JPH07297111A - 露光照明装置 - Google Patents

露光照明装置

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JPH07297111A
JPH07297111A JP6090339A JP9033994A JPH07297111A JP H07297111 A JPH07297111 A JP H07297111A JP 6090339 A JP6090339 A JP 6090339A JP 9033994 A JP9033994 A JP 9033994A JP H07297111 A JPH07297111 A JP H07297111A
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JP
Japan
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light
exposure
dynamic scattering
optical system
illumination
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Withdrawn
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JP6090339A
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Inventor
Hiroshi Suganuma
洋 菅沼
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Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70566Polarisation control
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
    • G01N15/02Investigating particle size or size distribution
    • G01N15/0205Investigating particle size or size distribution by optical means
    • G01N15/0211Investigating a scatter or diffraction pattern
    • G01N2015/0222Investigating a scatter or diffraction pattern from dynamic light scattering, e.g. photon correlation spectroscopy

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡便かつ安価な構成で露光光源の条件を満足
する光で照明することができる露光照明装置の提供を目
的とする。 【構成】 照明光学系内の再集光光学系1に散乱状態を
変化させる動的散乱板2を配し駆動部4、例えばモータ
4bの回転動作等に応じて動的散乱板2の散乱状態を変
化させ、再集光部3でこの動的散乱板2からの散乱光を
照明光学系の動的散乱板2に戻して集光した光を再利用
する

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、露光光源からの出射光
を照明光学系により露光部に供給して被露光対象を照明
する露光照明装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から露光装置には、様々な露光に関
する条件が要求されている。例えば、露光装置は、使用
する光源の光学特性として単色性に優れ、かつ可干渉性
を持たない光が求められている。また、この露光装置の
出射光が、短波長の光であると、高解像度の露光パター
ンにも対応した露光を行うことができるので、出射光の
短波長化が進められてきている。さらに、露光装置の高
スループット化を達成するために、露光装置は、高出力
であることが要求される。
【0003】これらの条件を満足する露光光源として
は、例えばエキシマレーザがある。このエキシマレーザ
は、現在、次世代の半導体露光装置の光源に本命と言わ
れて期待されている光源である。エキシマレーザは、単
色性及び指向性に優れていると共に、多モード発振のコ
ヒーレンシーの低いレーザ光を出射する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、エキシマレ
ーザは、このレーザ発生装置自体が大型である。実際に
このエキシマレーザを発生させるためには、冷却水等の
大きなスペースをとる設備の必要性や頻繁な危険性の高
