JP4796390B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体記憶装置及びそのバースト動作方法に関し、さらに詳しくは、通常のアクセス動作中にリフレッシュ動作の挿入が可能なDRAM(Dynamic Random Accesses Memory)及びそのバースト動作方法の改良に関する。
最近、低消費電力用途ではSRAM(Static Random Accesses Memory)からDRAMへの置き換えが盛んになってきている。単位面積当たりの記憶容量がSRAMよりもDRAMの方がはるかに大きいためである。しかし、DRAMには、SRAMに不要なリフレッシュが必要である。そこで、リフレッシュコントローラのような外部回路でリフレッシュを行うのではなく、DRAMの内部回路で自動的にリフレッシュを行い、使用者にとって全くSRAMと全く同じ方法で使用可能な疑似SRAM(以下「PSRAM(Pseudo Static Random Accesses Memory)」という)がある。
下記の特許文献1には、通常のアクセス動作とリフレッシュ動作とを1つの外部サイクル時間内に挿入する方式を採用したPSRAMが開示されている。この方式によれば、1つの外部サイクル時間内にアクセス用の内部サイクル時間及びリフレッシュ用の内部サイクル時間が確保されているため、通常のアクセスを待たせることなく、何時でもリフレッシュを行うことができる。
このPSRAMにとって外部サイクル時間は実際のサイクル時間であって、動作速度を決定するものである。したがって、このPSRAMを高速化するためには外部サイクル時間を短縮しなければならない。しかしそのためには、内部サイクル時間を外部サイクル時間の半分以下にしなければならず、外部サイクル時間の短縮は容易ではない。そもそもこのPSRAMは、何時でもリフレッシュを行うことができるように各外部サイクル時間内にリフレッシュ用の内部サイクル時間を確保したものであるから、実力の半分程度しか性能を発揮できておらず、高速化は困難である。
このような欠点を補うため、ページモードやバーストモードを採用したPSRAMが発表され始めている。
図13は、8ビットプリフェッチによる8ビットバーストモードを採用したPSRAMを示す。図13を参照して、このPSRAM1は、64M(=64×10<SUP>20</SUP>)のメモリセルMCと、8K(=8×2<SUP>10</SUP>)のワード線WLと、8Kのビット線対BLとを含むメモリセルアレイ2を備える。PSRAM1はさらに、ワード線WLを選択的に駆動する行デコーダ3と、列選択線(図示せず)を選択的に駆動することによりビット線対BLを選択する列デコーダ4と、16個のデータ入出力バス5と、メモリセルアレイ2とI/O5との間で読出又は書込データを授受するデータパス回路6とを備える。
データパス回路6は、128個のセカンダリセンスアンプ(読出バッファ)(図示せず)と、128個の書込バッファ(図示せず)と、128個のプリフェッチ/プリロードラッチ(図示せず)とを含む。各セカンダリセンスアンプは、メモリセルアレイ2から読み出された読出データを対応するプリフェッチ/プリロードラッチに与える。各書込バッファは、データ入出力バス5から与えられた書込データを対応するプリフェッチ/プリロードラッチに与える。プリフェッチ/プリロードラッチは、読出又は書込データを一時的に保管する。
図14に示すように、ワード線WLが駆動されるとビット線対BLにデータが読み出され、センスアンプが活性化されるとそのデータが増幅される。この状態で、列選択線CSLが駆動されるとビットスイッチ(図示せず)がオンになり、ビット線対からそのビットスイッチを介してデータが読み出される。読出データはセカンダリセンスアンプにより増幅され、プリフェッチ/プリロードラッチにラッチされる。
全バースト長のデータをラッチするフルビットプリフェッチ方式の場合、1I/O当たり8ビットのデータを読み出し又は書き込むから、全体では128ビット(=8ビット×16)のデータを読み出し又は書き込む。すなわち、1本のワード線WLを選択し、8KのセンスアンプSAを全て活性化し、8Kビットの読出データの中から128ビットの読出データをそれぞれ128個のプリフェッチ/プリロードラッチに取り出す。そして、128ビットの読出データを16個のデータ入出力バス5に分散し、1I/O当たり8ビットの読出データを連続的に出力する。
図15は、16ビットプリフェッチによる16ビットバーストモードを採用したPSRAMを示す。このPSRAM7のデータパス回路8は、上記の2倍に相当する、256個のセカンダリセンスアンプと、256個の書込バッファと、256個のプリフェッチ/プリロードラッチとを含む。
この場合、1I/O当たり16ビットのデータを読み出し又は書き込むから、全体では256ビット(=16ビット×16)のデータを読み出し又は書き込む。すなわち、互いに異なるアレイ内における2本のワード線WLを同時に選択し、上記の2倍に相当する16KのセンスアンプSA1及びSA2を活性化し、16Kビットの読出データの中から256ビットの読出データをそれぞれ256個のプリフェッチ/プリロードラッチに取り出す。そして、256ビットの読出データを16個のデータ入出力バス5に分散し、1I/O当たり16ビットの読出データを連続的に出力する。
このようにバースト長が2倍に増加すると、活性化されるセンスアンプの数、充放電されるビット線対の数も2倍になるため、メモリセルアレイ2内に流れる電流も2倍に増加する。
バーストモードはSDRAMで採用されている公知の動作であるが、通常はラップモードと呼ばれる方式が採用される。ラップモードでは、8又は16ビット等のバースト領域内だけで列アクセスが繰り返される。すなわち、先頭の列アドレスがバースト領域の先頭でない場合、バースト領域の途中から列アクセスが始まり、バースト領域の最後まで終わると、同じバースト領域の先頭に戻る。これにより、8又は16ビット等のデータが連続的に読み出される。
