TWI810040B - 奈米壓印用複製模製作裝置及製作方法 - Google Patents

奈米壓印用複製模製作裝置及製作方法 Download PDF

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Abstract

本發明涉及一種奈米壓印用複製模製作裝置，包含：轉印部，其在從一側供應的薄膜形成複製模；薄膜供應部，其斷續地對薄膜進行退捲以向轉印部供應薄膜；薄膜回收部，其斷續地捲取薄膜以從轉印部回收薄膜，並且轉印部包含：載台部，其供安放形成有用於塗佈樹脂的圖案的母模；壓輥部，其向水平方向移動以形成複製模；以及轉印部驅動單元，其為了使壓輥部從一側的待機位置移動至另一側並再返回至待機位置而進行驅動。

Description

奈米壓印用複製模製作裝置及製作方法
本發明涉及一種奈米壓印用複製模製作裝置。
近來，在顯示製程和半導體製程中採用奈米壓印(Nano Imprint)製程，以在基板(例如，顯示面板和晶片(Wafer)等)的表面形成圖案(例如，用於結構化的成型圖案和蝕刻或蒸鍍的掩模圖案等)。
在利用模(Mold)以壓印(Imprint)形式在基板的表面形成奈米至微米大小的微細圖案的奈米壓印製程中，雖然也可以利用母模10在基板的表面直接形成圖案，但近來主要採用一種從母模10製作複製模20並利用所製作的複製模20在基板的表面形成圖案的方法。
此時，可以製作從由母模10製作的一次複製模20進一步複製的二次複製模20。這種用於製作二次複製模20的一次複製模20也可以稱為母模10。也就是說，母模10可以指用於製作複製模20的模。此外，複製模20可以指從母模10製作的模。
作為製作這種複製模20的多種方法之一，有一種透過使壓輥部120從薄膜60的上側前進(模製工序)及後退(脫模工序)來將複製模20形成於薄膜60的輥轉印方法。
另一方面，執行輥轉印方法的複製模20的製作裝置存在裝置的大小與壓輥部120前進的長度成比例地變大的問題。
此外，複製模20的製作裝置存在著為了使薄膜60進入壓輥部120的角度恆定而致使裝置的大小變大的問題。
並且，複製模20的製作裝置存在著在將樹脂70塗佈於母模10的圖案時發生塗佈容量的偏差的問題。
本發明的目的在於，提供一種可以解決先前技術中所述的技術問題的奈米壓印用複製模製作裝置。
本發明的實施例的奈米壓印用複製模製作裝置包含：轉印部，其在從一側供應的薄膜形成複製模；薄膜供應部，其斷續地對薄膜進行退捲以向轉印部供應薄膜；以及薄膜回收部，其斷續地捲取薄膜以從轉印部回收薄膜，並且轉印部包含：載台部，其供安放形成有用於塗佈樹脂的圖案的母模；壓輥部，其向水平方向移動以形成複製模；轉印部驅動單元，其為了使壓輥部從一側的待機位置移動至另一側並再返回至待機位置而進行驅動；光照射部，其向樹脂照射光；以及，結合移動部，其與光照射部和壓輥部結合以一同透過轉印部驅動單元移動，光照射部的照射方向以與載台部垂直的下側方向為基準朝向壓輥部傾斜。
根據實施例，光照射部包含照射方向導向部，照射方向導向部用以使照射方向在10度至80度內傾斜的方式進行導向。
根據實施例，光照射部進一步包含遮光部，遮光部從光照射部凸出地配置，以遮蔽照射至樹脂的光，防止光被擴散而重疊地照射至樹脂。
根據實施例，本發明之奈米壓印用複製模製作裝置進一步包含：導輥，其在薄膜回收部與轉印部之間配置有一個以上，以調整薄膜的進入角度，並且轉印部進一步包含薄膜角度維持輥部，薄膜角度維持輥部以改變薄膜進入壓輥部的角度的方式與壓輥部在垂直及水平方向上間隔開，薄膜角度維持輥部係配置為相較於壓輥部使從薄膜供應部供應的薄膜先進入，薄膜角度維持輥部與壓輥部之間的薄膜的長度對應於壓輥部為了形成複製模而在水平方向上移動的長度，以使薄膜角度維持輥部與薄膜的兩個面中形成有複製模的面接觸，但在進行脫模工序的過程中薄膜角度維持輥部不與複製模接觸，導輥與薄膜的兩個面中形成有複製模的面的不同的面接觸，以防止導輥與沿回收至薄膜回收部的薄膜移動的複製模接觸。
根據實施例，奈米壓印用複製模製作裝置進一步包含：分配器部，其以不與母模的圖案重疊的方式將樹脂塗佈於塗佈區域，塗佈區域是位於一側的待機位置的壓輥部與母模的圖案之間的空間；以及壓輥驅動單元，其以移動壓輥部的垂直位置以在載台部與壓輥部之間形成間距的方式進行驅動，並且在壓輥部透過載台部與壓輥部之間的間距使樹脂從一側的待機位置向另一側的移動的水平方向上擴散以塗佈於母模的圖案。
根據實施例，奈米壓印用複製模製作裝置進一步包含：載台驅動單元，其使載台部升降；以及分配器驅動單元，其將分配器部引入為了塗佈樹脂而透過載台驅動單元下降的載台部並再引出分配器部。
根據實施例，本發明提供一種奈米壓印用複製模製作裝置，其包含：轉印部，其在從一側供應的薄膜形成複製模；薄膜供應部，其斷續地對薄膜進行退捲以向轉印部供應薄膜；薄膜回收部，其斷續地捲取薄膜以從轉印 部回收薄膜；以及導輥，其在薄膜回收部與轉印部之間配置有一個以上，以將薄膜引導至薄膜回收部，並且為了使導輥僅與薄膜的兩個面中不形成複製模的面接觸，而不與形成有複製模的面接觸，轉印部包含：壓輥部，其以向水平方向移動以形成複製模的方式，其相較於薄膜回收部位於下側，並且相較於導輥位於供應薄膜的一側；轉印部驅動單元，其為了使壓輥部從待機位置朝向供應薄膜的一側移動以進行模製工序並再返回至待機位置以進行脫模工序而進行驅動；薄膜角度維持輥部，其以改變薄膜進入壓輥部的角度的方式相較於壓輥部位於供應薄膜的一側，從而隔著壓輥部位於導輥的相對側，並且相較於壓輥部位於上側；以及結合移動部，其使以薄膜角度維持輥部和壓輥部一同移動的方式結合，並且透過轉印部驅動單元移動，在從薄膜供應部向轉印部供應薄膜，並進行模製工序，並接續進行脫模工序，並且在從轉印部向薄膜回收部回收薄膜的過程中，薄膜角度維持輥部與壓輥部的相互位置不變，在薄膜角度維持輥部和壓輥部移動的過程中，導輥的位置不移動，在進行模製工序的過程中，薄膜角度維持輥部和壓輥部從導輥的間隔距離增大，在進行脫模工序的過程中，薄膜角度維持輥部和壓輥部從導輥的間隔距離減小。
根據實施例，薄膜角度維持輥部與薄膜供應部之間的距離比壓輥部與薄膜供應部之間的距離短，薄膜角度維持輥部與壓輥部之間的薄膜的長度對應於壓輥部為了形成複製模而在水平方向上移動的長度，以使薄膜角度維持輥部與薄膜的兩個面中形成有複製模的面接觸，但在進行脫模工序的過程中使薄膜角度維持輥部不與複製模接觸。
根據實施例，本發明提供一種奈米壓印用複製模製作裝置，包含：轉印部，其在從一側供應的薄膜形成複製模；以及分配器部，轉印部包含：載台部，其供安放在上表面形成有圖案的母模；壓輥部，其向水平方向移動以形成複製模；以及轉印部驅動單元，其為了使壓輥部從待機位置向水平方向移 動並再返回至待機位置而進行驅動，分配器部以不與母模的圖案重疊的方式將樹脂塗佈於載台部的上表面的塗佈區域，塗佈區域是位於待機位置的壓輥部與母模的圖案之間的空間，壓輥部在從待機位置向水平方向移動時使樹脂從塗佈區域向水平方向擴散以在母模的上表面塗佈樹脂，塗佈區域是不與母模的圖案重疊的區域，並且壓輥部在塗佈於母模的上表面的樹脂的上側移動時，將樹脂結合於母模的圖案以形成複製模，塗佈區域內的最初塗佈樹脂的位置與將樹脂結合於母模的圖案的位置在水平方向上間隔開。
根據實施例，奈米壓印用複製模製作裝置進一步包含：載台驅動單元，其使載台部升降；以及分配器驅動單元，其將分配器部引入為了塗佈樹脂而透過載台驅動單元下降的載台部並再引出分配器部。
根據實施例，奈米壓印用複製模製作裝置進一步包含：壓輥驅動單元，其以移動壓輥部的垂直位置以在載台部與壓輥部之間形成間距的方式進行驅動，壓輥部從載台部與壓輥部之間的空間移動以使樹脂透過載台部與壓輥部之間的間距擴散。
根據實施例，本發明提供一種奈米壓印用複製模製作方法，包含：載台下降步驟，使載台部下降；塗佈步驟，分配器部在向載台部的內側引入並從載台部的內側引出時不直接將樹脂塗佈於母模的圖案，而是在作為與形成於母模的上表面的圖案間隔開的空間且載台部的上表面的塗佈區域塗佈樹脂；載台上升步驟，使載台部上升；以及模製步驟，壓輥部在從待機位置向水平方向移動時以使樹脂塗佈於形成在母模的上表面的圖案的方式使樹脂向水平方向擴散，在模製步驟中，壓輥部在塗佈於母模的上表面的樹脂的上側移動時，將樹脂結合於母模的圖案以形成複製模，塗佈區域內的最初塗佈樹脂的位置與將樹脂結合於母模的圖案的位置在水平方向上間隔開。
根據實施例，奈米壓印用複製模製作方法進一步包含：脫模步驟，以使母模和複製模分離並附接於薄膜的下側的方式使壓輥部移動至待機位置；以及回收步驟，為了使複製模移動至薄膜回收部側而移動薄膜。在模製步驟中，光照射部在與壓輥部一同移動時固化樹脂，在脫模步驟中，透過在壓輥部移動至待機位置時由薄膜角度維持輥部形成的薄膜進入壓輥部的角度，複製模從母模分離。在回收步驟之後，為了形成另一複製模而再次執行載台下降步驟、塗佈步驟、載台上升步驟、模製步驟、脫模步驟以及回收步驟。
根據實施例，提供一種奈米壓印用複製模製作裝置，包含：轉印部，其在從一側供應的薄膜形成複製模；薄膜供應部，其斷續地對薄膜進行退捲以向轉印部供應薄膜；薄膜回收部，其斷續地捲取薄膜以從轉印部回收薄膜，並且轉印部包含：載台部，其供安放形成有用於塗佈樹脂的圖案的母模；壓輥部，其向水平方向移動以形成複製模；薄膜角度維持輥部，其以改變薄膜進入壓輥部的角度的方式與壓輥部在垂直及水平方向上間隔開，壓輥部和薄膜角度維持輥部向與以將由薄膜供應部退捲的薄膜回收至薄膜回收部的方式移動的薄膜的移動方向相反的方向移動以執行模製工序，並且壓輥部和薄膜角度維持輥部向薄膜的移動方向移動以執行脫模工序。
根據實施例，薄膜角度維持輥部係配置為相較於壓輥部朝向與薄膜的移動方向相反的方向。
根據實施例，薄膜回收部相較於壓輥部位於上側。
根據實施例，轉印部進一步包含結合移動部，結合移動部使以薄膜角度維持輥部和壓輥部一同移動的方式結合，並且透過轉印部驅動單元移動。
根據實施例，薄膜角度維持輥部與壓輥部之間的薄膜的長度對應於壓輥部為了形成複製模而在水平方向上移動的長度，以使薄膜角度維持輥部 與薄膜的兩個面中形成有複製模的面接觸，但在進行脫模工序的過程中薄膜角度維持輥部不與複製模接觸。
根據實施例，薄膜角度維持輥部係配置為相較於壓輥部使得從薄膜供應部供應的薄膜先進入。
根據實施例，奈米壓印用複製模製作裝置進一部包含：導輥，其在薄膜回收部與轉印部之間配置有一個以上，以調整薄膜的進入角度，導輥與薄膜的兩個面中形成有複製模的面的不同的面接觸，以防止導輥與沿回收至薄膜回收部的薄膜移動的複製模接觸。
首先，由於具備長度小於第一最小間距的第二最小間距，使得壓輥部移動的最小限度的長度變小，因而具有減小裝置的大小的效果。此外，與第一最小間距相比，具有減少薄膜的消耗量的效果。並且，當使用具備第二最小間距的薄膜來進行奈米壓印工序時，與第一最小間距相比，可以減少從一複製模移動至下一個複製模所需的時間，因而具有能夠縮短工序時間的效果。進一步地，由於透過壓輥部壓於母模的樹脂立即被固化，因而具有能夠縮短樹脂的固化所需的工序時間的效果。此外，由於樹脂立即被固化，因而使得透過壓輥部形成於樹脂的圖案的變化最小化的狀態形成複製模，進而具有防止複製模發生不良的效果。
此外，照射方向導向部具有能夠根據目的而在限定的數值內改變光照射部的光照射方向的斜率的方式以進行導向的效果。
進一步地，遮光部以使樹脂的固化的程度恆定的方式遮蔽擴散照射區域，防止擴散照射區域重疊地向樹脂照射光，從而不會影響脫模工序，進而具有防止複製模發生不良的效果。並且，由於具備長度小於第一間隔距離的 第二間隔距離，使得壓輥部移動的最小限度的長度變小，進而具有減小裝置的大小的效果。
進一步地，薄膜角度維持輥部具有維持進入角度恆定的效果。並且，由於薄膜角度維持輥部可以使與壓輥部相鄰的導輥間隔開的水平位置最小化，因而具有減小裝置的大小的效果。
此外，薄膜角度維持輥部防止因壓輥部的移動而引起的進入角度的變更，因此即使沒有獨立的機構也可以維持薄膜的張力，進而具有能夠順暢地進行薄膜的斷續地供應的效果。
並且，由於薄膜角度維持輥部與壓輥部分離，因此即使不包含移動位置的構件或單獨分離用於模製工序和脫模工序的構件，也可以具有防止因複製模與薄膜角度維持輥部接觸而造成的損傷的效果。
此外，相較於壓輥部位於上側的薄膜回收部具有防止導輥與複製模接觸的效果。
並且，由於間接地使樹脂擴散以塗佈於母模的圖案，因而具有不會發生塗佈於母模的圖的樹脂的塗佈容量的偏差的效果。
10:母模
20:複製模
30:薄膜供應部
40:薄膜回收部
50:導輥
60:薄膜
70:樹脂
100:轉印部
110:載台部
120:壓輥部
130:轉印部驅動單元
131:馬達
132:滾珠螺桿
133:區塊
140:光照射部
141:遮光部
142A:直接照射區域
142B:擴散照射區域
143:發光部
150:結合移動部
160:照射方向導向部
161:凸出部
162:導向槽
163:固定部
170:薄膜角度維持輥部
180:分配器部
181:分配器噴嘴
200:載台驅動單元
210:壓輥驅動單元
L1:第一最小間距
L2:第二最小間距
PA:塗佈區域
S1:第一間隔距離
S2:第二間隔距離
AG:傾斜度
FG:進入角度
圖1為根據本發明的實施例的奈米壓印用複製模製作裝置的示意圖。
圖2為根據本發明的實施例的轉印部的示意圖。
圖3為圖2的背面的示意圖。
圖4至圖6為根據本發明的實施例的光照射部的示意圖。
圖7為根據本發明的實施例的第一間隔距離及第二間隔距離的示意圖。
圖8為根據本發明的實施例的進入角度的示意圖。
圖9至圖15為根據本發明的實施例的模製工序及脫模工序的示意圖。
圖16至圖20為根據本發明的實施例的分配器部的示意圖(作為參考，所繪示的分配器噴嘴標示在分配器部中的位置，而實際上分配器噴嘴的塗佈方向係配置為朝向載台部)。
下文中參照附圖對本發明的實施例進行詳細說明，以便本發明所屬技術領域中的具有通常知識者能夠容易地實施。
本發明可以實現為多種不同的形態，並不限定於此處說明的實施例。
在本發明中，水平方向可以指圖中向X軸的方向或向左側及右側的方向，垂直方向可以指圖中向Y軸的方向或向上側及下側的方向。
在本發明中，長度可以指在X軸的方向上的相對距離，而高度可以指在Y軸的方向上的相對距離。
近年來，在顯示製程和半導體製程中採用奈米壓印(Nano Imprint)製程，以在基板(例如，顯示面板和晶片(Wafer)等)的表面形成圖案(例如，用於結構化的成型圖案和蝕刻或蒸鍍的掩模圖案等)。
在利用模(Mold)以壓印(Imprint)形式在基板的表面形成奈米至微米大小的微細圖案的奈米壓印製程中，雖然也可以利用母模10在基板的表面直接形成圖案，但近來主要採用一種從母模10製作複製模20並利用所製作的複製模20在基板的表面形成圖案的方法。
此時，可以製作從由母模10製作的一次複製模20進一步複製的二次複製模20。這種用於製作二次複製模20的一次複製模20也可以稱為母模10。也就是說，母模10可以指用於製作複製模20的模。此外，複製模20可以指從母模10製作的模。
作為這種製作複製模20的多種方法之一，有一種透過使得壓輥部120從薄膜60的上側前進(模製工序)及後退(脫模工序)來將複製模20形成於薄膜60的輥轉印方法。
另一方面，執行輥轉印方法的複製模20的製作裝置存在裝置的大小與壓輥部120前進的長度成比例地變大的問題。
此外，複製模20的製作裝置存在有為了使薄膜60進入壓輥部120的角度恆定而致使裝置的大小變大的問題。
並且，複製模20的製作裝置存在有在將樹脂70塗佈於母模10的圖案時發生塗佈容量的偏差的問題。
為了解決這樣的問題，如圖1至圖3所示，本發明的實施例的奈米壓印用複製模20的製作裝置可以包含轉印部100、薄膜供應部30以及薄膜回收部40。
轉印部100可以在從一側供應的薄膜60的下側形成複製模20。
薄膜供應部30可以斷續地對薄膜60進行退捲以朝向轉印部100供應薄膜60。
薄膜回收部40可以斷續地捲取薄膜60以從轉印部100回收薄膜60。
上述轉印部100可以包含載台部110、壓輥部120以及轉印部驅動單元130。
在載台部110，可以安放形成有用於塗佈樹脂70的圖案的母模10。
形成於母模10的圖案可以透過直接在硬質基板的上表面加工圖案來形成，或者透過將圖案附接於基板的上表面來形成。在下文中，當說明母模10時，可以省略圖案的形成而進行說明。
壓輥部120可以在水平方向上移動以透過輥轉印方法來形成複製模20。
轉印部驅動單元130可以為了使壓輥部120從一側的待機位置移動至另一側並再返回至待機位置而進行驅動。也就是說，轉印部驅動單元130可以為了使壓輥部120從待機位置在水平方向上移動後，並且返回至待機位置而進行驅動。例如，轉印部驅動單元130可以為了使壓輥部120從待機位置朝向供應薄膜60的一側移動以進行模製工序，並且使壓輥部120再次返回至待機位置以進行脫模工序而進行驅動。
轉印部驅動單元130可以是致動器。例如，如圖3所示，轉印部驅動單元130可以包含馬達131、透過馬達131旋轉的滾珠螺桿132、以及透過滾珠螺桿132移動的區塊133。此外，區塊133可以透過與下文中所述的結合移動部150結合而一同移動，使得結合於結合移動部150的壓輥部120在水平方向上移動。
在薄膜供應部30與轉印部100之間以及薄膜回收部40與轉印部100之間中的至少一處，可以配置有至少一個調整薄膜60的進入角度FG的導輥50。例如，至少一個導輥50可以配置於薄膜回收部40與轉印部100之間以將薄膜60引導至薄膜回收部40。
母模10和樹脂70可以位於載台部110與薄膜60之間。例如，可以在載台部110的上側安放母模10，在形成於母模10的上表面的圖案的上側塗佈樹脂70，並且使薄膜60位於樹脂70的上側。此時，從薄膜60的上側在水平方向上移動的壓輥部120對薄膜60加壓，由此可以將位於薄膜60的下側的樹脂70壓於母模10。
壓輥部120可以在從一側的待機位置移動至另一側時將樹脂70結合於母模10的圖案(模製工序)以形成複製模20。此外，壓輥部120可以在從另一側返回至一側的待機位置時分離母模10和複製模20(脫模工序)以形成附接於薄膜60的複製模20。也就是說，壓輥部120可以從待機位置在水平方向上移動以進行模製工序並再返回至待機位置以進行脫模工序來形成複製模20。例如，壓輥部120可以從待機位置朝向供應薄膜60的一側移動以進行模製工序，並且壓輥部120可以再返回至待機位置以進行脫模工序來形成複製模20。
作為複製模20的製作裝置的主要實施例，有關於光照射部140、薄膜角度維持輥部170及分配器部180的實施例將在下文中詳細說明。接下來，將針對關於光照射部140、薄膜角度維持輥部170以及分配器部180的實施例分別進行說明。然而，作為實施例，可以分別或兩個以上同時應用於複製模20的製作裝置。
首先，將針對關於複製模20的製作裝置的光照射部140的實施例進行說明。
如圖4中的(a)部分所示，當光照射部140的照射方向朝向與載台部110垂直的下側方向時，可以與從光照射部140的照射區域到達壓輥部120所經過的母模10的區域為止的長度為基準，成比例地決定第一最小間距L1，第一最小間距L1是彼此相鄰地形成於薄膜60的一對複製模20之間所隔開的長度。
由於上述的第一最小間距L1是壓輥部120移動的最小限度的長度，因而存在有裝置的大小與第一最小間距L1成比例地變大的問題。此外，存在有薄膜60的消耗量與第一最小間距L1成比例地增加的問題。並且，當使用具備第一最小間距L1的薄膜60進行奈米壓印工序時，由於從一複製模20移動至下一個複製模20所需的時間與第一最小間距L1成比例地增加，因而存在有工序的 速度減慢的問題。另一方面，存在有因由壓輥部120形成於樹脂70的圖案隨著時間點的經過會發生變化而致使複製模20發生不良的問題。
為了解決這樣的問題，如圖4的(b)和圖5所示，作為對實施例的具體說明，轉印部100可以包含光照射部140和結合移動部150。
光照射部140可以透過由作為光源的發光部143產生的光來向樹脂70照射光。
此時，樹脂70可以是透過光能固化的光固化樹脂。此外，光照射部140照射至樹脂70的光可以是紫外線(Ultraviolet light)。也就是說，樹脂70可以透過光照射部140照射的光而固化。
光照射部140可以形成有使照射方向以與載台部110垂直的下側方向為基準朝向壓輥部120的方式傾斜的傾斜度AG。
光照射部140的傾斜度AG可以形成為用於對壓輥部120所經過的母模10立即照射光的斜率。也就是說，可以立即固化被壓輥部120壓於母模10的樹脂70。
如圖5所示，光照射部140的傾斜度AG可以以朝向被定義為0度的載台部110的方向和朝向被定義為90度的壓輥部120的方向為基準而形成為10度至80度的斜率。
光照射部140照射樹脂70的光可以形成光到達樹脂70的照射區域。
結合移動部150可以與光照射部140和壓輥部120結合以一同透過轉印部驅動單元130移動。
當光照射部140的照射方向以與載台部110垂直的下側方向為基準朝向壓輥部120傾斜而形成有傾斜度AG時，可以以與光照射部140的照射區域 達到壓輥部120所經過的母模10的區域為止的長度為基準，成比例地決定形成於薄膜60的彼此相連的一對複製模20之間的第二最小間距L2。
就上述的第二最小間距L2而言，與光照射部140的照射方向朝向與載台部110垂直的下側方向的情況相比，照射區域達到壓輥部120所經過的母模10的區域為止的長度變小，因而第二最小間距L2的長度可以小於第一最小間距L1的長度。
藉由上述配置，由於具備長度小於第一最小間距L1的長度的第二最小間距L2，使得壓輥部120所移動的最小限度的長度變小，因而具有裝置的大小變小的效果。此外，與第一最小間距L1相比，具有薄膜60的消耗量減少的效果。並且，當使用具備第二最小間距L2的薄膜60進行奈米壓印工序時，與第一最小間距L1相比，減少了從一複製模20移動至下一個複製模20所需的時間，因而具有能夠縮短工序時間的效果。此外，透過壓輥部120壓於母模10的樹脂70立即被固化，因而具有能夠縮短樹脂70的固化所需的工序時間的效果。並且，由於樹脂70被立即固化，以使由壓輥部120形成於樹脂70的圖案的變化最小化的狀態形成複製模20，因而具有防止複製模20發生不良的效果。
如圖5和圖6所示，作為對實施例的具體說明，光照射部140可以包含照射方向導向部160。
照射方向導向部160可以透過使得其照射方向與呈0度以照射壓輥部120的下側的載台部110垂直的下側方向為基準，進而在10度至80度內傾斜的方式進行導向。
作為一實施例，如圖5和圖6所示，照射方向導向部160可以是在形成為以對從形成為能夠旋轉的光照射部140凸出的凸出部161的移動進行導向以引導光照射方向的斜率的方式具備長度的曲線形態的導向槽162結合以防止照射方向的斜率變化的方式進行固定的固定部163的結構。
作為另一實施例，雖然圖中未繪示出，照射方向導向部160為可以透過致動器(Actuator)以改變光照射方向的斜率的結構。
如此，照射方向導向部160具有以能夠根據目的而在限定的數值內改變光照射部140的光照射方向的斜率的方式進而進行導向的效果。
如圖4所示，照射區域可以由光照射部140的發光部143所產生的光直接到達樹脂70的直接照射區域142A和直接照射區域142A的周圍的光擴散而到達樹脂70的擴散照射區域142B構成。
可以透過擴散照射區域142B對透過光照射部140的直接照射區域142A重疊地照射光，以完成樹脂70的光照射的區域。此時，被重疊地照射光的樹脂70的區域的固化程度會不同。例如，與光照射部140結束光照射的樹脂70的另一側相比，在光照射部140開始光照射的樹脂70的一側透過擴散照射區域142B更多地重疊地照射光，因而固化的程度可能更高。
這樣的光照射的重疊引起的固化程度的差異將影響母模10和複製模20的分離，從而存在複製模20發生不良的問題。
如圖7的(a)部分所示，雖然可以透過使擴散照射區域142B完全經過樹脂70以對樹脂70的所有區域重疊地照射光來解決固化程度不同的問題，但這樣可能會與擴散照射區域142B完全經過樹脂70，而相應地決定壓輥部120與樹脂70之間的第一間隔距離S1。
由於這樣的第一間隔距離S1是壓輥部120所移動的最小限度的長度，因而存在裝置的大小與第一間隔距離S1成比例地變大的問題。
為了解決這樣的問題，作為對本實施例的具體說明，如圖6所示，光照射部140可以包含遮光部141。
遮光部141可以被配置為從光照射部140凸出以遮蔽照射至樹脂70的光擴散，進而防止光重疊地照射至樹脂70。
遮光部141可以被配置使光照射部140的照射區域位於遮光部141與壓輥部120之間。
遮光部141的寬度可以大於光照射部140的發光部143，並且可以具備不妨礙薄膜60的移動路線的凸出長度。例如，如圖6所示，遮光部141可以形成為板狀並配置於光照射部140。
如圖7的(b)部分所示，遮光部141遮蔽從擴散照射區域142B向樹脂70重疊地照射的光，從而使樹脂70的固化程度恆定，並且可以使壓輥部120與樹脂70之間的第二間隔距離S2最小化。
藉由上述配置，遮光部141遮蔽從擴散照射區域142B向樹脂70重疊地照射的光，以使樹脂70的固化程度恆定，從而不會影響脫模工序，進而具有防止複製模20發生不良的效果。此外，由於具備長度小於第一間隔距離S1的第二間隔距離S2，使得壓輥部120所移動的最小限度的長度變小，因而具有裝置的大小變小的效果。
接下來，將針對複製模20的製作裝置中的薄膜角度維持輥部170的實施例進行說明。
薄膜角度維持輥部170可以配置為相較於壓輥部120使得從薄膜供應部30供應的薄膜60先進入。例如，薄膜角度維持輥部170可以相較於壓輥部120位於供應薄膜60的一側，並且可以相較於壓輥部120位於上側。此外，薄膜角度維持輥部170和光照射部140可以隔著壓輥部120位於兩側，而壓輥部120可以相較於光照射部140位於供應薄膜60的一側。
作為薄膜60進入壓輥部120的角度的進入角度FG可以由相鄰的輥的水平位置決定。
如圖8的(a)部分所示，就進入角度FG而言，在壓輥部120從一側的待機位置移動至另一側並再返回至待機位置的過程中，隨時可以改變進入角度 FG。也就是說，為了模製工序和脫模工序的進行，隨著壓輥部120以水平位置與相鄰的導輥50相鄰的方式移動並以間隔開的方式移動，可以改變進入角度FG。
這樣的進入角度FG存在有當與位於待機位置的壓輥部120相鄰的導輥50的水平位置越相鄰時，進入角度FG的變化越急劇的問題。此外，當進入角度FG急劇變化時，因脫模工序中的母模10和複製模20的分離不會以相同的角度進行而將導致複製模20發生不良的問題。此外，為了進行模製工序和脫模工序，需要維持薄膜60的張力，但是，當進入角度FG急劇變化時，薄膜60的張力也會發生變化，因而存在有需要獨立的機構以維持薄膜60的張力的問題。例如，用於維持張力的獨立機構可以是包含位置隨薄膜60的張力的變化而變化以維持薄膜60的張力的張力輥機構，或者是薄膜供應部30相對於為了對薄膜60進行退捲而旋轉的方向而進行逆向旋轉，或者薄膜回收部40相對於為了捲取薄膜60而旋轉的方向而進行逆向旋轉，又或者薄膜供應部30和薄膜回收部40均逆向旋轉以維持薄膜60的張力的機構。此外，用於維持薄膜60的張力的獨立機構的存在有妨礙了順暢的薄膜60的斷續地供應的問題。此時，如圖8的(b)部分所示，當與位於待機位置的壓輥部120相鄰的導輥50的水平位置間隔開時，可以解決進入角度FG急劇變化的問題，儘管進入角度FG的變化的幅度較小，但仍有效，並且存在有因與位於待機位置的壓輥部120相鄰的輥的水平位置被間隔開而導致裝置的大小變大的又一問題。
為了解決這樣的問題，作為對實施例的具體說明，如圖2所示，轉印部100可以包含薄膜角度維持輥部170和結合移動部150。
薄膜角度維持輥部170可以透過改變薄膜60進入壓輥部120的角度的方式以與壓輥部120在垂直及水平方向上間隔開。
結合移動部150可以與薄膜角度維持輥部170和壓輥部120結合以一同透過轉印部驅動單元130移動。
如圖8的(c)部分所示，薄膜角度維持輥部170在壓輥部120從一側的待機位置移動至另一側並再返回至待機位置的過程中，其與壓輥部120一同移動，從而可以使得作為薄膜60進入壓輥部120的角度的進入角度FG維持恆定。
薄膜角度維持輥部170與壓輥部120之間的薄膜60的長度可以對應於壓輥部120為了形成複製模20而在水平方向上移動的長度，以使薄膜角度維持輥部170可以與薄膜60的兩個面中形成有複製模20的面接觸，但在進行脫模工序的過程中薄膜角度維持輥部170不與複製模20接觸。也就是說，如圖14所示，薄膜角度維持輥部170與壓輥部120之間的薄膜60的長度可以大於複製模20的水平方向上的長度。
如此，薄膜角度維持輥部170具有維持進入角度FG恆定的效果。此外，薄膜角度維持輥部170可以使與壓輥部120相鄰的導輥50所間隔開的水平位置最小化，因而具有使裝置的大小變小的效果。此外，薄膜角度維持輥部170可以防止壓輥部120的移動而引起的進入角度FG的變化，從而使得即使沒有獨立機構也可以維持薄膜60的張力，進而具有使薄膜60的斷續地供應順暢的效果。
為了使壓輥部120向從薄膜供應部30退捲的薄膜60被回收至薄膜回收部40的方式移動的薄膜60的移動方向移動以執行模製工序，並使壓輥部120向與薄膜60的移動方向相反的方向移動以執行脫模工序，薄膜角度維持輥部170需要被配置為相較於壓輥部120朝向薄膜60的移動方向。因此，所存在的問題是，在以透過模製工序和脫模工序形成的複製模20被回收至薄膜回收部40的方式進行移動的過程中，複製模20因與薄膜角度維持輥部170接觸而受損傷。
為了防止複製模20與薄膜角度維持輥部170接觸，可以透過包含使薄膜角度維持輥部170與壓輥部120分離而移動位置的構件，或獨立地分離用於模製工序和脫模工序的構件來解決問題，但難以將其視為較佳的解決問題的方法。
為了解決這樣的問題，壓輥部120可以向與薄膜60的移動方向相反的方向移動以執行模製工序，並且壓輥部120可以向薄膜60的移動方向移動以執行脫模工序。此外，薄膜角度維持輥部170可以被配置為相較於壓輥部120朝向與薄膜60的移動方向相反的方向。
藉由上述配置，可以具有防止複製模20因與薄膜角度維持輥部170接觸而受損傷的效果，而無需包含使薄膜角度維持輥部170與壓輥部120分離而移動位置的構件，或者單獨地分離用於模製工序和脫模工序的構件。
