JP5083567B2 - 光架橋硬化によるレジスト下層膜を用いる半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
近年、半導体装置の高集積度化が進み、使用される活性光線もKrFエキシマレーザ(248nm)からArFエキシマレーザ(193nm)へと短波長化される傾向にある。これに伴い活性光線の基板からの乱反射や定在波の影響が大きな問題となってきた。そこで、この問題を解決すべく、フォトレジストと基板の間に反射防止膜(bottom anti−reflective coating)を設ける方法が広く検討されている。かかる反射防止膜としては、その使用の容易さなどから有機反射防止膜について数多くの検討が行われてきている(例えば、特許文献1参照)。
また、近年、半導体装置のパターンルールの微細化に従い明らかになってきた配線遅延の問題を解決するために、配線材料として銅を使用する検討が行われており、そして、それと共に半導体基板への配線形成方法としてデュアルダマシンプロセスの検討が行われている。そして、デュアルダマシンプロセスではビアホールが形成され、大きなアスペクト比を有する基板に対して反射防止膜が形成されることになる。そのため、このプロセスに使用される反射防止膜に対しては、ホールを隙間なく充填することができる埋め込み特性や、基板表面に平坦な膜が形成されるようになる平坦化特性などが要求されている。しかし、有機系の反射防止膜用材料を大きなアスペクト比を有する基板に適用することは難しく、近年、埋め込み特性や平坦化特性に重点をおいた材料が開発されるようになってきている(例えば、特許文献2、特許文献3、特許文献4、特許文献5参照。)。
また、半導体装置等のデバイス製造において、誘電体層によるフォトレジストのポイズニング効果を減少させるために、架橋可能なポリマー等を含む組成物より形成されるバリア層を誘電体層とフォトレジストの間に設けるという方法が開示されている(例えば、特許文献6参照。)。
ところで、これらの有機系の下層膜は、一般に、下層膜形成用の組成物を半導体基板上に塗布した後、半導体基板を170℃〜200℃程度の高温で加熱することによって形成されている。そのため、高温での加熱時に下層膜形成用の組成物に含まれている低分子量の成分が揮発または昇華し、周辺装置に付着し、装置を汚染するということが問題となっていた。また、装置に付着した成分が半導体基板上に落下し、パターン形成に悪影響を及ぼすということが問題になっていた。
また、本発明の目的は、上層に塗布、形成されるフォトレジストとのインターミキシングを起こさず、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有する下層膜を形成するための方法を提供することである。
また、本発明の目的は、半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて、半導体基板上に形成されたフォトレジストへの露光照射光の基板からの反射を軽減させる下層反射防止膜、凹凸のある半導体基板を平坦化するための平坦化膜、及び加熱時などに半導体基板から発生する物質によるフォトレジストの汚染を防止する膜等として使用できる下層膜を光照射により形成するための方法を提供することである。
また、本発明の目的は、半導体基板に形成された、高さ/直径で示されるアスペクト比が1以上のホールを光照射により形成される下層膜で充填する方法を提供することである。
また、本発明の目的は、高温での加熱を行うことなく、光照射により下層膜を形成する方法を提供することである。
第2観点として、半導体基板上にγ−ラクトン構造を含有するポリマー、δ−ラクトン構造を含有するポリマー又はそれら両方の構造を含有するポリマーと架橋剤と光酸発生剤とを含むレジスト下層膜形成組成物を塗布し、塗膜を形成する工程、前記塗膜に光照射することにより下層膜を形成する工程、前記下層膜上にフォトレジスト用組成物を塗布し加熱することによってフォトレジストを形成する工程、前記下層膜とフォトレジストで被覆された半導体基板を露光する工程、露光後にフォトレジストを現像する工程、現像されたレジストパターンを用いて下層膜をドライエッチングする工程、及び得られたレジストパターンで半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法、
第3観点として、上記ポリマーが少なくとも式(1):
第4観点として、上記ポリマーが式(2):
素原子、メチル基又はハロゲン原子を示し、R 4 は水素原子、置換若しくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換若しくは非置換のアラルキル基、置換若しくは非置換の炭素環式芳香族基、又は置換若しくは非置換のへテロ環式芳香族基を示し、構造単位 (A’)が1〜76モル%、構造単位(B)が99〜24モル%である。)で表される重合体からなる第1観点乃至第3観点のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法、
第5観点として、上記ポリマーが、さらに主鎖又は主鎖に結合した側鎖にベンゼン環、ヘテロ環又はそれらの組み合わせを有するポリマーである第1観点乃至第4観点のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法、