しかし、最近のPSRAMにはラップモードの他にノンラップモードも要求される。ノンラップモードでは、列アクセスがバースト領域の最後まで終わると、同じバースト領域の先頭に戻るのではなく、隣のバースト領域の先頭に進む。
図13に示した8ビットプリフェッチによる8ビットバーストのノンラップモードであっても、列アクセスが8ビットバースト領域の先頭から始まれば、図16(a)に示すように、行アクセスを繰り返すことにより、8ビットの読出データRD1〜RD8は連続的に出力される。この場合、8ビットの読出データRD1〜RD8はプリフェッチ/プリロードラッチからデータ入出力バス5に順に転送され、最後の読出データRD8が転送され終わる前に、次の8ビットの読出データRD1〜RD8の取り出しが完了しているので、読出データRDはデータ入出力バス5上でギャップを生じることなく出力される。
列アクセスが8ビットバースト領域の6ビット目(最後から3番目)から始まれば、ギャップは生じない。6〜8ビット目の3ビットの読出データRD6〜RD8が転送されている間に、次の8ビットの読出データRD1〜RD8の取り出しが完了しているからである。
しかし、図16(b)に示すように、列アクセスが8ビットバースト領域の7ビット目(最後から2番目)から始まれば、5nsのギャップが生じる。7及び8ビット目の2ビットの読出データRD7及びRD8が転送されている間に、次の8ビットの読出データRD1〜RD8の取り出しが完了しないからである。同様に、列アクセスが8ビットバースト領域の8ビット目(最後)から始まれば、さらに長い20nsのギャップが生じる。
図15に示した16ビットプリフェッチによる16ビットバーストのノンラップモードであっても、列アクセスが16ビットバースト領域の先頭から始まれば、図17(a)に示すように、行アクセスを繰り返すことにより、16ビットの読出データRD1〜RD16は連続的に出力される。この場合、16ビットの読出データRD1〜RD16はプリフェッチ/プリロードラッチからデータ入出力バス5に順に転送され、最後の読出データRD16が転送され終わる前に、次の16ビットの読出データRD1〜RD16の取り出しが完了しているので、読出データRDはデータ入出力バス5上でギャップを生じることなく出力される。
しかし、図17(b)に示すように、列アクセスが16ビットバースト領域の15ビット目(最後から2番目)から始まれば、5nsのギャップが生じる。15及び16ビット目の2ビットの読出データRD15及びRD16が転送されている間に、次の16ビットの読出データRD1〜RD16の取り出しが完了しないからである。同様に、列アクセスが16ビットバースト領域の16ビット目(最後)から始まれば、さらに長い20nsのギャップが生じる。
以上のように、従来のフルビットプリフェッチ方式では、バースト長又はページ長が長くなると、メモリセルアレイに流れる電流が増加するという問題があった。また、ノンラップバーストモードでは、列アクセスがバースト領域の最後又はその1つ前から始まると、ギャップが生じ、連続したバースト読出データが得られないという問題があった。
特開2002−298574号公報
本発明の目的は、消費電流を増大させることなく、バースト長を長くすることが可能な半導体記憶装置及びそのバースト動作方法を提供することである。
課題を解決するための手段及び発明の効果
本発明による半導体記憶装置は、データ入出力バスと、複数のラッチ回路と、メモリセルアレイと、センスアンプ活性化手段と、列デコーダと、制御手段とを備える。複数のラッチ回路は、データ入出力バスと共通に接続される。メモリセルアレイは、複数のビット線対と、複数のビットスイッチと、複数の列選択線と、複数のセンスアンプとを含む。複数のビットスイッチは、複数のラッチ回路と複数のビット線対との間に接続され、複数のグループに分割される。複数の列選択線は、複数のグループに対応して設けられる。各列選択線は、対応するグループに含まれる複数のビットスイッチに接続される。複数のセンスアンプは、複数のビット線対に接続される。センスアンプ活性化手段は、センスアンプを活性化する。列デコーダは、列選択線を駆動する。制御手段は、センスアンプの活性化中に列選択線のうち2つ以上を順に駆動するよう列デコーダを制御する。
本発明によるバースト動作方法は、センスアンプを活性化するセンスアンプ活性化ステップと、センスアンプの活性化中に列選択線のうち2つ以上を順に駆動する列選択線駆動ステップとを備える。
この半導体記憶装置及びそのバースト動作方法によれば、センスアンプが活性化されている間に2つ以上の列選択線が順に駆動される。1つ目の列選択線が駆動されると、その列選択線に対応するグループに含まれる複数のビットスイッチがオンになる。データの読出時には、これにより対応する複数のビット線対から複数ビットの読出データがラッチ回路にプリフェッチされる。続いて2つ目の列選択線が駆動されると、その列選択線に対応する他のグループに含まれる複数のビットスイッチがオンになる。これにより、さらに複数ビットの読出データがラッチ回路にプリフェッチされる。すなわち、列選択線が駆動されるごとに読出データが複数ビットずつラッチ回路にプリフェッチされる、データ入出力バスに1ビットずつ順に連続的に出力される。一方、データの書込時には、データ入出力バスから複数ビットの書込データがラッチ回路にプリロードされ、列選択線が駆動されるごとに書込データが複数ビットずつビット線対に与えられる。このようにセンスアンプが活性化されている間に複数ビットの読出又は書込データが複数回にわたって受け渡しされるので、消費電流を増大させることなく、バースト長を長くすることができる。
