JP2001255664A

JP2001255664A - 画像露光方法

Info

Publication number: JP2001255664A
Application number: JP2000069975A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Sunakawa; 寛砂川
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-03-14
Filing date: 2000-03-14
Publication date: 2001-09-21
Also published as: US6552777B2; US20010035944A1

Abstract

(57)【要約】【課題】二次元空間変調素子を用いた感光材料の露光に
おいて、光の利用効率が高く、しかも、光量均一性に優
れた画像露光方法を提供する。【解決手段】二次元空間変調素子の１つの画素列方向
に、感光材料と二次元空間変調素子とを相対的に走査す
ると共に、この走査に同期して二次元空間変調素子によ
る画像も前記走査方向に走査することにより、感光材料
を多重露光し、かつ走査方向の画素列による最大露光量
が、各画素列で等しくなるように、少なくとも１つの画
素列は、記録画像によらず、一部の画素による露光を常
時停止することにより、前記課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタルマイクロ
ミラーデバイス等の二次元空間変調素子を用いた画像露
光の技術分野に属し、詳しくは、光の利用効率が高く、
しかも、光の均一性も高くムラのない画像露光を行うこ
とができる画像露光方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】各種のプリンタ等で利用されているデジ
タルの（画像）露光系においては、レーザビームを主走
査方向に偏向すると共に、感光材料と光学系とを主走査
方向と直交する副走査方向に相対的に移動することによ
り、記録画像に応じて変調したレーザビームで感光材料
を二次元的に露光する、いわゆるレーザビーム走査露光
（ラスタースキャン）が主流である。

【０００３】これに対し、近年、ディスプレイやモニタ
における表示手段として利用されている液晶ディスプレ
イ（以下、ＬＣＤとする）やデジタルマイクロミラーデ
バイス（以下、ＤＭＤとする）等の二次元の空間変調素
子を用いるデジタルの画像露光系が、各種提案されてい
る。この露光系においては、基本的に、二次元空間変調
素子（以下、空間変調素子とする）による表示画像を、
感光材料に結像することにより、感光材料を露光する。
特に、ＤＭＤはＬＣＤに比して、変調速度（応答速度）
が早く、しかも光の利用効率も高いので、高速での露光
に有利である。

【０００４】このような空間変調素子を用いたデジタル
露光系が、例えば、特開２０００−１９６６２号公報に
開示されている。この公報に開示される露光系は、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）およびＢ（青）の三原色の光と、空間
変調素子（主にＤＭＤを例示）とを用いて、フルカラー
画像を作成するものである。この露光系においては、空
間変調素子（光学系）と感光材料とを、ＤＭＤの画素配
列の一方向に相対的に走査しつつ、空間変調素子による
画像も同期して対応方向に走査することにより、感光材
料を多重露光する。これにより、階調性および光の利用
効率を向上して、写真品質の画像出力を可能にしてい
る。

【０００５】一方で、印刷製版の分野においてもデジタ
ル化が検討されており、ワークステーションやパーソナ
ルコンピュータ（ＰＣ）などを用いて編集作業等を行
い、作成した各ページの（デジタル）画像データを生成
して、この画像データに応じて変調した記録光でＰＳ版
を露光することにより、ＰＣ等からＰＳ板に、直接、製
版を行う、いわゆるＣＴＰ（Computer to Plate)が提案
されている。

【０００６】現在、このようなＣＴＰを実現するために
は、レーザビームによる露光が可能な、特殊なＰＳ板が
必要である。しかしながら、このＰＳ版は、紫外線によ
って露光される通常に用いられているＰＳ版（以下、コ
ンベＰＳ版とする）に比して、高価である上に、現像安
定性が低い。さらに、印刷適正も異なり、印刷物によっ
ては十分な品質の製品を得られない場合もある。また、
これらのＰＳ版の露光には、光源として、可視光レーザ
や高出力の赤外線レーザ等の高価な光源が必要である。

