JP2006165548A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターン中の人為結果の可視性を小さくするためのリソグラフィ装置が提供される。リソグラフィ装置は、照明システムと、パターン形成機器と、投影システムと、変調機器とを備えている。照明システムによって放射のビームが供給され、パターン形成機器によってビームがパターン形成される。投影システムによってビームが基板の目標部分に投射される。変調機器によってビームが変調され、変調スキームを備えたパターンが付与される。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置100を略図で示したものである。装置100は、少なくとも放射システム102、個々に制御可能な複数の要素104の配列、対物テーブル106(例えば基板テーブル)及び投影システム(レンズ)108を備えている。
1.ステップ・モード:個々に制御可能な複数の要素104の配列上のパターン全体が目標部分120に1回で投影される(即ち単一「フラッシュ」)。次に、基板テーブル106がx及び/又はy方向を異なる位置へ移動し、異なる目標部分120がパターン形成されたビーム110によって露光される。
2.走査モード:所与の目標部分120が単一フラッシュで露光されない点を除き、基本的にステップ・モードと同じである。走査モードでは、個々に制御可能な複数の要素104の配列を速度vで所与の方向(いわゆる「走査方向」、例えばy方向)に移動させることができるため、パターン形成されたビーム110を使用して個々に制御可能な複数の要素104の配列が走査される。同時に、基板テーブル106が速度V=Mvで同じ方向若しくは反対方向へ移動する。Mは投影システム108の倍率である。この方法によれば、解像度を犠牲にすることなく、比較的大きい目標部分120を露光することができる。
3.パルス・モード:個々に制御可能な複数の要素104の配列が基本的に静止状態に維持され、パルス放射システム102を使用してパターン全体が基板114の目標部分120に投影される。パターン形成されたビーム110を使用して基板114の両端間のラインを走査することができるように、基本的に一定の速度で基板テーブル106が移動する。必要に応じて、放射システム102のパルスとパルスとの間に、個々に制御可能な複数の要素104の配列上のパターンが更新される。パルスは、連続する目標部分120が基板114上の必要な位置で露光されるように調時されている。したがって、パターン形成されたビーム110は、基板114の両端間を走査することができ、それにより細長い基板114の完全なパターンが露光される。このプロセスは、基板114全体がライン毎に露光されるまで繰り返される。
4.連続走査モード:パルス・モードと基本的に同じであるが、実質的に一定の放射システム102が使用され、パターン形成されたビーム110が基板114の両端間を走査し、基板114を露光すると、個々に制御可能な複数の要素104の配列上のパターンが更新される点が異なっている。
以上、本発明の様々な実施例について説明したが、以上の説明は単なる実施例を示したものにすぎず、本発明を何ら制限するものではないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲を逸脱することなく、本発明の形態及び細部に様々な変更を加えることができることは当業者には明らかであろう。したがって、本発明の見解及び範囲は、上で説明した例示的実施例によっては一切制限されず、唯一、特許請求の範囲の各請求項及びそれらの等価物によってのみ定義されるものとする。
Claims (28)
- 放射のビームを供給する照明システムと、
前記ビームをパターン形成するパターン形成機器と、
前記ビームを基板の目標部分に投射する投影システムと、
前記ビームを変調し、変調スキームを備えたパターンを付与する変調機器とを備えたリソグラフィ装置。 - 前記変調機器が前記照明システムの一部である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターン形成機器が個々に制御可能な複数の要素の配列を備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が、個々に制御可能な複数の要素の前記配列の要素に前記変調スキームを適用するようにされた、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が個々に制御可能な複数の要素の配列を備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が、前記照明システムと前記基板との間の放射の前記ビームの光路に配置された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が、前記照明システムと前記パターン形成機器との間に配置された、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が、前記パターン形成機器と前記基板との間に配置された、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が放射の前記ビームに所定の変調スキームを適用する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が放射の前記ビームに無作為変調スキームを適用する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が放射の前記ビームの振幅を変調する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調機器が放射の前記ビームのパルス周波数を変調する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射の前記ビームのパターンに従って変調スキームを選択する制御器を
さらに備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記変調機器が放射の前記ビームの断面の一部を変調するようにリソグラフィされた、請求項1に記載の装置。
- 前記変調機器が放射の前記ビームの周囲のみを変調するようにされた、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 放射のビームをパターン形成する工程と、
放射のパターン形成されたビームを基板の目標部分に投射する工程と、
放射の前記ビームを変調する工程と
を含むデバイス製造方法。 - 個々に制御可能な複数の要素の配列を使用して前記ビームにパターンが付与される、請求項16に記載のデバイス製造方法。
- パターンが付与される前に放射の前記ビームが変調される、請求項16に記載のデバイス製造方法。
- パターンが付与された後に放射の前記ビームが変調される、請求項16に記載のデバイス製造方法。
- 放射の前記ビームを変調する前記工程が、放射の前記ビームの振幅を変調する工程を含む、請求項16に記載のデバイス製造方法。
- 放射の前記ビームを変調する前記工程が、放射の前記ビームの周波数を変調する工程を含む、請求項16に記載のデバイス製造方法。
- 放射のビームを供給する照明システムと、
前記放射と相互作用する個々に制御可能な複数の要素の配列と、
前記放射の複数のビームを基板に投射する投影システムと、
前記基板の走査方向が複数の方向に変化するよう、前記基板を放射の前記複数のビームに対して走査するようになされた基板テーブルと
を備えたリソグラフィ装置。 - 前記基板テーブルが、前記基板の縁に対して第1の角度をなす第1の方向に前記基板を走査し、次に前記基板の縁に対して第2の角度をなす第2の方向に前記基板を走査するようにされた、請求項22に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルが、次に前記基板の縁に対して第3の角度をなす第3の方向に前記基板を走査するようにされた、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルが、次にもう一度前記第1の方向に前記基板を走査し、次にもう一度前記第2の方向に前記基板を走査するようにされた、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 放射のビームを供給する照明システムと、
前記放射と相互作用する個々に制御可能な複数の要素の配列と、
前記放射の複数のビームを基板に投射する投影システムと、
基板を受けるようにされた基板テーブルであって、前記基板テーブルの走査運動の方向に対して一定の角度で配置された基板を受け基板テーブルと
を備えたリソグラフィ装置。 - 個々に制御可能な複数の要素の配列に向けて放射のビームを誘導する工程と、
得られた放射を複数の放射ビームとして基板に投射するために投影システムを使用する工程と、
前記基板の走査方向が複数の方向に変化するよう、走査運動中に前記基板を移動させる工程と
を含むデバイス製造方法。 - 個々に制御可能な複数の要素の配列に向けて放射のビームを誘導する工程と、
得られた放射を複数の放射ビームとして基板に投射するために投影システムを使用する工程と、
放射のパターン形成されたビームが前記基板の縁に対して一定の角度で前記基板上を移動するように走査運動中に前記基板を移動させる工程と
を含むデバイス製造方法。
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