JP6694101B1 - 微細構造転写装置及び微細構造転写方法 - Google Patents
微細構造転写装置及び微細構造転写方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6694101B1 JP6694101B1 JP2019147429A JP2019147429A JP6694101B1 JP 6694101 B1 JP6694101 B1 JP 6694101B1 JP 2019147429 A JP2019147429 A JP 2019147429A JP 2019147429 A JP2019147429 A JP 2019147429A JP 6694101 B1 JP6694101 B1 JP 6694101B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sheet
- roll
- shaped body
- imprint
- fine structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 137
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 66
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 103
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 103
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 115
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 56
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 56
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 14
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 104
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 72
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 53
- 230000008569 process Effects 0.000 description 36
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 23
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 13
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 10
- 238000001127 nanoimprint lithography Methods 0.000 description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 6
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000000233 ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F16/00—Transfer printing apparatus
- B41F16/0006—Transfer printing apparatus for printing from an inked or preprinted foil or band
- B41F16/004—Presses of the reciprocating type
- B41F16/0053—Presses of the reciprocating type with means for applying print under pressure only, e.g. using pressure sensitive adhesive
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/04—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F13/00—Common details of rotary presses or machines
- B41F13/02—Conveying or guiding webs through presses or machines
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F19/00—Apparatus or machines for carrying out printing operations combined with other operations
- B41F19/007—Apparatus or machines for carrying out printing operations combined with other operations with selective printing mechanisms, e.g. ink-jet or thermal printers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F23/00—Devices for treating the surfaces of sheets, webs, or other articles in connection with printing
- B41F23/04—Devices for treating the surfaces of sheets, webs, or other articles in connection with printing by heat drying, by cooling, by applying powders
- B41F23/0403—Drying webs
- B41F23/0406—Drying webs by radiation
- B41F23/0409—Ultraviolet dryers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/161—Coating processes; Apparatus therefor using a previously coated surface, e.g. by stamping or by transfer lamination
