CN117761966A - 纳米压印用复制模制作装置 - Google Patents

纳米压印用复制模制作装置 Download PDF

Info

Publication number
CN117761966A
CN117761966A CN202410079929.1A CN202410079929A CN117761966A CN 117761966 A CN117761966 A CN 117761966A CN 202410079929 A CN202410079929 A CN 202410079929A CN 117761966 A CN117761966 A CN 117761966A
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
roller
section
mold
replica
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202410079929.1A
Other languages
English (en)
Inventor
金泰完
郑明教
金准基
朴惠贞
郑熙锡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GigaLane Co Ltd
Original Assignee
GigaLane Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020200080745A external-priority patent/KR102237277B1/ko
Priority claimed from KR1020200165523A external-priority patent/KR20220076734A/ko
Application filed by GigaLane Co Ltd filed Critical GigaLane Co Ltd
Publication of CN117761966A publication Critical patent/CN117761966A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/38Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/38Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
    • B29C33/40Plastics, e.g. foam or rubber
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/42Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/22Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of indefinite length
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/32Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C43/44Compression means for making articles of indefinite length
    • B29C43/46Rollers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B29C59/04Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

本发明涉及一种纳米压印用复制模制作装置,包括:转印部,其在从一侧供应的薄膜形成复制模;薄膜供应部,其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜;薄膜回收部,其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜,并且所述转印部包括:载台部,其供安放形成有用于涂布树脂的图案的母模;压辊部,其向水平方向移动以形成所述复制模;以及转印部驱动单元,其为了使所述压辊部从一侧的待机位置移动至另一侧并再返回至所述待机位置而进行驱动。

Description

纳米压印用复制模制作装置
本发明是申请号为202110694148.X、发明名称为“纳米压印用复制模制作装置”、申请日为2021年06月22日的发明申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种纳米压印用复制模制作装置。
背景技术
近来,在显示工艺和半导体工艺中采用纳米压印(Nano Imprint)工艺,以在基板(例如,显示面板和晶片(Wafer)等)的表面形成图案(例如,用于结构化的成型图案和蚀刻或蒸镀的掩模图案等)。
在利用模(Mold)以压印(Imprint)形式在基板的表面形成纳米至微米大小的微细图案的纳米压印工艺中,虽然也可以利用母模10在基板的表面直接形成图案,但近来主要采用一种从母模10制作复制模20并利用所制作的复制模20在基板的表面形成图案的方法。
此时,可以制作从由母模10制作的一次复制模20复制的二次复制模20。这种制作二次复制模20的一次复制模20也可以称为母模10。即,母模10可以指统称制作复制模20的模。此外,复制模20可以指统称从母模10制作的模。
作为这种制作复制模20的多种方法之一,有一种通过使压辊部120从薄膜60的上侧前进(模制工序)及后退(脱模工序)来将复制模20形成于薄膜60的辊转印方法。
另一方面,执行辊转印方法的复制模20的制作装置存在装置的大小与压辊部120前进的长度成比例地变大的问题。
此外,复制模20的制作装置存在为了使薄膜60进入压辊部120的角度恒定而致使装置的大小变大的问题。
此外,复制模20的制作装置存在着在将树脂70涂布于母模10的图案时发生涂布容量的偏差的问题。
发明内容
技术问题
本发明的目的在于,提供一种纳米压印用复制模制作装置。
技术方案
本发明的实施例的纳米压印用复制模制作装置包括:转印部,其在从一侧供应的薄膜形成复制模;薄膜供应部,其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜;以及薄膜回收部,其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜,并且所述转印部包括:载台部,其供安放形成有用于涂布树脂的图案的母模;压辊部,其向水平方向移动以形成所述复制模;转印部驱动单元,其为了使所述压辊部从一侧的待机位置移动至另一侧并再返回至所述待机位置而进行驱动;光照射部,其向所述树脂照射光;以及结合移动部,其与所述光照射部和所述压辊部结合以一同通过所述驱动单元移动,所述光照射部的照射方向以与所述载台部垂直的下侧方向为基准朝向所述压辊部倾斜。
根据实施例,所述光照射部包括照射方向导向部,该照射方向导向部以使照射方向在10度至80度内倾斜的方式进行导向。
根据实施例,所述光照射部还包括遮光部,该遮光部从所述光照射部凸出地配置,以遮蔽照射至所述树脂的光被扩散而重叠地照射至所述树脂。
根据实施例,还包括:导辊,其在所述薄膜回收部与所述转印部之间配置一个以上,以调整薄膜的进入角度,并且所述转印部还包括薄膜角度维持辊部,该薄膜角度维持辊部以改变所述薄膜进入所述压辊部的角度的方式与所述压辊部在垂直及水平方向上间隔开,所述薄膜角度维持辊部被配置为相较于所述压辊部使从所述薄膜供应部供应的薄膜先进入,所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部之间的薄膜的长度对应于所述压辊部为了形成所述复制模而在水平方向上移动的长度,以使所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜的两个面中形成所述复制模的面接触,但在进行所述脱模工序的过程中所述薄膜角度维持辊部不与所述复制模接触,所述导辊与所述薄膜的两个面中不同于形成所述复制模的面的面接触,以防止所述导辊与沿回收至所述薄膜回收部的所述薄膜移动的所述复制模接触。
根据实施例,所述纳米压印用复制模制作装置还包括:分配器部,其以不与所述母模的图案重叠的方式将所述树脂涂布于涂布区域,该涂布区域是位于一侧的待机位置的所述压辊部与所述母模的图案之间的空间;以及压辊驱动单元,其以移动所述压辊部的垂直位置以在所述载台部与所述压辊部之间形成间距的方式进行驱动,并且在所述压辊部通过所述载台部与所述压辊部之间的间距使所述树脂从一侧的待机位置向另一侧的移动的水平方向上扩散以涂布于所述母模的图案。
根据实施例,所述的纳米压印用复制模制作装置还包括:载台驱动单元,其使所述载台部升降;以及分配器驱动单元,其将所述分配器部引入为了涂布所述树脂而通过所述载台驱动单元下降的载台部并再引出所述分配器部。
根据实施例,转印部,其在从一侧供应的薄膜形成复制模;薄膜供应部,其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜;薄膜回收部,其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜;以及导辊,其在所述薄膜回收部与所述转印部之间配置一个以上,以将所述薄膜引导至所述薄膜回收部,并且为了使所述导辊仅与所述薄膜的两个面中不形成所述复制模的面接触,而不与形成所述复制模的面接触,所述转印部包括:压辊部,其以向水平方向移动以形成所述复制模的方式,相较于所述薄膜回收部位于下侧,并且相较于所述导辊位于供应所述薄膜的一侧;转印部驱动单元,其为了使所述压辊部从待机位置朝向供应所述薄膜的一侧移动以进行模制工序并再返回至所述待机位置以进行脱模工序而进行驱动;薄膜角度维持辊部,其以改变所述薄膜进入所述压辊部的角度的方式相较于所述压辊部位于供应所述薄膜的一侧,从而隔着所述压辊部位于所述导辊的相对侧,并且相较于所述压辊部位于上侧;以及结合移动部,其使以所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部一同移动的方式结合,并且通过所述转印部驱动单元移动,在从所述薄膜供应部向所述转印部供应所述薄膜,并进行所述模制工序,并进行所述脱模工序,并从所述转印部向所述薄膜回收部回收所述薄膜的过程中,所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部的相互位置不变,在所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部移动的过程中,所述导辊的位置不移动,在进行所述模制工序的过程中,所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部从所述导辊的间隔距离增大,在进行所述脱模工序的过程中,所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部从所述导辊的间隔距离减小。
根据实施例,所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜供应部之间的距离比所述压辊部与所述薄膜供应部之间的距离短,所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部之间的薄膜的长度对应于所述压辊部为了形成所述复制模而在水平方向上移动的长度,以使所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜的两个面中形成所述复制模的面接触,但在进行所述脱模工序的过程中使所述薄膜角度维持辊部不与所述复制模接触。
根据实施例,提供一种纳米压印用复制模制作装置,包括:转印部,其在从一侧供应的薄膜形成复制模;以及分配器部,所述转印部包括:载台部,其供安放在上表面形成有图案的母模;压辊部,其向水平方向移动以形成所述复制模;以及转印部驱动单元,其为了使所述压辊部从待机位置向水平方向移动并再返回至所述待机位置而进行驱动,所述分配器部以不与所述母模的图案重叠的方式将所述树脂涂布于所述载台部的上表面的涂布区域,该涂布区域是位于所述待机位置的所述压辊部与所述母模的图案之间的空间,所述压辊部在从所述待机位置向水平方向移动时使所述树脂从所述涂布区域向所述水平方向扩散以在所述母模的上表面涂布所述树脂,所述涂布区域是不与所述母模的图案不重叠的区域,并且所述压辊部在涂布于所述母模的上表面的所述树脂的上侧移动时,将所述树脂结合于所述母模的图案以形成复制模,所述涂布区域内的最初涂布所述树脂的位置与将所述树脂结合于所述母模的图案的位置在水平方向上间隔开。
根据实施例,所述纳米压印用复制模制作装置还包括:载台驱动单元,其使所述载台部升降;以及分配器驱动单元,其将所述分配器部引入为了涂布所述树脂而通过所述载台驱动单元下降的载台部并再引出所述分配器部。
根据实施例,所述纳米压印用复制模制作装置还包括:压辊驱动单元,其以移动所述压辊部的垂直位置以在所述载台部与所述压辊部之间形成间距的方式进行驱动,所述压辊部从所述载台部与所述压辊部之间的空间移动以使所述树脂通过所述载台部与所述压辊部之间的间距扩散。
根据实施例,提供一种纳米压印用复制模制作方法,包括:载台部下降的载台下降步骤;分配器部在向所述载台部的内侧引入并从所述载台部的内侧引出时不直接将树脂涂布于母模的图案,而是在作为与形成于所述母模的上表面的图案间隔开的空间且所述载台部的上表面的涂布区域涂布树脂的涂布步骤;载台部上升的上升步骤;以及压辊部在从待机位置向水平方向移动时以使所述树脂涂布于形成在所述母模的上表面的图案的方式使所述树脂向水平方向扩散的模制步骤,在所述模制步骤中,所述压辊部在涂布于所述母模的上表面的所述树脂的上侧移动时,将所述树脂结合于所述母模的图案以形成复制模,所述涂布区域内的最初涂布所述树脂的位置与将所述树脂结合于所述母模的图案的位置在水平方向上间隔开。
根据实施例,所述纳米压印用复制模制作方法还包括:以使所述母模和所述复制模分离并附接于薄膜的下侧的方式使所述压辊部移动至所述待机位置的脱模步骤;以及为了使所述复制模移动至薄膜回收部侧而移动所述薄膜的回收步骤,在所述模制步骤中,光照射部在与所述压辊部一同移动时固化所述树脂,在所述脱模步骤中,通过在所述压辊部移动至所述待机位置时由薄膜角度维持辊部形成的、所述薄膜进入所述压辊部的角度,所述复制模从所述母模分离,在所述回收步骤之后,为了形成另一复制模而再执行所述载台下降步骤、所述涂布步骤、所述上升步骤、所述模制步骤、所述脱模步骤以及所述回收步骤。
根据实施例,提供一种纳米压印用复制模制作装置,包括:转印部,其在从一侧供应的薄膜形成复制模;薄膜供应部,其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜;薄膜回收部,其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜,并且所述转印部包括:载台部,其供安放形成有用于涂布树脂的图案的母模;压辊部,其向水平方向移动以形成所述复制模;薄膜角度维持辊部,其以改变所述薄膜进入所述压辊部的角度的方式与所述压辊部在垂直及水平方向上间隔开,所述压辊部和所述薄膜角度维持辊部向与以将由所述薄膜供应部退卷的所述薄膜回收至所述薄膜回收部的方式移动的所述薄膜的移动方向相反的方向移动以执行模制工序,并且所述压辊部和所述薄膜角度维持辊部向所述薄膜的移动方向移动以执行脱模工序。
根据实施例,所述薄膜角度维持辊部被配置为相较于所述压辊部朝向与所述薄膜的移动方向相反的方向。
根据实施例,所述薄膜回收部相较于所述压辊部位于上侧。
根据实施例,所述转印部还包括结合移动部,该结合移动部使以所述薄膜角度维持部和所述压辊部一同移动的方式结合,并且通过所述转印部驱动单元移动。
根据实施例,所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部之间的薄膜的长度对应于所述压辊部为了形成所述复制模而在水平方向上移动的长度,以使所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜的两个面中形成所述复制模的面接触,但在进行所述脱模工序的过程中所述角度维持辊部不与所述复制模接触。
根据实施例,所述薄膜角度维持辊部被配置为相较于所述压辊部使从所述薄膜供应部供应的薄膜先进入。
根据实施例,所述纳米压印用复制模制作装置还包括:导辊,其在所述薄膜回收部与所述转印部之间配置一个以上,以调整薄膜的进入角度,所述导辊与所述薄膜的两个面中不同于形成所述复制模的面的面接触,以防止所述导辊与沿回收至所述薄膜回收部的所述薄膜移动的所述复制模接触。
发明的效果
首先,由于具备长度小于第一最小间距的第二最小间距,使得压辊部移动的最小限度的长度变小,因而具有减小装置的大小的效果。此外,与第一最小间距相比,具有减少薄膜的消耗量的效果。此外,当使用具备第二最小间距的薄膜来进行纳米压印工序时,与第一最小间距相比,减少从一复制模移动至下一个复制模所需的时间,因而具有能够缩短工序时间的效果。此外,由于通过压辊部压于母模的树脂立即被固化,因而具有能够缩短树脂的固化所需的工序时间的效果。此外,由于树脂立即被固化,因而以使通过压辊部形成于树脂的图案的变化最小化的状态形成复制模,因而具有防止复制模发生不良的效果。
此外,照射方向导向部具有以能够根据目的在限定的数值内改变光照射部的光照射方向的斜率的方式进行导向的效果。
此外,遮光部以使树脂的固化的程度恒定的方式遮蔽扩散照射区域重叠地向树脂照射光,从而不会影响脱模工序,因而具有防止复制模发生不良的效果。此外,由于具备长度小于第一间隔距离的第二间隔距离,使得压辊部移动的最小限度的长度变小,因而具有减小装置的大小的效果。
此外,薄膜角度维持辊部具有维持进入角度恒定的效果。此外,由于薄膜角度维持辊部可以使与压辊部相邻的导辊间隔开的水平位置最小化,因而具有减小装置的大小的效果。
此外,薄膜角度维持辊部防止因压辊部的移动而引起的进入角度的变更,从而即使没有单独的机构也可以维持薄膜的张力,进而具有能够顺畅地进行薄膜的断续地供应的效果。
此外,由于薄膜角度维持辊部与压辊部分离,因而即使不包括移动位置的构件或单独分离用于模制工序和脱模工序也具有防止因复制模与薄膜角度维持辊部接触而受损伤的效果。
此外,相较于压辊部位于上侧的薄膜回收部具有防止导辊与复制模接触的效果。
此外,由于间接地使树脂扩散以涂布于母模的图案,因而具有不会发生涂布于母模的图的树脂的涂布容量的偏差的效果。
附图说明
图1是关于本发明的实施例的纳米压印用复制模制作装置的图。
图2是关于本发明的实施例的转印部的图。
图3是示出图2的背面的图。
图4至图6是关于本发明的实施例的光照射部的图。
图7是关于本发明的实施例的第一间隔距离及第二间隔距离的图。
图8是关于本发明的实施例的进入角度的图。
图9至图15是关于本发明的实施例的模制工序及脱模工序的图。
图16至图20是关于本发明的实施例的分配器部的图(作为参考,所图示的分配器喷嘴用于标示分配器部中的位置,实际上分配器喷嘴的涂布方向被配置为朝向载台部)。
附图标记
10:母模,20:复制模,30:薄膜供应部,40:薄膜回收部,50:导辊,60:薄膜,70:树脂,100:转印部,110:载台部,120:压辊部,130:转印部驱动单元,140:光照射部,141:遮光部,142A:直接照射区域,142B:扩散照射区域,143:发光部,150:结合移动部,160:照射方向导向部,161:凸出部,162:导向槽,163:固定部,170:薄膜角度维持辊部,180:分配器部,181:分配器喷嘴,200:载台驱动单元,210:压辊驱动单元,L1:第一最小间距,L2:第二最小间距,PA:涂布区域,S1:第一间隔距离,S2:第二间隔距离,AG:倾斜度,FG:进入角度。
具体实施方式
下面参照附图对本发明的实施例进行详细说明,以便本发明所属技术领域中的一般的技术人员能够容易实施。
本发明可以被实现为多种不同的形态,并不限于此处说明的实施例。
本发明中,水平方向可以指图中向X轴的方向或向左侧及右侧的方向,垂直方向可以指图中向Y轴的方向或向上侧及下侧的方向。
在本发明中,长度可以指相对于X轴的相对距离,而高度可以指相对于Y轴的相对距离。
近来,在显示工艺和半导体工艺中采用纳米压印(Nano Imprint)工艺,以在基板(例如,显示面板和晶片(Wafer)等)的表面形成图案(例如,用于结构化的成型图案和蚀刻或蒸镀的掩模图案等)。
在利用模(Mold)以压印(Imprint)形式在基板的表面形成纳米至微米大小的微细图案的纳米压印工艺中,虽然也可以利用母模10在基板的表面直接形成图案,但近来主要采用一种从母模10制作复制模20并利用所制作的复制模20在基板的表面形成图案的方法。
此时,可以制作从由母模10制作的一次复制模20复制的二次复制模20。这种制作二次复制模20的一次复制模20也可以称为母模10。即,母模10可以指统称制作复制模20的模。此外,复制模20可以指统称从母模10制作的模。
作为这种制作复制模20的多种方法之一,有一种通过使压辊部120从薄膜60的上侧前进(模制工序)及后退(脱模工序)来将复制模20形成于薄膜60的辊转印方法。
另一方面,执行辊转印方法的复制模20的制作装置存在装置的大小与压辊部120前进的长度成比例地变大的问题。
此外,复制模20的制作装置存在为了使薄膜60进入压辊部120的角度恒定而致使装置的大小变大的问题。
此外,复制模20的制作装置存在着在将树脂70涂布于母模10的图案时发生涂布容量的偏差的问题。
为了解决这样的问题,如图1至图3所示,本发明的实施例的纳米压印用复制模20的制作装置可以包括转印部100、薄膜供应部30以及薄膜回收部40。
转印部100可以在从一侧供应的薄膜60的下侧形成复制模20。
薄膜供应部30可以断续地对薄膜60进行退卷以朝向转印部100供应薄膜60。
薄膜回收部40可以断续地卷取薄膜60以从转印部100回收薄膜60。
这样的转印部100可以包括载台部110、压辊部120以及转印部驱动单元130。
在载台部110,可以安放形成有用于涂布树脂70的图案的母模10。
形成于母模10的图案可以通过直接在硬质衬底的上表面加工图案来形成,或者通过将图案附接于衬底的上表面来形成。在下文中,当描述母模10时,可以省略图案的形成而进行描述。
压辊部120可以在水平方向上移动以通过辊转印方法来形成复制模20。
转印部驱动单元130可以为了使压辊部120从一侧的待机位置移动至另一侧并再返回至待机位置而进行驱动。即,转印部驱动单元130可以为了使压辊部120从待机位置在水平方向上移动并再返回至待机位置而进行驱动。例如,转印部驱动单元130可以为了使压辊部120从待机位置朝向供应薄膜60的一侧移动以进行模制工序并再返回至待机位置以进行脱模工序而进行驱动。
转印部驱动单元130可以是驱动器。例如,如图3所示,转印部驱动单元130可以包括电机131、通过电机131旋转的滚珠螺杆132、以及通过滚珠螺杆132移动的块133。此外,块133可以通过与待后述的结合移动部150结合而一同移动来使结合于结合移动部150的压辊部120在水平方向上移动。
在薄膜供应部30与转印部100之间以及薄膜回收部40与转印部100之间中的一个以上,可以配置一个以上的调整薄膜60的进入角度的导辊50。例如,一个以上的导辊50可以配置于薄膜回收部40与转印部100之间以将薄膜60引导至薄膜回收部40。
母模10和树脂70可以位于载台部110与薄膜60之间。例如,可以在载台部110的上侧安放母模10,在形成于母模10的上表面的图案的上侧涂布树脂70,并且使薄膜60位于树脂70的上侧。此时,从薄膜60的上侧在水平方向上移动的压辊部120对薄膜60加压,由此可以将位于薄膜60的下侧的树脂70压于母模10。
压辊部120可以在从一侧的待机位置移动至另一侧时将树脂70结合于母模10的图案(模制工序)以形成复制模20。此外,压辊部120可以在从另一侧返回至一侧的待机位置时分离母模10和复制模20(脱模工序)以形成附接于薄膜60的复制模20。即,压辊部120可以从待机位置在水平方向上移动以进行模制工序并再返回至待机位置以进行脱模工序来形成复制模20。例如,压辊部120可以从待机位置朝向供应薄膜60的一侧移动以进行模制工序并再返回至待机位置以进行脱模工序来形成复制模20。
作为复制模20的制作装置的主要实施例,有关于光照射部140、薄膜角度维持辊部170及分配器部180的实施例。之后,将对关于光照射部140、薄膜角度维持辊部170以及分配器部180的实施例分别进行描述,但是,作为实施例,可以分别或两个以上同时应用于复制模20的制作装置。
首先,对关于复制模20的制作装置的光照射部140的实施例进行描述。
如图4的(a)所示、当光照射部140的照射方向朝向与载台部110垂直的下侧方向时,可以与光照射部140的照射区域到达压辊部120所经过的母模10的区域为止的长度成比例地决定第一最小间距L1,该第一最小间距L1是彼此相邻地形成于薄膜60的一对复制模20之间所隔开的长度。
由于这样的第一最小间距L1是压辊部120移动的最小限度的长度,因而存在装置的大小与第一最小间距L1成比例地变大的问题。此外,存在薄膜60的消耗量与第一最小间距L1成比例地增加的问题。此外,当使用具备第一最小间距L1的薄膜60进行纳米压印工序时,由于从一复制模20移动至下一个复制模20所需的时间与第一最小间距L1成比例地增加,因而存在工序的速度增加的问题。另一方面,存在因由压辊部120形成于树脂70的图案随着时间点的经过会发生变化而致使复制模20发生不良的问题。
为了解决这样的问题,如图4的(b)和图5所示,作为对实施例的具体描述,转印部100可以包括光照射部140和结合移动部150。
光照射部140可以通过由作为光源的发光部143产生的光来向树脂70照射光。
此时,树脂70可以是通过光能固化的光固化树脂。此外,光照射部140照射至树脂70的光可以是紫外线(Ultraviolet light)。即,树脂70可以通过光照射部140照射的光而固化。
光照射部140可以形成有使照射方向以与载台部110垂直的下侧方向为基准朝向压辊部120的方式倾斜的倾斜度AG。
光照射部140的倾斜度AG可以形成为用于对压辊部120所经过的母模10立即照射光的斜率。即,可以立即固化被压辊部120压于母模10的树脂70。
如图5所示,光照射部140的倾斜度AG可以以朝向被定义为0度的载台部110的方向和朝向被定义为90度的压辊部120的方向为基准形成为10度至80度的斜率。
光照射部140照射树脂70的光可以形成光到达树脂70的照射区域。
结合移动部150可以与光照射部140和压辊部120结合以一同通过转印部驱动单元130移动。
当光照射部140的照射方向以与载台部110垂直的下侧方向为基准朝向压辊部120倾斜而形成有倾斜度AG时,可以与光照射部140的照射区域达到压辊部120所经过的母模10的区域为止的长度成比例地决定形成于薄膜60的彼此相连的一对复制模20之间的第二最小间距L2。
就这样的第二最小间距L2而言,与光照射部140的照射方向朝向与载台部110垂直的下侧方向的情况相比,照射区域达到压辊部120所经过的母模10的区域为止的长度变小,因而第二最小间距L2的长度可以小于第一最小间距L1的长度。
如此,由于具备长度小于第一最小间距L1的长度的第二最小间距L2,使得压辊部120所移动的最小限度的长度变小,因而具有装置的大小变小的效果。此外,与第一最小间距L1相比,具有薄膜60的消耗量减少的效果。此外,当使用具备第二最小间距L2的薄膜60进行纳米压印工序时,与第一最小间距L1相比,减少从一复制模20移动至下一个复制模20所需的时间,因而具有能够缩短工序时间的效果。此外,通过压辊部120压于母模10的树脂70立即被固化,因而具有能够缩短树脂70的固化所需的工序时间的效果。此外,由于树脂70被立即固化,以使由压辊部120形成于树脂70的图案的变化最小化的状态形成复制模20,因而具有防止复制模20发生不良的效果。
如图5和图6所示,作为对实施例的具体描述,光照射部140可以包括照射方向导向部160。
照射方向导向部160可以以使照射方向以与呈0度以照射压辊部120的下侧的载台部110垂直的下侧方向为基准在10度至80度内倾斜的方式进行导向。
作为一实施例,如图5和图6所示,照射方向导向部160可以是在形成为以对从形成为能够旋转的光照射部140凸出的凸出部161的移动进行导向以引导光照射方向的斜率的方式具备长度的曲线形态的导向槽162结合以防止照射方向的斜率变化的方式进行固定的固定部163的结构。
作为另一实施例,虽然图中未示出,照射方向导向部160可以是通过驱动器(Actuator)改变光照射方向的斜率的结构。
如此,照射方向导向部160具有以能够根据目的在限定的数值内改变光照射部140的光照射方向的斜率的方式进行导向的效果。
如图4所示,照射区域可以由光照射部140的发光部143所产生的光直接到达树脂70的直接照射区域142A和直接照射区域142A的周围的光扩散而到达树脂70的扩散照射区域142B构成。
可以由扩散照射区域142B对通过光照射部140的直接照射区域142A完成树脂70的光照射的区域重叠地照射光。此时,被重叠地照射光的树脂70的区域的固化程度会不同。例如,与光照射部140结束光照射的树脂70的另一侧相比,在光照射部140开始光照射的树脂70的一侧通过扩散照射区域142B更多地重叠地照射光,因而固化的程度可能更高。
这样的光照射的重叠引起的固化程度的差异影响母模10和复制模20的分离,从而存在复制模20发生不良的问题。
如图7的(a)所示,虽然可以通过使扩散照射区域142B完全经过树脂70以对树脂70的所有区域重叠地照射光来解决固化程度不同的问题,但可能会与扩散照射区域142B完全经过树脂70相应地决定压辊部120与树脂70之间的第一间隔距离S1。
由于这样的第一间隔距离S1是压辊部120所移动的最小限度的长度,因而存在装置的大小与第一间隔距离S1成比例地变大的问题。
为了解决这样的问题,作为对实施例的具体描述,如图6所示,光照射部140可以包括遮光部141。
遮光部141可以被配置为从光照射部140凸出以遮蔽照射至树脂70的光扩散而重叠地照射至树脂70。
遮光部141可以被配置使光照射部140的照射区域位于遮光部141与压辊部120之间。
遮光部141的宽度可以大于光照射部140的发光部143,并且可以具备从不妨碍薄膜60的移动的线凸出的长度。例如,如图6所示,遮光部141可以形成为板材形状并配置于光照射部140。
如图7的(b)所示,遮光部141遮蔽扩散照射区域142B向树脂70重叠地照射光,从而使树脂70的固化程度恒定,并且可以使压辊部120与树脂70之间的第二间隔距离S2最小化。
如此,遮光部141遮蔽扩散照射区域142B向树脂70重叠地照射光,以使树脂70的固化程度恒定,从而不会影响脱模工序,因而具有防止复制模20发生不良的效果。此外,由于具备长度小于第一间隔距离S1的第二间隔距离S2,使得压辊部120所移动的最小限度的长度变小,因而具有装置的大小变小的效果。
接下来,对关于复制模20的制作装置的薄膜角度维持辊部170的实施例进行说明。
薄膜角度维持辊部170可以配置为相较于压辊部120使从薄膜供应部30供应的薄膜60先进入。例如,薄膜角度维持辊部170可以相较于压辊部120位于供应薄膜60的一侧,并且可以相较于压辊部120位于上侧。此外,薄膜角度维持辊部170和光照射部140可以隔着压辊部120位于两侧,而压辊部120可以相较于光照射部140位于供应薄膜60的一侧。
作为薄膜60进入压辊部120的角度的进入角度FG可以由相邻的辊的水平位置决定。
如图8的(a)所示,就进入角度FG而言,在压辊部120从一侧的待机位置移动至另一侧并再返回至待机位置的过程中,随时可以改变进入角度FG。即,为了模制工序和脱模工序,随着压辊部120以水平位置与相邻的导辊50相邻的方式移动并以间隔开的方式移动,可以改变进入角度FG。
这样的进入角度FG存在与位于待机位置的压辊部120相邻的导辊50的水平位置越相邻越急剧变化的问题。此外,当进入角度FG急剧变化时,因脱模工序中的母模10和复制模20的分离不会以相同的角度进行而致使复制模20发生不良的问题。此外,为了进行模制工序和脱模工序,需要维持薄膜60的张力,但是,当进入角度FG急剧变化时,薄膜60的张力也会发生变化,因而存在需要用于维持薄膜60的张力的单独的机构的问题。例如,用于维持张力的单独的机构可以是包括位置随薄膜60的张力的变化而变化以维持薄膜60的张力的张力辊的机构,或者是向薄膜供应部30为了对薄膜60进行退卷而旋转的方向的逆向旋转或向薄膜回收部40为了卷取薄膜60而旋转的方向的逆向旋转或薄膜供应部30和薄膜回收部40均逆向旋转以维持薄膜60的张力的机构。此外,用于维持薄膜60的张力的单独的机构存在妨碍顺畅的薄膜60的断续地供应的问题。此时,如图8的(b)所示,当与位于待机位置的压辊部120相邻的导辊50的水平位置间隔开时,虽然可以解决进入角度FG急剧变化的问题,尽管进入角度FG的变化的幅度虽小,但仍有效,并且存在因与位于待机位置的压辊部120相邻的辊的水平位置被间隔开而致使装置的大小变大的又一问题。