【０００７】一方で、前述の空間変調素子を用いること
により、コンベＰＳ版に露光が可能なＣＴＰ装置も提案
されている。この装置は、紫外線ランプを光源として、
空間変調素子の表示画像を結像、露光することにより、
コンベＰＳ版を製版することを実現しており、静止状態
でコンベＰＳ版の一部にＤＭＤによる画像を所定時間結
像して露光した後、光学系を移動して、隣接する他の領
域の露光を行うことを繰り返す。そのため、移動に時間
がかかり、全面の露光に時間が掛かってしまう。

【０００８】さらに、この装置や、前述の特開２０００
−１９６６２号公報に開示される露光系も含め、空間変
調素子を用いる露光系では、感光材料に入射する光の光
量均一性が低く、その結果、画像にムラ等を生じてしま
うという問題点も有る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術の問題点を解決することにあり、二次元空間変
調素子を用いた感光材料の露光において、光の利用効率
が高く、しかも、光量均一性に優れ、コンベＰＳ版を用
いたＣＴＰ装置等に特に好適に利用される画像露光方法
を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、感光材料の分光感度に応じた光源から射
出され、二次元空間変調素子によって変調された光によ
って感光材料を露光するに際し、前記二次元空間変調素
子の１つの画素列方向に、前記感光材料と二次元空間変
調素子とを相対的に走査すると共に、この走査に同期し
て前記二次元空間変調素子による画像も前記走査方向に
走査することにより、前記感光材料を多重露光し、か
つ、前記走査方向の画素列による最大露光量が各画素列
で等しくなるように、少なくとも１つの前記画素列は、
記録画像によらず、一部の画素による露光を常時停止す
ることを特徴とする画像露光方法を提供する。

【００１１】所定画素数ずつ、順次、光量を測定するこ
とを、全画素で行い、得られた測定結果から、露光を停
止する画素を決定するのが好ましく、あるいは、所定数
の前記走査方向の画素列ずつ、順次、光量を測定するこ
とを、全画素列で行い、得られた測定結果から、露光を
停止する画素を決定するのが好ましく、さらに、前記二
次元空間変調素子がデジタルマイクロミラーデバイスで
あって、前記所定数および画素列の光量を、未露光状態
の反射光で測定するのが好ましい。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の画像露光方法につ
いて、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に
説明する。

【００１３】図１に、本発明の画像露光方法を利用する
画像露光装置の一例を、概念的に示す。図示例の画像露
光装置１０（以下、露光装置１０とする）は、二次元空
間変調素子であるＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバ
イス）と、いわゆるエクスターナルドラム（外面ドラ
ム）を用いて感光材料を２次元的に走査露光する装置で
あって、基本的に、光源部１２と、均一照射光学系１４
と、コリメータレンズ（光コリメータ）１６と、反射ミ
ラー１８と、ＤＭＤ２０と、結像光学系２２と、エクス
ターナルドラム２４（以下、ドラム２４とする）と、副
走査駆動系（図示省略）を有する。

【００１４】光源部１２は、感光材料を露光する光を射
出するもので、光源２６とリフレクタ２８とを有して構
成される。光源２６としては、十分な光量の光を射出で
きる物であれば、対象となる感光材料の分光感度に応じ
た各種の光源が利用可能である。例えば、感光材料が、
紫外線による露光が可能な通常に用いられるＰＳ版（コ
ンベＰＳ版）であれば、超高圧水銀灯やメタルハライド
ランプ等の紫外線ランプを用いればよい。リフレクタ２
８は、光源２６を内包し、内面が光反射層となっている
回転楕円体で、光源２６から射出された光を反射して、
その焦点位置に集光する。

【００１５】光源部１２から射出された光は、次いで、
均一照射光学系１４に入射する。均一照射光学系１４
は、ＤＭＤ２０に入射する光（光量分布）を、ＤＭＤ２
０の面方向（二次元的な画素配列方向）で均一にするも
ので、図示例においては、コリメータレンズ３０とフラ
イアイレンズ３２を有して構成される。均一照射光学系
１４は、リフレクタ２８による集光位置のすぐ下流（光
の進行方向の下流）に配置され、光をコリメータレンズ
３０で平行光にした後、矩形形状のフライアイレンズ３
２で拡散することにより、ＤＭＤ２０に入射する光を、
ＤＭＤ２０の画素配列に対応する矩形で、かつ、その光
量分布が均一な光とする。

