JP4789039B2 - ナノインプリント装置 - Google Patents
ナノインプリント装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4789039B2 JP4789039B2 JP2005375998A JP2005375998A JP4789039B2 JP 4789039 B2 JP4789039 B2 JP 4789039B2 JP 2005375998 A JP2005375998 A JP 2005375998A JP 2005375998 A JP2005375998 A JP 2005375998A JP 4789039 B2 JP4789039 B2 JP 4789039B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mold
- head
- nanoimprint
- molding
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00436—Shaping materials, i.e. techniques for structuring the substrate or the layers on the substrate
- B81C1/00444—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate
- B81C1/0046—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate using stamping, e.g. imprinting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/022—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing characterised by the disposition or the configuration, e.g. dimensions, of the embossments or the shaping tools therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/743—Patterned record carriers, wherein the magnetic recording layer is patterned into magnetic isolated data islands, e.g. discrete tracks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/022—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing characterised by the disposition or the configuration, e.g. dimensions, of the embossments or the shaping tools therefor
- B29C2059/023—Microembossing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
- B29L2011/0016—Lenses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
- B29L2011/0083—Reflectors
- B29L2011/0091—Reflex reflectors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2017/00—Carriers for sound or information
- B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
- B29L2017/003—Records or discs
- B29L2017/005—CD''s, DVD''s
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/86—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers
- G11B5/865—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers by contact "printing"
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
Description
モールドのパターンを被成型物に転写する際、転写するパターン形状によって、押し付け条件は大きく変動する。例えば、細かなパターンが密にある部分と、大きなパターンが祖に配置される部分とでは、成形に必要な押し付けエネルギー(力×押し付け時間)が異なってくる。そこで上記ナノインプリント装置の好ましい実施形態においては、前記ヘッドと前記モールドとの相対速度を前記モールドの位置に応じて可変自在とするように構成することが好ましい。また、前記ヘッドの押し付け力を、前記モールドの位置に応じて可変自在とするように構成したりすることが好ましい。パターンの形状に応じて上記相対速度や押し付け力を適切に調節することにより、パターン転写をより確実に行なうことができると共に、スループットの向上をもたらすことができる。
・ 前記被成形物における前記被成形領域を固定する被成形物固定具と、
・ 前記モールドをその一側部と他側部とにおいてモールド固定具を介して固定すると共に、前記一側部及び他側部を独立して昇降可能とするように構成されるモールド昇降機と、
・ ナノインプリント実行時に前記被成形物固定具及び前記モールド昇降機を前記ヘッドに対して相対的に移動させるステージ装置と、
・ 前記モールド昇降機の昇降及び前記ステージ装置の移動を制御する制御装置であって、前記ナノインプリント実行時に、前記ヘッドによる押し付けが終わった前記モールドの部分を前記被成形物から離型させるべく、前記モールドの前記一側部及び前記他側部のうちの一方を、前記ステージの移動に合わせて上昇又は下降させるように、前記モールド昇降機及び前記ステージ装置を制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする。
102 被加工基板
104 ステージ
106 モールド
108a,108b モールド保持部
110 モールド昇降機構
112 ヘッド
114 ヒータ
116 ヒータ
600 ナノインプリント装置
601 ベース板
603 ステッピングモータ
605 ローラーヘッド用支柱
609 ローラーヘッド
613 ベアリング取付板
614 電気モータ
615 プーリー
617 タイミングベルト
619 モールド
621 支柱
623 ステッピングモータ
627 プーラー
629 支柱
651 モールド固定ジグ
655 孔
657 スプリング
660 被成形体
Claims (13)
