JP2006319088A - 描画装置 - Google Patents
描画装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006319088A JP2006319088A JP2005139437A JP2005139437A JP2006319088A JP 2006319088 A JP2006319088 A JP 2006319088A JP 2005139437 A JP2005139437 A JP 2005139437A JP 2005139437 A JP2005139437 A JP 2005139437A JP 2006319088 A JP2006319088 A JP 2006319088A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- exposure area
- scanning direction
- sub
- along
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】 露光エリアEAに照射される光の強度分布が略等しい状況において、連続移動方式およびラスタ走査に従い、オーバラップ露光を実行する。このとき、露光エリアEAが副走査方向に対して所定角度α傾斜するようにDMDを配置し、角度αを、露光エリアEAの対角線が主走査方向(X方向)に対して平行となるように定め、露光エリアEAを副走査方向に沿って走査バンド幅RBの半分の距離RHだけ移動させる。
【選択図】 図4
Description
18 X−Yステージ
21 光源
22 DMD(光変調ユニット)
22A 有効露光領域
22B 非露光領域
24 照明光学系
30 描画制御部
32 システムコントロール回路
EA 露光エリア
SW 基板
Xij マイクロミラー
Yij 微小スポット
SB 走査バンド
OA オーバラップ領域
α 傾斜角度
X 主走査方向
Y 副走査方向
Claims (13)
- 光源と、
複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、前記光源からの光を変調して被描画体へ光を照射させる光変調ユニットと、
前記光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアを、前記被描画体に対してラスタ走査させる走査手段と、
前記被描画体における前記露光エリアの相対位置に応じてパターンを形成するように、前記複数の光変調素子を制御する露光制御手段とを備え、
前記光変調ユニット全体による照射領域が副走査方向に対して傾斜し、
前記露光制御手段が、主走査方向に沿って前記露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行させるとともに、前記走査手段が、副走査方向に沿って前記露光エリアがオーバラップするように前記露光エリアを副走査方向に沿って相対移動させ、
前記走査手段が、隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、副走査方向に沿って前記露光エリアを所定量だけ相対移動させることを特徴とする描画装置。 - 光源と、
複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、前記光源からの光を被描画体へ照射させる光変調ユニットと、
前記光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアを前記被描画体に対してラスタ走査させる走査手段と、
前記被描画体における前記露光エリアの相対位置に応じてパターンを形成するように、前記複数の光変調素子を制御する露光制御手段とを備え、
前記露光制御手段が、主走査方向に沿って前記露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行させるとともに、前記走査手段が、副走査方向に沿って前記露光エリアがオーバラップするように前記露光エリアを副走査方向に沿って相対移動させ、
前記露光制御手段が、前記露光エリアの輪郭線が傾斜するように、また、隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、前記露光エリアの副走査方向に沿った相対移動量に従って前記光変調ユニットの有効露光領域を規定し、前記有効露光領域内の光変調素子を制御することを特徴とする描画装置。 - 前記露光エリアが矩形状であって、
前記露光エリアの対角線が主走査方向に沿って平行となるように、前記露光エリアが副走査方向に対し傾斜することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。 - 前記露光制御手段が、前記露光エリアの面積2等分線が主走査方向に平行であるとともに、前記露光エリアがその面積2等分線に対して線対称もしくは回転対称になるように、前記有効露光領域を規定し、
前記走査手段が、面積2等分線を基準とした前記露光エリアの副走査方向に沿った長さ分だけ、前記露光エリアを副走査方向に沿って相対移動させることを特徴とする請求項2に記載の描画装置。 - 前記露光制御手段が、前記有効露光領域を二等辺三角形、平行四辺形、菱形のいずれかに規定することを特徴とする請求項2に記載の描画装置。
- 前記走査手段が、連続移動方式に従って前記露光エリアをラスタ走査させることを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の描画装置。
- 複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、光源からの光を被描画体へ照射させる光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアを、前記被描画体に対してラスタ走査させ、
前記被描画体における前記露光エリアの相対位置に応じてパターンを形成するように、前記複数の光変調素子を制御する描画方法であって、
前記光変調ユニット全体による照射領域を副走査方向に対して傾斜させ、
主走査方向に沿って前記露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行させるとともに、副走査方向に沿って前記露光エリアがオーバラップするように前記露光エリアを副走査方向に沿って相対移動させ、
隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、副走査方向に沿って前記露光エリアを所定量だけ相対移動させることを特徴とする描画方法。 - 複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、光源からの光を被描画体へ照射させる光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアを前記被描画体に対してラスタ走査させ、
前記被描画体における前記露光エリアの相対位置に応じてパターンを形成するように、前記複数の光変調素子を制御する描画方法であって、
主走査方向に沿って前記露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行させるとともに、副走査方向に沿って前記露光エリアがオーバラップするように前記露光エリアを副走査方向に沿って相対移動させ、
前記露光エリアの輪郭線が傾斜するように、また、隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、前記露光エリアの副走査方向に沿った相対移動量に従って前記光変調ユニットの有効露光領域を規定し、前記有効露光領域内の光変調素子を制御することを特徴とする描画方法。 - 被描画体を支持するステージと、
複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、光源からの光を前記被描画体へ照射させる光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアを、前記ステージの移動により前記被描画体に対してラスタ走査させる走査手段とを備え、
前記光変調ユニット全体による照射領域が副走査方向に対して傾斜し、
前記走査手段が、副走査方向に沿って前記露光エリアがオーバラップするように前記露光エリアを副走査方向に沿って相対移動させ、
前記走査手段が、隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、副走査方向に沿って前記露光エリアを所定量だけ相対移動させることを特徴とする走査装置。 - パターンデータをラスタデータに変換する変換手段と、
複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、光源からの光を被描画体へ照射させる光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアの前記被描画体における相対位置に応じてパターンを形成するように、前記複数の光変調素子を制御する露光制御手段とを備え、
前記露光制御手段が、主走査方向に沿って前記露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行させ、
前記露光制御手段が、前記露光エリアの輪郭線が傾斜するように、また、隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、前記露光エリアの副走査方向に沿った相対移動量に従って前記光変調ユニットの有効露光領域を規定し、前記有効露光領域内の光変調素子を制御することを特徴とする露光制御装置。 - パターンデータをラスタデータに変換する変換手段と、
複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、光源からの光を被描画体へ照射させる光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアの前記被描画体における相対位置に応じてパターンを形成するように、前記複数の光変調素子を制御する露光制御手段とを機能させるプログラムであって、
主走査方向に沿って前記露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行させるように、前記露光制御手段を機能させ、
前記露光エリアの輪郭線が傾斜するように、また、隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、前記露光エリアの副走査方向に沿った相対移動量に従って前記光変調ユニットの有効露光領域を規定し、前記有効露光領域内の光変調素子を制御するように、前記露光制御手段を機能させることを特徴とするプログラム。 - 1)ブランクスである基板に感光材料を塗布し、
2)塗布された基板に対して描画処理を実行し、
3)描画処理された基板に対して現像処理をし、
4)現像処理された基板に対してエッチングまたはメッキ処理をし、
5)エッチングまたはメッキ処理された基板に対して感光材料の剥離処理をする基板の製造方法であって、
前記描画処理において、
複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、光源からの光を被描画体へ照射させる光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアを、前記被描画体に対してラスタ走査させ、
前記被描画体における前記露光エリアの相対位置に応じてパターンを形成するように、前記複数の光変調素子を制御する描画処理であって、
前記光変調ユニット全体による照射領域を副走査方向に対して傾斜させ、
主走査方向に沿って前記露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行させるとともに、副走査方向に沿って前記露光エリアがオーバラップするように前記露光エリアを副走査方向に沿って相対移動させ、
隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、副走査方向に沿って前記露光エリアを所定量だけ相対移動させることを特徴とする基板の製造方法。 - 1)ブランクスである基板に感光材料を塗布し、
2)塗布された基板に対して描画処理を実行し、
3)描画処理された基板に対して現像処理をし、
4)現像処理された基板に対してエッチングまたはメッキ処理をし、
5)エッチングまたはメッキ処理された基板に対して感光材料の剥離処理をする基板の製造方法であって、
前記描画処理において、
複数の光変調素子がマトリクス状に配列され、光源からの光を被描画体へ照射させる光変調ユニットによる照射スポットであって光強度分布が略均一な露光エリアを前記被描画体に対してラスタ走査させ、
前記被描画体における前記露光エリアの相対位置に応じてパターンを形成するように、前記複数の光変調素子を制御する描画処理であって、
主走査方向に沿って前記露光エリアをオーバラップさせながら露光動作を実行させるとともに、副走査方向に沿って前記露光エリアがオーバラップするように前記露光エリアを副走査方向に沿って相対移動させ、
前記露光エリアの輪郭線が傾斜するように、また、隣接する露光エリア間のオーバラップゾーンにおいて累積的露光量が副走査方向に沿って等しくなるように、前記露光エリアの副走査方向に沿った相対移動量に従って前記光変調ユニットの有効露光領域を規定することを特徴とする基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005139437A JP4801931B2 (ja) | 2005-05-12 | 2005-05-12 | 描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005139437A JP4801931B2 (ja) | 2005-05-12 | 2005-05-12 | 描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006319088A true JP2006319088A (ja) | 2006-11-24 |
JP4801931B2 JP4801931B2 (ja) | 2011-10-26 |
Family
ID=37539496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005139437A Active JP4801931B2 (ja) | 2005-05-12 | 2005-05-12 | 描画装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4801931B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012038759A (ja) * | 2010-08-03 | 2012-02-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置及び露光方法並びに表示用パネル基板製造装置及び表示用パネル基板の製造方法 |
CN113448175A (zh) * | 2020-03-26 | 2021-09-28 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置和曝光方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09283407A (ja) * | 1996-04-12 | 1997-10-31 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2001255664A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像露光方法 |
JP2003195512A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-09 | Pentax Corp | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
JP2004009595A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光ヘッド及び露光装置 |
JP2004146789A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-05-20 | Pentax Corp | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
JP2004304135A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びマイクロデバイスの製造方法 |
-
2005
- 2005-05-12 JP JP2005139437A patent/JP4801931B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09283407A (ja) * | 1996-04-12 | 1997-10-31 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2001255664A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像露光方法 |
JP2003195512A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-09 | Pentax Corp | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
JP2004009595A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光ヘッド及び露光装置 |
JP2004146789A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-05-20 | Pentax Corp | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
JP2004304135A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びマイクロデバイスの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012038759A (ja) * | 2010-08-03 | 2012-02-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置及び露光方法並びに表示用パネル基板製造装置及び表示用パネル基板の製造方法 |
CN113448175A (zh) * | 2020-03-26 | 2021-09-28 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置和曝光方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4801931B2 (ja) | 2011-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9946162B2 (en) | Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device | |
JP5258226B2 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP5339671B2 (ja) | 描画システム | |
JP2012049433A (ja) | 露光装置 | |
KR101446484B1 (ko) | 묘화 시스템 | |
JP2006319098A (ja) | 描画装置 | |
JP2008203506A (ja) | マスクレス露光方法及び装置 | |
US7564535B2 (en) | Seamless exposure with projection system comprises array of micromirrors with predefined reflectivity variations | |
JP4801931B2 (ja) | 描画装置 | |
JP4235972B2 (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
US7528932B2 (en) | SLM direct writer | |
JP2008046457A (ja) | 描画装置 | |
JP7471175B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP2009289896A (ja) | 液浸露光方法 | |
JP4081606B2 (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
KR20070114629A (ko) | 묘화 시스템 | |
JP2004319581A (ja) | パターン描画装置及びパターン描画方法 | |
JP4510429B2 (ja) | マスク描画手法、及びマスク描画装置 | |
JP2006173215A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP2005175264A (ja) | パターン露光装置 | |
JP6633925B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP2006190776A (ja) | 描画装置 | |
JP2005142235A (ja) | パターン描画装置 | |
JP5346356B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4791179B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060831 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080317 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100831 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110620 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110802 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110808 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4801931 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |