JP4887332B2

JP4887332B2 - 基板の処理装置

Info

Publication number: JP4887332B2
Application number: JP2008137444A
Authority: JP
Inventors: 雄一山本; 聡寛寺本; 渉月野木
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2007-09-20
Filing date: 2008-05-27
Publication date: 2012-02-29
Anticipated expiration: 2028-05-27
Also published as: JP2009094460A; KR20090031255A; KR101516819B1; JP2011233930A; JP5161347B2

Description

本発明は、基板の処理を行う基板の処理装置に関する。

例えば半導体デバイスの製造工程におけるフォトリソグラフィー工程では、例えばウェハ上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、レジスト膜を所定のパターンに露光する露光処理、露光されたレジスト膜を現像する現像処理などの一連の処理が順次行われ、ウェハ上に所定のレジストパターンが形成されている。これらの一連の処理は、ウェハを処理する各種処理ユニットやウェハを搬送する搬送装置などを搭載した塗布現像処理装置で行われている。

上記塗布現像処理装置は、一般的に外部からカセットを搬入出するためのカセットステーションと、レジスト塗布処理、現像処理及び熱処理等の各種処理を行う複数の処理ユニットが設けられた処理ステーションと、隣接する露光装置と処理ステーションとの間でウェハの受け渡しを行うインターフェイスステーションを備えている。

カセットステーションには、外部から搬入されたカセットが載置されるカセット載置台と、カセット載置台のカセットと処理ステーションとの間でウェハを搬送するウェハ搬送装置等が設けられている（特許文献１参照）。

そして、上記塗布現像処理装置においてウェハ処理が行われる際には、先ず外部のカセット搬送装置により、１ロット分の複数枚のウェハが収容されたカセットがカセット載置台に載置される。次にウェハ搬送装置によりカセット内のウェハが順次処理ステーションに搬送される。処理ステーションでは、各ウェハがレジスト塗布ユニット、熱処理ユニットなどの複数の処理ユニットに順次搬送され、所定の処理が施される。その後各ウェハは、露光装置に搬送され露光処理が施された後、処理ステーションに戻され、現像処理ユニット、熱処理ユニットなどに順次搬送され、所定の処理が施される。処理ステーションにおける一連の処理の終了したウェハは、ウェハ搬送装置により順次カセット載置台の元のカセットに戻される。カセット載置台上のカセットに１ロット分の総てのウェハが戻されると、当該カセットは、外部のカセット搬送装置により塗布現像処理装置から搬出される。

特開２００６−５４４３８号公報

ところで、近年、塗布現像処理装置には、半導体デバイスの多品種少量生産化に応じた、いわゆる小ロット処理への対応が求められている。小ロット処理の場合、一つのカセット内に収容されるウェハの枚数が少なくなるので、ウェハ処理が開始されると、カセット載置台上のカセット内のウェハが直ちに払い出し終えることが多い。ところが、カセットは、ウェハが処理ステーションから戻るまでカセット載置台上で待機するため、処理ステーションにウェハ処理の空きがあるにもかかわらず、新しいカセットをカセット載置台に載置できないことが生じる。この結果、塗布現像処理装置におけるスループットが低下することになる。

また、かかる場合、単純にカセット載置台の載置可能数を増加させることも考えられるが、この場合塗布現像処理装置のフットプリントが増大し、加えてカセットステーションの構造を大きく変更する必要がある。

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、塗布現像処理装置などの基板の処理装置において、スループットを低下させず、またフットプリントを増加させずに、小ロット処理に対応することをその目的とする。

上記目的を達成するための本発明は、基板の処理装置であって、基板を収容するカセットを載置するカセット載置部と、基板を処理する基板処理部と、前記カセット載置部のカセット内の基板を前記基板処理部に搬送し、なおかつ前記基板処理部で処理の終了した基板を前記カセット載置部のカセットに搬送する基板搬送部と、基板が基板処理部に搬送されて空になったカセットを一時的に載置する空カセット載置部と、前記空カセット載置部と前記カセット載置部との間で空のカセットを移送する空カセット移送機構と、を有し、前記空カセット移送機構は、カセットを支持するアームと、前記アームを上下方向及び水平方向に移動させるアーム移動部と、を備え、前記アームは、前記空カセット載置部と前記カセット載置部の側方から水平方向に移動して、前記空カセット載置部と前記カセット載置部に対してカセットを移送し、前記空カセット載置部は、前記カセット載置部の上方に配置され、前記空カセット載置部は、水平方向に複数のカセットを載置可能であり、前記空カセット載置部内には、処理装置の外部から搬入したカセットを一時的に載置する搬入スペースと、処理装置の外部に搬出するカセットを一時的に載置する搬出スペースと、が設けられていることを特徴とする。

本発明によれば、基板が取り出されて空になったカセットをカセット載置部から空カセット載置部に一時的に載置することができる。このため、カセット載置部に順次新しいカセットを搬入できるので、一つのカセット内の基板枚数が少ない小ロット処理においても、時間間隔を空けずに基板処理部に基板を連続的に搬入できる。この結果、基板の処理装置におけるスループットを低下させずに、小ロット処理に対応できる。また、基板の処理装置のフットプリントを増大させずに、小ロット処理に対応できる。

カセットは、基板を収容する本体部と、前記本体部の上面から上方に突出し、前記空カセット移送機構のアームに係止される係止部と、を有していてもよい。

前記搬入スペースと前記搬出スペースに対するカセットの搬入出は、処理装置の外部のカセット搬送装置により行われ、前記カセット搬送装置は、処理容器の外部から上下方向に移動して前記搬入スペースと前記搬出スペースに対してカセットを搬送するようにしてもよい。

前記搬入スペースと前記カセット載置部との間のカセットの移送、及び前記搬出スペースと前記カセット載置部との間のカセットの移送は、前記空カセット移送機構により行われるようにしてもよい。

前記空カセット載置部は、複数段に設けられ、前記搬入スペースと前記搬出スペースは、それぞれ最上段の前記空カセット載置部に設けられていてもよい。

前記空カセット移送機構によるカセットの移送を制御する制御部をさらに有し、前記制御部は、前記搬入スペースのカセットを前記カセット載置部に移送し、前記カセット載置部のカセット内の基板が前記基板処理部に搬送された後、当該空になったカセットを前記空カセット載置部に移送し、前記基板処理部内での基板に対する所定の処理が終了した際に、前記空カセット載置部のカセットを前記カセット載置部に移送し、前記カセット載置部のカセット内に処理が終了した基板が収容された後、当該カセットを前記搬出スペースに移送するように、前記空カセット移送機構を制御するようにしてもよい。