- 押し付けヘッドを用いてモールドを被成形物へ押し付けることにより、前記モールドに形成された微細パターンを前記被成形物に転写するナノインプリント装置であって、該装置は、被成形領域より押し付け面積の小さいヘッドを用いて押し付けを行なうとともに、該押し付けを行なう位置を徐々に変えることで前記被成形領域全体のナノインプリントを行なう装置であり、さらに該装置は、
・ 前記被成形物における前記被成形領域を固定する被成形物固定具と、
・ 前記モールドをその一側部と他側部とにおいてモールド固定具を介して固定すると共に、前記一側部及び他側部を独立して昇降可能とするように構成されるモールド昇降機と、
・ ナノインプリント実行時に前記被成形物固定具及び前記モールド昇降機を前記ヘッドに対して相対的に移動させるステージ装置と、
・ 前記モールド昇降機の昇降及び前記ステージ装置の移動を制御する制御装置であって、前記ナノインプリント実行時に、前記ヘッドによる押し付けが終わった前記モールドの部分を前記被成形物から離型させるべく、前記モールドの前記一側部及び前記他側部のうちの一方を、前記ステージの移動に合わせて上昇又は下降させるように、前記モールド昇降機及び前記ステージ装置を制御する制御装置と、
を備えるナノインプリントシステム。 - 前記制御装置は、前記ステージ装置の移動速度を、ナノインプリント実行中に可変制御できるように構成される、請求項1のいずれかに記載のナノインプリントシステム。
- 前記ヘッドによる押し付け力が前記制御装置によって制御されるように構成され、さらに前記制御装置は、前記押し付け力を、前記ステージ装置の移動に合わせて可変制御できるように構成される、請求項1又は2に記載のナノインプリントシステム。
- 前記ヘッド・前記被成形物固定具・前記ステージのいずれか1つ以上に前記制御装置によって温度制御されるヒータを備え、さらに前記制御装置は、前記ヒータの温度を、前記ステージ装置の移動に合わせて制御できるように構成される、請求項1から3のいずれかに記載のナノインプリントシステム。
- 前記ヘッドは、押し付け面が線状又は細長の形状を呈することを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載のナノインプリントシステム。
- 電気モータによって前記ヘッドの押し付け力を生成する、請求項1から5のいずれかに記載のナノインプリントシステム。
- 前記ヘッドは前記モールド上で転動可能に支持されるローラー型のヘッドである、請求項1から6のいずれかに記載のナノインプリントシステム。
- 前記ローラーヘッドを前記ステージの移動に連動して回転させるためのモータを備える請求項7に記載のナノインプリントシステム。
- 前記モールド固定具は、前記モールドを固定するモールド固定ジグと、該モールド固定ジグと前記モールド昇降機本体とを連結する弾性部材とを備える、請求項1から8のいずれかに記載のナノインプリントシステム。
- 前記弾性部材が脱着可能に構成される、請求項9に記載のナノインプリントシステム。
- 前記モールド固定ジグ及び前記モールド昇降機本体のそれぞれに、前記弾性部材を連結するための連結部を複数個設けたことを特徴とする、請求項10に記載のナノインプリントシステム。
- 前記被成形物が前記被成形物固定具よりも大きい場合に該被成形物を保持すると共に、前記ステージ装置の移動に合わせて及び前記ステージ装置の移動とは独立に、該被成形物を移動させうるガイド装置をさらに備える、請求項1から11のいずれかに記載のナノインプリントシステム。
- 前記制御装置が、前記被成形物固定具に固定されている前記被成形領域のナノインプリントを完了した後、前記ガイド装置によって前記被成形物の次の被成形領域を前記被成形物固定具上に給送すると共に該次の被成形領域を前記被成形物固定具に固定し、続いて該次の被成形領域のナノインプリントを行うように構成される、請求項12に記載のナノインプリントシステム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005375998A JP4789039B2 (ja) | 2005-06-10 | 2005-12-27 | ナノインプリント装置 |
US11/921,700 US20090174118A1 (en) | 2005-06-10 | 2006-05-31 | Method and device for nano-imprinting |
CA2611436A CA2611436C (en) | 2005-06-10 | 2006-05-31 | Method and device for nano-imprinting |
PCT/JP2006/310892 WO2006132119A1 (ja) | 2005-06-10 | 2006-05-31 | ナノインプリント方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005170301 | 2005-06-10 | ||
JP2005170301 | 2005-06-10 | ||
JP2005375998A JP4789039B2 (ja) | 2005-06-10 | 2005-12-27 | ナノインプリント装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007019451A JP2007019451A (ja) | 2007-01-25 |
JP4789039B2 true JP4789039B2 (ja) | 2011-10-05 |
Family
ID=37498321
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005375998A Expired - Fee Related JP4789039B2 (ja) | 2005-06-10 | 2005-12-27 | ナノインプリント装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090174118A1 (ja) |
JP (1) | JP4789039B2 (ja) |
CA (1) | CA2611436C (ja) |
WO (1) | WO2006132119A1 (ja) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4853312B2 (ja) | 2007-01-30 | 2012-01-11 | 日本電気株式会社 | テストベンチ生成機能を有する動作合成装置と方法及びプログラム |
KR100755235B1 (ko) | 2007-03-26 | 2007-09-05 | (주) 예스티 | 임프린팅장치 |
JP5207357B2 (ja) | 2007-03-29 | 2013-06-12 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ガラス部材の成形法および成形装置 |
US7641467B2 (en) * | 2007-05-02 | 2010-01-05 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
JP5666082B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2015-02-12 | 東芝機械株式会社 | 転写装置およびプレス装置 |