第6観点として、ポリマー中のベンゼン環の含有率が30〜70質量%である第1観点乃至第5観点のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法、
第7観点として、前記ポリマーが248nm、193nm、又は157nmに吸収を有する構造である第1観点乃至第6観点のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法、
第8観点として、上記架橋剤が少なくとも2個の架橋形成官能基を有するものである第1観点乃至第7観点のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法である。
また、本発明に用いられるレジスト下層膜形成組成物により、高さ/直径で示されるアスペクト比が1以上であるホールを有する半導体基板の表面を平坦化することができる。そのため、その上に塗布、形成されるフォトレジスト等の膜厚の均一性を上げることができる。そして、ホールを有する基板を用いたプロセスにおいても、良好なフォトレジストパターンを形成することができる。
本発明に用いられるレジスト下層膜形成組成物により、半導体基板に形成されたホールを隙間(ボイド)を発生することなく下層膜で充填することができる。
また、本発明に用いられる下層膜形成組成物により、高温での加熱を行うことなく、光照射によって下層膜を形成することができる。そのため、該下層膜形成組成物中に含まれる低分子量の成分の揮発または昇華による周辺装置の汚染を防ぐことができる。前記低分子量成分が揮発又は昇華した場合は、昇華物成分がドラフトチャンバー内に付着し、それがやがて半導体基板上に落下し半導体に欠陥を生ずることが懸念される。しかし、本発明による方法では高温での加熱を必要としないので、低分子量の成分をレジスト下層膜形成組成物に使用しても昇華物発生等の懸念がなく、比較的多量の低分子量の成分をレジスト下層膜形成組成物に使用することができる。そのため、比較的低粘度のレジスト下層膜形成組成物を用いて下層膜を形成することができる。そして、ホールの充填性や半導体基板の平坦化性に優れたレジスト下層膜を形成することができる。
本発明に用いられるレジスト下層膜は、ポリマーを構成する主鎖又は主鎖に結合した側鎖にベンゼン環、ヘテロ環又はそれらの組み合わせを有するポリマーを含む。これらはポリマーを構成する主鎖に結合した側鎖にベンゼン環、ヘテロ環又はそれらの組み合わせを有するポリマーが好ましい。
上記下層膜は、ポリマー中のベンゼン環の含有率が30〜70質量%であることが好ましい。
上記下層膜は、レジスト下層膜形成組成物を半導体基板に塗布し、焼成により溶媒を除去してレジスト下層膜を形成する。上記レジスト下層膜形成組成物は、ポリマー、架橋剤、光酸発生剤、及び溶剤からなり、任意成分として架橋触媒、界面活性剤を含有するレジスト下層膜形成組成物の固形分は0.1〜50質量%、または5〜40質量%であり、または10〜30質量%である。ここで固形分とは、レジスト下層膜形成組成物の全成分から溶剤成分を除いたものである。
レジスト下層膜形成組成物において、ポリマーは固形分当たり10質量%以上であり、例えば30質量%〜99質量%であり、例えば50質量%〜99質量%であり、例えば65質量%〜99質量%である。
上記ポリマーの分子量は、使用する塗布溶剤、溶液粘度、膜形状などにより変動するが、重量平均分子量として1000〜1000000、好ましくは1000〜200000、さらに好ましくは1000〜100000である。
上記ポリマーに用いられるγ−ラクトンは五員環構造を有するラクトンであり、例えばγ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、テナロン酸等の置換、非置換のγ−ラクトンを例示する事が出来る。
またδ−ラクトンは六員環構造を有するラクトンであり、例えばδ−バレロラクトン、δ−カプロラクトン等の置換、非置換のδ−ラクトンを例示する事が出来る。
上記式(1)中、QはPとR1を結ぶ二価の連結基を示し、R1はラクトン環を構成する炭素数2から炭素数4の三価の炭化水素基、好ましくは五員環構造又は六員環構造のラクトン環を構成する炭素数3又は炭素数4の三価の炭化水素基を示す。Pは主鎖を構成する結合基を示し、R2は水素原子、メチル基、又はハロゲン原子を示す。R1で示される三価の炭化水素基は、好ましくは五員環構造又は六員環構造のラクトン環を構成し、それら炭化水素基の一箇所でQを介してPと結合しているものであり、この炭化水素基は置換基を有する場合と非置換の場合がある。
上記式(1)の構造を有するポリマーは、例えばアクリル酸、ハロゲン化アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル系樹脂と、α−ブロモ−γ−ブチロラクトン、α−ブロモ−δ−バレロラクトン等のラクトンを反応させることにより製造することができる。
