JP4925084B2 - ケイ素系混合高分子材料による炭化ケイ素(SiC)薄膜の合成法 - Google Patents
ケイ素系混合高分子材料による炭化ケイ素(SiC)薄膜の合成法 Download PDFInfo
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Description
・PVS混合量=PVSの質量/(PCSの質量+PVSの質量) ×100 (%)
PVSの混合量が20mass%以下の範囲でPCSのみの場合よりセラミク収率が増大しており、10mass%でセラミック収率は最大となる。
[発明の効果]
Claims (3)
- 0.1〜20mass%のポリビニルシランを含むポリビニルシラン(PVS)とポリカルボシラン(PCS)とのブレンドであるケイ素系混合高分子材料を凍結乾燥したものを溶媒に溶かして溶液として、多孔質セラミック基材上に塗布し、空気中で電離放射線を照射して架橋させた後、不活性ガス中で焼成して、多孔質セラミック基材上に1μm以下の厚みを有する炭化ケイ素(SiC)薄膜を製造する方法。
- 電離放射線は、電子線又はγ線である、請求項1に記載の方法。
- 前記ケイ素系混合高分子材料は、10mass%のポリビニルシランを含む、請求項1又は2に記載の方法。
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