此外，為了防止導輥50與沿被回收至薄膜回收部40的薄膜60移動的複製模20接觸，薄膜回收部40可以相較於壓輥部120位於上側，使得導輥50與薄膜60的兩個面中形成有複製模20的面的不同的面接觸。也就是說，可以使導輥50僅與薄膜60的兩個面中不形成有複製模20的面接觸，而不與形成有複製模20的面接觸。
藉由上述配置，相較於壓輥部120位於上側的薄膜回收部40具有防止導輥50與複製模20接觸的效果。
接下來，對關於複製模20的製作裝置的分配器部180的實施例進行說明。
當將樹脂70直接塗佈於母模10的圖案時，會因塗佈得不均勻而發生塗佈容量的偏差。
這樣的塗佈容量的偏差的問題在於，當塗佈容量不足時，會發生複製模20的圖案未形成的不良，而當塗佈容量過度時，會因樹脂70作為殘留物殘留在複製模20上而導致其污染其他構件進而發生不良。
為了解決這樣的問題，作為對實施例的具體說明，如圖9所示，可以包含分配器部180和壓輥驅動單元210。
分配器部180可以以不與母模10的圖案重疊的方式將樹脂70塗佈於塗佈區域PA，塗佈區域PA是位於待機位置的壓輥部120與母模10的圖案之間的空間。此時，塗佈區域PA可以是載台部110的上表面。
分配器部180可以透過分配器噴嘴181塗佈樹脂70。
如圖18至圖20所示，分配器部180可以以多種形態塗佈樹脂70。例如，如圖18所示，分配器部180可以以連成一行的方式塗佈樹脂70。此外，如圖19所示，分配器部180可以以連成兩行或連成更多行(雖然未繪示出)的方式塗佈樹脂70。此外，如圖20所示，分配器部180可以以呈一行或分離為多個行(雖然未繪示出，例如，呈虛線形狀)的方式塗佈樹脂70。
壓輥驅動單元210可以移動壓輥部120的垂直位置以在載台部110與壓輥部120之間形成間距。
透過這樣的載台部110與壓輥部120之間的間距，可以使樹脂70在壓輥部120所移動的水平方向上擴散以塗佈於母模10的圖案。
並且，壓輥驅動單元210可以是致動器。
藉由上述配置，由於間接地使樹脂70擴散以塗佈於母模10的圖案，因而具有塗佈於母模10的圖案的樹脂70的塗佈容量的不會發生偏差的效果。
作為對實施例的具體說明，如圖9所示，可以包含載台驅動單元200和分配器驅動單元(未繪示出)。
載台驅動單元200可以使載台部110升降。
分配器驅動單元可以將分配器部180引入透過載台驅動單元200下降的載台部110以塗佈樹脂70，並再引出分配器部180。
載台驅動單元200和分配器驅動單元可以是致動器。
接下來，將針對前述的複製模20的製作裝置複製模20的製造工序進行詳細說明。
首先，對模製工序步驟進行說明。
如圖9至圖12所示，可以不直接在母模10的圖案上塗佈樹脂70，而是在設於與母模10的圖案間隔開的空間的塗佈區域PA塗佈樹脂70以在母模10的圖案模製(結合)樹脂70來形成複製模20。
例如，首先，如圖9所示，載台部110可以下降以在薄膜60與載台部110之間形成可以引入分配器部180的空間。
之後，如圖16所示，分配器部180可以從載台部110的側面被引入載台部110的內側。
並且，如圖17和圖18所示，分配器部180被引出時可以將樹脂70塗佈於塗佈區域PA。
並且，如圖10所示，塗佈有樹脂70的載台部110可以上升。
並且，如圖11和圖12所示，壓輥部120在從一側的待機位置移動至另一側時可以使塗佈於塗佈區域PA的樹脂70擴散以塗佈於母模10的圖案。也就是說，可以透過載台部110與壓輥部120之間的間距使樹脂70在壓輥部120所移動的水平方向上擴散以塗佈於母模10的圖案。
此時，壓輥部120可以在在塗佈於母模10的圖案的樹脂70的上側移動時，將樹脂70結合於母模10的圖案(模製工序)以形成複製模20。
透過這樣的方式，塗佈區域PA內最初塗佈樹脂70的位置與將樹脂70結合於母模10的圖案的位置可以在水平方向上間隔開。
此外，光照射部140可以在與壓輥部120一同移動時固化樹脂70以形成複製模20。
接下來，對脫模工序步驟進行說明。
如圖13至圖15所示，可以分離母模10和複製模20以形成附接於薄膜60的下側的複製模20。
例如，如圖13至圖14所示，在壓輥部120從另一側移動至一側的待機位置時，可以透過薄膜角度維持輥部170形成的薄膜60進入壓輥部120的角度以從母模10分離複製模20。
之後，如圖15所示，可以移動薄膜60以將完成的複製模20移動至薄膜回收部40的一側，然後，載台部110下降以形成複製模20。
此時，當載台部110下降時，機械臂(未繪示出)可以將母模10更換為另一母模10。
這樣的複製模20的製造工序可以反覆進行多次。
儘管已經透過上述較佳實施例對本發明進行了詳細說明，但本發明不限定於此，而是可以在申請專利範圍的範圍內進行多樣化的實施。
30:薄膜供應部
40:薄膜回收部
50:導輥
60:薄膜
100:轉印部

Claims (12)

  1. 一種奈米壓印用複製模製作裝置，其包含：一轉印部，其在從一側供應的一薄膜形成一複製模；以及一分配器部，該轉印部包含：一載台部，其供安放在上表面形成有圖案的一母模；一壓輥部，其向水平方向移動以形成該複製模；以及一轉印部驅動單元，其為了使該壓輥部從一待機位置向水平方向移動並再返回至該待機位置而進行驅動，該分配器部以不與該母模的圖案重疊的方式將一樹脂塗佈於該載台部的上表面的一塗佈區域，該塗佈區域是位於該待機位置的該壓輥部與該母模的圖案之間的空間，該壓輥部在從該待機位置向水平方向移動時使該樹脂從該塗佈區域向水平方向擴散以在該母模的上表面塗佈該樹脂，該塗佈區域是不與該母模的圖案重疊的區域，並且 該壓輥部在塗佈於該母模的上表面的該樹脂的上側移動時，將該樹脂結合於該母模的圖案以形成該複製模，該塗佈區域內的最初塗佈該樹脂的位置與將該樹脂結合於該母模的圖案的位置在水平方向上間隔開。
  2. 如請求項1所述之奈米壓印用複製模製作裝置，其進一步包含：一載台驅動單元，其使該載台部升降；以及一分配器驅動單元，其將該分配器部引入為了塗佈該樹脂而透過該載台驅動單元下降的該載台部並再引出該分配器部。
  3. 如請求項1所述之奈米壓印用複製模製作裝置，其進一步包含：一壓輥驅動單元，其以移動該壓輥部的垂直位置以在該載台部與該壓輥部之間形成間距的方式進行驅動，該壓輥部從該載台部與該壓輥部之間的空間移動以使該樹脂透過該載台部與該壓輥部之間的間距擴散。
  4. 一種奈米壓印用複製模製作方法，其中包含：一載台下降步驟，使一載台部下降； 一塗佈步驟，一分配器部在向該載台部的內側引入並從該載台部的內側引出時不直接將一樹脂塗佈於一母模的圖案，而是以不與該母模的圖案重疊的方式在作為與形成於該母模的上表面的圖案間隔開的空間且該載台部的上表面的一塗佈區域塗佈該樹脂；一載台上升步驟，使該載台部上升；以及一模製步驟，一壓輥部在從一待機位置向水平方向移動時以使該樹脂塗佈於形成在該母模的上表面的圖案的方式使該樹脂向水平方向擴散，在該模製步驟中，該壓輥部在塗佈於該母模的上表面的該樹脂的上側移動時，將該樹脂結合於該母模的圖案以形成一複製模，該塗佈區域內的最初塗佈該樹脂的位置與將該樹脂結合於該母模的圖案的位置在水平方向上間隔開。
  5. 如請求項4所述之奈米壓印用複製模製作方法，其進一步包含：一脫模步驟，以使該母模和該複製模分離並附接於一薄膜的下側的方式使該壓輥部移動至該待機位置；以及 一回收步驟，為了使該複製模移動至一薄膜回收部的一側而移動該薄膜，在該模製步驟中，一光照射部在與該壓輥部一同移動時固化該樹脂，在該脫模步驟中，透過在該壓輥部移動至該待機位置時由一薄膜角度維持輥部形成的該薄膜進入該壓輥部的角度，該複製模從該母模分離，在該回收步驟之後，為了形成另一該複製模而再執行該載台下降步驟、該塗佈步驟、該載台上升步驟、該模製步驟、該脫模步驟以及該回收步驟。
  6. 一種奈米壓印用複製模製作裝置，其包含：一轉印部，其在從一側供應的一薄膜形成一複製模；一薄膜供應部，其斷續地對該薄膜進行退捲以向該轉印部供應該薄膜；一薄膜回收部，其斷續地捲取該薄膜以從該轉印部回收該薄膜；以及一分配器部，該轉印部包含：一載台部，其供安放形成有用於塗佈一樹脂的圖案的一母模； 一壓輥部，其向水平方向移動以形成該複製模；一薄膜角度維持輥部，其以改變該薄膜進入該壓輥部的角度的方式與該壓輥部在垂直及水平方向上間隔開，該分配器部以不與該母模的圖案重疊的方式將該樹脂塗佈於該載台部的上表面的一塗佈區域，該塗佈區域是位於該壓輥部與該母模的圖案之間的空間，該壓輥部和該薄膜角度維持輥部朝向與以將由該薄膜供應部退捲的該薄膜回收至該薄膜回收部的方式移動的該薄膜的移動方向相反的方向移動，以執行一模製工序，並且該壓輥部和該薄膜角度維持輥部向該薄膜的移動方向移動以執行一脫模工序。
  7. 如請求項6所述之奈米壓印用複製模製作裝置，其中該薄膜角度維持輥部係配置為相較於該壓輥部朝向與該薄膜的移動方向相反的方向。
  8. 如請求項6所述之奈米壓印用複製模製作裝置，其中該薄膜回收部相較於該壓輥部位於上側。
  9. 如請求項6所述之奈米壓印用複製模製作裝置， 其中該轉印部進一步包含一結合移動部，該結合移動部使以該薄膜角度維持輥部和該壓輥部一同移動的方式結合，並且透過一轉印部驅動單元移動。
  10. 如請求項6所述之奈米壓印用複製模製作裝置，其中該薄膜角度維持輥部與該壓輥部之間的該薄膜的長度對應於該壓輥部為了形成該複製模而在水平方向上移動的長度，以使該薄膜角度維持輥部與該薄膜的兩個面中形成有該複製模的面接觸，但在進行該脫模工序的過程中該薄膜角度維持輥部不與該複製模接觸。
  11. 如請求項6所述之奈米壓印用複製模製作裝置，其中該薄膜角度維持輥部係配置為相較於該壓輥部使從該薄膜供應部供應的該薄膜先進入。
  12. 如請求項6所述之奈米壓印用複製模製作裝置，其進一步包含：一導輥，其在該薄膜回收部與該轉印部之間配置有一個以上，以調整該薄膜的進入角度， 該導輥與該薄膜的兩個面中形成有該複製模的面的不同的面接觸，以防止該導輥與沿回收至該薄膜回收部的該薄膜移動的該複製模接觸。
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