上記共重合体は、好ましくは構造単位 (A’)が1〜76モル%、構造単位(B)が 99〜24モル%である。上記式(2)中、x及びyは繰り返し単位の数を示し、x=5〜5000、y=2〜5000であり、Qは主鎖を構成する炭素原子とR1を結ぶ二価の連結基を示し、R1はラクトン環を構成する炭素数2から炭素数4の三価の炭化水素基、好ましくは五員環構造又は六員環構造のラクトン環を構成する炭素数3又は炭素数4の三価の炭化水素基を示す。この炭化水素基は置換基を有する場合と非置換の場合がある。R2及びR3は水素原子、メチル基又はハロゲン原子を示し、R4は水素原子、置換若しくは
非置換の炭素数 1〜10のアルキル基、置換若しくは非置換のアラルキル基、置換若しくは非置換の炭素環式芳香族基、又は置換若しくは非置換のへテロ環式芳香族基を示す。
式(2)はアクリル系樹脂の側鎖にラクトン構造を有する構造単位(A’)と、アクリル系樹脂からなる構造単位(B)からなる共重合樹脂である。構造単位(A’)が共重合体(2)中で1〜76モル%、構造単位(B)が共重合体(2)中で99〜24モル%である。
ここで、R4の好ましいアルキル基としては、メチル、エチル、ノルマルプロピル、ノルマルブチルのような直鎖アルキル基、イソプロピル、イソブチル、2−エチルへキシルのような分枝アルキル基、シクロペンチル、シクロへキシルのような脂環式アルキル基 、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチルのようなヒドロキシル基で置換されたアルキル基、トリクロロエチル、トリフルオロエチルのようなハロゲン原子で置換されたアルキル基等を挙げることができる。好ましいアラルキル基としてはべンジル、2−フェニルエチル、ナフチルメチル、アントラセニルメチル基等を挙げることができ る。そして、好ましい炭素環式芳香族基としてはフェニル、ナフチル、アントラセニル 基等を挙げることができ、好ましいヘテロ環式芳香族基としてはピリジル、キノリニル、
キノキサリニル基等を挙げることができる。特にヒドロキシル基を有するアルキル基、 例えばヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基等が好ましい。R4は単独で用いることができるが、また、組み合わせて用いることもできる。
構造単位(A’)のモノマーと構造単位(B)のモノマー又はそれらの組み合わせを共重合させて得る方法では、まずアクリル酸、ハロゲン化アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル系化合物と、α−ブロモ−γ−ブチロラクトン、α−ブロモ−δ−バレロラクトン等のラクトン化合物を反応させることにより構造単位(A’)のモノマーを製造し、その次にアクリル酸、ハロゲン化アクリル酸、メタクリル酸、又はそれらのエステルからなる構造単位(B)のモノマー又はそれらの組み合わせと共重合させ上記式(2)の樹脂を製造することができる。
一方、構造単位(B)のモノマー又はそれらの組み合わせを重合させ、得られた重合体とα−ブロモ−γ−ブチロラクトン、α−ブロモ−δ−バレロラクトン等のラクトン化合物を反応させることにより上記式(2)の樹脂を製造する事が出来る。
上記構造単位(A’)及び(B)の含有量はモル%で標記されているが、上記単位を質量%で標記しても同様の値を示すものである。
架橋剤は、式(1)又は式(2)の重合体と架橋反応を起こすことが好ましく、従って、構造単位(A)、構造単位(A’)、構造単位(B)のいずれか、又は両方に架橋反応を起こすことが可能な官能基(例えば、ヒドロキシル基)が存在することが好ましい。
メタクリル酸エステル類としては、例えばアルキル基の炭素原子数が1〜10のアルキルメタクリレートが挙げられる。
アクリルアミド類としては、アクリルアミドや、N−アルキルアクリルアミド、N−アリールアクリルアミド、N,N−ジアルキルアクリルアミド、N,N−ジアリールアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミドなどが挙げられる。
メタクリルアミド類としては、例えばメタクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N−アリールメタクリルアミド、N,N−ジアルキルメタクリルアミド、N,N−ジアリールメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどが挙げられる。
ビニルエーテル類としては、例えばアルキルビニルエーテル、ビニルアリールエーテルが挙げられる。
ビニルエステル類としては、例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテートが挙げられる。
スチレン類としては、例えばスチレン、アルキルスチレン、アルコキシスチレン、ハロゲン化スチレン、カルボキシスチレンが挙げられる。
クロトン酸エステル類としては、例えばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネート等のクロトン酸アルキルが挙げられる。
また、イタコン酸ジアルキル類、マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類、クロトン酸、イタコン酸、無水マレイン酸、ラクトン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル等が挙げられる。その他、一般的には構造単位(A)を形成するモノマー、又は構造単位(A’)と(B)を形成するモノマーと共重合可能である付加重合性不飽和化合物であれば用いる事が出来る。
オニウム塩化合物としてはジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフエート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−n−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−n−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムカンファースルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムカンファースルホネート及びビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート等のヨードニウム塩系酸発生剤、及びトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−n−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネート及びトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート等のスルホニウム塩系酸発生剤等が挙げられる。
スルホンイミド化合物としては、例えばN−ヒドロキシスクシンイミドトリフルオロメタンスルホネート、N−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(ノナフルオロ−n−ブタンスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(カンファースルホニルオキシ)スクシンイミド及びN−(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)ナフタルイミド等が挙げられる。
ジスルホニルジアゾメタン化合物としては、例えば、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−トルエンスルホニル)ジアゾメタン、ビス(2,4−ジメチルベンゼンスルホニル)ジアゾメタン、及びメチルスルホニル−p−トルエンスルホニルジアゾメタン等が挙げられる。
これらの光酸発生剤は一種のみを使用することができ、または二種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明に用いられるレジスト下層膜形成組成物における光酸発生剤の含有量としては、固形分中で例えば0.01〜10質量%であり、または0.1〜5質量%であり、または0.5〜3質量%である。
さらに、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等の高沸点溶剤を混合して使用することができる。これらの溶剤の中でプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、乳酸ブチル、及びシクロヘキサノン等がレベリング性の向上に対して好ましい。
吸光剤としては例えば、「工業用色素の技術と市場」(CMC出版)や「染料便覧」(有機合成化学協会編)に記載の市販の吸光剤、例えば、C.I.Disperse Yellow 1,3,4,5,7,8,13,23,31,49,50,51,54,60,64,66,68,79,82,88,90,93,102,114及び124;C.I.D isperse Orange1,5,13,25,29,30,31,44,57,72及び73;C.I.Disperse Red 1,5,7,13,17,19,43,50,54,58,65,72,73,88,117,137,143,199及び210;C.I.Disperse Violet 43;C.I.Disperse Blue 96;C.I.Fluorescent Brightening Agent 112,135及び163;C.I.Solvent Orange2及び45;C.I.Solvent Red 1,3,8,23,24,25,27及び49;C.I.Pigment Green 10;C.I.Pigment Brown 2等を好適に用いることができる。上記吸光剤は通常、全固形分に対して10質量%以下、好ましくは5質量%以下の割合で配合される。
更に詳しくは、半導体基板上にポリマーと架橋剤と光酸発生剤とを含むレジスト下層膜形成組成物を塗布し塗膜を形成する工程、前記塗膜に光照射することにより下層膜を形成する工程、前記下層膜上にフォトレジスト用組成物を塗布し加熱することによってフォトレジストを形成する工程、前記下層膜とフォトレジストで被覆された半導体基板を露光する工程、露光後にフォトレジストを現像する工程、現像されたレジストパターンを用いて下層膜をドライエッチングする工程、及び得られたレジストパターンで半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法である。
また、本発明のレジスト下層膜形成組成物を1より小さいアスペクト比のホールを有する半導体基板や、段差を有する半導体基板に対しても使用することができる。また、段差などを有さない半導体基板に対しても使用することができる。