【００１６】均一照射光学系１４で拡散された光は、コ
リメータレンズ１６によって平行光とされた後、ミラー
１８に所定方向に反射され、ＤＭＤ２０に入射する。ミ
ラー１８は、ＤＭＤ２０におけるマイクロミラーの回転
角を±θとした際に、ＤＭＤ２０（水平位置のマイクロ
ミラー）への入射角が２θとなるように、前記平行光を
反射する。例えば、マイクロミラーの回転角が±１０°
であれば、平行光のＤＭＤ２０への入射角は２０°とな
る。

【００１７】周知のように、ＤＭＤ２０は、所定の回転
軸を中心に所定角度回転（揺動）可能な矩形のマイクロ
ミラーを、二次元的に配列してなる二次元空間変調素子
で、静電的にマイクロミラーを回転することにより、各
マイクロミラー（＝画素）毎に露光をｏｎ／ｏｆｆし
て、光を変調する。このようなＤＭＤ２０は、半導体装
置の製造プロセスを応用したマイクロマシン技術によっ
てシリコンチップ上に作成される。例えば、前述のよう
に、マイクロミラーの回転角が±１０°の際に、入射角
２０°で入射した光は、露光ｏｎであれば、ＤＭＤ２０
（水平位置のマイクロミラー）の法線方向に反射され
て、画像を担持する光として結像光学系２２を経てドラ
ム２４に入射、結像する。逆に、露光ｏｆｆであれば、
入射した光は、法線に対して４０°の角度で反射され、
結像光学系２２には入射しない。

【００１８】図示例の露光装置１０においては、一例と
して、画素間隔が１７μｍで、１２８０画素×１０２４
画素のＤＭＤ２０を用いている。また、後述するドラム
２４の回転方向とＤＭＤ２０の１０２４画素の画素列方
向とが光学的に一致し（以下、この方向を主走査方向と
する）、かつ、ドラム２４の軸線方向と同１２８０画素
の画素列方向とが光学的に一致（同、副走査方向とす
る）するように、各部材が配置される。

【００１９】なお、本発明においては、二次元空間素子
は図示例のようなＤＭＤ２０には限定されず、液晶表示
装置（ＬＣＤ）、強誘電性液晶による空間変調素子等、
公知の各種の二次元空間変調素子が各種利用可能であ
る。中でも、変調速度や光に利用効率等の点で、ＤＭＤ
が最も好ましい。

【００２０】ＤＭＤ２０によって法線方向に反射され
た、画像を担持する光（すなわち、ＤＭＤ２０が形成す
る画像）は、結像光学系２２によって、ドラム２４の表
面（そこに保持された感光材料の表面）に結像する。Ｄ
ＭＤ２０の中心画素は結像光学系２２の光軸に一致して
おり、また、この光軸は、ドラム２４の接線に直交する
ように、各部位が配置される。図示例の露光装置１０
は、一例として、２４００ｄｐｉの画像を露光する。従
って、露光面上における画素間隔は１０．５８μｍであ
るので、結像光学系２２は、０．６２３倍の倍率でＤＭ
Ｄ２０によって変調・反射された画像を担持する光をド
ラム２４に結像する。すなわち、露光面上における露光
エリアは、最大で、１３．５ｍｍ×１０．８ｍｍとな
る。

【００２１】（エクスターナル）ドラム２４は、外側面
に感光材料を保持して、軸線を中心に回転する円筒であ
る。露光装置１０においては、光源部１２から結像光学
系２２に至る光学系は、図１中に点線で示されるように
一体的にユニット化（以下、光学系ユニット２６とす
る）されており、公知の方法で、副走査方向に所定速度
で移動するように構成される。露光装置１０は、いわゆ
るドラムスキャナで、感光材料の露光時には、記録する
画像に応じて変調した光をドラム２４（感光材料）に入
射して、ドラム２４を回転（主走査）しながら、副走査
方向に光学系ユニット２６を移動する。これにより、画
像を担持する光によって感光材料を二次元的に走査露光
して、画像を記録し、例えば、コンベＰＳ版が製版され
る。

【００２２】前述のように、この露光装置１０において
は、露光面上における副走査方向の露光エリアは最大で
１３．５ｍｍであるので、例えば、ドラム２４が一回転
すると光学系ユニット２６が１３．５ｍｍだけ副走査方
向に移動する。また、ＤＭＤ２０は、副走査方向に１２
８０画素を有するので、露光装置１０においては、１２
８０画素のマルチ露光が可能である。

【００２３】本発明にかかる露光装置１０においては、
このような露光時に、ドラム２４の回転（主走査）に同
期して、ＤＭＤ２０が形成する画像（ＤＭＤ２０におけ
る変調）も主走査方向に走査（移動）することにより、
多重露光を行う。すなわち、ドラムが１画素（１０．５
８μｍ分）回転したら、ＤＭＤ２０による形成画像も、
１画素、主走査方向に移動する。従って、図示例であれ
ば、最大で、１０２４回の多重露光が行われる。

【００２４】このような多重露光を行うことにより、光
の利用効率を高くして、十分な光量で感光材料を露光す
ることができ、例えば、超高圧水銀灯等の一般的な紫外
線ランプを用いてコンベＰＳ版を露光して製版を行うこ
とが可能になり、あるいは、階調画像を記録する場合で
あれば、主走査方向の画素数を十分に利用して目的とす
る分解能の階調画像を記録できる。特に、図示例のよう
なＤＭＤ２０は、ＬＣＤ等に比べて光の利用効率が高い
ので、より好適な画像露光が可能である。

【００２５】ここで、本発明の露光装置１０において
は、多重露光は、主走査方向の全ての画素を用いて行う
のではなく、主走査方向の画素の列（以下、画素列とす
る）において、駆動する全ての画素の光量の合計（総和
光量）が各画素列で等しくなるように、少なくとも１つ
の画素列は、画像データによらず一部の画素を常時ｏｆ
ｆする（露光しない）。言い換えれば、多重露光の最大
露光量が、露光を行う全ての画素列（＝露光された感光
材料の全画素）で等しくなるように（許容範囲内になる
ように）、少なくとも１つの画素列は、常時、一部の画
素をｏｆｆにする。

【００２６】図２を参照して、より詳細に説明する。図
２は、一例として、１００画素×１１０画素のＤＭＤを
模式的に示すものであり、矩形のマス１個が１画素すな
わち一枚のマイクロミラーである。この例では、主走査
方向（図中矢印ｍ方向）に１００画素、副走査方向（同
矢印ｎ方向）に１１０画素で、すなわち、主走査方向に
延在する１００画素（１００行）の画素列を、副走査方
向に１１０列有する。

【００２７】一例として、各画素列の全画素（１００画
素）をｏｎにした際の加算光量（すなわち各画素列毎の
全画素の積分光量）が、図２に付記する模式的なグラフ
の様になったとする。すなわち、画素列４が最も低光量
で、画素列９〜１１が最も光量が高い。これに応じて、
１１０の画素列の全てで、駆動する全画素の総和光量
（すなわち、最大露光量）が、画素列４の加算光量と等
しくなるように、これ以外の画素列では、一部の画素を
常時ｏｆｆにする。すなわち、一例として、図２に×で
示すように、画素列１で３画素、画素列２で２画素、…
…、画素列４は無し、画素列５で１画素、……、画素列
１０で５画素、……画素列１０９で４画素、画素列１１
０で３画素を、常時ｏｆｆにすることにより、全ての画
素列において、総和光量を画素列４と等しくする。