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2012—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image using liquid photohardening compositions, e.g. for the production of reliefs such as flexographic plates or stamps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
Abstract
Description
(1)微細構造転写装置は、可撓性を有するシート状体を捲回し当該シート状体を巻き出す巻出機と、複数のガイドロールを介して搬送される前記シート状体を巻き取る巻取機と、前記巻出機と前記巻取機の間に配され、微細凹凸パターンが形成された表面に光硬化性樹脂が塗布されたモールドを載置するステージと、上方より前記シート状体を前記モールドに押圧しつつ、少なくとも前記モールドの両端部間を往復移動するインプリントロールと、前記モールドに押圧された前記シート状体に硬化光を照射する硬化光照射器と、を備え、前記シート状体に複数のレプリカを連続的に固着することを特徴とする。
(2)(1)の微細構造転写装置において、前記インプリントロールは、前記シート状体に固着された複数のレプリカのうち一のレプリカを、前記シート状体を介して、前記ステージに載置され表面に前記光硬化性樹脂が塗布された基板に押圧しつつ、少なくとも前記基板の両端部間を往復移動し、前記硬化光照射器は、前記光硬化性樹脂が塗布された基板に前記インプリントロールにより押圧された前記シート状体及び前記レプリカを介して硬化光を照射し、前記光硬化性樹脂が硬化後に前記インプリントロールにより前記シート状体を剥離することにより、前記レプリカの微細凹凸パターンを転写することを特徴とする。
(3)(1)または(2)の微細構造転写装置において、前記複数のガイドロールのうち、前記シート状体の搬送方向において前記インプリントロールに隣接し上流側に位置する第1ガイドロールと、前記シート状体の搬送方向において前記インプリントロールに隣接し下流側に位置する第2ガイドロールと、を備え、前記第2ガイドロールは、前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ移動する場合、前記インプリントロールより上方に位置し、前記インプリントロールと共に等速にて移動することを特徴とする。
(4)(3)の微細構造転写装置において、前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ移動する場合、前記モールド又は前記基板の端部のうち前記シート状体の搬送方向において上流側に位置する端部に前記シート状体をクランプするフィルムクランプを備えることを特徴とする。
(5)(4)の微細構造転写装置において、前記硬化光照射器は、前記インプリントロールと前記第1ガイドロールとの間に位置し、前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ移動する場合、硬化光を照射しつつ前記インプリントロール及び前記第2ガイドロールに追従するよう下流側に移動することを特徴とする。
(6)(4)の微細構造転写装置において、前記硬化光照射器は、前記インプリントロールと前記第1ガイドロールとの間に位置し、前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ前記第2ガイドロールと共に等速にて下流側に移動した後に、硬化光を照射しつつ下流側へと移動することを特徴とする。
(7)(5)または(6)の微細構造転写装置において、前記モールド及び/又は前記基板に前記光硬化性樹脂を塗布する光硬化性樹脂塗布機構を有することを特徴とする。
(8)(4)の微細構造転写装置において、前記インプリントロールの高さ及び押圧力を個別に調整し得るバックアップロール機構を備えることを特徴とする。
(9)(8)の微細構造転写装置において、前記バックアップロール機構は、前記インプリントロールの長手方向に沿って所定の間隔にて離間し複数備えることを特徴とする。
(10)(8)または(9)の微細構造転写装置において、前記バックアップロール機構は、前記インプリントロールの直上に前記インプリントロールの外周面と接触するよう配されるバックアップロールを有することを特徴とする。
(11)微細構造転写方法は、可撓性を有するシート状体を捲回し当該シート状体を巻き出す巻出機と、複数のガイドロールを介して搬送される前記シート状体を巻き取る巻取機と、前記巻出機と前記巻取機の間に配され、微細凹凸パターンが形成された表面に光硬化性樹脂が塗布されたモールドを載置するステージと、を備える微細構造転写装置を用いた微細構造転写方法であって、インプリントロールが上方より前記シート状体を前記モールドに押圧しつつ、少なくとも前記モールドの両端部間を往復移動する間にモールドに押圧された前記シート状体に硬化光を照射し、前記シート状体に複数のレプリカを連続的に固着することを特徴とする。
(12)(11)の微細構造転写方法において、前記インプリントロールが、前記シート状体に固着された複数のレプリカのうち一のレプリカを、前記シート状体を介して、前記ステージに載置され表面に前記光硬化性樹脂が塗布された基板に押圧しつつ、少なくとも前記基板の両端部間を往復移動する間に前記光硬化性樹脂が塗布された基板に前記インプリントロールにより押圧された前記シート状体及び前記レプリカを介して硬化光を照射し、前記レプリカの微細凹凸パターンを転写することを特徴とする。
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の実施例の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
2・・・インプリントロール
3・・・ガイドロール
3a・・・上流側ガイドロール(第1ガイドロール)
3b・・・下流側ガイドロール(第2ガイドロール)
4・・・シート状体(フィルム)
5・・・巻出機
6・・・巻取機
7・・・ダンサーロール
8・・・硬化光照射器
9・・・ドライクリーナ
10・・・レーザーマーカ
11・・・ステージ
12・・・クリーニングロール
13・・・ガントリー