KR20100068830A (ko) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | 삼성전자주식회사 | 임프린트 몰드, 임프린트 장치 및 패턴 형성 방법 |
GB2468120B (en) * | 2009-02-20 | 2013-02-20 | Api Group Plc | Machine head for production of a surface relief |
JP5232077B2 (ja) | 2009-06-02 | 2013-07-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 微細構造転写装置 |
US8268226B2 (en) * | 2009-07-07 | 2012-09-18 | The Boeing Company | Curing system and method using electromagnetic force and conductive heat transfer |
JP5284212B2 (ja) | 2009-07-29 | 2013-09-11 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
US9465296B2 (en) | 2010-01-12 | 2016-10-11 | Rolith, Inc. | Nanopatterning method and apparatus |
MX2012008072A (es) * | 2010-01-12 | 2013-01-29 | Rolith Inc | Metodos y aparatos de nanomoldeado. |
JP5752889B2 (ja) * | 2010-03-08 | 2015-07-22 | 東芝機械株式会社 | 転写方法 |
US9688014B2 (en) | 2010-09-01 | 2017-06-27 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Transferring system and transferring method |
JP2013021194A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
TWI501861B (zh) * | 2011-12-06 | 2015-10-01 | 私立中原大學 | 滾輪式壓印系統 |
JP5944800B2 (ja) * | 2012-09-11 | 2016-07-05 | 東芝機械株式会社 | 転写装置 |
US20140084498A1 (en) * | 2012-09-22 | 2014-03-27 | Kuo-Ching Chiang | Lens with filter and method of manufacturing thereof |
CN103135338B (zh) * | 2012-10-12 | 2015-04-22 | 苏州富鑫林光电科技有限公司 | 纳米级软性模具制作方法与装置 |
US9272945B2 (en) | 2012-10-25 | 2016-03-01 | Corning Incorporated | Thermo-electric method for texturing of glass surfaces |
WO2014088107A1 (ja) * | 2012-12-06 | 2014-06-12 | Scivax株式会社 | ローラ式加圧装置、インプリント装置、ローラ式加圧方法 |
JP6592659B2 (ja) * | 2014-06-03 | 2019-10-23 | Scivax株式会社 | ローラ式加圧装置、インプリント装置およびローラ式加圧方法 |
TW201616553A (zh) * | 2014-07-17 | 2016-05-01 | Soken Kagaku Kk | 分步重複式壓印裝置以及方法 |
JP6421980B2 (ja) | 2015-03-02 | 2018-11-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | インプリント装置 |
JP6489309B2 (ja) | 2015-05-14 | 2019-03-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | インプリント方法およびインプリント装置 |
JP6587124B2 (ja) * | 2015-06-09 | 2019-10-09 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置及びインプリント方法 |
KR102392281B1 (ko) | 2016-09-05 | 2022-04-28 | 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 | 마이크로구조물 및/또는 나노구조물 엠보싱 방법 및 시스템 |
JP2018101671A (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
US11531267B2 (en) * | 2020-07-02 | 2022-12-20 | Himax Technologies Limited | Imprinting apparatus |
US11590688B2 (en) | 2020-07-02 | 2023-02-28 | Himax Technologies Limited | Imprinting apparatus |
CN113075861B (zh) * | 2021-04-01 | 2023-09-19 | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 | 一种新型纳米压印设备及其压印方法 |
KR20230032860A (ko) * | 2021-08-29 | 2023-03-07 | 하이맥스 테크놀로지스 리미티드 | 임프린팅 장치 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62117154A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | Ricoh Co Ltd | レプリカの転写・剥離装置 |
JPH03230334A (ja) * | 1990-02-02 | 1991-10-14 | Sharp Corp | 光メディア用基材の製造方法並びに製造装置 |
US5189953A (en) * | 1992-05-21 | 1993-03-02 | Consolidated Nbs, Inc. | Electric motor driven imprinter |
JPH09106585A (ja) * | 1995-10-06 | 1997-04-22 | Sony Corp | 光学記録媒体の製造方法 |