【００２８】図示例のＤＭＤ２０のように、主走査方向
（図中矢印ｍ方向）に１０２４画素で、副走査方向（同
矢印ｎ方向）に１２８０画素を有する場合、すなわち、
１０２４画素の列を１２８０列有する場合であれば、例
えば、最低光量の画素列の加算光量に、１２８０列の全
ての画素列の総和光量を合わせるとして、５％光量が高
い画素列であれば５０画素程度、１０％光量が高い画素
列であれば１００画素程度、常時ｏｆｆにすることによ
り、全ての画素列において、総和光量を等しくする。

【００２９】空間変調素子を用いた画像露光において
は、必ずしも、全画素の光量は均一ではなく、光源の光
量分布、素子や光学系の誤差、レンズ特性等に応じて、
光量分布を生じる。そのため、多重露光を行う際に、各
画素列毎に最大露光量が異なってしまい、それが、画像
の露光ムラとなり、画質劣化の一因となっている。

【００３０】これに対し、本発明の露光装置によれば、
（露光を行う）全画素列で、総和光量を均一にし、すな
わち多重露光の最大露光量を高精度に均一にできる。例
えば、図示例のＤＭＤ２０であれば、画素列は、１０２
４画素を有するので、約０．１％の精度で総和光量を調
整可能である。そのため、空間変調素子を用いた多重露
光において、感光材料を全面的に均一な光量で露光を行
うことができ、高画質な画像露光を実現することができ
る。特に、ＰＳ版の露光では、画像記録は２値であるの
で、画像データに応じて、主走査方向（画素列）の全画
素がｏｎかｏｆｆになる。従って、本発明によれば、感
光材料に露光された全画素を均一な露光量にすることが
でき、すなわち、ムラなく、非常に高精度なＰＳ版の露
光を行うことができる。また、階調画像であれば、全画
素で最大濃度を一致させることができ、あるいはさら
に、解像度が主走査方向の画素数よりも低い場合であれ
ば、駆動する画素を選択することで、全ての画素で階調
性を均一化することができ、高画質な画像を記録でき
る。

【００３１】すなわち、本発明によれば、二次元空間変
調素子を用いて、良好な光利用効率で、光の均一性に優
れたムラのない、高精度な画像露光を行うことができ、
例えば、印刷分野におけるＣＴＰに利用することによ
り、超高圧水銀灯のような一般的な光源を用いて、コン
ベＰＳ版を高精度にムラなく露光することが可能とな
り、感光材料コストの低減、現像安定性の確保、印刷適
正の共通化等を図ることができる。

【００３２】なお、本発明の露光方法において、常時ｏ
ｆｆする画素は、図２のように端部近傍の画素に限定は
されず、例えば、主走査方向の中央の画素を常時ｏｆｆ
してもよい。また、常時ｏｆｆする画素は、主走査方向
に連続している必要はなく、等間隔あるいはランダムな
間隔で、常時ｏｆｆする画素を設定してもよい。さら
に、総和光量は、全ての画素列の内、最も低い画素列の
加算光量と一致させる必要はなく、例えば、許容範囲の
マージン等を考慮して、それ以下としてもよい。

【００３３】常時ｏｆｆする画素の決定方法には限定は
なく、各種の方法が利用可能であるが、好適な一例とし
て、下記の方法が例示される。

【００３４】まず、光学ユニット２６に対して、光学的
にドラム２４（露光面）に相当する位置に、十分な測定
速度を有する光検出器を配置する。次いで、ＤＭＤ２０
（二次元空間変調素子）を所定画素ずつ、順次、ｏｎし
て、それぞれの光量を測定することを、ＤＭＤ２０の全
ての画素で行い、各画素列毎に全画素の加算光量（各画
素列の全画素の積分光量）を算出する。

【００３５】なお、一度にｏｎする画素数には特に限定
はないが、常時ｏｆｆする画素をより適正に決定できる
等の点で、１画素〜１００画素が好ましく、特に、１画
素ずつｏｎして、各画素毎に光量を測定するのが好まし
い。複数画素ずつ測定を行った際に、必要に応じて各画
素毎の光量を算出する場合には、平均で得てもよく、光
量分布の傾向を見て演算してもよく、各種の方法が利用
可能である。

【００３６】その後、前述のように、例えば、最低の画
素列の加算光量を総和光量の目標として、全ての画素列
の総和光量が等しくなるように、測定した所定数の画素
の光量を用いて、各画素列毎に、常時ｏｆｆする画素を
決定する。

【００３７】この方法は、所定画素数ずつ、順次、光量
測定を行うので、若干、手間がかかる印象を受けるが、
例えば、二次元空間変調素子がＤＭＤであれば、変調速
度が非常に早いので、時間は、それほどかからない。ま
た、所定画素数毎、好ましくは、各画素の光量を測定し
て、常時ｏｆｆする画素を決定するので、通常は、一度
で正確に総和光量の均一化が図れる。

【００３８】また、別の方法として、同様に光検出器を
配置して、所定数の画素列ずつ、全画素をｏｎにして、
その光量を測定することを全ての画素列で行い、各画素
列毎の加算光量を算出し、先の例と同様、最低の画素列
の加算光量等を総和光量の目的として設定した後に、総
和光量が等しくなるように、各画素列毎に、常時ｏｆｆ
する画素を決定する方法も例示される。この方法によれ
ば、より迅速な測定が可能である。

【００３９】なお、全画素をｏｎにする画素列の数に
は、特に限定はないが、常時ｏｆｆする画素をより適正
に決定できる等の点で、１列〜１０列程度が好ましく、
特に、１列ずつ全画素ｏｎして、各画素列毎に光量を測
定するのが好ましい。複数列ずつ測定を行った場合に
は、各画素列毎の加算光量は、平均で得てもよく、光量
分布の傾向を見て演算してもよく、各種の方法が利用可
能である。

【００４０】ここで、常時ｏｆｆする画素の決定方法と
しては、例えば、画素列における１画素の平均光量を算
出して、各画素列毎にｏｆｆする画素（数）を決定する
方法等、各種の方法が利用可能であるが、以下の方法が
好ましく例示される。まず、前述のようにして全ての画
素列毎の加算光量を得て、総和光量の目標を設定する。
次いで、各画素列毎に、光量を測定しながら１画素ずつ
ｏｎして光量を測定し、その画素列の光量が目標光量と
なった時点で、１画素ずつｏｎをすることを停止し、ｏ
ｎしていない画素を常時ｏｆｆする画素として決定す
る。あるいは、全てｏｎの状態から、順次ｏｆｆして、
同様のことを行ってもよい。なお、この際において、ｏ
ｎするのは、１画素ずつに限定はされず、複数画素ずつ
でもよい。

【００４１】なお、本発明においては、このようにして
常時ｏｆｆする画素を決定した後、必要に応じて、各画
素列毎に、常時ｏｆｆする画素以外の全画素をｏｎして
光量を測定し、総和光量が目標値（許容範囲内に入る）
となっていることを確認し、総和光量が適正に均一化さ
れていない場合には、常時ｏｆｆする画素を再決定し
て、さらに、必要に応じて同様の確認を行ってもよい。

【００４２】以上の例では、光学的にドラム２４と同様
の位置に光検出器を配置して、画素や画素列の光量を測
定したが、図示例の用に、二次元空間変調素子としてＤ
ＭＤ２０を用いる場合には、ｏｆｆ光の光量を測定する
ことにより、常時ｏｆｆする画素を決定してもよい。

【００４３】すなわち、前述のように、ＤＭＤ２０のマ
イクロミラーの回転角が±１０で、光が２０°で入射す
る場合には、露光ｏｎの場合には光は法線方向に反射さ
れ、露光ｏｆｆの場合には、図１に点線で示すように、
法線に対して４０°の角度で光が反射される。従って、
図３に示されるように、このｏｆｆ光が反射される４０
°の位置に、結像光学系２２およびドラム２４と光学的
に等価にして、結像光学系３６および光検出器３８を配
置し、露光ｏｆｆ時のｏｆｆ光を測定することにより、
画素や画素列の光量を測定してもよい。

【００４４】このような、常時ｏｆｆする画素の決定
（更新）の頻度は、基本的に、光源２８の安定性に依存
するが、例えば、露光直前に行ってもよく、あるいは、
一日一回程度（例えば、始業時や終業時等）行ってもよ
く、さらに、露光系の安定性が高い場合には、頻度はも
っと少なくてもよい。また、光源２８の交換等、露光系
の特性に影響を与える変化が有った場合には、常時ｏｆ
ｆする画素を更新するのが好ましい。

【００４５】以上、本発明の画像露光方法について詳細
に説明したが、本発明は上記実施例に限定はされず、本
発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変
更を行ってもよいのは、もちろんである。

【００４６】例えば、図示例の露光装置１０は、エクス
ターナルドラムを用いたドラムスキャナであったが、本
発明はこれに限定はされず、例えば、フラットベットや
ツインニップローラ等を用いて、感光材料をフラットな
状態で走査露光する露光装置であってもよく、さらに、
プラテンローラを用いる露光装置であってもよい。ま
た、フラットベット、ツインニップローラ、プラテンロ
ーラ等を用いる系において、光学系の副走査方向の画素
数（マルチ露光の画素数）に対して感光材料が大きい場
合には、例えばｘ−ｙステージのような機構を用いて、
感光材料（フラットベット）と光学系を主走査方向に相
対的に走査して多重露光を行った後、感光材料と光学系
を副走査方向に所定距離（マルチ露光画素数に応じた距
離）だけ相対的に移動して、再度、主走査方向の走査に
よる多重露光を行うことを繰り返す露光装置であっても
よい。この際において、移動するのは、光学系のみであ
っても、感光材料のみであっても、両者（例えば、主走
査は感光材料の搬送で、副走査方向の移動は光学系等）
であってもよい。

【００４７】すなわち、本発明は、ＤＭＤ等の二次元空
間変調素子を用いた走査露光によって感光材料を多重露
光するものであれば、公知の露光方法（装置）全てに利
用可能である。

【００４８】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、二次元空間変調素子を用いた画像露光におい
て、良好な光利用効率で、光の均一性に優れたムラのな
い、高精度な画像露光を行うことができ、例えば、印刷
分野におけるＣＴＰに利用することにより、一般的な光
源を用いて、コンベＰＳ版を高精度にムラなく露光する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の画像露光方法を利用する画像露光装
置の一例の概念図である。

【図２】本発明の画像露光方法を説明するための概念
図である。

【図３】本発明の画像露光方法において常時ｏｆｆす
る画素の決定方法の別の例を説明するための概念図であ
る。

【符号の説明】

１０（画像）露光装置１２光源部１４均一照射光学系１６，３０コリメータレンズ１８ミラー２０ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）２２，３６結像光学系２４（エクスターナル）ドラム２６光学ユニット３２フライアイレンズ３８光検出器

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感光材料の分光感度に応じた光源から射出
され、二次元空間変調素子によって変調された光によっ
て感光材料を露光するに際し、前記二次元空間変調素子の１つの画素列方向に、前記感
光材料と二次元空間変調素子とを相対的に走査すると共
に、この走査に同期して前記二次元空間変調素子による
画像も前記走査方向に走査することにより、前記感光材
料を多重露光し、かつ、前記走査方向の画素列による最
大露光量が各画素列で等しくなるように、少なくとも１
つの前記画素列は、記録画像によらず、一部の画素によ
る露光を常時停止することを特徴とする画像露光方法。
【請求項２】所定画素数ずつ、順次、光量を測定するこ
とを、全画素で行い、得られた測定結果から、露光を停
止する画素を決定する請求項１に記載の画像露光方法。
【請求項３】所定数の前記走査方向の画素列ずつ、順
次、光量を測定することを、全画素列で行い、得られた
測定結果から、露光を停止する画素を決定する請求項１
に記載の画像露光方法。
【請求項４】前記二次元空間変調素子がデジタルマイク
ロミラーデバイスであって、前記所定数および画素列の
光量を、未露光状態の反射光で測定する請求項２または
３に記載の画像露光方法。