前記所定の処理の処理状況は、前記基板処理部から前記制御部に出力され、前記制御部は、前記基板処理部からの出力結果に基づいて、前記所定の処理が終了した際に、前記空カセット載置部のカセットを前記カセット載置部に移送するように前記カセット移送機構を制御するようにしてもよい。

参考例として、前記カセット載置部へのカセットの搬入出は、処理装置の外部のカセット搬送装置により行われ、前記カセット搬送装置は、処理装置の外部から上下方向に移動して前記カセット載置部に対してカセットを搬送するようにしてもよい。

参考例としての前記空カセット載置部は、前記カセット載置部の上方に配置され、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットが上下方向に通過可能に構成されていてもよい。

参考例としての前記空カセット載置部は、カセットの下面を支持する支持部材を有し、前記支持部材は、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットが上下方向に通過する通路の外側に退避可能に構成されていてもよい。

参考例としての前記空カセット載置部は、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置に搬送されるカセットの通路を妨げないように、載置したカセットを水平方向に移動できてもよい。

参考例としての前記カセット載置部は、複数のカセットを水平方向に並べて載置可能であり、前記空カセット載置部は、前記カセット載置部と同じ水平方向に複数のカセットを並べて載置可能であり、前記空カセット載置部は、カセットを載置して前記水平方向に移動させる複数のカセット移動装置を有し、前記複数のカセット移動装置は、前記水平方向に並べられ、隣り合うカセット移動装置間でカセットを受け渡し可能に構成されていてもよい。

参考例としての前記空カセット載置部は、複数段に設けられていてもよい。

参考例としての前記空カセット移送機構は、前記空カセット載置部の上方に配置され、前記カセット搬送装置とそのカセット搬送装置により搬送されるカセットの通路を通って前記空カセット載置部と前記カセット載置部に対し空のカセットを移送できてもよい。

参考例としての前記空カセット移送機構は、水平方向に移動可能に構成されていてもよい。

本発明によれば、基板の処理装置のスループットを低下させず、またフットプリントを増加させずに、小ロット処理に対応できる。

以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本発明にかかる基板の処理装置としての塗布現像処理装置１の内部構成の概略を示す説明図である。図２、図３は、塗布現像処理装置１の内部の構成の概略を示す側面図である。

塗布現像処理装置１は、図１に示すように例えば外部との間でカセットＣが搬入出されるカセットステーション２と、フォトリソグラフィー処理の中で枚葉式に所定の処理を施す複数の各種処理ユニットを備えた基板処理部としての処理ステーション３と、処理ステーション３に隣接する露光装置４との間でウェハＷの受け渡しを行うインターフェイスステーション５とを一体に接続した構成を有している。

カセットステーション２は、例えばカセット搬入出部１０と基板搬送部としてのウェハ搬送部１１に分けられている。例えばカセット搬入出部１０は、塗布現像処理装置１のＹ方向負方向（図１の左方向）側の端部に設けられている。カセット搬入出部１０には、カセット載置部としてのカセット載置台１２が設けられている。カセット載置台１２上には、複数、例えば４つの載置板１３が設けられている。載置板１３は、水平方向のＸ方向（図１の上下方向）に一列に並べて設けられている。載置板１３は、例えば略方盤形状を有し、載置されたカセットＣを固定できる。また、載置板１３は、例えばＹ方向にスライド自在あり、載置したカセットＣのウェハ取り出し口をウェハ搬送部１１側の後述するウェハ搬送口１１ｂに接続できる。

例えば図４に示すようにカセットステーション２のカセット搬入出部１０の上方には、レールＲが配設されており、当該レールＲには、塗布現像処理装置１と外部の他の処理装置との間でカセットＣを搬送する外部カセット搬送装置Ａが設けられている。外部カセット搬送装置Ａは、カセット搬入出部１０の上方をＸ方向に移動できる。外部カセット搬送装置Ａは、例えば上下方向に伸縮自在なカセット把持部Ａ１を有し、外部カセット搬送装置Ａの本体がカセット載置台１２の所定の載置板１３の上方に移動し、その後カセット把持部Ａ１を上下方向に移動させて、所定の載置板１３に対してカセットＣを搬送できる。

カセット搬入出部１０のカセット載置台１２の上方には、複数段、例えば２段の空カセット載置部としての空カセット載置台２０、２１が設けられている。また、空カセット載置台２０、２１のさらに上には、空カセット移送機構２２が設けられている。

各空カセット載置台２０、２１には、例えば４つのカセット移動装置３０が設けられている。４つのカセット移動装置３０は、カセット載置台１２の４つの載置板１３に対応するようにＸ方向に並べて設けられている。

各カセット移動装置３０は、例えば図５に示すようにＸ方向に延びる２本の駆動ベルト３１を有している。２本の駆動ベルト３１は、平行に設けられ、この２本の駆動ベルト３１上にカセットＣを載置できる。なお、本実施の形態では、この２本の駆動ベルト３１がカセットＣの下面を支持する支持部材として機能する。

各駆動ベルト３１は、例えば両端が２つのプーリ３２に掛けられており、一つのプーリ３２の回転軸３３には、モータ３４が接続されている。モータ３４によりプーリ３２を回転させることにより、各駆動ベルト３１はＸ方向に回転できる。これにより、駆動ベルト３１上に載置したカセットＣをＸ方向に移動できる。

また、例えば図６に示すように各駆動ベルト３１の回転軸３３は、軸受け部３５に回転自在に支持されている。例えば軸受け部３５は、Ｙ方向に延びるレール３６上をモータ等により移動可能なスライダ３７に取り付けられている。つまり、各駆動ベルト３１やモータ３４は、軸受け部３５を介してスライダ３７に取り付けられている。スライダ３７の移動により、各駆動ベルト３１は、各々Ｙ方向に移動でき、この結果、２本の駆動ベルト３１間の距離を調整することができる。これにより、図５に示すように２本の駆動ベルト３１を外側に開いてその間に、外部カセット搬送装置Ａのカセット把持部Ａ１とそのカセット把持部Ａ１に搬送されるカセットＣが上下に通過する通路Ｂ（図５の点線領域）を形成できる。

図４に示すように４つのカセット移動装置３０は、互いに近接されて設けられており、隣り合うカセット移動装置３０間でカセットＣの受け渡しを行うことができる。これにより、例えば外部カセット搬送装置Ａのカセット把持部Ａ１等が通路Ｂを通る際に、載置されているカセットＣを隣のカセット移動装置３０に移動させることができる。

空カセット移送機構２２は、例えば図４に示すようにカセット搬入出部１０の最上部に設けられたＸ方向に延びるレール４０上を移動できる。レール４０は、図７に示すように例えば２本設けられ、外部カセット搬送装置Ａのカセット把持部Ａ１等の通路Ｂを妨げないように間隔を開けて配置されている。空カセット移送機構２２は、図４に示すように上下方向に伸縮自在なカセット把持部４１を有している。カセット把持部４１は、上述の外部カセット搬送装置Ａ等の通路Ｂを通過可能な大きさに形成されている。空カセット移送機構２２は、カセット把持部４１を上下方向に移動させて、載置板１３と各空カセット載置台２０、２１のカセット移動装置３０に対してカセットＣを搬送できる。

図１及び図２に示すようにカセットステーション２のウェハ搬送部１１は、雰囲気制御を行うためのケーシング１１ａにより覆われている。ケーシング１１ａのカセット搬入出部１０側の壁面には、各載置板１３に対応する位置にウェハ搬送口１１ｂが形成されている。各ウェハ搬送口１１ｂには、載置板１３上のカセットＣの扉を開閉するドアオープナー５０が設けられている。

図１に示すようにウェハ搬送部１１には、Ｘ方向に延びる搬送路６０上を移動自在なウェハ搬送装置６１が設けられている。ウェハ搬送装置６１は、上下方向及び鉛直軸周り（θ方向）にも移動自在であり、各載置板１３上のカセットＣと、後述する処理ステーション３の第３のブロックＧ３の受け渡し装置との間でウェハＷを搬送できる。

処理ステーション３には、各種ユニットを備えた複数例えば４つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４が設けられている。例えば処理ステーション３の正面側（図１のＸ方向負方向側）には、第１のブロックＧ１が設けられ、処理ステーション３の背面側（図１のＸ方向正方向側）には、第２のブロックＧ２が設けられている。また、処理ステーション３のカセットステーション２側（図１のＹ方向負方向側）には、第３のブロックＧ３が設けられ、処理ステーション３のインターフェイスステーション５側（図１のＹ方向正方向側）には、第４のブロックＧ４が設けられている。

例えば第１のブロックＧ１には、図３に示すように複数の液処理ユニット、例えばウェハＷを現像処理する現像処理ユニット８０、ウェハＷのレジスト膜の下層に反射防止膜（以下「下部反射防止膜」という）を形成する下部反射防止膜形成ユニット８１、ウェハＷにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布ユニット８２、ウェハＷのレジスト膜の上層に反射防止膜（以下「上部反射防止膜」という）を形成する上部反射防止膜形成ユニット８３が下から順に４段に重ねられている。

例えば第１のブロックＧ１の各ユニット８０〜８３は、処理時にウェハＷを収容するカップＦを水平方向に複数有し、複数のウェハＷを並行して処理することができる。

例えば第２のブロックＧ２には、図２に示すようにウェハＷの熱処理を行う熱処理ユニット９０や、ウェハＷを疎水化処理するアドヒージョンユニット９１、ウェハＷの外周部を露光する周辺露光ユニット９２が上下方向と水平方向に並べて設けられている。熱処理ユニット９０は、ウェハＷを載置して加熱する熱板と、ウェハＷを載置して冷却する冷却板を有し、加熱処理と冷却処理の両方を行うことができる。なお、熱処理ユニット９０、アドヒージョンユニット９１及び周辺露光ユニット９２の数や配置は、任意に選択できる。

例えば第３のブロックＧ３には、複数の受け渡しユニット１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６が下から順に設けられている。また、第４のブロックＧ４には、複数の受け渡しユニット１１０、１１１、１１２が下から順に設けられている。

図１に示すように第１のブロックＧ１〜第４のブロックＧ４に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域Ｄが形成されている。ウェハ搬送領域Ｄには、例えばウェハ搬送装置１２０が配置されている。

ウェハ搬送装置１２０は、例えばＹ方向、前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置１２０は、ウェハ搬送領域Ｄ内を移動し、周囲の第１のブロックＧ１、第２のブロックＧ２、第３のブロックＧ３及び第４のブロックＧ４内の所定のユニットにウェハＷを搬送できる。

ウェハ搬送装置１２０は、例えば図２に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックＧ１〜Ｇ４の同程度の高さの所定のユニットにウェハＷを搬送できる。

また、ウェハ搬送領域Ｄには、第３のブロックＧ３と第４のブロックＧ４との間で直線的にウェハＷを搬送するシャトル搬送装置１３０が設けられている。

シャトル搬送装置１３０は、例えばＹ方向に直線的に移動自在になっている。シャトル搬送装置１３０は、ウェハＷを支持した状態でＹ方向に移動し、第３のブロックＧ３の受け渡しユニット１０２と第４のブロックＧ４の受け渡しユニット１１２との間でウェハＷを搬送できる。

図１に示すように第３のブロックＧ３のＸ方向正方向側には、ウェハ搬送装置１４０が設けられている。ウェハ搬送装置１４０は、例えば前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置１４０は、ウェハＷを支持した状態で上下に移動して、第３のブロックＧ３内の各受け渡しユニットにウェハＷを搬送できる。

インターフェイスステーション５には、ウェハ搬送装置１５０と受け渡しユニット１５１が設けられている。ウェハ搬送装置１５０は、例えば前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置１５０は、例えば搬送アームにウェハＷを支持して、第４のブロックＧ４内の各受け渡しユニットと受け渡しユニット１５１にウェハＷを搬送できる。

次に、以上のように構成された塗布現像処理装置１の作用について説明する。

先ず、１ロット分の未処理のウェハＷを収容したカセットＣ１が、外部カセット搬送装置Ａにより図４に示すように塗布現像処理装置１のカセット搬入出部１０の上方まで搬送される。その後、図８に示すように外部カセット搬送装置Ａのカセット把持部Ａ１が下方に伸びて、カセットＣ１がカセット載置台１２の所定の載置板１３に載置される。このとき、空カセット移送機構２２は、カセット把持部Ａ１の通路Ｂ上から退避している。また、各空カセット載置台２０、２１のカセット移動装置３０も、駆動ベルト３１が図５の点線で示したようにＹ方向の外方に開いて、通路Ｂ上から退避している。カセット把持部Ａ１は、その空カセット載置台２０、２１を通過して、載置板１３にカセットＣ１を搬送する。

