JP4787993B2 - インプリント方式の転写印刷方法、および転写印刷版 - Google Patents
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Description
1)転写印刷における凹凸の溝パターンの深さばらつきを小さくすること、および樹脂膜の厚さばらつきを小さくすること、また樹脂膜中への気泡の巻き込みを少なくすること。
1)転写印刷された樹脂膜上の凹凸の溝パターンの深さばらつきを小さくできる。
2)被印刷部材上の樹脂膜の厚さばらつきを小さくできる。
3)樹脂膜中への気泡の巻き込みを少なくできる。
4)離版時における転写印刷版への極度の応力の集中を防止できる。
5)転写印刷製品の歩留まりを向上できる。
6)製品のコスト低減が図れる。
以下に以上の実施形態を実施例により詳細を説明する。
PMMA樹脂を、同様に3インチφのナノガラス上にスピンコーターで塗布した。その後溶媒を乾燥させて、200ナノメートルの厚さの樹脂膜17を形成した。この樹脂膜17を形成したナノガラス基板(被印刷部材2)を、実施例1と同様にステージ12上に配置した。その後ステージの温度を100℃に設定し、ステージの温度の上昇を確認してから、赤外線温度計で直接に樹脂膜17の温度を測定し、上昇温度100℃を確認した。ステージ加熱は電熱ヒーターになっている。
Claims (5)
- 転写印刷版に凹凸の溝パターンを形成し、被印刷部材または被印刷部材上に形成された樹脂膜に前記転写印刷版の凹凸の溝パターンをインプリント方式により転写印刷する転写印刷方法において、
可撓性を有する前記転写印刷版を、その転写面を被印刷部材側に向けて湾曲させた状態で、且つ外部圧力が加わることで平面矯正可能で外部圧力を解放すると湾曲に戻る内部応力が作用する状態で支持し、湾曲した該転写印刷版に前記被印刷部材を印刷圧力により圧着させることで、前記転写印刷版をその内部応力に抗して平面矯正することで転写を行う工程と、転写工程後に前記印刷圧力を解除して、前記転写印刷版の湾曲戻りにより該転写印刷版が外周側から前記被印刷部材に対して離版する工程と、を有し、
前記転写印刷版は、転写面が被印刷部材側に湾曲するようあらかじめ曲面加工されているか、或いは曲げ応力が加えられて転写面が被印刷部材側に湾曲させられた構造を有することを特徴とする転写印刷方法。 - インプリント方式の転写印刷に用いる転写印刷版おいて、
転写面が被印刷部材側に湾曲するようあらかじめ曲面加工され、且つ外部圧力が加わることで平面矯正可能で、外部圧力を解放すると湾曲に戻る内部応力が作用する湾曲構造を有することを特徴とする転写印刷版。 - 請求項2において、
前記転写印刷版への曲面加工は、転写印刷版に用いる基板材料への研磨加工、切削加工を施すことにより行なわれる転写印刷版。 - インプリント方式に用いる転写印刷版において、
曲げ応力が加えられて、転写面が被印刷部材側に湾曲させられた構造を有し、且つ外部圧力が加わることで平面矯正可能で、外部圧力を解放すると湾曲に戻る内部応力が作用する湾曲構造を有することを特徴とする転写印刷版。 - 請求項4において、
前記転写印刷版の周辺付近に同心円状の加圧治具を配置し、この加圧治具によって転写印刷版に曲げ応力が加えられて湾曲させられた構造になっている転写印刷版。
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---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007134368A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Nikon Corp | パターン転写装置、露光装置及びパターン転写方法 |
US7906058B2 (en) * | 2005-12-01 | 2011-03-15 | Molecular Imprints, Inc. | Bifurcated contact printing technique |
JP4810319B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2011-11-09 | キヤノン株式会社 | 加工装置及びデバイス製造方法 |
JP4939134B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2012-05-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | インプリント装置およびインプリント方法 |
EP2091666B1 (en) * | 2006-12-04 | 2017-10-18 | Koninklijke Philips N.V. | Method and apparatus for applying a sheet to a substrate |
JP5422954B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2014-02-19 | 東レ株式会社 | 微細形状転写シートの製造方法及び製造装置 |
KR101503331B1 (ko) | 2007-09-28 | 2015-03-17 | 도레이 카부시키가이샤 | 미세 형상 전사시트의 제조방법 및 제조장치 |
JP5081662B2 (ja) * | 2008-02-25 | 2012-11-28 | 東芝機械株式会社 | 転写装置、この転写装置を用いた転写方法および型保持装置 |
JP4609562B2 (ja) * | 2008-09-10 | 2011-01-12 | 日立電線株式会社 | 微細構造転写用スタンパ及びその製造方法 |
GB2468120B (en) | 2009-02-20 | 2013-02-20 | Api Group Plc | Machine head for production of a surface relief |
NL2006929A (en) | 2010-08-05 | 2012-02-13 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography. |
JP5395769B2 (ja) * | 2010-09-13 | 2014-01-22 | 株式会社東芝 | テンプレートチャック、インプリント装置、及びパターン形成方法 |
JP2012089190A (ja) * | 2010-10-18 | 2012-05-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 未硬化レジスト塗布ディスクの下面側スタンパ装置からの位置ズレ防止方法 |
TWI578848B (zh) * | 2012-06-18 | 2017-04-11 | Embossing device and embossing method | |
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CN104425656B (zh) * | 2013-09-03 | 2018-01-19 | 和椿科技股份有限公司 | 压印装置与压印方式 |
JP6204776B2 (ja) * | 2013-09-27 | 2017-09-27 | 紀伊産業株式会社 | 射出成形品の製造方法 |
JP7134725B2 (ja) * | 2018-06-11 | 2022-09-12 | キヤノン株式会社 | 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、および物品の製造方法 |
CN111515095B (zh) * | 2020-05-13 | 2021-08-06 | 科瓦力(宁波)精密器械有限公司 | 基于充气式的多工位防伪贴印刷机器人整机 |
CN112676122A (zh) * | 2020-05-13 | 2021-04-20 | 绍兴权电科技有限公司 | 基于充气式拉伸消除颗粒间交叠的防伪贴印刷方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0270412A (ja) * | 1988-09-07 | 1990-03-09 | Hitachi Ltd | 合成樹脂成形品の製造用スタンパ |
JPH05345327A (ja) * | 1992-06-16 | 1993-12-27 | Canon Inc | 光情報記録媒体形成用ロール状スタンパおよび光情報記録媒体用基板の製造方法 |
JP2000039702A (ja) * | 1998-04-30 | 2000-02-08 | Ebara Corp | 微細パタ―ンの転写加工方法 |
EP1072954A3 (en) * | 1999-07-28 | 2002-05-22 | Lucent Technologies Inc. | Lithographic process for device fabrication |
JP4182689B2 (ja) * | 2002-06-14 | 2008-11-19 | 凸版印刷株式会社 | 凸版及びパターン形成方法 |
JP2004071831A (ja) * | 2002-08-06 | 2004-03-04 | Canon Inc | 微細加工装置およびこれを用いたデバイス |
JP4340086B2 (ja) * | 2003-03-20 | 2009-10-07 | 株式会社日立製作所 | ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法 |
JP2004335243A (ja) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 厚膜パターン形成方法 |
JP4183245B2 (ja) * | 2003-05-12 | 2008-11-19 | キヤノン株式会社 | アライメント方法、該アライメント方法を用いた露光方法 |
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2005
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111483856A (zh) * | 2020-04-22 | 2020-08-04 | 绍兴权电科技有限公司 | 一种通过离心拉伸实现颗粒分散的防伪标贴印刷机器人 |
CN111483856B (zh) * | 2020-04-22 | 2021-10-26 | 山东泰宝信息科技集团有限公司 | 一种通过离心拉伸实现颗粒分散的防伪标贴印刷机器人 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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