为了解决这样的问题,作为对实施例的具体描述,如图2所示,转印部100可移包括薄膜角度维持辊部170和结合移动部150。
薄膜角度维持辊部170可以以改变薄膜60进入压辊部120的角度的方式与压辊部120在垂直及水平方向上间隔开。
结合移动部150可以与薄膜角度维持辊部170和压辊部120结合以一同通过转印部驱动单元130移动。
如图8的(c)所示,薄膜角度维持辊部170在压辊部120从一侧的待机位置移动至另一侧并再返回至待机位置的过程中与压辊部120一同移动,从而可以使作为薄膜60进入压辊部120的角度的进入角度FG维持恒定。
薄膜角度维持辊部170与压辊部120之间的薄膜60的长度可以对应于压辊部120为了形成复制模20而在水平方向上移动的长度,以使薄膜角度维持辊部170可以与薄膜60的两个面中形成复制模20的面接触,但在进行脱模工序的过程中薄膜角度维持辊部170不与复制模20接触。即,如图14所示,薄膜角度维持辊部170与压辊部120之间的薄膜60的长度可以大于复制模20的水平方向上的长度。
如此,薄膜角度维持辊部170具有维持进入角度FG恒定的效果。此外,薄膜角度维持辊部170可以使与压辊部120相邻的导辊50间隔开的水平位置最小化,因而具有使装置的大小变小的效果。此外,薄膜角度维持辊部170防止压辊部120的移动引起的进入角度FG的变更,从而即使没有单独的机构也可以维持薄膜60的张力,进而具有使薄膜60的断续地供应顺畅的效果。
为了使压辊部120向以使从薄膜供应部30退卷的薄膜60被回收至薄膜回收部40的方式移动的薄膜60的移动方向移动以执行模制工序,并使压辊部120向与薄膜60的移动方向相反的方向移动以执行脱模工序,薄膜角度维持辊部170需要被配置为相较于压辊部120朝向薄膜60的移动方向,因此,所存在的问题是,在以使通过模制工序和脱模工序形成的复制模20被回收至薄膜回收部40的方式移动的过程中,复制模20因与薄膜角度维持辊部170接触而受损伤。
为了防止复制模20与薄膜角度维持辊部170接触,可以通过包括使薄膜角度维持辊部170与压辊部120分离而移动位置的构件,或单独地分离用于模制工序和脱模工序的构件来解决该问题,但难以将其视为优选的解决问题的方法。
为了解决这样的问题,压辊部120可以向与薄膜60的移动方向相反的方向移动以执行模制工序,并且压辊部120可以向薄膜60的移动方向移动以执行脱模工序。此外,薄膜角度维持辊部170可以被配置为相较于压辊部120朝向与薄膜60的移动方向相反的方向。
如此,具有无需包括使薄膜角度维持辊部170与压辊部120分离而移动位置的构件,或单独地分离用于模制工序和脱模工序的构件即可防止复制模20因与薄膜角度维持辊部170接触而受损伤的效果。
此外,为了防止导辊50与沿被回收至薄膜回收部40的薄膜60移动的复制模20接触,薄膜回收部40可以相较于压辊部120位于上侧,使得导辊50与薄膜60的两个面中不同于形成复制模20的面的面接触。即,可以使导辊50仅与薄膜60的两个面中不形成复制模20的面接触,而不与形成复制模20的面接触。
如此,相较于压辊部120位于上侧的薄膜回收部40具有防止导辊50与复制模20接触的效果。
接下来,对关于复制模20的制作装置的分配器部180的实施例进行描述。
当将树脂70直接涂布于母模10的图案时,会因涂布得不均匀而发生涂布容量的偏差。
这样的涂布容量的偏差的问题在于,当涂布容量不足时,发生复制模20的图案未形成的不良,而当涂布容量过度时,因作为残留物残留在复制模20而发生污染别的构件的不良。
为了解决这样的问题,作为对实施例的具体描述,如图9所示,可以包括分配器部180和压辊驱动单元210。
分配器部180可以以不与母模10的图案重叠的方式将树脂70涂布于涂布区域PA,该涂布区域PA是位于待机位置的压辊部120与母模10的图案之间的空间。此时,涂布区域PA可以是载台部110的上表面。
分配器部180可以通过分配器喷嘴181涂布树脂70。
如图18至图20所示,分配器部180可以以多种形态涂布树脂70。例如,如图18所示,分配器部180可以以连成一行的方式涂布树脂70。此外,如图19所示,分配器部180可以以连成两行或连成更多行(虽然未图示)的方式涂布树脂70。此外,如图20所示,分配器部180可以以呈一行或分离为多个行(虽然未图示,例如,呈虚线形状)的方式涂布树脂70。
压辊驱动单元210可以移动压辊部120的垂直位置以在载台部110与压辊部120之间形成间距。
通过这样的载台部110与压辊部120之间的间距,可以使树脂70在压辊部120所移动的水平方向上扩散以涂布于母模10的图案。
压辊驱动单元210可以是驱动器。
如此,由于间接地使树脂70扩散以涂布于母模10的图案,因而具有不会发生涂布于母模10的图案的树脂70的涂布容量的偏差的效果。
作为对实施例的具体描述,如图9所示,可以包括载台驱动单元200和分配器驱动单元(未图示)。
载台驱动单元200可以使载台部110升降。
分配器驱动单元可以将分配器部180引入通过载台驱动单元200下降的载台部110以涂布树脂70,并再引出分配器部180。
载台驱动单元200和分配器驱动单元可以是驱动器。
将对前述的复制模20的制作装置制造复制模20的工序进行后述。
首先,对模制工序步骤进行描述。
如图9至图12所示,可以不直接在母模10的图案上涂布树脂70,而是在设于与母模10的图案间隔开的空间的涂布区域PA涂布树脂70以在母模10的图案模制(结合)树脂70来形成复制模20。
例如,首先,如图9所示,载台部110可以下降以在薄膜60与载台部110之间形成可以引入分配器部180的空间。
之后,如图16所示,分配器部180可以从载台部110的侧面被引入载台部110的内侧。
之后,如图17和图18所示,分配器部180被引出时可以将树脂70涂布于涂布区域PA。
之后,如图10所示,涂布有树脂70的载台部110可以上升。
之后,如图11和图12所示,压辊部120在从一侧的待机位置移动至另一侧时可以使涂布于涂布区域PA的树脂70扩散以涂布于母模10的图案。即,可以通过载台部110与压辊部120之间的间距使树脂70在压辊部120所移动的水平方向上扩散以涂布于母模10的图案。
此时,压辊部120可以在在涂布于母模10的图案的树脂70的上侧移动时,将树脂70结合于母模10的图案(模制工序)以形成复制模20。
这样的在涂布区域PA内最初涂布树脂70的位置与将树脂70结合于母模10的图案的位置可以在水平方向上间隔开。
此外,光照射部140可以在与压辊部120一同移动时固化树脂70以形成复制模20。
接下来,对脱模工序步骤进行描述。
如图13至图15所示,可以分离母模10和复制模20以形成附接于薄膜60的下侧的复制模20。
例如,如图13至图14所示,压辊部120在从另一侧移动至一侧的待机位置时,可以通过薄膜角度维持辊部170形成的薄膜60进入压辊部120的角度从母模10分离复制模20。
之后,如图15所示,可以移动薄膜60以将完成的复制模20移动至薄膜回收部40侧,然后,载台部110下降,以形成复制模20。
此时,当载台部110下降时,机械臂(未图示)可以将母模10更换为另一母模10。
这样的制造复制模20的工序可以反复多次。
尽管如上述通过优选实施例对本发明进行了详细描述,但本发明不限于此,而是可以在权利要求书的范围内被多样地实施。