いガス及び部品等の交換の必要性が知られている。これ
らの点から、露光装置の設置から実際的な運用・保守の
面をも含めて多大なコストがかかることも知られてい
る。
【0005】このような設備、運用及び保守のコストを
抑えることができる露光光源を検討してみると、例えば
アルゴンレーザ、色素レーザ及び固体レーザの高調波に
よるレーザが露光光源として挙げられる。この露光光源
が、短波長のレーザ光を出力するので、露光装置は、高
解像度にも対応させることができる。しかしながら、こ
れらのレーザ光は、露光光源の条件として挙げた条件の
一つである可干渉性が高い。このため、露光装置の光源
としては不適当なものとされている。
【0006】従って、この露光光源の可干渉性を改善す
れば、特に、光電変換効率が高く狭スペクトルで可干渉
性の高い半導体レーザの高調波でも用いることができる
ようになる。そこで、可干渉性を改善するため、露光装
置は、回転する散乱板を光路中に設けている。回転する
散乱板は、コヒーレントなレーザ光を透過させることに
より疑似的に熱輻射光と同じようにインコヒーレントな
光に変換できることが知られている。
【0007】このように光路中に回転する散乱板を配設
すると、露光光源の可干渉性は改善することができる。
しかしながら、回転する散乱板を透過する透過光は、散
乱板による損失が大きいため、散乱板からのインコヒー
レントな透過光光量は少なくなる。このため、入射光光
量に対するインコヒーレントな透過光光量を出力する効
率は低くなってしまう。
【0008】これに対して、インコヒーレントな透過光
光量を多くすると、この透過光の強度分布は中心付近が
強く、いわゆるホットスポットと呼ばれる状態になり、
照明における光の強度分布が不均一になる。この光強度
分布を均一にするために各種の手法が提案されてきてい
るが、複雑な光学系が必要になる。この他にも、例えば
レーザ光の横モードの変動や個体差を吸収するため、露
光装置にはこれらの調整用の調整機構も必要である。
【0009】また、上述した散乱板による光の散乱が不
十分な場合、透過光量は増加するが、可干渉性も増加し
てしまう。このような露光光源の改善方法では、露光光
源からの出射光に対する散乱板による散乱効果と散乱板
への入射光量に対する透過光量で表される光の利用効率
とは、互いにトレードオフの関係になっていることが判
る。
【0010】そこで、本発明は、上述したような実情に
鑑みてなされたものであり、簡便かつ安価な構成で露光
光源の条件を満足する光で照明することができる露光照
明装置の提供を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明に係る露光照明装
置は、上述した課題を解決するために、光源からの出射
光を露光部に導く照明光学系を有する露光照明装置にお
いて、光源と露光部間の光路中に配され、散乱状態が変
化する動的散乱板と、この動的散乱板からの散乱光を照
明光学系に戻して集光する再集光部とを有することを特
徴としている。
【0012】ここで、動的散乱板は、照明光学系の一対
のレンズの入射光側のレンズによりビーム径が絞り込ま
れる位置に配している。
【0013】露光照明装置の再集光部は、動的散乱板に
対して相前後する位置に配された一対のレンズの少なく
とも一方のレンズに出射光の有効光路範囲外に反射膜を
設けている。また、再集光部としては、一対のハーフミ
ラーを共振型配置としたり、積分球を用いてもよい。こ
の積分球には、積分球の一部分を動的散乱媒体で置き換
えてもよい。
【0014】上記動的散乱板の散乱状態の変化は、例え
ば動的散乱媒体をモータで回転させても可能であるが、
このモータの代わりに動的散乱板を振動させるトランス
デューサを動的散乱板上に設けてもよい。
【0015】また、照明光学系には、この照明光学系の
光路長を光軸方向に時間的に変化させる光路長可変部を
設ける。この光路長可変部には、光路長可変部への入射
光に対する屈折率を電気的、力学的または磁気的な効果
を用いて光路長を可変制御できる媒質が用いられてい
る。光路長可変部は、例えば光路の方向を変えるための
折り返しのミラー部に圧電素子を取り付けたものや照明
光学系中のレンズを光軸方向に微小に変化させてもよ
い。この光路長可変部を有する照明光学系には、必要に
応じて再集光部を有する光学系と組み合わせてもよい。
【0016】
【作用】本発明に係る露光照明装置では、照明光学系内
に散乱状態を変化させる動的散乱板を配し、例えば駆動
部の動作に応じて動的散乱板の散乱状態を変化させ、再
集光部でこの動的散乱板からの散乱光を照明光学系に戻
して集光して再利用することにより、ビーム断面の各点
に対してランダムな散乱を与えてビームの空間的・時間
的な強度、位相及び偏光方向に対して平均化を行い、可
干渉性を有するコヒーレントな光を疑似的な熱輻射光と
同様のインコヒーレント光に変換すると共に、変換され
たインコヒーレント光の光利用効率を高めている。
【0017】動的散乱板は、照明光学系の一対のレンズ
の入射光側のレンズによりビーム径が絞り込まれる位置
に配して、動的散乱板による空間的な平均化を行ってい
る。この位置に配された動的散乱媒体を駆動部の駆動に
応じて例えば回転させることにより、時間的に干渉縞の
光強度分布が移動しビームの各点の光強度分布が時間的
に平均化される。
【0018】再集光部は、動的散乱板に対して相前後す
る位置に配された一対のレンズの少なくとも一方のレン
ズに出射光の有効光路範囲外に反射膜を設けて再集光す
ることにより、集光を容易にして集光効率を上げると共
に、変換されたインコヒーレント光の光利用効率を高め
ている。
【0019】再集光部として一対のハーフミラーを共振
型配置とすることにより、例えば密着露光を行う場合に
再集光部の構成を簡潔な構成にしている。
【0020】再集光部に積分球を設けることにより、積
分球からの出射光の光強度分布を均一にする。
【0021】動的散乱板を変化させる駆動部として動的
散乱板を振動させるトランスデューサを動的散乱板上に
設けることにより、従来の動的散乱板を回転させた場合
と同じビームの空間的・時間的な強度、位相及び偏光方
向に対する平均化を行いながら、装置構成を小型にし、
制御の自由度を得ている。
【0022】照明光学系には、この照明光学系の光路長
を光軸方向に時間的に変化させる光路長可変部を設け
て、露光像上のスペックルをキャリブレーションして干
渉縞の平均化を行っている。
【0023】
【実施例】以下、本発明に係る露光照明装置の実施例に
ついて、図面を参照しながら説明する。ここで、本発明
では、可干渉性の高い光源でも用いることができる構成
にしているので、多種多用なレーザを露光光源として使
用する。特に、実施例では、光電変換効率が高く、狭ス
ペクトルで可干渉性の高い半導体レーザを露光光源とし
て用いている。
【0024】この半導体レーザは、励起個体レーザにお
ける単モード高調波を用いる。励起個体レーザには、N
d;YAG、YLF、YVO4 等があり、出射されるレ
ーザ光の第4、第5高調波を用いる。
【0025】第1の実施例における露光照明装置の光学
系は、例えば図1に示すように、再集光光学系1を一部
に有している。この再集光光学系1の一部には、基本的
に、レーザ光源と露光部間の光路中に一対のレンズ群と
して集光レンズ1aと、コレクタレンズ1bと、この集
光レンズ1aとコレクタレンズ1bとの間に駆動部4の
動作に応じて動く動的散乱板2と、動的散乱板2からの
散乱光を照明光学系1に戻して集光する再集光部3を有
している。
【0026】動的散乱板2は、再集光光学系1の一対の
レンズの入射光側のレンズ、すなわち上記集光レンズ1
aによりレーザ光のビーム径が絞り込まれる位置に配さ
れている。この動的散乱板2は、例えば動的散乱板2を
回転させるため、動的散乱板2の回転中心位置に回転軸
4aが取り付けられている。回転軸4aは、モータ4b
からの回転駆動力によって回転する。駆動部4は、この
ように構成されている。
【0027】集光レンズ1aは、この集光レンズ1aに
入射される平行光を動的散乱板2に収束させる。動的散
乱板2は、集光された光を散乱し、透過させている。コ
レクタレンズ1bには、この動的散乱板2からの透過光
が入射する。
【0028】このコレクタレンズ1bには、例えば予め
設定した有効出射光光路以外の領域にミラーコーティン
グが反射膜として施されている。このミラーコーティン
グが施されたコレクタレンズ1bが再集光部3に対応し
ている。コレクタレンズ1bは、ミラーコーティングさ
れた領域で動的散乱板2から散乱された入射光を反射し
て再び動的散乱板2へと向かわせ、動的散乱板2上に焦
点を結ぶ。動的散乱板2上では、再び再集光した光が散
乱される。この散乱・再集光の過程を繰り返しながら、
コレクタレンズ1bは、ミラーコーティングしていない
領域から動的散乱板2で散乱された光を平行光にして出
射する。
【0029】このコレクタレンズ1bに設けた再集光部
3により、動的散乱板2からの散乱光の散乱範囲をある
程度狭めて、この散乱光の再集光を容易にしている。ま
た、再集光部3は、後述する動的散乱板2の効果をビー
ム全体に亘って均一にし、動的散乱板2の移動、振動等
の速度・帯域に対する効果を向上させる。しかしなが
ら、上述したように再集光された光が動的散乱板2上に
焦点を結ぶことは、必ずしも必要な要件ではない。再集
光部3の目的は、コレクタレンズ1bの位置に焦点を置
いて集光率を上げ、動的散乱板2上のビーム径を広げ
て、露光照明の空間分布を不均一にする大きな要因であ
るいわゆる“ホットスポット”を弱めること等にある。
【0030】次に、動的散乱板2は、ビーム断面の各点
に対してランダムな散乱を与え、このビームが有する空
間的・時間的な光強度・位相・偏光方向についての平均
化を行い、入射するコヒーレントな光から疑似的な熱輻
射光(インコヒーレント光)への変換を可能にするため
の散乱部材である。この動的散乱板2を配して入射光を
散乱して出射させることにより、入射光に対して空間的
な平均を行っている。さらに、この動的散乱板2を駆動
部4によって回転させると、動的散乱板2は、時間的に
干渉縞の光強度分布を移動させ、ビームの各点が平均化
される。
【0031】このように構成して動作させることによ
り、従来のいわゆる“ホットスポット”現象、すなわち
入射光に対する散乱が不十分なとき、動的散乱板2から
の透過光が増え、この散乱の影響が少ないために生じる
レンズの光軸近傍付近の光強度分布が強くなる現象を抑
えることができる。
【0032】また、再集光部3を設けて散乱光を再集光
して有効出射光領域からインコヒーレント光を出射させ
ることにより、従来の散乱光の増加に応じて増加する露
光照明の光量損失分を抑えて、入射光量に対する出射光
量を増加させることで、光の利用効率を高めることがで
きる。この動的散乱板2と再集光部3との間で散乱光の
反射を繰り返すことにより、繰り返し動的散乱板2上で
散乱され、この両者間を往復した光が重ね合わされるこ
とによって、コレクタレンズ1bからの出射光を空間的
・時間的なスペックルを低減させることができる。結果
として、カップリング効率の向上と散乱光量の増加を同
時に実現させることができる。
【0033】次に、この第1の実施例に対する変形例に
ついて図2〜図5を参照しながら説明する。ここで、図
1と共通する部分に同じ参照番号を付して説明を省略す
る。第1の変形例として露光照明装置の再集光光学系
は、例えば図2に示すように、再集光部3として2つの
凹面鏡3a、3bを一組設けている。凹面鏡3a、3b
は、それぞれ凹面鏡の中心部に貫通口が形成されてい
る。この凹面鏡3a、3bの貫通口の大きさは、それぞ
れ集光レンズ1aへの入射光断面積とコレクタレンズ1
bからの出射光断面積にして散乱光量の損失が最小にな
るよう配設している。このように再集光部3は、散乱光
量を空間的に妨げることがないように配設されている。
【0034】このように構成することにより、コレクタ
レンズ1bからの出射光のコヒーレンシーを低下させる
と共に、散乱光の損失を極力抑えて入射光の利用効率を
高めることができる。
【0035】第2の変形例の再集光光学系には、例えば
図3に示すように、集光レンズ1aの入射光側、コレク
タレンズ1bの出射光側にミラーコーティングが施され
ている。ミラーコーティング領域は、それぞれ集光レン
ズ1aへの入射光断面積とコレクタレンズ1bからの出
射光断面積に相当する部分以外の領域にしている。この
領域が、それぞれ再集光部3のミラー部3A、3Bであ
る。
【0036】このように構成することにより、コレクタ
レンズ1bからの出射光のコヒーレンシーを低下させ、
散乱光の損失を極力抑えて入射光の利用効率を高めると
共に、光学系の構成を簡略化させることができる。
【0037】第3の変形例の再集光光学系は、例えば図
4に示すように、動的散乱板2の前側、すなわち集光レ
ンズ1aの入射光側だけにミラー部3Aを設けた例を示
している。このように集光レンズ1a側にだけ再集光部
3を設けても散乱光の損失を抑えて入射光の利用効率を
高めると共に、コレクタレンズ1bからの出射光のコヒ
ーレンシーを低下させ、光学系の構成をより一層簡略化
させることができる。この再集光光学系でもカップリン
グ効率を十分にとることができる。図1の構成から明か
なように、再集光部3の構成は、動的散乱板2の前後に
1つ以上設けるとよいことが判る。
【0038】第4の変形例の再集光光学系は、戻り光ノ
イズ等の問題も生じないあるいはコレクタレンズを用い
る必要のない密着露光を行う場合、例えば図5に示す光
学系にするとよい。この光学系は、露光光量に必要な散
乱光量を出射させる透過率を有するハーフミラー3C、
3Dを設けている。このハーフミラー3C、3Dは、互
いにミラー部を対向させてレーザ光源からの入射光を共
振させる共振型の光学系の要素である。再集光部3がミ
ラーコーティングされた集光レンズ1a及びコレクタレ
ンズ1bを設ける代わりにこのハーフミラー3C、3D
を設けることにより、散乱光の損失を抑えて入射光の利
用効率を高めると共に、ハーフミラー3Dからの出射光
のコヒーレンシーを低下させ、光学系の構成を簡略化さ
せることができる。
【0039】つぎに、本発明の露光照明装置の光学系に
おける第2の実施例について図5を参照しながら説明す
る。この第2の実施例でも第1の実施例と共通する部分
に同じ参照番号を付して説明を省略する。
【0040】第2の実施例に用いられている露光照明系
の一部は、図3に示した第1の実施例の第2の変形例の
場合と同じ光学系の構成を用いている。すなわち、この
構成は、集光レンズ1aとコレクタレンズ1bの間に動
的散乱板2を配している。集光レンズ1aの入射光側と
コレクタレンズ1bの出射光側にはミラーコーティング
されたミラー部3A、3Bが施されている。ミラー部3
A、3Bは、各レンズのそれぞれ入射光と出射光を損失
なくことのないような領域にだけミラーコーティング処
理が行われている。
【0041】ただし、動的散乱板2として振動板2aを
用いている。この動的散乱板2により各点に対するビー
ムの時間的な平均化を行う方法は、第1の実施例では駆
動部4のモータ4bによって回転させていたが、この実
施例では超音波をこの動的散乱板2の代わりに振動板2
aを用い、振動板2aの内部あるいはその表面を伝搬さ
せる方法を用いている。
【0042】この振動板2には、信号源4cからの信号
に応じて振動板2aを振動させるトランスデューサ4d
が配設されている。トランスデューサ4dからの超音波
の振動が振動板板2に伝えられると、振動板2は、表面
に微小な凸凹を形成される。この微小な凸凹によって入
射光が散乱させられる。この散乱光がミラー部3A、3
Bで反射されることを繰り返しながら、コレクタレンズ
1bからインコヒーレント光が出射される。
【0043】なお、トランスデューサ4dには、信号源
4cから信号を供給する構成を示したが、トランスデュ
ーサ4dに電源を供給する電源部と接続する構成にして
もよい。
【0044】この構成により、光学系の構成は、第1の
実施例の場合に比べて駆動部4の構成を小型化すること
ができ、駆動部4内のトランスデューサ4dの制御を容
易化し制御の自由度を獲得することができる。
【0045】つぎに、本発明の露光照明装置の光学系に
おける第3の実施例について図7を参照しながら説明す
る。この第3の実施例の光学系には、積分球3Eを用い
る。積分球3Eは、入射光のビームを収束させるために
集光レンズ1aが一部の壁面に配設される。また、積分
球3Eには、集光レンズ1aが配設された位置を考慮
し、複数回の反射が行われた後に入射光が積分球3Eか
ら出射されるような位置にコレクタレンズ1bを設けて
いる。
【0046】このように積分球3Eを用いて積分球内部
での複数回の反射によって出射光の強度分布を均一にす
ることができる。他の光学素子を用いることなく、光学
系の構成を簡略化させることができる。また、コヒーレ
ントな入射光が様々な光路を経てくる光の重ね合わせに
よる光として出射されるため、入射光の時間的なコヒー
レンシーも低下させることができる。
【0047】なお、この積分球3Eの一部壁面に例えば
駆動部4のモータ4bにより回転する動的散乱板2を配
設する組合せを行ってもよい。
【0048】つぎに、本発明の露光照明装置のより具体
的な構成について図8〜図10を参照しながら説明す
る。図8及び図9の構成は、縮小露光系の構成図を示し
ている。縮小露光系の露光照明装置は、例えば図8を参
照しながら説明すると、レーザ光源10と、コリメータ
レンズ11と、予備的なビーム整形部12と、コヒーレ
ント光をインコヒーレント光に変換するスペックル除去
部13と、ミラー14、16の間に配されているビーム
整形部15と、コンデンサレン17と、露光パターンが
形成されているレティクル18と、縮小レンズ19と、
ウェ ハ20を載置するステージ21とを有している。
【0049】レーザ光源10は、スペックル除去部13
を照明光学系内に配設しているため、光源の空間的・時
間的なコヒーレンシーを制御できるので、露光光源とし
て可干渉性を有する光源でも使用することができる。従
来における縮小露光系の露光照明装置では、多モード発
振のコヒーレンシーの低いエキシマレーザが用いられる
が、このエキシマレーザには、設備・保守面等に難があ
った。本実施例によれば、このエキシマレーザにおける
難点を持たない半導体レーザが、エキシマレーザの代わ
りに縮小露光系の露光照明装置の露光光源として使用で
きることになる。このように多種多様なレーザ光を露光
光源として使用する中で、特に、光電変換効率が高く、
狭スペクトルで可干渉性の高い励起固体レーザの単モー
ド高調波のレーザが有効である。縮小露光系の露光照明
装置は、設備・保守面に要するコスト等を低減させるこ
とができる。
【0050】レーザ光源10から出射されたレーザ光が
コリメータレンズ11に入射する。コリメータレンズ1
1は、このレーザ光を平行光にして予備的なビーム整形
部12に送る。
【0051】予備的なビーム整形部12は、アナモルフ
ィクプリズムやシリンドリカルレンズ等で構成されアス
ペクト比の改善を行う。この予備的なビーム整形部12
を経た光がスペックル除去部13に入射する。
【0052】スペックル除去部13は、入射光を収束さ
せる集光レンズ1aと、駆動部4のモータ4bによって
回転する動的散乱板2と、動的散乱板2による散乱光を
再集光させる凹面鏡3aと、動的散乱板2からの透過光
を平行光にして出射するコレクタレンズ1bとを有す
る。
【0053】スペックル除去部13の動的散乱板2によ
る散乱で空間的なコヒーレンシーの低下が図られてい
る。また、この動的散乱板2を回転させることにより、
時間的に干渉縞の光強度分布を移動させることによって
各点での光量が平均化される。この動的散乱板2からの
散乱光が動的散乱板2と凹面鏡3aの間を往復させるこ
とによっても空間的・時間的な光の重ね合わせが行われ
てレーザ光のコヒーレンシーを低下させる。凹面鏡3a
を設けることにより、散乱光の利用効率を高めることが
でき、この散乱光量を増やしてもいわゆる“ホットスポ
ット”の発生を抑えることができる。
【0054】スペックル除去部13は、コヒーレントな
入射光をインコヒーレント光にしてコレクタレンズ1b
から例えば時計回り方向に45゜傾斜配置されているミ
ラー14に出射する。ミラー14は、このスペックル除
去部13からの出射光の光路をミラー面で90゜反射さ
せて曲げている。ミラー14は、このように90゜光路
を曲げてビーム整形部15にビームを供給する。
【0055】ビーム整形部15は、例えばフライアイレ
ンズのような光学部品で構成されている。ビーム整形部
15は、ビームの光強度分布を矩形分布に変換してミラ
ー16に出射する。
【0056】ミラー16は、反時計回り方向に45゜傾
斜配置されている。ミラー16は、ブーム整形部15か
らの出射光の光路をミラー面で90゜反射させてコンデ
ンサレンズ17の方向に曲げている。コンデンサレンズ
17は、光強度が矩形分布のインコヒーレントな入射光
をレティクル18に露光照明光として照射する。レティ
クル18に形成されている露光パターンに応じた透過光
が縮小レンズ19に供給される。
【0057】縮小レンズ19は、レティクル18が有す
る縮小像をウェ ハ20上に結像させる。ウェ ハ20の表
面に感光剤であるレジストが塗布されているため、この
縮小像によってレティクル18の露光パターンがウェ ハ
20上に形成される。
【0058】このように構成することにより、露光にお
けるスペックルを除去して均一な露光照明をウェ ハに照
射することができる。また、レーザ光源がエキシマレー
ザの構成に比べて小さくできるので、露光照明装置の小
型化及び簡易化を達成することができる。
【0059】散乱によって失われていた光も有効利用で
きるようになることから、光源の光出力が少なくても露
光部のウェ ハを支障なく露光照明することができる。
【0060】図8に示した露光照明装置の構成に図示し
ないが光軸方向のスキャニングを行う光学部品移動部を
設けた変形例について図9を参照しながら説明する。こ
の光学部品移動部としては、例えば図9の圧電素子2
2、23が一例に挙げられる。光学部品移動部は、この
照明光学系の光路中の光路長を時間的に変化させること
になる。これによって、レティクル18からウェ ハ20
の結像面までの距離と結像関係を保ったまま、レーザ光
源10から結像面までの距離を変化させることによっ
て、ウェ ハ20の結像面上のスペックルをキャリブレー
ションすることができる。この光学部品移動部を干渉縞
平均化手段とすることができる。
【0061】この図9に示した変形例では、光路を折り
返すミラー14、16にそれぞれ圧電素子22、23を
配設し、印加電圧に応じてミラー面に垂直方向に増減す
ることにより、一体的に配設されているミラー14、1
6をそれぞれ矢印a、b方向に移動させる。これによ
り、露光照明装置は光路長を変化させている。
【0062】干渉縞平均化手段としては、圧電素子だけ
に限定されるものでなく、例えばビーム整形部15のよ
うな部材の屈折率を電気的、力学的及び磁気的な手段を
用いて変化させることが可能な媒質を用いて光路長を変
化させることもできる。また、図9に示すように、照明
光学系内のレンズ、すなわちコリメータレンズ11、集
光レンズ1a、コレクタレンズ1b、コンデンサレンズ
17を光軸(すなわち図9の矢印c)方向に微小にキャ
リブレーションすることによっても光路長を変化させる
ことができる。
【0063】このように構成することにより、従来の光
軸方向に垂直な面内方向で行っていたキャリブレーショ
ンに比べて光軸方向の微小変化でキャリブレーションを
行うことができるので、光学系の面内面積を小型化する
ことができる。また、従来の面内スキャニングでは、照
明光学系中の像面と共役な位置に存在する微小な埃の影
響を取り除くことができなかったが、上述した方式を用
いることによって露光照明装置は、微小な埃の影響を低
減させることができる。
【0064】最後に、本発明の露光照明装置を密着露光
系に適用した際の構成について図10を参照しながら説
明する。この密着露光系の露光照明装置は、図8に示し
た縮小露光系の露光照明装置に比べてみると、縮小レン
ズ19がなく、レティクル18とウェ ハ20が密着して
配設されていることを特徴としている。
【0065】簡単に照明光学系について説明すると、こ
の露光照明装置は、レーザ光源10から光束をコリメー
タレンズ11に出射する。コリメータレンズ11で平行
光にされた光束が予備的なビーム整形部12によりアス
ペクト比の改善を受けてスペックル除去部13の集光レ
ンズ1aに入射される。この集光レンズ1aは、入射光
を動的散乱板としての振動板2aに集光する。
【0066】振動板2aには、信号源4cから供給され
る信号に応じて微小振動を伝搬させるトランスデューサ
4dが配設されている。この振動板2aは、トランスデ
ューサ4dにより供給される例えば超音波の微小振動に
よって振動する。この振動板2aの振動によって振動板
2aからの出射光は、散乱を受ける。この散乱光がコレ
クタレンズ1bの有効出射光領域からミラー14に出射
されると共に、コレクタレンズ1bの有効出射光領域外
のミラー部3Bでは振動板2aの出射方向に反射され
る。このようにして散乱を繰り返し行って、散乱による
光量損失を抑えている。
【0067】ミラー14は、出射された散乱光をビーム
整形部15の方向に光路を折り返す。ビーム整形部15
では、入射光の光強度分布を矩形分布に変換してビーム
をミラー16に送る。ミラー16によって、この光路が
コンデンサレンズ17の方向に曲げられる。コンデンサ
レンズ17は、供給される入射光を露光照明とするよう
に調整してレティクル18に照射する。レティクル18
とステージ21上のウェ ハ20は密着露光するために接
近している。ウェ ハ20上には、レティクル18の近視
野像が結像され、ウェ ハ20表面のレジストへの露光が
行われる。
【0068】このように密着露光における露光照明装置
に対しても露光におけるスペックルを除去して均一な露
光照明をウェ ハに照射することができる。また、レーザ
光源がエキシマレーザの構成に比べて小さくできるの
で、露光照明装置の小型化及び簡易化を達成することが
できる。
【0069】以上のように構成することにより、空間的
・時間的に高い可干渉性を有する光を可干渉性の低い疑
似熱的な輻射光に高効率で変換を行うことができ、露光
におけるスペックルを除去できる。この変換において生
じる散乱光の損失も再集光部を設けることにより抑えて
有効利用することができるので、光源の光出力を小さく
済ませることができる。レーザ光源の発光素子の損傷を
減らし光源の負担を軽減させることで素子の寿命を長く
することにより、メンテナンスコストを低減させること
ができる。
【0070】再集光部の構成として有効光路範囲外のレ
ンズ背面側への反射膜形成、共振型にハーフミラーを配
置したり、積分球を用いたり、動的散乱板や振動板等へ
のそれぞれ駆動部によって回転や振動等の変動が与えら
れることによって、光源からの出射光に対して空間的・
時間的な光の重ね合わせが行われ、露光照明の均一化が
図られる。この再集光部により、空間的・時間的な光の
重ね合わせが行われた散乱光が外部に漏れにくい構成に
なるので、装置の安全性を高めることができる。
【0071】また、照明光学系の光路長を光軸方向に時
間的に変化させる光路長可変部を設けて、露光像上のス
ペックルをキャリブレーションすることによっても干渉
縞の平均化が行え、この構成にすることにより、微小な
埃の影響を取り除くことができる。さらに、従来の面内
(横)方向で調整する装置構成に比べて予め必要として
設けている空間を利用した光軸方向の変化によってキャ
リブレーションを行うことにより、装置の小型化を実現
することができる。
【0072】この構成により、露光照明装置は、次世代
の光源として期待されているエキシマレーザに代わって
可干渉性の高い半導体レーザからの出射光の高調波を用
いて高解像度の露光ができるようになる。これによっ
て、エキシマレーザを用いた露光照明装置に比べて装置
の設置面積の低減化、装置自体の小型化、装置のメンテ
ナンスの安全性の改善及びランニングコストや消費電力
の節減を行うことができる。
【0073】
【発明の効果】本発明に係る露光照明装置では、照明光
学系内に駆動部の動作に応じて動く動的散乱媒体を配
し、再集光手段でこの動的散乱媒体からの散乱光を照明
光学系に戻して集光して再利用することにより、空間的
・時間的に高い可干渉性を有する光を可干渉性の低い疑
似熱的な輻射光に高効率で変換を行うことができ、露光
におけるスペックルを除去できる。この変換において生
じる散乱光の損失も再集光部を設けることにより抑えて
有効利用することができるので、光源の光出力を小さく
済ませることができる。レーザ光源の発光素子の損傷を
減らし光源の負担を軽減させることで素子の寿命を長く
することにより、メンテナンスコストを低減させること
ができる。
【0074】また、露光照明装置は、次世代の光源とし
て期待されているエキシマレーザに代わって可干渉性の
高い半導体レーザからの出射光の高調波を用いて高解像
度の露光ができるようになる。これによって、エキシマ
レーザを用いた露光照明装置に比べて装置の設置面積の
低減化、装置自体の小型化、装置のメンテナンスの安全
性の改善及びランニングコストや消費電力の節減を行う
ことができる。
【0075】再集光手段の構成として有効光路範囲外の
レンズ背面側への反射膜形成、共振型にハーフミラーを
配置したり、積分球を用いたり、動的散乱媒体へのそれ
ぞれ駆動手段によって回転や振動等の変動が与えられる
ことによって、光源からの出射光に対して空間的・時間
的な光の重ね合わせが行われ、露光照明の均一化が図ら
れる。この再集光部により、空間的・時間的な光の重ね
合わせが行われた散乱光が外部に漏れにくい構成になる
ので、装置の安全性を高めることができる。
【0076】また、照明光学系の光路長を光軸方向に時
間的に変化させる光路長可変手段を設けて、露光像上の
スペックルをキャリブレーションすることによっても干
渉縞の平均化が行え、この構成にすることにより、微小
な埃の影響を取り除くことができる。
【0077】さらに、従来の面内(横)方向で調整する
装置構成に比べて予め必要として設けている空間を利用
した光軸方向の変化によってキャリブレーションを行う
ことにより、装置の小型化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る露光照明装置における再集光光学
系の第1の実施例を示す概略的なブロック図である。
【図2】上記再集光光学系の第1の変形例を示すブロッ
ク図である。
【図3】上記再集光光学系の第2の変形例を示すブロッ
ク図である。
【図4】上記再集光光学系の第3の変形例を示すブロッ
ク図である。
【図5】上記再集光光学系の第4の変形例を示すブロッ
ク図である。
【図6】本発明に係る露光照明装置における再集光光学
系の第2の実施例を示す概略的なブロック図である。
【図7】本発明に係る露光照明装置における再集光光学
系の第3の実施例を示す概略的なブロック図である。
【図8】上記再集光光学系を適用した縮小露光系の露光
照明装置の構成を示すブロック図である。
【図9】上記再集光光学系を適用した縮小露光系の露光
照明装置の構成を示すブロック図である。
【図10】上記再集光光学系を適用した密着露光系の露
光照明装置の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 再集光光学系 2 動的散乱板 3 再集光部 4 駆動部 5 光学ピックアップ制御部 1a 集光レンズ 1b コレクタレンズ 2a 振動板 3a、3b 凹面鏡 3A、3B ミラー部 3C、3D ハーフミラー 3E 積分球 4a 回転軸 4b モータ 4c 信号源 4d トランスデューサ 22、23 圧電素子

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源からの出射光を露光部に導く照明光
    学系を有する露光照明装置において、 上記光源と上記露光部間の光路中に配され、散乱状態が
    変化する動的散乱媒体と、 この動的散乱媒体からの散乱光を上記照明光学系に戻し
    て集光する再集光手段とを有することを特徴とする露光
    照明装置。
  2. 【請求項2】 上記動的散乱媒体は、上記照明光学系の
    一対のレンズの入射光側のレンズによりビーム径が絞り
    込まれる位置に配することを特徴とする請求項1記載の
    露光照明装置。
  3. 【請求項3】 上記再集光手段は、上記動的散乱媒体に
    対して相前後する位置に配された一対のレンズの少なく
    とも一方のレンズに出射光の有効光路範囲外に反射膜を
    設けることを特徴とする請求項1記載の露光照明装置。
  4. 【請求項4】 上記再集光手段として一対のハーフミラ
    ーを共振型配置とすることを特徴とする請求項1記載の
    露光照明装置。
  5. 【請求項5】 上記再集光手段として積分球を用いるこ
    とを特徴とする請求項1記載の露光照明装置。
  6. 【請求項6】 上記動的散乱媒体の散乱状態の変化に
    は、上記動的散乱媒体を振動させる振動手段が上記動的
    散乱媒体上に配設されることを特徴とする請求項1記載
    の露光照明装置。
  7. 【請求項7】 上記照明光学系には、この照明光学系の
    光路長を光軸方向に時間的に変化させる光路長可変手段
    が設けられていることを特徴とする請求項1記載の露光
    照明装置。
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