US6027595A (en) * | 1998-07-02 | 2000-02-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of making optical replicas by stamping in photoresist and replicas formed thereby |
JP2001058352A (ja) * | 1999-06-14 | 2001-03-06 | Dainippon Printing Co Ltd | 密着転写方法および装置ならびに転写型 |
JP3321129B2 (ja) * | 1999-11-17 | 2002-09-03 | 富士通株式会社 | 立体構造物転写方法及びその装置 |
JP4533542B2 (ja) * | 2001-02-07 | 2010-09-01 | 出光興産株式会社 | マイクロエンボスシートの製造方法 |
JP2004004212A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Shinzen:Kk | 電子写真用移し絵転写材 |
JP2004130557A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 微細な凹凸の製造方法 |
JP4317375B2 (ja) * | 2003-03-20 | 2009-08-19 | 株式会社日立製作所 | ナノプリント装置、及び微細構造転写方法 |
JP2005246810A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Seiko Epson Corp | レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ |
JP4665608B2 (ja) * | 2005-05-25 | 2011-04-06 | 株式会社日立プラントテクノロジー | 微細構造転写装置 |
-
2005
- 2005-12-27 JP JP2005375998A patent/JP4789039B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-05-31 CA CA2611436A patent/CA2611436C/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-31 US US11/921,700 patent/US20090174118A1/en not_active Abandoned
- 2006-05-31 WO PCT/JP2006/310892 patent/WO2006132119A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2611436A1 (en) | 2006-12-14 |
CA2611436C (en) | 2010-11-02 |
JP2007019451A (ja) | 2007-01-25 |
US20090174118A1 (en) | 2009-07-09 |
WO2006132119A1 (ja) | 2006-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4789039B2 (ja) | ナノインプリント装置 | |
US20100166906A1 (en) | Inprint equipment | |
JP4642897B2 (ja) | インプリント方法及びインプリント装置 | |
TWI392592B (zh) | 以中間印模進行圖案複製之裝置 | |
JP4814527B2 (ja) | インプリント・エンボッシング位置合せシステム | |
JP4787993B2 (ja) | インプリント方式の転写印刷方法、および転写印刷版 | |
JP4699767B2 (ja) | 恒温インプリント・エンボッシング・システム | |
US7798802B2 (en) | Dual-side imprinting lithography system | |
EP1972997B1 (en) | Nano-imprinting apparatus and method | |
JP5232077B2 (ja) | 微細構造転写装置 | |
US20100072665A1 (en) | Thermal imprinting device and thermal imprinting method | |
JP6465577B2 (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
KR20050090070A (ko) | 패턴형성장치, 패턴형성방법, 패턴형성시스템 | |
JP2005252237A (ja) | インプリント・エンボッシング・システム | |
JPWO2007094213A1 (ja) | インプリント装置及びインプリント方法 | |
US20070117389A1 (en) | Pattern formation method using nanoimprinting and device for carrying out same | |
JP5155814B2 (ja) | インプリント装置 | |
JP6592659B2 (ja) | ローラ式加圧装置、インプリント装置およびローラ式加圧方法 | |
JP2004288784A (ja) | ナノプリント装置、及び微細構造転写方法 | |
KR101166278B1 (ko) | 일정한 온도에서의 임프린트 리소그라피를 위한 방법 | |
JP5062781B2 (ja) | 超音波振動を利用したインプリント方法及び装置 | |
US9162389B2 (en) | Device for hot embossing of a polymer layer | |
JP2010274635A (ja) | インプリント装置、および、物品の製造方法 | |
KR100632741B1 (ko) | 패턴형성장치와 이를 이용한 패턴형성방법 | |
KR101208898B1 (ko) | 시트 제조 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070123 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110516 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110615 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110704 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110708 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140729 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140729 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |