JP5108045B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
パターン化された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
液体貯留部を部分的に画定するために投影システムと基板との間の空間を囲むバリア部材と、
投影システムを囲む突出体とを有し、突出体は、突出体の表面がバリア部材のうちの突出体から半径方向外側にある部分よりも投影システムに近接するようにバリア部材に配置されるか、または突出体の表面が投影システムのうちの突出体から半径方向外側にある部分よりもバリア部材に近接するように投影システムに配置されるリソグラフィ装置が提供される。
パターン化された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
部分的に液体貯留部を画定するために投影システムと基板との間の空間を囲むバリア部材とを有し、
バリア部材の表面と投影システムの表面との間のすき間にステップ増加部があって、貯留部に収容されたときに液体のメニスカスがそのステップ増加部から半径方向外側に進むのに対する抵抗を増加させるように、バリア部材の表面、もしくは投影システムの表面、またはその両方が成形されるリソグラフィ装置が提供される。
パターン化された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
投影システムの最終要素と基板との間の空間に液体を供給するように構成され、構成要素を用いて液体を基板から離れる方向でその空間に向けるように構成されたインレットを備えた液体供給システムとを有するリソグラフィ装置が提供される。
パターン化された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
投影システムの最終要素と基板との間の空間に液体を供給するように構成され、最終要素の底面より上方から始まり半径方向内側下方へと向かう液体流れをその空間に作り出すように構成され、配置された液体供給システムとを有するリソグラフィ装置が提供される。
放射線ビームB(たとえば、紫外線またはDUV)を調整するように構成されたイルミネータシステム(照射装置)ILと、
パターン形成構造体(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターン形成構造体を正確に配置するように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造体(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジスト被覆ウェーハ)Wを支持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に配置するように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
パターン形成構造体MAによって放射線ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば、1つあるいはそれ以上のダイを含む)ターゲット部分Cに投影するように構成された投影システム(例えば、屈折式投影レンズ系)PSとを有する。
Claims (10)
- パターン化された放射線ビームを基板に投影する投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を囲み、液体の貯留部を部分的に画定するバリア部材と、
前記投影システムを囲む突出体であって、突出体の表面が前記バリア部材のうち突出体から半径方向外側にある部分よりも前記投影システムに近接するように前記バリア部材上に設けられた突出体と、
前記バリア部材の表面に連通して形成されたアウトレットと、
を有し、
前記突出体は前記突出体と前記投影システムとの間に前記液体が保持されるように構成され、前記突出体と前記投影システムとの間から前記突出体の外側における前記バリア部材と前記投影システムとの間へとステップ増加部が形成され、前記アウトレットは前記ステップ増加部よりも半径方向外側に配置されている、
リソグラフィ装置。 - 前記突出体の表面が前記バリア部材の表面のうち前記突出体から半径方向内側にある部分よりも前記投影システムに近接している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記突出体は、前記バリア部材の実質的に水平な表面に配置される請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記メニスカスが凸形状となるように前記突出体の表面は疎液性である請求項1〜3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記突出体に近接した前記投影システムが疎液性の表面を有する請求項1〜4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 使用時において前記貯留部内の前記液体の高さが、前記突出体と前記投影システムとの間に広がる前記液体のメニスカスを超えない請求項1〜5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記突出体は、半径方向内側および前記基板の上面に対して実質的に平行に液体の流れを方向変換するように配置された請求項1〜6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体供給システムは、高圧で液体を収容するチャンバと連通しているインレットを有する請求項1〜7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板に対向する前記液体供給システムの表面に配置されたさらなるインレットを有し、前記インレットは前記基板に向かう方向に液体を向ける請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- パターン化された放射線ビームを基板に投影する投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間の空間を囲み、液体の貯留部を部分的に画定するバリア部材と、
前記投影システムを囲む突出体であって、突出体の表面が前記投影システムのうち突出体から半径方向外側にある部分よりも前記バリア部材に近接するように前記投影システム上に設けられる突出体と
前記バリア部材の表面に連通して形成されたアウトレットと、
を有し、
前記突出体は前記突出体と前記バリア部材との間に前記液体が保持されるように構成され、前記突出体と前記バリア部材との間から前記突出体の外側における前記バリア部材と前記投影システムとの間へとステップ増加部が形成され、前記アウトレットは前記ステップ増加部よりも半径方向外側に配置されている、
リソグラフィ装置。
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