図１に示す載置板１３にカセットＣ１が載置された後、当該載置板１３がウェハ搬送部１１側に移動し、カセットＣ１がウェハ搬送口１１ｂにセットされる。そして、ドアオープナー５０によりカセットＣ１の扉が開けられる。その後、ウェハ搬送装置６１によりカセットＣ１内の各ウェハＷが順に取り出され、処理ステーション３内に搬送され処理される。

カセットＣ１から総てのウェハＷが搬出された後、当該空のカセットＣ１は、空カセット移送機構２２により例えば空カセット載置台２０に搬送される。このとき、先ず空カセット移送機構２２が空のカセットＣ１の真上に移動し、図９に示すように空カセット移送機構２２のカセット把持部４１が下方に伸びて空のカセットＣ１を保持する。なお、このとき空カセット載置台２０、２１のカセット移動装置３０の駆動ベルト３１は外側に開かれており、通路Ｂが確保されている。

そして、カセット把持部４１が空のカセットＣ１を空カセット載置台２０の上方まで持ち上げ、その後カセット移動装置３０の駆動ベルト３１の間隔が狭められる。そして、図１０に示すようにカセット把持部４１により空カセット載置台２０のカセット移動装置３０に空のカセットＣ１が載置される。こうして、空のカセットＣ１は、ウェハＷのロット処理中に一時的に空カセット載置台２０に貯め置かれる。

空のカセットＣ１が空カセット載置台２０に載置されると、図１１に示すように新しいロットのカセットＣ２が外部カセット搬送装置Ａにより載置板１３に搬入される。このとき、外部カセット搬送装置Ａの通路Ｂ上に空のカセットＣ１がある場合には、カセット移動装置３０の駆動ベルト３１が作動し、空のカセットＣ１が隣のカセット移動装置３０の駆動ベルト３１に受け渡される。これにより、外部カセット搬送装置Ａの通路Ｂが確保され、載置板１３に新しいカセットＣ２を搬送できる。

載置板１３に搬送されたカセットＣ２は、上記カセットＣ１と同様に総てのウェハＷが処理ステーション３に搬送された後、図１２に示すように空カセット移送機構２２により例えば空カセット載置台２１に搬送される。その後、カセットＣ２は、必要に応じて通路Ｂを確保するため隣のカセット移動装置３０に移送される。以上のように、載置板１３上でウェハＷが搬出されて空になったカセットＣは、空カセット載置台２０又は２１に搬送され、一時的に貯め置かれる。

一方、処理ステーション３に搬送されたカセットＣ１内のウェハＷは、例えば熱処理ユニット９０、下部反射防止膜形成ユニット８１、熱処理ユニット９０、アドヒージョンユニット９１、レジスト塗布ユニット８２、熱処理ユニット９０、上部反射防止膜形成ユニット８３、熱処理ユニット９０、周辺露光ユニット９２等に順次搬送され、各ユニットにおいて所定の処理が施される。その後、ウェハＷは、露光装置４に搬送されて露光処理が施され、その後、処理ステーション３に戻される。その後、ウェハＷは、熱処理ユニット９０、現像処理ユニット８０、熱処理ユニット９０等に順次搬送され、各ユニットにおいて所定の処理が施される。こうして、ウェハＷに対する一連の処理（フォトリソグラフィー処理）が終了する。

ウェハＷの一連の処理が終了するとき、空カセット載置台２０に一時的に載置されていた空のカセットＣ１が、図１３に示すように空カセット移送機構２２により元の載置板１３に戻される。このとき、空のカセットＣ１が隣のカセット移動装置３０に受け渡されていた場合には、空のカセットＣ１は、元の載置板１３の真上のカセット移動装置３０に戻され、その後空カセット移送機構２２により元の載置板１３に載置される。なお、この際、カセット移動装置３０の駆動ベルト３１は外側に開かれ、通路Ｂが確保されている。また、例えば空カセット載置台２１のカセットＣ２が通路Ｂを妨げている場合には、カセットＣ２は、隣のカセット移動装置３０に移される。

カセットＣ１が元の載置板１３に戻された後、処理の終了したウェハＷが、ウェハ搬送装置６１により元のカセットＣ１に戻される。

その後、図１４に示すように外部カセット搬送装置Ａのカセット把持部Ａ１が下降し、当該カセット把持部Ａ１により載置板１３上のカセットＣ１が保持される。その後、カセット把持部Ａ１が上昇して、カセットＣ１が塗布現像処理装置１から搬出される。

カセットＣ２も同様に、ウェハＷの処理が終了するときに空カセット移送機構２２により元の載置板１３に戻される。総てのウェハＷが収容された後、カセットＣ２は、外部カセット搬送装置Ａにより塗布現像処理装置１から搬出される。

以上の実施の形態によれば、塗布現像処理装置１のカセット搬入出部１０に、空カセット載置台２０、２１と空カセット移送機構２２を設けたので、各ロットの処理中に空になったカセットＣを載置板１３から外して一時的に空カセット載置台２０、２１に貯めておくことができる。このため、載置板１３に順次新しいカセットＣを搬入できるので、一つのカセット内のウェハ枚数が少ない小ロット処理においても、時間の間隔を空けずに処理ステーション３に対しウェハＷを連続的に搬入できる。この結果、塗布現像処理装置１におけるスループットを低下させずに、小ロット処理に対応できる。また、カセット載置台１２の載置板１３の数を増やさずに、塗布現像処理装置１のフットプリントの増大させずに、小ロット処理に対応できる。さらに、外部カセット搬送装置Ａとカセット載置台１２との間のカセットＣの搬送については、既存のものと同じにできるので、例えば外部カセット搬送装置ＡによるカセットＣの搬入出の制御等を変更する必要がなく、比較的簡単に小ロット処理に対応できる。

以上の実施の形態では、カセット載置台１２の真上に空カセット載置台２０、２１と空カセット移送機構２２を設けたので、空カセット載置台２０、２１等の設置によりフットプリントが増えることを防止できる。また、空カセット載置台２０、２１は、外部カセット搬送装置Ａやその外部カセット搬送装置Ａに搬送されるカセットＣが上下方向に通過できるように構成されたので、既存の外部カセット搬送装置Ａを用いたカセットＣの搬入出を適正に行うことができる。

空カセット載置台２０、２１は、カセットＣを支持する駆動ベルト３１を有し、その駆動ベルト３１は、Ｙ方向に移動して通路Ｂの外側に退避できるように構成されたので、カセットＣの支持と、外部カセット搬送装置Ａ等の通路Ｂの確保の両方を適正に行うことができる。

空カセット載置台２０、２１には、カセットＣをＸ方向に移動する４つのカセット移動装置３０を並べて設け、それらのカセット移動装置３０間でカセットＣを受け渡し可能にしたので、例えば載置された空のカセットＣを隣のカセット移動装置３０に受け渡して、外部カセット搬送装置Ａ等の通路Ｂを確保することができる。これによって、外部カセット搬送装置Ａにより新しいカセットＣをカセット載置台１２に連続的に搬入することができる。

空カセット載置台２０、２１は、複数段に設けられたので、多くの空のカセットＣを貯めることができ、その分新しいカセットＣをカセット載置台１２に搬入できる。この結果、より小ロットの処理にも対応できる。

空カセット移送機構２２は、外部カセット搬送装置Ａ等の通路Ｂを通ってカセットＣを搬送できるので、カセット移送装置２２を空カセット載置台２０、２１の上方に設けた場合でも、カセットＣの移送を適正に行うことができる。また、空カセット移送機構２２は、外部カセット搬送装置Ａ等の通路Ｂを妨げないように、水平方向に移動できるので、これによっても外部カセット搬送装置ＡによるカセットＣの搬入出を適正に行うことができる。

なお、例えば以上の実施の形態で記載した処理ステーション２内の空カセット載置台の段数は、２段に限られず、３段以上であってもよい。また、各空カセット載置台２０、２１のカセット移動装置３０の数も載置板１３の数に応じて任意に選択できる。以上の実施の形態では、カセット移動装置３０のカセットの支持部材が駆動ベルト３１であったが、他の構造の支持部材であってもよい。また、カセット移動装置３０によるカセットＣの移動は駆動ベルト３１により行われていたが、他の駆動機構により行ってもよい。

次に、前記実施の形態で説明したカセット搬入出部１０の他の実施の形態である、図１５に示すカセット搬入出部２００を搭載した塗布現像処理装置１について説明する。図１５は、他の実施の形態にかかる塗布現像処理装置１の内部構成の概略を示す説明図であり、図１６は、塗布現像処理装置１の内部の構成の概略を示す側面図である。なお、本実施の形態におけるカセットＣは、図１７に示すようにウェハＷを収容する本体部２１０と、本体部２１０の上面から突出した軸２１１と、軸２１１に支持された係止部２１２を有している。係止部２１２は略方盤形状を有し、その１辺の長さは軸２１１の径よりも長くなっている。

例えばカセット搬入出部２００は、図１５に示すように塗布現像処理装置１のＹ方向負方向（図１５の左方向）側の端部に設けられている。カセット搬入出部２００には、カセット載置部としてのカセット載置台２２０が設けられている。カセット載置台２２０上には、複数、例えば４つの載置板２２１が設けられている。載置板２２１は、水平方向のＸ方向（図１５中の上下方向）に一列に並べて設けられている。載置板２２１は、例えば略方盤形状を有し、載置されたカセットＣを固定できる。また、載置板２２１は、例えばＹ方向にスライド自在あり、載置したカセットＣのウェハ取り出し口をウェハ搬送部１１側のウェハ搬送口１１ｂに接続できる。

カセット搬入出部２００のカセット載置台２２０の上方には、図１８に示すように、複数段、例えば２段の空カセット載置部としての空カセット載置台２３０、２３１が設けられている。各空カセット載置台２３０、２３１上には、複数、例えば４つの載置板２３２が設けられている。４つの載置板２３２は、カセット載置台２２０の４つの載置板２２１に対応するようにＸ方向に並べて設けられている。各載置板２３２は、例えば略方盤形状を有し、載置されたカセットＣを固定できる。

上段の空カセット載置台２３１に設けられた４つの載置板２３２のうち、２つの載置板２３２にカセットＣが載置されるスペースは、塗布現像処理装置１の外部との間でカセットＣを搬入出するための、搬入スペース２４０及び搬出スペース２４１として機能している。

また、上段の空カセット載置台２３１の上方には、レールＲが配設されており、当該レールＲには、塗布現像処理装置１と外部の他の処理装置との間でカセットＣを搬送する外部カセット搬送装置Ａが設けられている。外部カセット搬送装置Ａは、空カセット載置台２３１の上方をＸ方向に移動できる。外部カセット搬送装置Ａは、例えば上下方向に伸縮自在なカセット把持部Ａ１を有し、外部カセット搬送装置Ａの本体が空カセット載置台２３１の搬入スペース２４０又は搬出スペース２４１の上方に移動し、その後カセット把持部Ａ１を上下方向に移動させて、搬入スペース２４０又は搬出スペース２４１に対してカセットＣを搬送できる。

カセット搬入出部２００には、例えば図１５に示すようにカセット載置台２２０のＹ方向負方向（図１５の左方向）側に空カセット移送機構２５０が設けられている。

空カセット移送機構２５０は、図１９及び図２０に示すようにカセットＣを支持するアーム２５１を有している。アーム２５１は、図２１に示すように２本の本体部２５２と、本体部２５２を支持する支持部２５３とを有している。２本の本体部２５２は、カセットＣの軸２１１に干渉することなく、係止部２１２の下面と当接して、カセットＣを支持できる。

アーム２５１は、図１９及び図２０に示すように水平方向（図中のＸ方向）に延びるアーム支持部２５４に支持されている。アーム支持部２５４は、上下方向（図中のＺ方向）に延びるアーム駆動部２５５に支持されている。アーム駆動部２５５には、例えば図示しないモータなどが内蔵され、アーム支持部２５４及びアーム２５１を水平方向（図中のＸ方向及びＹ方向）に移動させると共に、上下方向（図中のＺ方向）に移動させることができる。すなわち、アーム２５１は、空カセット載置台２３０、２３１とカセット載置台２２０の側方から水平方向（図中のＹ方向）に移動して、空カセット載置台２３０、２３１とカセット載置台２２０に対してカセットＣを移送できる。また、アーム２５１は、上下方向に移動することで、空カセット載置台２３０、２３１とカセット載置台２２０との間でカセットＣを移送できる。なお、本実施の形態では、これらアーム支持部２５４とアーム駆動部２５５がアーム移動部を構成している。

この空カセット移送機構２５０の動作は、図１９及び図２０に示す制御部３００によって制御される。制御部３００は、空カセット載置台２３０、２３１とカセット載置台２２０の適切な場所に適切なタイミングでカセットＣを載置するように、空カセット移送機構２５０の動作を制御する。例えば本実施の形態においては、空カセット載置台２３０、２３１とカセット載置台２２０の載置板２３２、２２１にはアドレスが付され、カセットＣにはカセットＩＤが付されている。そして制御部３００は、これら載置板２３２、２２１のアドレスとカセットＩＤに基づいてカセットＣの載置場所を設定し、空カセット移送機構２５０の動作を制御する。

また本実施の形態においては、カセットＣ内のウェハＷにもカセットＩＤに対応するウェハＩＤが付されている。そして制御部３００は、カセットＩＤとウェハＩＤに基づいて、常にウェハＷが同一のカセットＣ内に収容されるようにカセットＣの載置場所を設定し、空カセット移送機構２５０の動作を制御する。

さらに制御部３００は、上述した空カセット移送機構２５０の動作と共に、塗布現像処理システム１におけるウェハＷの処理も制御する。制御部３００には、処理ステーション３の各ユニットや露光装置４等からウェハＷの処理状況がウェハＩＤと共に出力される。そして制御部３００では、その出力結果に基づいてウェハＷの処理を制御すると共に、空カセット移送機構２５０の動作を制御する。

制御部３００は、例えばＣＰＵやメモリなどを備えたコンピュータにより構成され、例えばメモリに記憶されたプログラムを実行することによって、空カセット移送機構２５０の動作やウェハＷの処理を制御できる。当該各種プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なＣＤなどの記憶媒体に記憶されていたものであって、その記憶媒体から制御部３００にインストールされたものが用いられている。

なお、塗布現像処理装置１のその他の構成については、前記実施の形態で説明した構成と同一であるので、説明を省略する。

先ず、１ロット分の未処理のウェハＷを収容したカセットＣ１が、外部カセット搬送装置Ａにより空カセット載置台２３１の搬入スペース２４０の上方まで搬送される。その後、図２２に示すように外部カセット搬送装置Ａのカセット把持部Ａ１が下方に伸びて、カセットＣ１が搬入スペース２４０の載置板２３２に載置される。

次に、搬入スペース２４０のカセットＣ１は、図２３に示すように空カセット移送機構２５０によりカセット載置台２２０の所定の載置板２２１に載置される。このとき、新しいロットのカセットＣ２が、外部カセット搬送装置Ａにより搬入スペース２４０の上方まで搬送される。

載置板２２１にカセットＣ１が載置された後、図１５に示す当該載置板２２１がウェハ搬送部１１側に移動し、カセットＣ１がウェハ搬送口１１ｂにセットされる。そして、ドアオープナー５０によりカセットＣ１の扉が開けられる。その後、ウェハ搬送装置６１によりカセットＣ１内の各ウェハＷが順に取り出され、処理ステーション３内に搬送され処理される。

カセットＣ１内のウェハＷが処理ステーション３に搬送されている間、図２４に示すように搬入スペース２４０のカセットＣ２が、空カセット移送機構２５０によりカセット載置台２２０の他の載置板２２１に載置される。このとき、新しいロットのカセットＣ３が、外部カセット搬送装置Ａにより搬入スペース２４０の上方まで搬送される。

カセットＣ１から総てのウェハＷが搬出された後、当該空のカセットＣ１は、図２４に示すように空カセット移送機構２５０により例えば空カセット載置台２３０に移送される。空のカセットＣ１は、空カセット載置台２３０の所定の載置板２３２に載置され、ウェハＷのロット処理中に一時的に空カセット載置台２３０に貯め置かれる。空のカセットＣ１は、当該カセットＣ１の総てのウェハＷに所定の処理、例えば現像ユニット８０での現像処理が終了するまで、載置板２３２に載置される。

また、カセットＣ１から総てのウェハＷが搬出されると、次のカセットＣ２が載置された載置板２２１がウェハ搬送部１１側に移動し、カセットＣ２内の各ウェハＷが順に取り出され、処理ステーション３内に搬送され処理される。その後、カセットＣ２から総てのウェハＷが搬出されると、当該空のかセットＣ２は、空カセット載置台２３０の所定の載置台２３２に載置される。

このように所定の個数、例えば６つのカセットＣ１〜Ｃ６が順次カセットステーション２に搬入された後、当該カセットＣ１〜Ｃ６内のウェハＷが処理ステーション３内に搬出される。そして空のカセットＣ１〜Ｃ６は、図２５に示すように空カセット載置台２３０、２３１の載置板２３２に載置される。なお、空カセット載置台２３０、２３１に貯め置かれる空のカセットＣの個数は６つに限定されず、ウェハＷに対する処理プロセス等に応じて任意に変更することができる。

一方、処理ステーション３に搬出されたカセットＣ１のウェハＷには、各種処理が行われている。この間、制御部３００には、処理ステーション３等からウェハＷの処理状況が出力されている。そして、例えばカセットＣ１の総てのウェハＷに対して現像ユニット８０での現像処理が終了した場合に、制御部３００が空カセット移送機構２５０を制御することにより、図２６に示すように空カセット載置台２３０の空のカセットＣ１がカセット載置台２２０の所定の載置板２２１に移送される。その後、一連のフォトリソグラフィー処理が終了したウェハＷが、ウェハ搬送装置６１により元のカセットＣ１に戻される。

総てのウェハＷがカセットＣ１に収容されると、図２７に示すように空カセット移送機構２５０によりカセットＣ１が搬出スペース２４１に移送され、載置板２３２に載置される。

その後、図２８に示すように搬出スペース２４１の上方から外部カセット搬送装置Ａのカセット把持部Ａ１が下降し、当該カセット把持部Ａ１により載置板２３２上のカセットＣ１が保持される。そして、カセット把持部Ａ１が上昇して、カセットＣ１が塗布現像処理装置１から搬出される。このとき、カセットＣ２の総てのウェハＷに対して現像ユニット８０での現像処理が終了している場合には、空カセット移送機構２５０により空カセット載置台２３０の空のカセットＣ２がカセット載置台２２０の所定の載置板２２１に移送される。

以上のように、カセットＣが連続的に塗布現像処理装置１に搬入出され、当該カセットＣ内のウェハＷにフォトリソグラフィー処理が行われる。

以上の実施の形態によれば、塗布現像処理装置１のカセット搬入出部２００に、空カセット載置台２３０、２３１と空カセット移送機構２５０を設けたので、各ロットの処理中に空になったカセットＣをカセット載置台２２０から外して一時的に空カセット載置台２３０、２３１に貯めておくことができる。このため、カセット載置台２２０に順次新しいカセットＣを移送できるので、一つのカセット内のウェハ枚数が少ない小ロット処理においても、時間の間隔を空けずに処理ステーション３に対しウェハＷを連続的に搬入できる。この結果、塗布現像処理装置１におけるスループットを低下させずに、小ロット処理に対応できる。また、カセット載置台２２０の載置板２２１の数を増やさずに、塗布現像処理装置１のフットプリントの増大させずに、小ロット処理に対応できる。さらに、外部カセット搬送装置Ａは、搬入スペース２４０及び搬出スペース２４１のみに対してカセットＣを搬入出するので、外部カセット搬送装置ＡのカセットＣの搬送については、既存のものと同じにできる。これによって、例えば外部カセット搬送装置ＡによるカセットＣの搬入出の制御等を変更する必要がなく、比較的簡単に小ロット処理に対応できる。

また、このように空カセット載置台２３０、２３１と空カセット移送機構２５０を設けることは、ウェハＷ上に微細なパターンを形成する際に用いられるダブルパターニング処理を行う場合にも有効である。ダブルパターニング処理では、ウェハＷ上の微細な層に形成されるパターンを２回に分けて露光処理し、最初の露光処理後にエッチング処理を行い、再び同じ層に２回目の露光処理を行っている。したがって、１回目のパターニングと２回目のパターニングでは、ウェハＷに行う処理工程が異なるため、それぞれの処理にかかる時間が異なる。このようなダブルパターニング処理の際に、本実施の形態にかかる塗布現像処理システム１を用いた場合でも、カセットＣを空カセット載置台２３０、２３１に貯めておくことで、適切なタイミングでカセットＣをカセット載置台２２０に移送することができる。したがって、処理が終わったウェハＷを順にカセットＣに収容することができ、塗布現像処理装置１におけるスループットを向上させることができる。

以上の実施の形態では、カセット載置台２２０の真上に空カセット載置台２３０、２３１を設けたので、空カセット載置台２３０、２３１等の設置によりフットプリントが増えることを防止できる。

空カセット移送機構２５０のアーム２５１は、アーム支持部２５４とアーム駆動部２５５によって上下方向及び水平方向に移動することができるので、空カセット載置台２３０、２３１とカセット載置台２２０の側方から水平方向に移動して、空カセット載置台２３０、２３１とカセット載置台２２０に対してカセットＣを移送することができる。これによって、複数のカセットＣが塗布現像処理装置１に搬入された場合でも、各カセットＣを干渉させることなく適正に所定の場所に移送することができる。

空カセット載置台２３０、２３１には、塗布現像処理装置１の外部との間でカセットＣを搬入出するために搬入スペース２４０が設けられ、搬入スペース２４１のカセットＣは、空カセット移送機構２５０によりカセット載置台２２０に移送される構成にしたので、外部カセット搬送装置Ａにより新しいカセットＣを搬入スペース２４０に連続的に搬入することができる。

空カセット載置台２３０、２３１は複数段に設けられ、また各カセット載置台２３０、２３１には複数の載置板２３２が設けられたので、多くの空のカセットＣを貯めることができ、その分新しいカセットＣをカセット載置台２２０に移送できる。この結果、塗布現像処理装置１におけるスループットを低下させずに、より小ロットの処理にも対応できる。

以上の実施の形態の塗布現像処理装置１を用いて、例えば塗布現像処理装置１のシャットダウン時における装置内のウェハＷの回収を制御してもよい。シャットダウン時では、処理ステーション３に搬入された順でウェハＷを回収するのが最も効率が良いとは限らない。例えばレジスト塗布ユニット８２内のウェハＷは、露光装置４内のウェハＷよりも後に処理ステーション３に搬入されているが、カセットステーション２までの搬送経路は短い。この場合、レジスト塗布ユニット８２内のウェハＷを先に回収した方が効率が良い場合がある。そこで塗布現像処理装置１がシャットダウンされると、先ず、制御部３００は、各ウェハＷの処理状況に基づいて回収する順を決定する。その後、この決定されたウェハＷの回収順に基づいて空カセット移送機構２５０を制御し、空カセット載置台２３０、２３１の空のカセットＣがカセット載置台２２０に移送される。これによって、シャットダウン時に塗布現像処理装置１内に残っているウェハＷを効率よく回収することができ、スループットを向上させることができる。

以上の実施の形態では、カセットＣ内のウェハＷは、カセット載置台２２０に移送された順で、処理ステーション３に搬出され処理されていたが、各カセットＣ内のウェハＷの処理条件に応じて処理ステーション３に搬出する順を変更してもよい。例えば熱処理ユニット９０において、ウェハＷに対して異なる熱処理温度の熱処理を連続して行う場合、例えばカセットＣ１内のウェハＷに対する熱処理温度が９０度であり、カセットＣ２内のウェハＷに対する熱処理温度が１００度であり、カセットＣ３内のウェハＷに対する熱処理温度が９０度の場合がある。このとき、カセットＣ１〜Ｃ３がこの順でカセット載置台２２０に移送された場合でも、カセットＣ１とカセットＣ３内のウェハＷを処理ステーション３に搬出した後、カセットＣ２内のウェハＷを処理ステーション３に搬出する。そうすると、熱処理ユニット９０では、１回の熱処理温度の変更によって、ウェハＷを連続的に熱処理することができる。したがって、塗布現像処理装置１におけるスループットを向上させることができる。なお、この場合の処理条件は熱処理温度に限定されず、その他の処理条件であってもよい。

以上の実施の形態では、カセット載置台２２０は１段に設けられていたが、２段以上であってもよい。また、空カセット載置台２３０、２３１は２段に設けられていたが、３段以上であってもよい。さらに、空カセット載置台２３０、２３１は、図１５に示したように空カセット移送機構２５０のＹ方向正方向側に設けられていたが、空カセット移送機構２５０のＹ方向負方向側にも空カセット載置台をさらに設けてもよい。また、各空カセット載置台２３０、２３１の載置板２３２の数も任意に増加させることができる。以上のように、カセットＣの載置箇所を増加させることによって、多くの空のカセットＣを貯めることができ、その分新しいカセットＣをカセット載置台２２０に移送できる。この結果、塗布現像処理装置１におけるスループットを低下させずに、より小ロットの処理にも対応できる。

以上の実施の形態では、空カセット載置台２３０、２３１は、カセット載置台２２０の上方に固定されていたが、取り外し自在に構成されていてもよい。これによって、例えば空カセット載置台２３０、２３１のメンテナンスを容易に行うことができる。また、空カセット載置台２３０、２３１を取り外した場合でも、塗布現像処理装置１をそのまま稼動させることができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

以上の実施の形態における基板の処理装置は、フォトリソグラフィー処理を行う塗布現像処理装置であったが、他の処理を行う処理装置であってもよい。さらに、本発明は、半導体ウェハ以外に、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板の処理装置にも適用できる。

本発明は、小ロットの処理を行う基板の処理装置に有用である。

塗布現像処理装置の内部構成の概略を示す説明図である。塗布現像処理装置の内部構成の概略を示す側面図である。塗布現像処理装置の内部構成の概略を示す側面図である。カセットステーションのカセット搬入出部の構成を示す側面図である。空カセット載置台のカセット移動装置の構成の概略を示す平面図である。カセット移動装置のＹ方向のスライド構造を示す説明図である。カセット移送機構のレールの構成を示す平面図である。外部カセット搬送装置がカセット載置台にカセットを搬入した様子を示す説明図である。カセット移送機構が空のカセットを保持した様子を示す説明図である。カセット移送機構が空のカセットを空カセット載置台に載置した様子を示す説明図である。外部カセット搬送装置がカセット載置台に次のカセットを搬入した様子を示す説明図である。カセット移送機構が次のカセットを空カセット載置台に載置した様子を示す説明図である。カセット移送機構が空のカセットをカセット載置台に搬送した様子を示す説明図である。外部カセット搬送装置がカセットを搬出する様子を示す説明図である。他の実施の形態にかかる塗布現像処理装置の内部構成の概略を示す説明図である。他の実施の形態にかかる塗布現像処理装置の内部構成の概略を示す側面図である。カセットの側面図である。カセットステーションのカセット搬入出部の構成を示す側面図である。空カセット移送機構の構成の概略を示す平面図である。空カセット移送機構の構成の概略を示す側面図である。アームがカセットを支持した様子を示す説明図である。外部カセット搬送装置がカセットを搬入スペースに載置した様子を示す説明図である。空カセット移送機構がカセットをカセット載置台に載置した様子を示す説明図である。空カセット移送機構が空のカセットを空カセット載置台に載置し、次のカセットをカセット載置台に載置した様子を示す説明図である。複数のカセットが空カセット載置台に載置された様子を示す説明図である。空カセット移送機構が空のカセットをカセット載置台に載置した様子を示す説明図である。空カセット移送機構が空のカセットを搬出スペースに載置した様子を示す説明図である。外部カセット搬送装置がカセットを搬出し、空カセット移送機構が次の空カセットをカセット載置台に載置した様子を示す説明図である。

符号の説明

１塗布現像処理装置
２カセットステーション
３処理ステーション
１０カセット搬入出部
１２カセット載置台
１３載置板
２０、２１空カセット載置台
２２空カセット移送機構
３０カセット移動装置
３１駆動ベルト
Ｃカセット
Ｗウェハ

Claims

基板の処理装置であって、
基板を収容するカセットを載置するカセット載置部と、
基板を処理する基板処理部と、
前記カセット載置部のカセット内の基板を前記基板処理部に搬送し、なおかつ前記基板処理部で処理の終了した基板を前記カセット載置部のカセットに搬送する基板搬送部と、
基板が基板処理部に搬送されて空になったカセットを一時的に載置する空カセット載置部と、
前記空カセット載置部と前記カセット載置部との間で空のカセットを移送する空カセット移送機構と、を有し、
前記空カセット移送機構は、カセットを支持するアームと、前記アームを上下方向及び水平方向に移動させるアーム移動部と、を備え、
前記アームは、前記空カセット載置部と前記カセット載置部の側方から水平方向に移動して、前記空カセット載置部と前記カセット載置部に対してカセットを移送し、
前記空カセット載置部は、前記カセット載置部の上方に配置され、
前記空カセット載置部は、水平方向に複数のカセットを載置可能であり、
前記空カセット載置部内には、処理装置の外部から搬入したカセットを一時的に載置する搬入スペースと、処理装置の外部に搬出するカセットを一時的に載置する搬出スペースと、が設けられていることを特徴とする、基板の処理装置。
カセットは、基板を収容する本体部と、前記本体部の上面から上方に突出し、前記空カセット移送機構のアームに係止される係止部と、を有することを特徴とする、請求項１に記載の基板の処理装置。
前記搬入スペースと前記搬出スペースに対するカセットの搬入出は、処理装置の外部のカセット搬送装置により行われ、
前記カセット搬送装置は、処理容器の外部から上下方向に移動して前記搬入スペースと前記搬出スペースに対してカセットを搬送することを特徴とする、請求項１又は２に記載の基板の処理装置。
前記搬入スペースと前記カセット載置部との間のカセットの移送、及び前記搬出スペースと前記カセット載置部との間のカセットの移送は、前記空カセット移送機構により行われることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の基板の処理装置。
前記空カセット載置部は、複数段に設けられ、
前記搬入スペースと前記搬出スペースは、それぞれ最上段の前記空カセット載置部に設けられていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の基板の処理装置。
前記空カセット移送機構によるカセットの移送を制御する制御部をさらに有し、
前記制御部は、
前記搬入スペースのカセットを前記カセット載置部に移送し、
前記カセット載置部のカセット内の基板が前記基板処理部に搬送された後、当該空になったカセットを前記空カセット載置部に移送し、
前記基板処理部内での基板に対する所定の処理が終了した際に、前記空カセット載置部のカセットを前記カセット載置部に移送し、
前記カセット載置部のカセット内に処理が終了した基板が収容された後、当該カセットを前記搬出スペースに移送するように、前記空カセット移送機構を制御することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の基板の処理装置。
前記所定の処理の処理状況は、前記基板処理部から前記制御部に出力され、
前記制御部は、前記基板処理部からの出力結果に基づいて、前記所定の処理が終了した際に、前記空カセット載置部のカセットを前記カセット載置部に移送するように前記カセット移送機構を制御することを特徴とする、請求項６に記載の基板の処理装置。