本発明のレジスト下層膜形成組成物より形成されるレジスト下層膜の膜厚としては、基板表面上で、例えば20〜2000nmであり、または30〜1000nmであり、または50〜800nmである。
また、本発明のレジスト下層膜形成組成物を塗布する前に、半導体基板上に反射防止膜または平坦化膜を形成することができる。
下記式(3)のブチロラクトンメタクリレート:
上記合成例1で得た樹脂1.6gを有する乳酸エチル溶液8.0g(固形分濃度20.0%)に、架橋剤としてテトラメトキシメチルグリコールウリル0.4gと、光酸発生剤としてトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート0.03gを混合し、溶媒のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート55g、乳酸エチル6.5gに溶解させ10.0%溶液とした後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、その後、孔径0.05μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過してレジスト下層膜形成組成物を調製した。
上記合成例1で得た樹脂1.6gを有する乳酸エチル溶液8.0g(固形分濃度20.0%)に、架橋剤としてテトラメトキシメチルグリコールウリル0.4gと、架橋触媒としてp−トルエンスルホン酸0.03gを混合し、溶媒のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート55g、乳酸エチル6.5gに溶解させ10.0%溶液とした後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過し、その後、孔径0.05μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いて濾過してレジスト下層膜形成組成物を調製した。
実施例1で調製したレジスト下層膜形成組成物の溶液はスピナーを用い、シリコンウェハー上に塗布した。塗膜を超高圧水銀ランプ(ウシオ電気(株)製、型式UIS−5011MIKY、出力500W)を用い、248nmのバンドパスフィルターを透過したランプの全波長を3分間照射した(露光量50mJ/cm2)。その後ホットプレート上、110℃で1分間加熱し、レジスト下層膜(膜厚145nm)を形成した。そして、これらのレジスト下層膜を分光エリプソメーターにより、193nmでの屈折率(n値)は1.82であり、減衰係数(k値)は0.34であった。
であった。
前記同様に測定して、比較例1のレジスト下層膜形成組成物より得られたレジスト下層膜は、193nmでの屈折率(n値)は1.82であり、減衰係数(k値)は0.34であった。
実施例1で調製したレジスト下層膜形成組成物の溶液をスピナーを用い、シリコンウェハー上に塗布した。塗膜を超高圧水銀ランプ(ウシオ電気(株)製、型式UIS−5011MIKY、出力500W)を用い、248nmのバンドパスフィルターを透過したランプの全波長を3分間照射した(露光量50mJ/cm2)。その後ホットプレート上、110℃で1分間加熱し、下層膜(膜厚145nm)を形成した。このレジスト下層膜の上層に、市販のフォトレジスト溶液(住友化学工業(株)製、商品名PAR710)をスピナーにより塗布した。ホットプレート上で90又は110℃で1.5分間加熱した。フォトレジストを露光後、露光後加熱を90℃で1.5分間行った。フォトレジストを現像させた後、レジスト下層膜の膜厚を測定し、レジスト下層膜とフォトレジスト層とのインターミキシングが起こらないことを確認した。
実施例1で得たレジスト下層膜形成組成物の溶液をスピナーによりシリコンウエハー上に塗布した。塗膜を超高圧水銀ランプ(ウシオ電気(株)製、型式UIS−5011MIKY、出力500W)を用い、248nmのバンドパスフィルターを透過したランプの全波長を3分間照射した(露光量50mJ/cm2)。その後ホットプレート上、110℃で1分間加熱し、レジスト下層膜(膜厚145nm)を形成した。そしてこれらを、日本サイエンティフィック製RIEシステムES401を用い、ドライエッチングガスとしてCF4を使用した条件下でドライエッチング速度を測定した。ドライエッチング選択性は、市販のフォトレジスト溶液(住友化学工業(株)製、商品名PAR710)のドライエッチング速度を1.00とした時に、実施例1のレジスト下層膜形成組成物から得られたレジスト下層膜のドライエッチング速度は1.40だった。
前記同様に測定して、比較例1のレジスト下層膜形成組成物より得られたレジスト下層膜のドライエッチング速度は1.40だった。
実施例1のレジスト下層膜形成組成物から得られたレジスト下層膜のエッチング速度は、フォトレジストに比較して大きいことが確認された。レジスト下層膜のドライエッチング速度がフォトレジストのドライエッチング速度よりも高いことの必要性は、レジスト下層膜上に形成されたフォトレジストを現像し、その後でドライエッチングにより基板の下地を露出させる工程で、レジスト下層膜のドライエッチング速度の方がフォトレジストのドライエッチング速度よりも高くなる事により、フォトレジストが削り取られる前に下層膜が除去されるので、現像されたフォトレジストのパターンを正確に基板に転写する事ができるためである。
加熱中のレジスト下層膜からの昇華物を、検出部分に組み込まれたノズルによって水晶振動子(QCMセンサー)の表面に付着させ、該水晶振動子への昇華物の付着量に応じた共振周波数の変化から、昇華物量を加熱時間の経過と共にリアルタイムで測定する方法によって昇華物を測定した。
実施例1のレジスト下層膜形成組成物を直径4インチのシリコンウエハー基板にスピンコーターにて塗布した。そして、溶剤を除去して乾燥させるため、ホットプレート上、100℃で1分間加熱した。次いで、塗膜を超高圧水銀ランプ(ウシオ電気(株)製、型式UIS−5011MIKY、出力500W)を用い、248nmのバンドパスフィルターを透過したランプの全波長を3分間照射(露光量50mJ/cm2)し、光架橋硬化によるレジスト下層膜(膜厚145nm)を形成した。レジスト下層膜が塗膜されたウエハーをホットプレートが一体化した昇華物測定装置にセットして昇華物をQCMセンサーに捕集した。
比較例1のレジスト下層膜形成組成物を直径4インチのシリコンウエハー基板にスピンコーターにて塗布した。そして、溶剤を除去して乾燥させるため、ホットプレート上、205℃で1分間加熱し、熱架橋硬化によるレジスト下層膜を形成した(膜厚145nm)。レジスト下層膜が塗膜されたウエハーをホットプレートが一体化した昇華物測定装置にセットして昇華物をQCMセンサーに捕集した。
比較例1で得られたレジスト下層膜形成組成物の測定はホットプレートを205℃に昇温し、ポンプ流量が1m3/sに設定し、最初の60秒間はエージングのために放置する。その後直ちに、スライド口から速やかにレジスト下層膜が被覆されたウエハーをホットプレートに乗せ(測定物をインストール)、60秒の時点から180秒の時点(60秒間)の昇華物をQCMセンサーに捕集を行った。
また、フローアタッチメント(検出部分)にはノズルをつけず、そのため口径が32mmになり、センサーとの距離が30mmのチャンバーユニットとの流路から気流が絞られることなく流入する。また、QCMセンサーはアルミシリコン材質の電極を用い、水晶振動子の直径(センサー直径)が14mm、水晶振動子表面の電極直径が5mm、共振周波数が9MHzのものを用いた。
各測定において、QCMセンサーはリアルタイムで昇華物測定できるように、パソコンにデータを直接取り込めるようにシリアルケーブルからの接続と専用ソフトのインストールを行った。
得られた周波数変化は、測定に使用した水晶振動子の固有値からグラム換算して、60秒加熱後のレジスト下層膜が塗布されたウエハー1枚の昇華物量を測定した。
Claims (8)
- 半導体基板上にγ−ラクトン構造を含有するポリマー、δ−ラクトン構造を含有するポリマー又はそれら両方の構造を含有するポリマーと架橋剤と光酸発生剤とを含むレジスト下層膜形成組成物を塗布し、塗膜を形成する工程、前記塗膜に光照射することにより下層膜を形成する工程、前記下層膜上にフォトレジスト用組成物を塗布し加熱することによってフォトレジストを形成する工程を含む半導体装置の製造方法。
- 半導体基板上にγ−ラクトン構造を含有するポリマー、δ−ラクトン構造を含有するポリマー又はそれら両方の構造を含有するポリマーと架橋剤と光酸発生剤とを含むレジスト下層膜形成組成物を塗布し、塗膜を形成する工程、前記塗膜に光照射することにより下層膜を形成する工程、前記下層膜上にフォトレジスト用組成物を塗布し加熱することによってフォトレジストを形成する工程、前記下層膜とフォトレジストで被覆された半導体基板を露光する工程、露光後にフォトレジストを現像する工程、現像されたレジストパターンを用いて下層膜をドライエッチングする工程、及び得られたレジストパターンで半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法。
- 上記ポリマーが式(2):
置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換若しくは非置換のアラルキル基、置換若しくは非置換の炭素環式芳香族基、又は置換若しくは非置換のへテロ環式芳香族基を示し、構造単位 (A’)が1〜76モル%、構造単位(B)が99〜24モル%である。)で表される重合体からなる請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 上記ポリマーが、さらに主鎖又は主鎖に結合した側鎖にベンゼン環、ヘテロ環又はそれらの組み合わせを有するポリマーである請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- ポリマー中のベンゼン環の含有率が30〜70質量%である請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ポリマーが248nm、193nm、又は157nmに吸収を有する構造である請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 上記架橋剤が少なくとも2個の架橋形成官能基を有するものである請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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