好ましくは、メモリセルアレイは複数のブロックに分割される。上記半導体記憶装置はさらに、ブロックを選択するブロック選択手段を備える。センスアンプ活性化手段は、選択されたブロック内のセンスアンプを選択的に活性化する。
一方、上記バースト動作方法はさらに、ブロックを選択するステップを備える。センスアンプ活性化ステップは、選択されたブロック内のセンスアンプを選択的に活性化する。
この場合、選択されたブロック内のセンスアンプが活性化され、選択されていないブロック内のセンスアンプは活性化されないので、センスアンプによる消費電流を低減することができる。
好ましくは、上記半導体記憶装置は外部クロックと同期して動作する。制御手段は外部クロックと非同期で2つ以上の列選択線を順に駆動する。
一方、列選択線駆動ステップは外部クロックと非同期で2つ以上の列選択線を順に駆動する。
この場合、列選択線は外部クロックと非同期で順に駆動されるので、複数ビットの読出データを複数回にわたって速やかにプリフェッチすることができ、ノンラップバーストモードでもデータ入出力バス上にギャップを生じることなく読出データを連続的に出力することができる。
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一又は相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
図1を参照して、本発明の実施の形態によるPSRAM10は、64MのメモリセルMCと、8Kのワード線WLと、8Kのビット線対BLとを含むメモリセルアレイ2を備える。メモリセルアレイ2はアレイブロックBK1及びBK2に分割される。
PSRAM10はさらに、ワード線WLを選択的に駆動する行デコーダ3と、ビット線対BLに沿って走る列選択線(図3)を駆動することによりビット線対BLを選択する列デコーダ4と、16個のデータ入出力バス5と、メモリセルアレイ2とデータ入出力バス5との間で読出又は書込データを授受するデータパス回路12とを備える。列デコーダ4はまた、選択アレイブロックBK1又はBK2を選択する機能も有する。
図2は、1つのアレイブロックBK1又はBK2に対応するデータパス回路12の半分の構成を示す。図2を参照して、データパス回路12の半分は、64個のセカンダリセンスアンプSSAと、64個の書込バッファWBと、256個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLLとを含む。よって、データパス回路12全体は、128個のセカンダリセンスアンプSSAと、128個の書込バッファWBと、512個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLLとを含む。
各セカンダリセンスアンプSSAは、メモリセルアレイ2から読み出された読出データを対応するプリフェッチ/プリロードラッチPFPLLに与える。各書込バッファWBは、データ入出力バス5から与えられた書込データを対応するプリフェッチ/プリロードラッチPFPLLに与える。プリフェッチ/プリロードラッチPFPLLは、読出又は書込データを一時的に保管する。
データ入出力バス5の各々に対応して16個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLLが設けられる。たとえば16個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜16は1本のデータ入出力バスI/O0と共通に接続される。
図3は、メモリセルアレイ2及びデータパス回路12の一部を詳細に示す。図3を参照して、ビット線対BL1〜BL8に対応してビットスイッチBSW1〜BSW8が設けられる。ビットスイッチBSW1〜BSW8は、ビット線対BL1〜BL8とローカル入出力線対LDQ1〜LDQ4との間に接続される。
また、4つのビット線対に対して1本ずつ列選択線が設けられる。各列選択線は対応する4つのビットスイッチに接続される。具体的には、列選択線CSL1はビットスイッチBSW1,BSW3,BSW5,BSW7に接続され、列選択線CSL2はビットスイッチBSW2,BSW4,BSW6,BSW8に接続される。
列デコーダ4(図1)は、列アドレス信号に応答して列選択線CSL1,CSL2を選択的に駆動する。列選択線CSL1が選択されるとビットスイッチBSW1,BSW3,BSW5,BSW7がオンになり、ビット線対BL1,BL3,BL5,BL7がローカル入出力線対LDQ1〜LDQ4に接続される。列選択線CSL2が選択されるとビットスイッチBSW2,BSW4,BSW6,BSW8がオンになり、ビット線対BL2,BL4,BL6,BL8がローカル入出力線対LDQ1〜LDQ4に接続される。
以上のようにビット線対及びビットスイッチは複数のグループに分割される。複数のグループに対応して複数の列選択線が設けられる。たとえばビット線対BL1,BL3,BL5,BL7及びビットスイッチBSW1,BSW3,BSW5,BSW7は、列選択線CSL1に対応する1つのグループに含まれる。また、ビット線対BL2,BL4,BL6,BL8及びビットスイッチBSW2,BSW4,BSW6,BSW8は、列選択線CSL2に対応するもう1つのグループに含まれる。
また、ローカル入出力線対LDQ1〜LDQ4に対応してメインスイッチMSW1〜MSW4及びメイン入出力線対MDQ1〜MDQ4が設けられる。メインスイッチMSW1〜MSW4はそれぞれローカル入出力線対LDQ1〜LDQ4及びメイン入出力線対MDQ1〜MDQ4の間に接続され、同時にオン又はオフになる。
また、メイン入出力線対MDQ1〜MDQ4に対応してセカンダリセンスアンプSSA及び書込バッファWBが設けられる。また、セカンダリセンスアンプSSA及び書込バッファWBに対応してプリフェッチ/プリロードラッチPFPLLが設けられる。メイン入出力線対MDQ1〜MDQ4の各々は、対応するセカンダリセンスアンプSSAを介して対応する2個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLLに接続される。たとえばメイン入出力線対MDQ1はセカンダリセンスアンプSSA1を介してプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1及びPFPLL2に接続される。また、メイン入出力線対MDQ1〜MDQ4の各々はまた、対応する書込バッファWBを介して対応する2個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLLに接続される。たとえば、メイン入出力線対MDQ1は、書込バッファWB1を介してプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1及びPFPLL2に接続される。
プリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜PFPLL8は、1本のデータ入出力バスI/O1に接続される。
図4は、列デコーダ4及びその周辺回路を示す。図4を参照して、PSRAM10はさらに、タイミング制御回路13と、シングルショット回路14と、遅延回路16と、OR回路18と、カウンタ20とを備える。
タイミング制御回路13は、センスアンプSAを活性化するためのセンスアンプイネーブル信号SEのほか、様々なタイミング制御信号を発生する。シングルショット回路14は、センスアンプイネーブル信号SEに応答してシングルショットパルスSSを発生する。遅延回路16は、シングルショットパルスSSを所定時間遅延させて遅延パルスDPを出力する。OR回路18は、シングルショットパルスSS及び遅延パルスDPの論理和を列イネーブル信号CEとして出力する。カウンタ20は列アドレスを保持し、その保持した列アドレスをシングルショットパルスSSの立ち下がりエッジでインクリメントする。列デコーダ4は列イネーブル信号CEに応答して活性化され、カウンタ20から与えられた列アドレスに応答して列選択線CSL1〜CSLnを駆動する。
図5を参照して、センスアンプイネーブル信号SEがH(論理ハイ)レベルに活性化されると、シングルショット回路14によりシングルショットパルスSSが発生される。シングルショットパルスSSは遅延回路16により所定時間だけ遅延され、遅延パルスDPが発生される。シングルショットパルスSS及び遅延パルスDPはOR回路18に与えられ、2回のパルスを含む列イネーブル信号CEが発生される。
まず列イネーブル信号CEの1回目のパルスが発生すると、列デコーダ4は活性化され、カウンタ20の列アドレスに応答して列選択線CSL1を駆動する。続いて、シングルショットパルスの立ち下がりエッジに応答してカウンタ20の列アドレスがインクリメントされる。次に列イネーブル信号CEの2回目のパルスが発生すると、列デコーダ4は再び活性化され、カウンタ20のインクリメントされた列アドレスに応答して列選択線CSL2を駆動する。
以上のように、センスアンプイネーブル信号SEに応答してセンスアンプSAが活性化されている間に、2本の列選択線CSL1,CSL2が順次駆動される。
次に、PSRAM10のバースト読出動作を説明する。
1)2ショット・4ビットプリフェッチによる8ビットバースト
図1〜図3及び図6を参照して、アレイブロックBK1及びBK2のうち1つ(図1ではBK2)が選択され、行アクセスに応じて1本のワード線WLが駆動されると、4Kのビット線対BLにデータが読み出される。そして、この4Kのビット線対BLに接続された4KのセンスアンプSAが活性化され、読み出されたデータが増幅される。
この状態で、まず列選択線CSL1が駆動される。これによりビットスイッチBSW1,BSW3,BSW5,BSW7がオンになり、ビット線対BL1,BL3,BL5,BL7からローカル入出力線対LDQ1〜LDQ4に4ビットの読出データRDが転送される。
続いて、メインスイッチMSW1〜MSW4がオンになると、4ビットの読出データRDはローカル入出力線対LDQ1〜LDQ4からさらにメイン入出力線対MDQ1〜MDQ4に転送される。そのため、4ビットの読出データRDはそれぞれセカンダリセンスアンプSSA1〜SSA4により増幅され、プリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜PFPLL4にラッチされる。
このように列選択線CSL1が駆動されると、ビット線対BL1,BL3,BL5,BL7からプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜PFPLL4に4ビットの読出データRDがプリフェッチされる。以下、列選択線の駆動又はこれによるビットスイッチのオン動作を「ショット」という。
引き続きこの状態で、列選択線CSL2が駆動される。これによりビットスイッチBSW2,BSW4,BSW6,BSW8がオンになり、ビット線対BL2,BL4,BL6,BL8からローカル入出力線対LDQ1〜LDQ4に4ビットの読出データRDが転送される。
続いて、メインスイッチMSW1〜MSW4がオンになると、4ビットの読出データRDは上記と同様にメイン入出力線対MDQ1〜MDQ4に転送され、それぞれセカンダリセンスアンプSSA1〜SSA4により増幅されるが、上記と異なりプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL5〜PFPLL8にラッチされる。
このように列選択線CSL2が駆動されると、ビット線対BL2,BL4,BL6,BL8からプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL5〜PFPLL8に4ビットの読出データRDがプリフェッチされる。
上記のように、1回の行アクセスに対して2回のショットで読出データRDが4ビットずつ2回プリフェッチされた結果、8ビットの読出データRDが8個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜PFPLL8にラッチされる。8ビットの読出データRDは、図7(a)に示すように、外部クロックに応答して1ビットずつ順に対応する1本のデータ入出力線I/O1に出力される。この場合のバースト長は8ビットである。
なお、図6に示したように上記の例ではセンスアンプが活性化されかつワード線WLが駆動されている間に列選択線CSL1,CSL2が順に駆動されているが、列選択線CSL1,CSL2が駆動されるときにワード線WLが駆動されている必要はなく、図8に示すようにセンスアンプさえ活性化されていればよい。すなわち、ワード線WLが立ち下がった後も所定時間だけセンスアンプの活性化を維持し、センスアンプの不活性化前に列選択線CSL1,CSL2を順に駆動するようにしてもよい。
2)2ショット・4ビットプリフェッチ・2行アクセスによる16ビットバースト
上記1)の動作は1回の行アクセスで8ビットのバースト読出データRDを出力しているが、図9(a)に示すように、2回の行アクセスで合計16ビットのバースト読出データRDを出力するようにしてもよい。
1回目の行アクセスに対する動作は上記の場合と同じで、8ビットの読出データRDが8個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜PFPLL8にラッチされる。
続いて、2回目の行アクセスで8ビットの読出データRDが8個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL9〜PFPLL16にラッチされる。具体的には、1回目のショットで4ビットの読出データRDがプリフェッチされ、4個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL9〜PFPLL12にラッチされる。そして、2回目のショットで4ビットの読出データRDがプリフェッチされ、4個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL13〜PFPLL16にラッチされる。
このように2回の行アクセスで16ビットの読出データRDが16個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜PFPLL16にラッチされ、外部クロックに応答して1ビットずつ順に対応する1本のデータ入出力バスI/O1に出力される。
3)4ショット・4ビットプリフェッチによる16ビットバースト
上記1)及び2)の動作は図6及び図8に示したように2本の列選択線CSL1,CSL2を順に駆動しているが、図10及び図11に示すように4本の列選択線CSL1〜CSL4を順に駆動してもよい。この場合、図12(a)に示すように、1回の行アクセスで16ビットのバースト読出データRDが出力される。
具体的には、1回目のショットで4ビットの読出データRD1〜RD4がプリフェッチされ、4個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜PFPLL4にラッチされる。2回目のショットで4ビットの読出データRD5〜RD8がプリフェッチされ、4個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL9〜PFPLL12にラッチされる。3回目のショットで4ビットの読出データRD9〜RD12がプリフェッチされ、4個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL9〜PFPLL12にラッチされる。そして、4回目のショットで4ビットの読出データRD13〜RD16がプリフェッチされ、4個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL13〜PFPLL16にラッチされる。
このように1回の行アクセスで16ビットの読出データRD1〜RD16が16個のプリフェッチ/プリロードラッチPFPLL1〜PFPLL16にラッチされ、外部クロックに応答して1ビットずつ順に対応する1本のデータ入出力バスI/O1に出力される。
上記から明らかなように、順に駆動すべき列選択線の数は2本以上であればよい。本例のようにプリフェッチ長が4ビットの場合に4本の列選択線CSL1〜CSL4を順に駆動すると、バースト長は16ビットとなる。一般に、バースト長=プリフェッチ長×ショット数となる。
4)ノンラップバースト
上記1)〜3)は、アクセスする先頭の列アドレスがバースト領域の先頭の列アドレスに一致する場合のバースト動作であるが、アクセスする先頭の列アドレスがプリフェッチ領域の最後の列アドレスに一致する場合の動作を以下に説明する。
図7(b)、図9(b)及び図12(b)に示すように、いずれの場合も最初のショットで4ビットの読出データRD1〜RD4がプリフェッチされ、次のショットでそれ以降の4ビットの読出データRD5〜RD8がプリフェッチされる。
ショットは外部クロックと非同期で、図4に示した内部のタイミング回路14,16,18で制御されるため、ショット相互間の時間は外部クロック周期の半分程度にすることができる。したがって、ノンラップバーストでもギャプなしで読出データRDを連続的に出力することができる。また、プリフェッチ領域を超えて連続的にアクセスすることもできる。
また、アレイ動作サイクル時間は8ビットのバーストにかかる時間よりもはるかに短いので、行アクセスと行アクセスとの間の時間はアレイ動作サイクル時間の2倍以上あり、この間にリフレッシュを挿入する時間は十分にあり、PSRAMに要求される内部自動リフレッシュの機能を満足することができる。
上記では読出動作を例に説明したが、書込動作も基本的に上記と同じである。
また、上記ではバースト長を8又は16ビットで説明したが、たとえば32又は64ビットでもよく、要するに、ワード線WLの長さが許す限り、いかなるバースト長であってもよい。したがって、プリフェッチ長を長くすることなく、非常に長いバースト長を実現することができる。しかも、そのような長いバースト動作をギャップなしで実現することができる。
このように2ショット・4ビットプリフェッチという基本動作により、プリフェッチ長は4ビットという短さでフルページに至るバースト長を低電力で実現することができる。
SDRAMのフルページバーストモードでは8Kのように多数のセンスアンプを活性化したままで列アドレスをアクセスすることにより実現しているが、PSRAMではリフレッシュを自動的に挿入するタイミングがなくなるため、このような動作モードは許されない。
以上のように本実施の形態によれば、バースト長に関係なく、1I/O当たりのプリフェッチ長は常に「4」である。バースト長を8ビットにするためには、従来は図13に示したように8KのセンスアンプSA1を活性化しなければならなかったのに対し、本実施の形態は図1に示したように4KのセンスアンプSAを活性化すればよい。このように活性化されるセンスアンプの数が半減するので、メモリセルアレイ2に流れる電流も半減する。
また、本実施の形態は、SDRAMと全く同じ動作を4ビットの短いプリフェッチで可能にし、しかも8ビットのバースト長よりもはるかに短いアレイ動作サイクル時間で行アクセスを繰り返すので、リフレッシュを挿入する時間を十分に取ることができ、PSRAMに必要な内部自動リフレッシュ機能を満たすことができる。
以上、本発明の実施の形態を説明したが、上述した実施の形態は本発明を実施するための例示に過ぎない。よって、本発明は上述した実施の形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施の形態を適宜変形して実施することが可能である。
本発明による半導体記憶装置は、特に通常のアクセス動作中にリフレッシュ動作の挿入が可能なDRAM(PSRAM)に利用可能である。
本発明の実施の形態によるPSRAMの構成を示す機能ブロック図である。 図1に示した各アレイブロックに対応するデータパス回路の半分の構成を示す機能ブロック図である。 図1及び図2に示したメモリセルアレイ及びデータパス回路の一部を詳細に示す機能ブロック図である。 図1に示した列デコーダ及びその周辺回路を示す機能ブロック図である。 図6に示した列デコーダ及びその周辺回路の動作を示すタイミング図である。 図1〜図5に示したPSRAMの動作を示すタイミング図である。 図1〜図5に示したPSRAMの2ショット・4ビットプリフェッチによる8ビットバースト動作を示すタイミング図である。 図6と異なる動作の他の例を示すタイミング図である。 図1〜図5に示したPSRAMの2ショット・4ビットプリフェッチ・2行アクセスによる16ビットバースト動作を示すタイミング図である。 図6と異なる4ショット動作を示すタイミング図である。 図10と異なる動作の他の例を示すタイミング図である。 図1〜図5に示したPSRAMの4ショット・4ビットプリフェッチによる16ビットバースト動作を示すタイミング図である。 8ビットプリフェッチによる8ビットバーストモードを採用した従来のPSRAMの構成を示す機能ブロック図である。 図13に示したPSRAMの動作を示すタイミング図である。 16ビットプリフェッチによる16ビットバーストモードを採用した従来のPSRAMの構成を示す機能ブロック図である。 図13に示したPSRAMのノンラップバースト動作を示すタイミング図である。 図15に示したPSRAMのノンラップバースト動作を示すタイミング図である。
符号の説明
2 メモリセルアレイ
3 行デコーダ
4 列デコーダ
5,I/O1〜I/O16 データ入出力バス
10 PSRAM
12 データパス回路
BK1,BK2 アレイブロック
BL,BL1〜BL8 ビット線対
BSW1〜BSW8 ビットスイッチ
CSL,CSL1〜CSLn 列選択線
MC メモリセル
PFPLL,PFPLL1〜PFPLL16 プリフェッチ/プリロードラッチ
SA,SA1,SA2 センスアンプ
SSA,SSA1〜SSA4 セカンダリセンスアンプ
WB,WB1〜WB4 書込バッファ
WL ワード線

Claims (3)

  1. データ入出力バスと、
    前記データ入出力バスと共通に接続された複数のラッチ回路と、
    複数のビット線対と、前記複数のラッチ回路と前記複数のビット線対との間に接続され、複数のグループに分割された複数のビットスイッチと、前記複数のグループに対応して設けられ、各々が対応するグループに含まれるビットスイッチに接続された複数の列選択線と、前記複数のビット線対に接続された複数のセンスアンプとを含むメモリセルアレイと、
    前記センスアンプを活性化するセンスアンプイネーブル信号を発生するタイミング制御回路と
    前記センスアンプイネーブル信号に応答して、出力にシングルショットパルスを発生するシングルショット回路と、
    前記シングルショットパルスに応答して出力に遅延パルスを発生する遅延回路と、
    前記シングルショットパルスが印加される第1入力及び前記遅延パルスが印加される第2入力を有し、前記シングルショットパルス及び前記遅延パルスの印加に応答して出力に列イネーブル信号を発生するOR回路と、
    列アドレスを保持し、前記シングルショットパルスの立ち下がりエッジに応答して前記列アドレスをインクリメントするカウンタと、
    前記列イネーブル信号に応答して活性化され、前記カウンタから与えられる列アドレスに応答して、列選択線を駆動する列デコーダとを備え、
    前記センスアンプの活性化中に前記列選択線のうち2つ以上を順に駆動する、半導体記憶装置。
  2. 請求項1に記載の半導体記憶装置であって、
    前記メモリセルアレイは複数のブロックに分割され、
    前記半導体記憶装置はさらに、
    前記ブロックを選択するブロック選択手段を備え、
    前記センスアンプ活性化手段は、前記選択されたブロック内のセンスアンプを選択的に活性化することを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 請求項1又は請求項2に記載の半導体記憶装置であって、
    前記半導体記憶装置は外部クロックと同期して動作し、前記制御手段は前記外部クロックと非同期で前記2つ以上の列選択線を順に駆動することを特徴とする半導体記憶装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11087828B2 (en) 2019-03-29 2021-08-10 Lapis Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor storage device for high-speed burst access

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101143471B1 (ko) * 2010-07-02 2012-05-11 에스케이하이닉스 주식회사 센스앰프 및 이를 포함하는 반도체 장치
US9721628B1 (en) * 2016-09-15 2017-08-01 Globalfoundries Inc. Address based memory data path programming scheme
US10838732B2 (en) * 2018-12-21 2020-11-17 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for ordering bits in a memory device
CN111489773B (zh) * 2019-01-29 2023-04-07 合肥格易集成电路有限公司 一种读取数据的电路、非易失存储器以及读取数据的方法
US11183231B2 (en) 2019-11-25 2021-11-23 Piecemakers Technology, Inc. Apparatus for enhancing prefetch access in memory module

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000195253A (ja) * 1998-12-25 2000-07-14 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Dram及びdramのデ―タ・アクセス方法
JP2000260181A (ja) * 1999-03-08 2000-09-22 Toshiba Corp 同期型半導体記憶装置
JP2000306379A (ja) * 1999-04-16 2000-11-02 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2001202780A (ja) * 2000-01-18 2001-07-27 Nec Corp 半導体記憶装置
JP2001332090A (ja) * 2000-05-22 2001-11-30 Samsung Electronics Co Ltd 半導体メモリ装置及びデータ伝送方法
JP2004095030A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Nec Electronics Corp 半導体記憶装置
JP2004095002A (ja) * 2002-08-29 2004-03-25 Fujitsu Ltd 半導体メモリ
JP2004259400A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5289413A (en) * 1990-06-08 1994-02-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Dynamic semiconductor memory device with high-speed serial-accessing column decoder
US5652723A (en) * 1991-04-18 1997-07-29 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device
JP3476231B2 (ja) * 1993-01-29 2003-12-10 三菱電機エンジニアリング株式会社 同期型半導体記憶装置および半導体記憶装置
KR960005625A (ko) * 1994-07-27 1996-02-23 김광호 테스트타임이 단축되는 반도체메모리장치 및 이를 위한 컬럼선택트랜지스터 제어방법
JPH08221978A (ja) * 1995-02-13 1996-08-30 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPH09198873A (ja) * 1996-01-19 1997-07-31 Sharp Corp 半導体記憶装置
JPH10111828A (ja) * 1996-09-27 1998-04-28 Internatl Business Mach Corp <Ibm> メモリシステム、データ転送方法
JPH10312684A (ja) * 1997-05-13 1998-11-24 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
JP3247639B2 (ja) * 1997-08-07 2002-01-21 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 半導体メモリ、半導体メモリのデータ読み出し方法及び書き込み方法
US6147919A (en) * 1998-06-29 2000-11-14 Fujitsu Limited Semiconductor memory employing direct-type sense amplifiers capable of realizing high-speed access
DE60035630T2 (de) * 1999-02-11 2008-02-07 International Business Machines Corporation Hierarchische Vorausladung in Halbleiterspeicheranordnungen
DE19924288B4 (de) * 1999-05-27 2006-08-31 Infineon Technologies Ag Integrierter Speicher
JP2001167580A (ja) * 1999-12-07 2001-06-22 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2002230968A (ja) * 2001-02-02 2002-08-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2002352576A (ja) * 2001-05-24 2002-12-06 Nec Corp 半導体記憶装置
KR100468719B1 (ko) * 2002-01-11 2005-01-29 삼성전자주식회사 N 비트 프리페치 방식과 2n 버스트 길이를 지원할 수있는 반도체 메모리 장치
JP4328495B2 (ja) * 2002-05-23 2009-09-09 エルピーダメモリ株式会社 半導体メモリ装置
JP3966506B2 (ja) * 2002-07-15 2007-08-29 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 半導体記憶装置
DE10232962B4 (de) * 2002-07-19 2004-07-08 Infineon Technologies Ag Schaltung und Verfahren zum Schreiben und Auslesen von Daten aus einer dynamischen Speicherschaltung
US7248511B2 (en) * 2005-02-24 2007-07-24 Infineon Technologies Ag Random access memory including selective activation of select line

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000195253A (ja) * 1998-12-25 2000-07-14 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Dram及びdramのデ―タ・アクセス方法
JP2000260181A (ja) * 1999-03-08 2000-09-22 Toshiba Corp 同期型半導体記憶装置
JP2000306379A (ja) * 1999-04-16 2000-11-02 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2001202780A (ja) * 2000-01-18 2001-07-27 Nec Corp 半導体記憶装置
JP2001332090A (ja) * 2000-05-22 2001-11-30 Samsung Electronics Co Ltd 半導体メモリ装置及びデータ伝送方法
JP2004095002A (ja) * 2002-08-29 2004-03-25 Fujitsu Ltd 半導体メモリ
JP2004095030A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Nec Electronics Corp 半導体記憶装置
JP2004259400A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11087828B2 (en) 2019-03-29 2021-08-10 Lapis Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor storage device for high-speed burst access

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