14・・・モールド(金型)
15・・・ガラス基板
16・・・フィルムクランプ
17a・・・上流側撮像部
17b・・・下流側撮像部
18・・・撮像部支持部
19・・・レジン
20・・・レプリカ
21・・・レプリカ連続形成装置
22・・・光硬化性樹脂塗布機構
22a・・・レプリカ用光硬化性樹脂塗布機構
22b・・・ガラス基板用光硬化性樹脂塗布機構
31・・・レプリカ形状検査装置
41・・・パターン形成装置
42・・・搬送機構
51・・・Z軸駆動部
52・・・ロードセル
55・・・バックアップロール機構
56・・・ウレタンゴムライニング
Claims (16)
- 可撓性を有するシート状体を捲回し当該シート状体を巻き出す巻出機と、
複数のガイドロールを介して搬送される前記シート状体を巻き取る巻取機と、
前記巻出機と前記巻取機の間に配され、微細凹凸パターンが形成された表面に光硬化性樹脂が塗布されたモールドを載置するステージと、
上方より前記シート状体を前記モールドに押圧しつつ、少なくとも前記モールドの両端部間を往復移動するインプリントロールと、
前記モールドに押圧された前記シート状体に硬化光を照射する硬化光照射器と、を備え、
前記シート状体に複数のレプリカを連続的に固着する微細構造転写装置であって、
前記複数のガイドロールのうち、前記シート状体の搬送方向において前記インプリントロールに隣接し上流側に位置する第1ガイドロールと、前記シート状体の搬送方向において前記インプリントロールに隣接し下流側に位置する第2ガイドロールと、を備え、
前記第2ガイドロールは、前記シート状体の位置決め時は下流側に移動し、前記モールドの下流側端部を超える位置にて停止し、前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ下流側に移動してナノインプリント動作する場合、前記インプリントロールと所定の距離となる位置まで上流側に移動し、前記インプリントロールより上方に位置し、前記インプリントロールと共に等速にて移動し、前記インプリントロールと前記第2ガイドロールの位置関係が一定のまま移動することを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項1に記載の微細構造転写装置において、
前記インプリントロールは、前記シート状体に固着された複数のレプリカのうち一のレプリカを、前記シート状体を介して、前記ステージに載置され表面に前記光硬化性樹脂が塗布された基板に押圧しつつ、少なくとも前記基板の両端部間を往復移動し、
前記硬化光照射器は、前記光硬化性樹脂が塗布された基板に前記インプリントロールにより押圧された前記シート状体及び前記レプリカを介して硬化光を照射し、前記光硬化性樹脂が硬化後に前記インプリントロールにより前記シート状体を剥離することにより、前記レプリカの微細凹凸パターンを転写することを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項2に記載の微細構造転写装置において、
前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ移動する場合、前記モールド又は前記基板の端部のうち前記シート状体の搬送方向において上流側に位置する端部に前記シート状体をクランプするフィルムクランプを備えることを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項3に記載の微細構造転写装置において、
前記硬化光照射器は、前記インプリントロールと前記第1ガイドロールとの間に位置し、前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ移動する場合、硬化光を照射しつつ前記インプリントロール及び前記第2ガイドロールに追従するよう下流側に移動することを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項3に記載の微細構造転写装置において、
前記硬化光照射器は、前記インプリントロールと前記第1ガイドロールとの間に位置し、前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ前記第2ガイドロールと共に等速にて下流側に移動した後に、硬化光を照射しつつ下流側へと移動することを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項4に記載の微細構造転写装置において、
前記モールド及び/又は前記基板に前記光硬化性樹脂を塗布する光硬化性樹脂塗布機構を有することを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項5に記載の微細構造転写装置において、
前記モールド及び/又は前記基板に前記光硬化性樹脂を塗布する光硬化性樹脂塗布機構を有することを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項3に記載の微細構造転写装置において、
前記インプリントロールの高さ及び押圧力を個別に調整し得るバックアップロール機構を備えることを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項8に記載の微細構造転写装置において、
前記バックアップロール機構は、前記インプリントロールの長手方向に沿って所定の間隔にて離間し複数備えることを特徴とする微細構造転写装置。 - 請求項8又は請求項9に記載の微細構造転写装置において、
前記バックアップロール機構は、前記インプリントロールの直上に前記インプリントロールの外周面と接触するよう配されるバックアップロールを有することを特徴とする微細構造転写装置。 - 可撓性を有するシート状体を捲回し当該シート状体を巻き出す巻出機と、複数のガイドロールを介して搬送される前記シート状体を巻き取る巻取機と、前記巻出機と前記巻取機の間に配され、微細凹凸パターンが形成された表面に光硬化性樹脂が塗布されたモールドを載置するステージと、を備える微細構造転写装置を用いた微細構造転写方法であって、
インプリントロールが上方より前記シート状体を前記モールドに押圧しつつ、少なくとも前記モールドの両端部間を往復移動する間にモールドに押圧された前記シート状体に硬化光を照射し、前記シート状体に複数のレプリカを連続的に固着する微細構造転写方法であり、
前記複数のガイドロールのうち、前記シート状体の搬送方向において前記インプリントロールに隣接し上流側に位置する第1ガイドロールと、前記シート状体の搬送方向において前記インプリントロールに隣接し下流側に位置する第2ガイドロールと、を備え、
前記第2ガイドロールは、前記シート状体の位置決め時は下流側に移動し、前記モールドの下流側端部を超える位置にて停止し、前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ下流側に移動してナノインプリント動作する場合、前記インプリントロールと所定の距離となる位置まで上流側に移動し、前記インプリントロールより上方に位置し、前記インプリントロールと共に等速にて移動し、前記インプリントロールと前記第2ガイドロールの位置関係が一定のまま移動することを特徴とする微細構造転写方法。 - 請求項11に記載の微細構造転写方法において、
前記インプリントロールが、前記シート状体に固着された複数のレプリカのうち一のレプリカを、前記シート状体を介して、前記ステージに載置され表面に前記光硬化性樹脂が塗布された基板に押圧しつつ、少なくとも前記基板の両端部間を往復移動する間に前記光硬化性樹脂が塗布された基板に前記インプリントロールにより押圧された前記シート状体及び前記レプリカを介して硬化光を照射し、前記レプリカの微細凹凸パターンを転写することを特徴とする微細構造転写方法。 - 請求項12に記載の微細構造転写方法において、
前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ移動する場合、前記モールド又は前記基板の端部のうち前記シート状体の搬送方向において上流側に位置する端部に前記シート状体をクランプすることを特徴とする微細構造転写方法。 - 請求項13に記載の微細構造転写方法において、
前記インプリントロールが前記シート状体を押圧しつつ移動する場合、前記インプリントロール及び前記第2ガイドロールと共に等速にて下流側に移動する間に硬化光を照射することを特徴とする微細構造転写方法。 - 請求項14に記載の微細構造転写方法において、
前記モールド及び/又は前記基板に前記光硬化性樹脂を塗布することを特徴とする微細構造転写方法。 - 請求項13に記載の微細構造転写方法において、
前記インプリントロールの高さ及び押圧力を個別に調整することを特徴とする微細構造転写方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019147429A JP6694101B1 (ja) | 2019-08-09 | 2019-08-09 | 微細構造転写装置及び微細構造転写方法 |
JP2020072845A JP7343176B2 (ja) | 2019-08-09 | 2020-04-15 | 微細構造転写装置 |
TW109121994A TWI754978B (zh) | 2019-08-09 | 2020-06-30 | 微小構造轉印裝置及微小構造轉印方法 |
CN202010788246.5A CN112339412B (zh) | 2019-08-09 | 2020-08-07 | 微细结构转印装置以及微细结构转印方法 |
KR1020200098998A KR102438070B1 (ko) | 2019-08-09 | 2020-08-07 | 미세 구조 전사 장치 및 미세 구조 전사 방법 |
JP2023135943A JP2023157992A (ja) | 2019-08-09 | 2023-08-24 | 微細構造転写装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019147429A JP6694101B1 (ja) | 2019-08-09 | 2019-08-09 | 微細構造転写装置及び微細構造転写方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020072845A Division JP7343176B2 (ja) | 2019-08-09 | 2020-04-15 | 微細構造転写装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6694101B1 true JP6694101B1 (ja) | 2020-05-13 |
JP2021028933A JP2021028933A (ja) | 2021-02-25 |
Family
ID=70549842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019147429A Active JP6694101B1 (ja) | 2019-08-09 | 2019-08-09 | 微細構造転写装置及び微細構造転写方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6694101B1 (ja) |
KR (1) | KR102438070B1 (ja) |
CN (1) | CN112339412B (ja) |
TW (1) | TWI754978B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102237277B1 (ko) * | 2020-07-01 | 2021-04-07 | 주식회사 기가레인 | 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치 |
WO2021182532A1 (ja) * | 2020-03-11 | 2021-09-16 | Scivax株式会社 | インプリント装置 |
WO2022005120A1 (ko) * | 2020-07-01 | 2022-01-06 | 주식회사 기가레인 | 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치 |
JP7475646B2 (ja) | 2020-04-24 | 2024-04-30 | Aiメカテック株式会社 | 微細構造転写装置及び微細構造転写方法 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0247654A (ja) * | 1988-08-09 | 1990-02-16 | Brother Ind Ltd | 圧力現像装置 |
JP4220282B2 (ja) | 2003-03-20 | 2009-02-04 | 株式会社日立製作所 | ナノプリント装置、及び微細構造転写方法 |
JP4061220B2 (ja) | 2003-03-20 | 2008-03-12 | 株式会社日立製作所 | ナノプリント装置、及び微細構造転写方法 |
JP4466074B2 (ja) | 2003-12-26 | 2010-05-26 | 株式会社日立製作所 | 微細金属構造体とその製造方法、並びに微細金型とデバイス |
JP4154529B2 (ja) | 2004-08-27 | 2008-09-24 | 株式会社日立プラントテクノロジー | 微細構造転写装置 |
JP4665608B2 (ja) | 2005-05-25 | 2011-04-06 | 株式会社日立プラントテクノロジー | 微細構造転写装置 |
JP2008091123A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Toppan Printing Co Ltd | 凸版、印刷機、有機電子デバイスの製造方法、及び凸版の製造方法 |
JPWO2009110596A1 (ja) | 2008-03-07 | 2011-07-14 | 昭和電工株式会社 | Uvナノインプリント方法、樹脂製レプリカモールド及びその製造方法、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記録再生装置 |
JP2011066100A (ja) | 2009-09-16 | 2011-03-31 | Bridgestone Corp | 光硬化性転写シート、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法 |
JPWO2011089836A1 (ja) * | 2010-01-19 | 2013-05-23 | 株式会社日立産機システム | パターン転写装置及びパターン転写方法 |
WO2012070546A1 (ja) * | 2010-11-22 | 2012-05-31 | 旭硝子株式会社 | 転写装置及び樹脂パターン製造方法 |
JP5924337B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2016-05-25 | 東レ株式会社 | 微細構造転写フィルムの製造方法および製造装置 |
JP2013229532A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-07 | Hitachi Ltd | 微細構造転写装置および微細構造転写方法 |
KR20150020282A (ko) * | 2012-05-24 | 2015-02-25 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 광학 부재의 제조 방법, 광학 부재, 보호 필름이 부착된 광학 부재 및 광학 패널의 제조 방법 |
JP5912996B2 (ja) * | 2012-08-23 | 2016-04-27 | 東芝機械株式会社 | 転写装置 |
JP5940940B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-06-29 | 東芝機械株式会社 | 転写装置および転写方法 |
JP6092561B2 (ja) * | 2012-10-01 | 2017-03-08 | 東芝機械株式会社 | 被成形体組立体、被成形体組立体の製造装置および被成形体組立体の製造方法 |
KR20140109624A (ko) * | 2013-03-06 | 2014-09-16 | 삼성전자주식회사 | 대면적 임프린트 장치 및 방법 |
JP6032492B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2016-11-30 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 微細パターン形成方法、及び微細パターン形成装置 |
WO2015072572A1 (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | Scivax株式会社 | 離型装置及び離型方法 |
TW201616553A (zh) * | 2014-07-17 | 2016-05-01 | Soken Kagaku Kk | 分步重複式壓印裝置以及方法 |
JP6421980B2 (ja) * | 2015-03-02 | 2018-11-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | インプリント装置 |
CN107428072B (zh) * | 2015-06-23 | 2019-09-27 | 东丽株式会社 | 表面结构薄膜的制造方法和制造装置 |
JP6578883B2 (ja) * | 2015-10-26 | 2019-09-25 | 大日本印刷株式会社 | フィルムモールド及びインプリント方法 |
CN108475621A (zh) * | 2016-07-05 | 2018-08-31 | 松下知识产权经营株式会社 | 模具、压印装置及压印方法 |
KR102409912B1 (ko) * | 2017-03-31 | 2022-06-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 임프린트 장치 및 이의 박리 결함 검출 방법 |
KR102448904B1 (ko) * | 2017-07-31 | 2022-09-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 임프린트 장치 및 임프린트 방법 |
KR20190032050A (ko) * | 2017-09-19 | 2019-03-27 | 삼성전자주식회사 | 임프린트 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법 |
-
2019
- 2019-08-09 JP JP2019147429A patent/JP6694101B1/ja active Active
-
2020
- 2020-06-30 TW TW109121994A patent/TWI754978B/zh active
- 2020-08-07 KR KR1020200098998A patent/KR102438070B1/ko active IP Right Grant
- 2020-08-07 CN CN202010788246.5A patent/CN112339412B/zh active Active
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021182532A1 (ja) * | 2020-03-11 | 2021-09-16 | Scivax株式会社 | インプリント装置 |
JP7475646B2 (ja) | 2020-04-24 | 2024-04-30 | Aiメカテック株式会社 | 微細構造転写装置及び微細構造転写方法 |
KR102237277B1 (ko) * | 2020-07-01 | 2021-04-07 | 주식회사 기가레인 | 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치 |
KR102328428B1 (ko) * | 2020-07-01 | 2021-11-22 | 주식회사 기가레인 | 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치 |
WO2022005120A1 (ko) * | 2020-07-01 | 2022-01-06 | 주식회사 기가레인 | 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치 |
JP2022013799A (ja) * | 2020-07-01 | 2022-01-18 | ギガレーン カンパニー リミテッド | ナノインプリント用レプリカモールド製作装置 |
TWI776561B (zh) * | 2020-07-01 | 2022-09-01 | 南韓商吉佳藍科技股份有限公司 | 奈米壓印用複製模製作裝置 |
JP7169404B2 (ja) | 2020-07-01 | 2022-11-10 | ギガレーン カンパニー リミテッド | ナノインプリント用レプリカモールド製作装置 |
TWI794083B (zh) * | 2020-07-01 | 2023-02-21 | 南韓商吉佳藍科技股份有限公司 | 奈米壓印用複製模製作裝置 |
TWI810040B (zh) * | 2020-07-01 | 2023-07-21 | 南韓商吉佳藍科技股份有限公司 | 奈米壓印用複製模製作裝置及製作方法 |
JP7432254B2 (ja) | 2020-07-01 | 2024-02-16 | ギガレーン カンパニー リミテッド | ナノインプリント用レプリカモールド製作装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102438070B1 (ko) | 2022-08-31 |
TWI754978B (zh) | 2022-02-11 |
TW202113923A (zh) | 2021-04-01 |
CN112339412A (zh) | 2021-02-09 |
CN112339412B (zh) | 2022-08-12 |
JP2021028933A (ja) | 2021-02-25 |
KR20210018154A (ko) | 2021-02-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6694101B1 (ja) | 微細構造転写装置及び微細構造転写方法 | |
JP5232077B2 (ja) | 微細構造転写装置 | |
JP2706611B2 (ja) | 光造形方法および光造形装置 | |
KR20140109624A (ko) | 대면적 임프린트 장치 및 방법 | |
KR101990122B1 (ko) | 임프린트 리소그래피용 리플리카 몰드 제작 장치 및 그 제작 방법 | |
JP2010040879A (ja) | インプリント装置及びインプリント方法 | |
KR20160106485A (ko) | 임프린트 장치 | |
KR20130133184A (ko) | 전사 장치 및 수지 패턴 제조 방법 | |
TWI554411B (zh) | 轉印裝置、被成形體及轉印方法 | |
JP7343176B2 (ja) | 微細構造転写装置 | |
JP7475646B2 (ja) | 微細構造転写装置及び微細構造転写方法 | |
CN108508698B (zh) | 用于图案压印的装置和方法 | |
US20120038071A1 (en) | Optical imprinting method and device | |
KR20180099507A (ko) | 전사 방법, 전사 장치, 및 몰드 | |
JP5502592B2 (ja) | インプリント加工装置、インプリント加工方法およびインプリント加工物 | |
KR102574036B1 (ko) | 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법 | |
JP5931650B2 (ja) | 転写装置および転写方法 | |
KR20160085947A (ko) | 임프린트 장치 및 그 방법 | |
JP4440370B2 (ja) | 可撓性シート基材へのパターン複製装置 | |
TWI776561B (zh) | 奈米壓印用複製模製作裝置 | |
JP2020009899A (ja) | 平坦化層形成装置、平坦化層の製造方法、および物品製造方法 | |
JP2021028973A5 (ja) | 微細構造転写装置 | |
CN116184767A (zh) | 曝光装置 | |
JP2015008172A (ja) | 微細転写装置 | |
JP2019204895A (ja) | 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、成形方法、基板処理方法、および、物品製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190809 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20190809 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20191003 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191008 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200317 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6694101 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |