JP7118394B2 - スクリーンマスクの製造方法 - Google Patents
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Description
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
(1)
メッシュ部に配されたマスク材の対象領域を、所定幅の複数のスキャンエリアに分け、前記スキャンエリアにレーザ光を照射する照射ヘッドにより前記スキャンエリア毎に露光するとともに、
隣接する前記スキャンエリア同士を一部オーバーラップさせて、前記照射ヘッドを前記対象領域に対して相対的に移動させる、スクリーンマスクの製造方法。
(2)
所定の露光パターンで前記露光を行うことにより、前記マスク材に所定の開口パターンを形成するとともに、
前記照射ヘッドは、複数の照射素子を備え、複数の照射素子の照度の差が±5%以下である、(1)に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(3)
前記照射ヘッドは、2方向に複数の照射素子を配列してマトリクス状に備え、
前記照射素子の配列方向は、前記移動の方向に対して傾斜する、(1)または(2)に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(4)
塗布材を透過する透過部を有するメッシュ部と、
前記メッシュ部に設けられ、所定のパターンを有するマスク材を有するマスク膜と、を備え、
前記マスク材の厚みのばらつきが10%以内であるスクリーンマスク。
(5)
前記メッシュ部の前記透過部におけるマスク材の厚みが、前記メッシュ部の厚みの50%以上90%以下である、(4)に記載のスクリーンマスク。
(6)
(4)または(5)に記載のスクリーンマスクと、
印刷媒体に対向して前記メッシュ部を支持するフレームと、
前記スクリーンマスクの印刷面側とは反対側の面に当接して移動可能に構成されたスキージと、を備え、
前記メッシュ部は、弾性変形可能であり、前記マスク膜の前記パターンに塗布材が保持された状態で、前記マスク膜が印刷媒体に接離することにより、前記塗布材が前記パターンから前記印刷媒体に転写されることを特徴とするスクリーン印刷装置。
Claims (2)
- メッシュ部に配されたマスク材の対象領域を、所定幅の複数のスキャンエリアに分け、2方向に複数の照射素子を配列してマトリクス状に備え前記スキャンエリアにレーザ光を照射する照射ヘッドにより前記スキャンエリア毎にマスクレス露光するとともに、
隣接する前記スキャンエリア同士を一部オーバーラップさせて、前記照射ヘッドを前記対象領域に対して相対的に移動させ、
所定の露光パターンで前記マスクレス露光を行うことにより、前記マスク材に所定の開口パターンを形成するとともに、
前記メッシュ部の前記開口パターンにおける前記マスク材の厚みが前記メッシュ部の厚みの50%以上90%以下であり、
前記照射ヘッドの、前記照射素子の配列方向は、前記移動の方向に対して1度~15度の範囲で傾斜する、スクリーンマスクの製造方法。 - 前記照射ヘッドは、複数の前記照射素子の照度の差が±5%以下である、請求項1に記載のスクリーンマスクの製造方法。
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JP2006220799A (ja) | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光方法及び装置 |
JP2007090838A (ja) | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Tdk Corp | スクリーン版 |
US20080047445A1 (en) | 2006-08-25 | 2008-02-28 | Peter Berner | Exposure device for the production of screen print stencils |
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JP2012022194A (ja) | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Kurabo Ind Ltd | ダイレクト露光装置及びダイレクト露光方法 |
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Patent Citations (6)
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