走査方向に並ぶ複数のストライプ領域に順次光の照射が行われ、互いに隣接する各対のストライプ領域の一方が前記先行ストライプ領域であり、他方が前記後続ストライプ領域であり、
前記他の空間光変調器により、前記空間光変調器と同様に、前記副走査方向に並ぶ複数のストライプ領域に順次光の照射が行われ、互いに隣接する各対のストライプ領域の一方が前記先行ストライプ領域であり、他方が前記後続ストライプ領域であり、
前記空間光変調器により最後に光が照射される最終ストライプ領域が、前記他の空間光変調器により最初に光が照射される先頭ストライプ領域に隣接し、かつ、部分的に重なり、
前記先頭ストライプ領域および前記最終ストライプ領域の描画時に能動化される光変調素子に対応する前記感光材料上の照射領域を、それぞれ先頭照射領域群および最終照射領域群として、
前記先頭ストライプ領域および前記最終ストライプ領域における非重複領域の各位置において、前記先頭照射領域群または前記最終照射領域群が連続的に前記一定の時間で通過し、
前記先頭ストライプ領域と前記最終ストライプ領域とが重なる重複領域の各位置において、前記先頭照射領域群および前記最終照射領域群が通過する他の累計時間を前記一定の時間とする場合に能動化される光変調素子の一部が、前記先頭ストライプ領域および前記最終ストライプ領域の少なくともいずれか一方の描画時に無効化されることにより、前記他の累計時間が前記累計時間よりも短いことを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1または2に記載のパターン描画装置であって、
前記非重複領域の前記副走査方向の幅が、前記矩形に配列される前記複数の領域の前記行方向の辺を前記副走査方向を向く直線に投影した長さに等しいことを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項3に記載のパターン描画装置であって、
前記重複領域と前記非重複領域との間の境界近傍において、前記重複領域の各位置を前記先行照射領域群および前記後続照射領域群が通過する前記累計時間が、前記境界から離れるほど減少することを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記複数の光変調素子のうち、前記重複領域に対応する光変調素子の一部のみが無効化されることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記先行ストライプ領域および前記後続ストライプ領域の少なくともいずれか一方の描画途上において、前記重複領域に対応する光変調素子のうち無効化される素子の数が変更されることを特徴とするパターン描画装置。 - 光照射部から光が照射される照射領域群を感光材料上において移動するとともに前記照射領域群の各照射領域への光の照射を制御し、前記感光材料上の各位置に対して複数の照射領域を通過させつつ前記各位置に光を照射することにより前記感光材料上にパターンを描画するパターン描画方法であって、
前記光照射部が、空間光変調器を備え、
前記空間光変調器において複数の光変調素子が矩形領域内に2次元に配列され、前記複数の光変調素子に対応する前記感光材料上の複数の領域が、互いに垂直な行方向および列方向に矩形に配列されており、
前記列方向が主走査方向に対して傾斜し、
前記複数の光変調素子が、姿勢が個別に変更可能な複数の微小ミラーであり、
前記空間光変調器からの先行照射領域群への光の照射を制御するとともに前記先行照射領域群を前記主走査方向に平行に移動することにより、前記感光材料上の先行ストライプ領域に光の照射を行う工程と、
前記空間光変調器からの後続照射領域群への光の照射を制御するとともに前記後続照射領域群を前記主走査方向に平行に移動することにより、前記先行ストライプ領域に隣接するとともに部分的に重なる後続ストライプ領域に光の照射を行う工程と、
を備え、
前記先行ストライプ領域および前記後続ストライプ領域の描画時に能動化される光変調素子に対応する前記感光材料上の照射領域が、それぞれ前記先行照射領域群および前記後続照射領域群であり、
前記先行ストライプ領域および前記後続ストライプ領域における非重複領域の各位置において、前記先行照射領域群または前記後続照射領域群が連続的に一定の時間で通過し、
前記先行ストライプ領域と前記後続ストライプ領域とが重なる重複領域の各位置において、前記先行照射領域群および前記後続照射領域群が通過する累計時間を前記一定の時間とする場合に能動化される光変調素子の一部が、前記先行ストライプ領域および前記後続ストライプ領域の少なくともいずれか一方の描画時に無効化されることにより、前記累計時間が前記一定の時間より短いことを特徴とするパターン描画方法。 - 請求項7に記載のパターン描画方法であって、
前記先行ストライプ領域および前記後続ストライプ領域の少なくともいずれか一方の描画途上において、前記重複領域に対応する光変調素子のうち無効化される素子の数が変更されることを特徴とするパターン描画方法。
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