Claims (9)

1.一种纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,包括:
转印部,其在从一侧供应的薄膜形成复制模;
薄膜供应部,其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜;
薄膜回收部,其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜;以及
导辊,其在所述薄膜回收部与所述转印部之间配置一个以上,以将所述薄膜引导至所述薄膜回收部,并且
为了使所述导辊仅与所述薄膜的两个面中不形成所述复制模的面接触,而不与形成所述复制模的面接触,
所述转印部包括:
压辊部,其以向水平方向移动以形成所述复制模的方式,相较于所述薄膜回收部位于下侧,并且相较于所述导辊位于供应所述薄膜的一侧;
转印部驱动单元,其为了使所述压辊部从待机位置朝向供应所述薄膜的一侧移动以进行模制工序并再返回至所述待机位置以进行脱模工序而进行驱动;
薄膜角度维持辊部,其以改变所述薄膜进入所述压辊部的角度的方式相较于所述压辊部位于供应所述薄膜的一侧,从而隔着所述压辊部位于所述导辊的相对侧,并且相较于所述压辊部位于上侧;以及
结合移动部,其使以所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部一同移动的方式结合,并且通过所述转印部驱动单元移动,
在从所述薄膜供应部向所述转印部供应所述薄膜,并进行所述模制工序,并进行所述脱模工序,并从所述转印部向所述薄膜回收部回收所述薄膜的过程中,所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部的相互位置不变,
在所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部移动的过程中,所述导辊的位置不移动,
在进行所述模制工序的过程中,所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部从所述导辊的间隔距离增大,
在进行所述脱模工序的过程中,所述薄膜角度维持辊部和所述压辊部从所述导辊的间隔距离减小。
2.根据权利要求1所述的纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,
所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜供应部之间的距离比所述压辊部与所述薄膜供应部之间的距离短,
所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部之间的薄膜的长度对应于所述压辊部为了形成所述复制模而在水平方向上移动的长度,以使所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜的两个面中形成所述复制模的面接触,但在进行所述脱模工序的过程中使所述薄膜角度维持辊部不与所述复制模接触。
3.一种纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,包括:
转印部,其在从一侧供应的薄膜形成复制模;
薄膜供应部,其断续地对所述薄膜进行退卷以向所述转印部供应所述薄膜;
薄膜回收部,其断续地卷取所述薄膜以从所述转印部回收所述薄膜,并且
所述转印部包括:
载台部,其供安放形成有用于涂布树脂的图案的母模;
压辊部,其向水平方向移动以形成所述复制模;
薄膜角度维持辊部,其以改变所述薄膜进入所述压辊部的角度的方式与所述压辊部在垂直及水平方向上间隔开,
所述压辊部和所述薄膜角度维持辊部向与以将由所述薄膜供应部退卷的所述薄膜回收至所述薄膜回收部的方式移动的所述薄膜的移动方向相反的方向移动以执行模制工序,并且所述压辊部和所述薄膜角度维持辊部向所述薄膜的移动方向移动以执行脱模工序。
4.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,
所述薄膜角度维持辊部被配置为相较于所述压辊部朝向与所述薄膜的移动方向相反的方向。
5.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,
所述薄膜回收部相较于所述压辊部位于上侧。
6.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,
所述转印部还包括结合移动部,该结合移动部使以所述薄膜角度维持部和所述压辊部一同移动的方式结合,并且通过所述转印部驱动单元移动。
7.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,
所述薄膜角度维持辊部与所述压辊部之间的薄膜的长度对应于所述压辊部为了形成所述复制模而在水平方向上移动的长度,以使所述薄膜角度维持辊部与所述薄膜的两个面中形成所述复制模的面接触,但在进行所述脱模工序的过程中所述角度维持辊部不与所述复制模接触。
8.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,
所述薄膜角度维持辊部被配置为相较于所述压辊部使从所述薄膜供应部供应的薄膜先进入。
9.根据权利要求3所述的纳米压印用复制模制作装置,其特征在于,还包括:
导辊,其在所述薄膜回收部与所述转印部之间配置一个以上,以调整薄膜的进入角度,
所述导辊与所述薄膜的两个面中不同于形成所述复制模的面的面接触,以防止所述导辊与沿回收至所述薄膜回收部的所述薄膜移动的所述复制模接触。
CN202410079929.1A 2020-07-01 2021-06-22 纳米压印用复制模制作装置 Pending CN117761966A (zh)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200080745A KR102237277B1 (ko) 2020-07-01 2020-07-01 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치
KR10-2020-0080745 2020-07-01
KR10-2020-0165523 2020-12-01
KR1020200165523A KR20220076734A (ko) 2020-12-01 2020-12-01 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치
KR10-2021-0002787 2021-01-08
KR1020210002787A KR102328428B1 (ko) 2020-07-01 2021-01-08 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치
CN202110694148.XA CN113885295B (zh) 2020-07-01 2021-06-22 纳米压印用复制模制作装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110694148.XA Division CN113885295B (zh) 2020-07-01 2021-06-22 纳米压印用复制模制作装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN117761966A true CN117761966A (zh) 2024-03-26

Family

ID=79010327

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202410079929.1A Pending CN117761966A (zh) 2020-07-01 2021-06-22 纳米压印用复制模制作装置
CN202110694148.XA Active CN113885295B (zh) 2020-07-01 2021-06-22 纳米压印用复制模制作装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110694148.XA Active CN113885295B (zh) 2020-07-01 2021-06-22 纳米压印用复制模制作装置

Country Status (4)

Country Link
JP (2) JP7169404B2 (zh)
CN (2) CN117761966A (zh)
TW (3) TWI776561B (zh)
WO (1) WO2022005120A1 (zh)

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4792323B2 (ja) 2006-04-04 2011-10-12 明昌機工株式会社 ナノインプリント装置およびナノインプリント方法
JP2010225785A (ja) * 2009-03-23 2010-10-07 Fujimori Kogyo Co Ltd インプリント用の転写フィルムの製造方法、及びインプリント用の転写フィルム
JP5366735B2 (ja) 2009-09-24 2013-12-11 東芝機械株式会社 転写装置および転写方法
KR101215990B1 (ko) * 2010-05-27 2012-12-27 에이피시스템 주식회사 임프린트 장치 및 이를 이용한 임프린트 방법
JP5638463B2 (ja) * 2011-05-16 2014-12-10 株式会社東芝 パターン転写方法
JP5940940B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-29 東芝機械株式会社 転写装置および転写方法
EP2905120A4 (en) * 2012-10-05 2016-06-15 Jx Nippon Oil & Energy Corp METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL SUBSTRATE USING FILM MOLD, DEVICE FOR MANUFACTURING AND OPTICAL SUBSTRATE THUS OBTAINED
KR102214828B1 (ko) * 2014-05-02 2021-02-15 삼성전자주식회사 임프린트 장치 및 방법
US10549494B2 (en) * 2016-04-20 2020-02-04 Himax Technologies Limited Imprinting apparatus and imprinting method
JP6748496B2 (ja) 2016-06-30 2020-09-02 キヤノン株式会社 モールド、インプリント方法、インプリント装置および物品製造方法
WO2018102002A1 (en) * 2016-12-02 2018-06-07 Molecular Imprints, Inc. Configuring optical layers in imprint lithography processes
CN106827786B (zh) * 2017-02-16 2019-04-05 中国科学技术大学 一种非接触式连续辊动装置
KR102524604B1 (ko) 2017-12-14 2023-04-24 삼성디스플레이 주식회사 임프린트 장치 및 이를 이용한 임프린트 방법
JP6694101B1 (ja) * 2019-08-09 2020-05-13 Aiメカテック株式会社 微細構造転写装置及び微細構造転写方法
KR102237277B1 (ko) * 2020-07-01 2021-04-07 주식회사 기가레인 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치
CN115921146A (zh) * 2022-12-16 2023-04-07 深圳市吉迩科技有限公司 一种基于发热丝加热的雾化芯及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI810040B (zh) 2023-07-21
JP2022013799A (ja) 2022-01-18
TWI794083B (zh) 2023-02-21
TW202228973A (zh) 2022-08-01
JP7432254B2 (ja) 2024-02-16
CN113885295A (zh) 2022-01-04
WO2022005120A1 (ko) 2022-01-06
TWI776561B (zh) 2022-09-01
TW202202304A (zh) 2022-01-16
JP2022160517A (ja) 2022-10-19
JP7169404B2 (ja) 2022-11-10
CN113885295B (zh) 2024-03-08
TW202300316A (zh) 2023-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8025830B2 (en) UV nanoimprint lithography process and apparatus
TWI754978B (zh) 微小構造轉印裝置及微小構造轉印方法
CN111201121A (zh) 双面压印
TWI554411B (zh) 轉印裝置、被成形體及轉印方法
CN102371748B (zh) 辊模、其制造方法以及利用其制造薄膜图案的方法
KR101990122B1 (ko) 임프린트 리소그래피용 리플리카 몰드 제작 장치 및 그 제작 방법
KR102328428B1 (ko) 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치
CN113885295B (zh) 纳米压印用复制模制作装置
KR20190032050A (ko) 임프린트 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법
KR20220076734A (ko) 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제작 장치
KR20180099508A (ko) 패턴 임프린팅을 위한 장치 및 방법
JP7475646B2 (ja) 微細構造転写装置及び微細構造転写方法
CN102109699B (zh) 用于制造平面显示器的设备和方法
JP7343176B2 (ja) 微細構造転写装置
KR20070081578A (ko) 임프린트 장치 및 이를 이용한 임프린트 방법
CN108732798B (zh) 转印装置以及转印方法
TW202222530A (zh) 奈米壓印用樹脂固化裝置
TWM645040U (zh) 對位式全像膜成形設備

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination