JP2001058352A

JP2001058352A - 密着転写方法および装置ならびに転写型

Info

Publication number: JP2001058352A
Application number: JP20571999A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Matsumoto; 武司松本; Masayuki Uchida; 雅之内田; Takeshi Nakamura; 中村　　剛
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1999-06-14
Filing date: 1999-07-21
Publication date: 2001-03-06

Abstract

(57)【要約】【課題】密着性に優れる転写型を提供するとともに、さ
らにそれを用い、大面積で高精細のものを品質的にも満
足できかつ簡単な方法で形成できる密着転写方法および
密着転写装置を提供する。【解決手段】補強層とクッション層と型層とからなる３
層構造の転写型、その転写型の一部を隔壁方向と直交す
る方向に線状に基板に密着させた後に、隔壁方向と直交
する方向に密着領域を広げて行く密着過程と、その転写
型を反らせながら隔壁方向と直交する方向に沿って線状
の剥離境界を形成しながら一方の端から他方の端へ、ま
たは、両端から中心部に向けて剥離する剥離過程と、を
有する密着転写方法および密着転写装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は密着転写の技術分野
に属する。特に、プラズマディスプレイパネルの隔壁を
形成するための転写型、密着転写方法、密着転写装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤ
Ｐとも記す）は、その奥行きが薄いこと、軽量であるこ
と、さらに鮮明な表示と液晶パネルに比べて視野角が広
いことにより、大画面の表示装置として一般化しつつあ
る。一般に、ＰＤＰは、２枚の対向するガラス基板にそ
れぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にネ
オン、キセノン等を主体とするガスを封入した構造とな
っている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電
極周辺の微小なセル内で放電を起こし、これにより各セ
ルを発光させて表示を行うようにしている。特に、画像
表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に放
電発光させている。

【０００３】ここで、ＰＤＰの構成を、ＡＣ型ＰＤＰを
一例として説明しておく。ＡＣ型ＰＤＰの構成を図７に
示す。図７に示すように、背面板と前面板の２枚のガラ
ス基板７１０，７２０は対向して配設される。２枚のガ
ラス基板７１０，７２０は、通常は、背面板となるガラ
ス基板７２０上に平行に配列して設けられた隔壁（セル
障壁、またはリブとも言う）７３０により、一定の間隔
が保持される。

【０００４】ガラス基板７１０の背面側には、放電維持
電極である透明電極７４０とバス電極である金属電極７
５０とで構成される複合電極が平行に配列して設けられ
る。また、これを覆って、誘電体層７６０が設けられ、
さらにその上には保護層（ＭｇＯ層）７７０が設けられ
る。また、ガラス基板７２０の前面側には、前記複合電
極と直交するようにアドレス電極７８０が平行に配列し
て設けられる。さらに、隔壁７３０の壁面とセル底面を
覆うように蛍光面７９０が設けられる。隔壁７３０は放
電空間を区画するためのもので、区画された各放電空間
をセルないし単位発光領域と言う。

【０００５】このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前
面板上の複合電極間に交流電圧を印加し放電させる構造
である。この放電により生じる紫外線は蛍光体７９０を
発光させ、前面板を透過するその光によって表示が行わ
れる。なお、ＤＣ型ＰＤＰにあっては、電極は誘電体層
で被覆されていない構造を有する点でＡＣ型と相違する
が、放電による発光で表示が行われる原理は同じであ
る。また、図７に示すものは、ガラス基板７２０の一面
に下地層７６７を設けその上に誘電体層７６５を設けた
構造となっているが、下地層７６７、誘電体層７６５は
必ずしも必要としない。

【０００６】ガラス基板７２０への隔壁の形成方法とし
ては、従来、印刷法ないしサンドブラスト法が採られて
いた。印刷法の場合、ガラス基板に厚膜印刷法により隔
壁形成用ペーストを所定のパターンに印刷し、それを乾
燥する。隔壁の膜厚は厚く（たとえば１００〜２００μ
ｍの厚さ）１回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られないた
め、隔壁形成用ペーストの印刷および乾燥は複数回行
う。所定の膜厚が得られた後、ペーストの焼成がなされ
る。サンドブラスト法の場合は、隔壁形成材料をガラス
基板上に塗布し、更にこの上に所定のレジストパターン
を形成した後、研磨砂を吹きかけレジストパターンに対
応した形状に隔壁形成材料を加工して、これを焼成して
隔壁を形成する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、印刷法の場合
には、印刷を複数回行うため手間がかかる上に、形成さ
れた隔壁の形状も均一なものが得られないという問題が
ある。またサンドブラスト法の場合には、サンドブラス
ト処理の均一な切削性の確保や、粉塵の問題や、処理装
置や処理部材（研磨砂等）の維持が難しいという問題が
ある。このような状況のもと、ＰＤＰ用背面板の隔壁の
ような、大面積で高精細のものを品質的にも満足でき、
かつ簡単な方法で形成できる方法が求められている。

【０００８】そこで、密着転写方法により隔壁を形成す
る提案がなされている。密着転写方法は、隔壁素材を形
成すべき形状に適合する凹部を有するシート状の転写型
を用いて、まず、その凹部の隔壁素材を充填する。次
に、その転写用素材充填側をガラス基板に密着し、硬化
固定して、ガラス基板上に隔壁形状の転写用素材を転写
し、これを焼成して隔壁を形成する方法である。

【０００９】この密着転写方法においては、密着によっ
て転写が行われるのであるから、詳述するまでもなく、
転写の際における転写型とガラス基板との密着性が極め
て重要である。ガラス基板として面出し研磨を行った平
面性の良好なガラス基板が用いられれば密着性は大きな
問題とはならない。しかし、コスト面の要求からは平面
性や厚み精度があまり良くない通常のフローティングガ
ラスを用いることが好ましい。また、密着転写の前工程
において焼成やアニーリングが行われガラス基板に反り
が生じることもある。

【００１０】本発明は上記の問題を解決するためになさ
れたものである。その目的は、特に密着性に優れる転写
型を提供するとともに、さらにそれを用い、大面積で高
精細のものを品質的にも満足できかつ簡単な方法で形成
できる密着転写方法および密着転写装置を提供すること
にある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の課題は下記の本発
明によって解決する。すなわち、本発明の請求項１に係
る転写型は、隔壁素材を形成すべき形状に適合する凹部
を有するシート状の型であって、基板の凹凸に追従でき
る可撓性を有するようにしたものである。本発明によれ
ば、転写型が基板の凹凸に追従できる可撓性を有するか
ら、特に密着性に優れる転写型が提供される。また本発
明の請求項２に係る転写型は、請求項１に係る転写型に
おいて、前記転写型の主材料は金属材料で厚さが２００
μｍ〜３ｍｍであるようにしたものである。本発明によ
れば、基板の凹凸に追従できる可撓性を有するとともに
剥離の際に加わる力によっては破壊しない強度を有する
転写型が得られる。また本発明の請求項３に係る転写型
は、請求項１または２に係る転写型において、前記転写
型は補強層とクッション層を有するようにしたものであ
る。本発明によれば、前述の基板の凹凸に追従できる可
撓性と、剥離の際に加わる力によっては破壊しない強度
とにおいてより優れた転写型が得られる。

【００１２】また本発明の請求項４に係る密着転写方法
は、隔壁素材を形成すべき形状に適合する凹部を有する
転写型に充填する充填過程と、前記転写型を隔壁を形成
すべき基板上の密着する密着過程と、前記転写型を密着
した状態で前記隔壁素材を硬化させ前記基板上に固定す
る硬化過程と、前記転写型を剥離して前記基板上に所定
の形状の隔壁素材を残す剥離過程とから成る密着転写方
法において、前記転写型は基板の凹凸に追従できる可撓
性を有するシート状の型であるようにしたものである。
本発明によれば、転写型が基板の凹凸に追従できる可撓
性を有することにより、大面積で高精細のものを品質的
にも満足できかつ簡単な方法で形成できる密着転写方法
が提供される。また本発明の請求項５に係る密着転写方
法は、請求項４に係る密着転写方法において、前記密着
過程は、前記転写型の一部を前記基板に密着させ、隔壁
長手方向と直角方向に線状の初期密着領域を形成し、そ
の後に隔壁長手方向と平行な方向に密着領域を広げて行
く過程であるようにしたものである。本発明によれば、
転写型の一部を隔壁長手方向と直角方向に線状に基板に
密着させることにより、最初に部分的に完全な密着領域
が出現し、その後その密着領域がそのまま広げられる。
したがって、空気を抱き込むようなことがなく全体的に
完全な密着領域を形成することができる。また本発明の
請求項６に係る密着転写方法は、請求項５に係る密着転
写方法において、前記密着過程はローラによる加圧を適
用する過程であるようにしたものである。本発明によれ
ば、前述に加えてローラによる加圧を適用する密着過程
である。したがって、空気を抱き込むようなことがなく
全体的に完全な密着領域を形成することをより完璧に行
うことができる。また本発明の請求項７に係る密着転写
方法は、請求項４〜６のいずれかに係る密着転写装置に
おいて、前記密着過程は、前記密着の後から前記硬化過
程において前記隔壁素材を硬化させ前記基板上に固定す
る間において、前記転写型と前記基板との密着状態を確
保する過程であるようにしたものである。本発明によれ
ば、硬化過程において極めて良好な密着状態が確保さ
れ、硬化した隔壁素材（すなわち隔壁）と基板との固着
を極めて強固とすることができる。また本発明の請求項
８に係る密着転写方法は、請求項７に係る密着転写方法
において、前記密着状態の確保は、前記転写型の型形成
面の反対側面である背面を加圧する背面加圧により行わ
れ、その背面加圧において加圧偏差（背面の各位置にお
ける圧力の偏差）を小さくする圧力拡散部材が適用され
るようにしたものである。本発明によれば、圧力拡散部
材が適用され背面加圧における加圧偏差が小さくなる。
したがって、転写型の全面において極めて良好な密着状
態が確保され、硬化した隔壁素材（すなわち隔壁）と基
板との固着を極めて強固とすることができる。また本発
明の請求項９に係る密着転写方法は、請求項４〜８のい
ずれかに係る密着転写方法において、前記剥離過程は、
前記転写型を反らせ隔壁長手方向と直角方向に線状の剥
離境界を形成し、さらに前記転写型を反らせながら隔壁
長手方向と平行方向に一方の端から他方の端へ、また
は、両端から中心部に向けて前記剥離境界を移動して剥
離する過程であるようにしたものである。本発明によれ
ば、転写型を反らせながら隔壁長手方向と直角方向に線
状の剥離境界が形成され、そのまま一方の端から他方の
端へ、または、両端から中心部に向けて剥離が行われ
る。すなわち、転写型や隔壁には無理な力が作用せず、
転写型や隔壁は破壊せず、また隔壁はガラス基板に固定
された状態を保つことができる。したがって、全体的に
完全な剥離を容易に行うことができる。また本発明の請
求項１０に係る密着転写方法は、請求項９に係る密着転
写方法において、前記剥離過程は、剥離境界においてロ
ーラによる案内を適用しながら剥離するようにしたもの
である。本発明によれば、前述に加えてローラによる案
内を適用する剥離過程である。したがって、全体的に完
全な剥離をより容易かつより完璧に行うことができる。

【００１３】また本発明の請求項１１に係る密着転写装
置は、隔壁素材を形成すべき形状に適合する凹部を有す
る転写型に充填する充填手段と、前記転写型を隔壁を形
成すべき基板上の密着する密着手段と、前記転写型を密
着した状態で前記隔壁素材を硬化させ前記基板上に固定
する硬化手段と、前記転写型を剥離して前記基板上に所
定の形状の隔壁素材を残す剥離手段とから成る密着転写
装置において、前記転写型は基板の凹凸に追従できる可
撓性を有するシート状の型であるようにしたものであ
る。本発明によれば、転写型が基板の凹凸に追従できる
可撓性を有することにより、大面積で高精細のものを品
質的にも満足できかつ簡単な方法で形成できる密着転写
装置が提供される。また本発明の請求項１２に係る密着
転写装置は、請求項１１に係る密着転写装置において、
前記密着手段は、前記転写型の一部を前記基板に密着さ
せ、隔壁長手方向と直角方向に線状の初期密着領域を形
成し、その後に隔壁長手方向と平行な方向に密着領域を
広げて行く手段であるようにしたものである。本発明に
よれば、転写型の一部を隔壁長手方向と直角方向に線状
に基板に密着させることにより、最初に部分的に完全な
密着領域が出現し、その後その密着領域がそのまま広げ
られる。したがって、空気を抱き込むようなことがなく
全体的に完全な密着領域を形成することができる。また
本発明の請求項１３に係る密着転写装置は、請求項１２
に係る密着転写装置において、前記密着手段はローラに
よる加圧を適用する手段であるようにしたものである。
本発明によれば、前述に加えてローラによる加圧を適用
する密着手段である。したがって、空気を抱き込むよう
なことがなく全体的に完全な密着領域を形成することを
より完璧に行うことができる。また本発明の請求項１４
に係る密着転写装置は、請求項１１〜１３のいずれかに
係る密着転写装置において、前記密着手段は、前記密着
の後から前記硬化手段により前記隔壁素材を硬化させ前
記基板上に固定する間（硬化過程）において、前記転写
型と前記基板との密着状態を確保する手段であるように
したものである。本発明によれば、硬化過程において極
めて良好な密着状態が確保され、硬化した隔壁素材（す
なわち隔壁）と基板との固着を極めて強固とすることが
できる。また本発明の請求項１５に係る密着転写装置
は、請求項１４に係る密着転写装置において、前記密着
状態の確保は、前記転写型の型形成面の反対側面である
背面を加圧する背面加圧により行われ、その背面加圧に
おいて加圧偏差（背面の各位置における圧力の偏差）を
小さくする圧力拡散部材が適用されるようにしたもので
ある。本発明によれば、圧力拡散部材が適用され背面加
圧における加圧偏差が小さくなる。したがって、転写型
の全面において極めて良好な密着状態が確保され、硬化
した隔壁素材（すなわち隔壁）と基板との固着を極めて
強固とすることができる。また本発明の請求項１６に係
る密着転写装置は、請求項１５に係る密着転写装置にお
いて、前記密着手段は、ベルトと、ローラと、、ローラ
支持体と、エアシリンダと、移動ステージとを有し、前
記ベルトは前記圧力拡散部材となる弾力性と可撓性を有
するループベルトであり、前記ローラは平面に配列し回
転軸が互いに平行に複数が存在し、また前記ローラは前
記ベルトを走行可能に巻き付けるとともに平面に支持
し、前記ローラ支持体は前記複数のローラを回転自在に
支持し、前記エアシリンダは前記ローラ支持体に変位を
伝達することにより前記ベルトを前記転写型の背面に押
し当てる加圧位置とその背面から離れる退避位置とに変
位し、前記移動ステージは前記ローラ支持体を前記変位
が可能に支持するとともに前記転写型の隔壁長手方向と
平行方向に移動するようにしたものである。本発明によ
れば、弾力性と可撓性を有するループベルトを圧力拡散
部材とする密着手段により転写型の全面において極めて
良好な密着状態が確保される。また本発明の請求項１７
に係る密着転写装置は、請求項１５に係る密着転写装置
において、前記密着手段は、バックアップローラと、ベ
ルトと、ローラ支持体と、密着ローラと、移動ステージ
と、エアバックとを有し、前記バックアップローラは平
面に配列し回転軸が互いに平行に複数が存在し、前記ベ
ルトはループベルトであり前記バックアップローラに走
行可能に巻き付けられるとともに平面に支持され、前記
ローラ支持体は前記バックアップローラを回転自在に支
持し、前記密着ローラは前記ベルトに先行して前記転写
型を密着させ前記初期密着領域を形成するとともに前記
エアバックの膨張領域を規制し、前記移動ステージは前
記ローラ支持体と密着ローラを支持するとともに前記転
写型の隔壁長手方向と平行方向に移動し、前記エアバッ
クは前記圧力拡散部材であって前記転写型の背面を被覆
するように存在し、前記密着ローラの前方の非膨張領域
においては加圧せず、前記前記密着ローラの後方の膨張
領域においては加圧空気を導入して膨張し前記バックア
ップローラに背後を支持されて前記転写型を加圧するよ
うにしたものである。本発明によれば、加圧空気を導入
して膨張領域を形成するエアバックを圧力拡散部材とす
る密着手段により転写型の全面において極めて良好な密
着状態が確保される。また本発明の請求項１８に係る密
着転写装置は、請求項１１〜１７のいずれかに係る密着
転写装置において、前記剥離手段は、前記転写型を反ら
せ隔壁長手方向と直角方向に線状の剥離境界を形成し、
さらに前記転写型を反らせながら隔壁長手方向と平行方
向に一方の端から他方の端へ、または、両端から中心部
に向けて前記剥離境界を移動して剥離する手段であるよ
うにしたものである。本発明によれば、転写型を反らせ
ながら隔壁長手方向と直角方向に線状の剥離境界が形成
され、そのまま一方の端から他方の端へ、または、両端
から中心部に向けて剥離が行われる。すなわち、転写型
や隔壁には無理な力が作用せず、転写型や隔壁は破壊せ
ず、また隔壁はガラス基板に固定された状態を保つこと
ができる。したがって、全体的に完全な剥離を容易に行
うことができる。また本発明の請求項１９に係る密着転
写装置は、請求項１８に係る密着転写装置において、前
記剥離手段は、剥離境界においてローラによる案内を適
用しながら剥離するようにしたものである。本発明によ
れば、前述に加えてローラによる案内を適用する剥離手
段である。したがって、全体的に完全な剥離をより容易
かつより完璧に行うことができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】次に、本発明について実施の形態
により説明する。本発明は、密着転写方法と密着転写装
置、および、その方法、装置で好適に用いることができ
る転写型を含んでいる。最初に本発明の転写型について
説明し、その後で密着転写方法と密着転写装置について
説明する。本発明の転写型の構成の一例を図１に示す。
図１において、１０１は補強層、１０２はクッション
層、１０３は型本体、１０４は隔壁形成用凹部である。
本発明の転写型は、隔壁形成用凹部１０４に転写用素材
を充填し、その転写用素材充填側を転写対象とする基板
に密着し、その転写用素材を基板上に転写形成するため
の型である。図１に示す転写型は、転写型の一例であっ
て３層構造となっている。本発明の転写型は１層であっ
てもよく、その１層の転写型においては、図１における
型本体１０３だけで構成される。まず１層の転写型につ
いて説明し、その後で、図１に示す３層の転写型につい
て説明する。

【００１５】１層の転写型においては、転写型の厚み
は、基板の凹凸に対する追従性だけを考慮した場合に
は、薄ければ薄いほど好ましい。また、密着時、剥離時
において、転写型を反らせた場合に転写型が塑性変形し
難くするためにも、転写型の厚みは薄ければ薄いほど好
ましい。しかし、薄すぎると、現実的には剥離時に転写
型の端を引っ張るなどの操作を行った場合に、転写型に
局部的な塑性変形を起こさせるなどハンドリングにおけ
る問題が発生し易くなる。１層の転写型には、そのバラ
ンスをとった厚みが必要とされる。

【００１６】図１に示す３層の転写型においても、型本
体１０３はできるだけ薄いほうが基板の凹凸に対する追
従性がよい。ただし、密着時、剥離時、等において型本
体１０３に外力が働くため、型本体１０３が塑性変形し
てしまうことがある。補強層１０１を設け、すなわち型
本体１０３と補強材とを貼り合わせ、転写型にかかる外
力を補強層１０１に分散させ、型本体１０３を塑性変形
しにくくすることができる。ところが単純に、補強層１
０１と型本体１０３とを強固に貼り合わせると、基板の
凹凸に対する転写型の追従性を損なう。そのため、補強
層１０１と型本体１０３の間に適度なクッション層１０
２を設けることが適当である。

【００１７】転写型（または型本体１０３）を電鋳法に
より作製した場合（製法の一例について詳細を後述す
る）における、密着転写を行った場合の転写型（または
型本体１０３）の物性を下記の表１に示す。

【表１】

【００１８】表１に示す実施例の結果から明らかなよう
に、転写型の主材料は金属材料（電鋳型）で厚さが２０
０μｍ〜３ｍｍとなるようにしたものは、密着転写時に
おける基板への追従性においても、曲げ、などによる型
の変形においても良好な結果が得られる。また転写型は
補強層１０１とクッション層１０２を有するようにした
ものは、密着転写時における基板への追従性において
も、曲げ、などによる型の変形においても、さらに良好
な結果が得られる。

【００１９】次に、本発明の転写型または型本体１０３
の製造方法の一例について図２に基づいて説明する。ま
ず、図２（ａ）に示すように、形成しようとする凹部の
形状に対応した所定形状に、遮光性薄膜（パターン）２
２０を形成する。遮光性薄膜２２０としては、種々の金
属薄膜、有機薄膜、遮光性塗料が用いられる。形成方法
としては、たとえば、ベース基板の一面にレジストを所
定の形状に形成しておき、レジスト面側の全面に銀鏡反
応で、銀被膜を形成した後、レジストを除去する方法が
ある。または、蒸着、スパッタ等により、ベース基板の
一面に遮光性薄膜を形成し、さらにその上に、フォトリ
ソ法により所定形状にレジストを形成する。次に、その
レジストを耐エッチングマスクとして、その遮光性薄膜
をエッチングする。そして、レジストを除去すること
で、図２（ａ）に示す遮光性薄膜（パターン）２２０を
得ることもできる。または、ベース基板自体にエッチン
グ加工を施し、所定形状に対応した溝部を形成し、その
溝部に遮光性で耐薬品性の塗料を充填することで、図２
（ａ）に示す遮光性薄膜（パターン）２２０を得ること
もできる。

【００２０】次に、図２（ｂ）に示すように、ベース基
板２１０の遮光性薄膜（パターン）２２０形成側の面全
体を覆い、凹部の深さに相当する厚さでネガ型の感光性
レジスト層２４０を配設する。次に、図２（ｃ）に示す
ように、ベース基板２１０の感光性レジスト層２４０の
覆われていない面（背面側）から、所定の電離放射線２
５０を全面照射し、遮光性薄膜（パターン）２２０の開
口から感光性レジスト２４０を露光して硬化する。次
に、図２（ｄ）に示すように、感光性レジスト２４０を
現像して、遮光性薄膜（パターン）２２０が露出するよ
うに、所定形状に感光性レジスト層のパターン（硬化部
２４０Ａ）を得る。

【００２１】感光性レジスト２４０としては、目的とす
る凹部を形成するのに適したものであれば特に限定され
ない。すなわち、形成する凹部の深さに相当する厚さが
得られるもので、かつ、めっき剥離性、解像性の良いも
のが好ましい。たとえば、プラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）用背面板の隔壁（１００〜２００μｍ）程度
の厚さを得たい場合には、ドライフィルムレジスト（デ
ュポンＭＲＣドライフィルム株式会社製、ＦＲＡ−５１
７−５０、またはニチゴー・モートン株式会社製、ＮＩ
Ｔ−６５０）等のレジストを使用できる。

【００２２】次に、図２（ｅ）に示すように、感光性レ
ジストの硬化部２４０Ａ、遮光性薄膜２２０を覆うよう
に導電性薄膜２７０を形成する。導電性薄膜２７０を形
成する方法としては、感光性レジストの硬化部２４０Ａ
と遮光性薄膜２２０の表面部（露出部９に、無電解めっ
きを行うための活性化処理を施してから、無電解めっき
を行う。無電解めっきが好ましいがこれに限定されな
い。次に、図２（ｆ）に示すように、導電性薄膜２７０
の上に電解メッキを施す。次に、図２（ｇ）に示すよう
に、ベース基板２１０とその上に形成された感光性レジ
ストの硬化部２４０Ａ、遮光性薄膜２２０から電解めっ
き層２８０と導電性薄膜２７０とを剥離して、電解めっ
き層２８０と導電性薄膜２７０からなる転写型を得る。

【００２３】上記のようにして、剥離して得られた電解
めっき層２８０と導電性薄膜２７０からなるものをその
まま転写型としても良いが、さらに、必要に応じて、転
写性を向上させるための離型処理を、または、耐久性を
向上させるための硬化処理を施し、これを転写型として
も良い。この場合の離型処理、硬化処理は、導電性薄膜
２７０の表面上に、または、電解メッキ層２８０から導
電性薄膜２７０を除去した状態で、電解めっき層２８０
の表面上に施す。具体的には、離型処理としては、ＰＴ
ＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）含浸無電解Ｎｉめ
っきが挙げられ、硬化処理としては、硬質Ｃｒメッキが
挙げられるが、それぞれ、これに限定されるものではな
い。

【００２４】次に、本発明の密着転写方法および密着転
写装置について説明する。本発明の密着転写装置の構成
の一例を図３に示す。図３において、３０１はワーク架
台，３０２は密着部架台、３０３はガラス定盤、３０４
は露光用光源、３０５は位置検出用カメラ、３０６は位
置決め機構、３０７は密着ローラ、３２０はガラス基
板、３２１は転写型端である。

【００２５】ワーク架台３０１はＰＤＰを構成する材料
であるガラス基板３２０（ワーク）を支持する架台であ
る。ガラス基板３２０はワーク架台３０１の上面に設け
られたガラス定盤３０３に載せられる。ガラス定盤３０
３が用いられるのは隔壁素材として光硬化型隔壁素材を
用いることができるようにするためである。２液硬化型
隔壁素材等の光硬化型でない隔壁素材を用いる場合には
不透明な材料で造られた定盤を用いてもよい。図４に示
すように、ワーク架台３０１には、ガラス基板３２０が
載せられるガラス定盤３０３の面に対し反対側に露光用
光源３０４が設けられている。露光用光源３０４が放射
する光はガラス定盤３０３を透過してガラス基板３２０
に達し、さらにガラス基板３２０を透過して隔壁素材に
達し、その隔壁素材を露光する。

【００２６】ガラス基板３２０には、すでに電極層およ
び誘電体層が形成されている。好適な実施形態として
は、たとえば、電極層は焼成済で有機分のないものと
し、誘電体層は適度の弾性、塑性変形性などの転写適正
を持たせるために未焼成状態としておき、隔壁形成の後
に誘電体層、隔壁層の同時焼成を行う。ただし、電極層
についても未焼成とし、３層を同時に焼成するようにす
るとさらに工程短縮することができる。

【００２７】また、ワーク架台３０１には、そのガラス
基板３２０と転写型との位置合わせを行うための位置検
出用カメラ３０５と位置決め機構３０６が設けられてい
る。図１に示す一例では、ガラス基板３２０をガラス定
盤３０３に固定し、位置決め機構３０６は転写型を移動
して位置決めを行う。すなわち、ガラス定盤３０３はガ
ラス基板３２０を固定する固定機構（図示せず）を有す
る。この固定機構は、ガラス基板３２０の表面において
吸着する吸着機構、ガラス基板３２０の端部において当
接する当て機構、ガラス基板３２０の表面や端部をクラ
ンプするクランプ機構、等により実現することができ
る。

【００２８】転写型は一端を位置決め機構３０６に支持
されている。位置決め機構３０６が変位すると、その変
位は支持された一端から転写型に伝達される。位置検出
用カメラ３０５はガラス定盤３０３を介してガラス基板
３２０および転写型の表面に設けられた位置合わせ用の
複数のマークを撮像する。そして、そのマークの撮像画
像に基づいてデータ処理部（図示せず）において各々の
マークにおける位置ずれ量が演算される。さらに、この
各々の位置ずれ量を最小化するように、データ処理部に
おいて操作量が演算される。位置決め機構３０６はその
操作量を入力し、位置決め機構３０６によって位置
（ｘ，ｙ，θ）の修正が行われる。

【００２９】密着部架台３０２は、ワーク架台３０１に
セットされたガラス基板３２０と転写型とを押圧して密
着させる機構、図１に示す一例では密着ローラ３０７が
設けられた架台である。密着ローラ３０７は、個別に上
下させる機構を有し、ローラ表面の材質をゴムとしたゴ
ムローラを使用することができる。たとえば、ゴム硬度
４０度、ローラ径１００ｍｍφ、ローラピッチ１０２ｍ
ｍ、押しつけ圧力０．５〜５ｋｇｗ／ｃｍ幅、において
適正な押圧を行うことができるが、本発明はこれに限定
されるものではない。

【００３０】密着ローラ３０７は一団となってワーク架
台３０２に設けられたレール（図示せず）上を移動する
機構を有する。密着時には、密着ローラ３０７は一団と
なって移動し転写型をガラス基板３２０へ密着して行き
（前進し）、全体が密着すると転写型とガラス基板３２
０を一体に支持する。また剥離時には、位置決め機構３
０６に支持されていない方の、転写型の一端を機械装置
（図示せず）によって引き上げるのと同期して、密着ロ
ーラ３０７は一団となって密着する場合とは反対方向に
移動する（後退する）。このとき、転写型と基板３２０
の剥離線が維持され、また剥離速度を一定に維持するこ
とができる。

【００３１】以上の構成において、本発明の密着転写装
置の動作について説明する。本発明の密着転写装置の動
作（密着動作）の絵図を図４（Ａ）〜図４（Ｄ）に示
す。転写型の隔壁素材を形成すべき形状に適合する凹部
には隔壁素材を充填しておく。この凹部は、この隔壁素
材の充填は充填手段（図示せず）において行われる（充
填過程）。また、転写型とガラス基板３２０はワーク架
台３０１にセッしておく。すなわち、位置決め機構３０
６によって転写型を支持し、ガラス定盤３０３にガラス
基板３２０を固定する。このとき、転写型の隔壁素材を
充填した面とガラス基板３２０の面とが対向するように
セットする。

【００３２】図４（Ａ）はそれらをセットした状態を示
している。図４（Ａ）に示すように、転写型とガラス基
板３２０とはほぼ平行に離れて対向してセットされてい
る。転写型の一端は前述のように位置決め機構３０６に
よって支持されている。また、転写型の他方の一端は、
その一端を支持する機構（図示せず）によって支持され
ている。この状態で、位置検出用カメラ３０５による位
置ずれ検出用のマークの撮像が行われ、転写型とガラス
基板３２０との位置決めのための一連の動作が行われ
る。図４（Ａ）においては、転写型とガラス基板３２０
とはほぼ平行に離れて対向してセットされている。しか
し、位置決め機構３０６によって支持される一端の近辺
の位置ずれ検出用のマークの撮像だけで済ませる場合に
は、転写型の他方の一端はもっと上の位置にあってもよ
い。

【００３３】このように準備ができたところで密着動作
を開始する。密着動作の最初のステップとして、まず、
密着ローラ３０７の一部が転写型の一端の上方に位置す
るように、一団となっている密着ローラ３０７を移動す
ることである。そして、位置決め機構３０６によって支
持されている転写型の一端の近辺を、その密着ローラ３
０７の一部を降下することにより押圧し、転写型とガラ
ス基板３２０とを部分的に密着する。この密着過程の最
初のステップにおいて、転写型の一部を基板に密着さ
せ、隔壁長手方向と直角方向に線状の初期密着領域を形
成する。図４（Ｂ）は、その密着過程の最初のステップ
を終了した状態を示している。

【００３４】密着動作の次のステップは、隔壁長手方向
と平行する方向に密着領域を広げて行くステップであ
る。図４（Ｃ）は、その密着過程の次のステップの途上
を示している。一団となっている密着ローラ３０７をさ
らに移動するとともに、密着ローラ３０７の内で転写型
の上方に達した密着ローラを順次降下させ、密着領域を
広げるとともに、すでに密着した部分の密着を保持す
る。また、密着ローラ３０７の移動に同期して、転写型
の他方の一端を支持する機構によって、転写型の他方の
一端は降下させられる。図４（Ｄ）は、密着過程が終了
し転写型とガラス基板３２０との密着が完全に行われた
状態を示している。

【００３５】本発明の密着転写装置の動作についてさら
に先を説明する。密着転写装置の次の動作のステップ
は、図４（Ｄ）に示す完全密着状態において、露光用光
源３０４を点灯し隔壁素材を露光することである。この
ステップにより、隔壁素材を硬化しガラス基板上に固定
する（硬化過程）。この硬化過程においても前述の密着
過程が継続するようにし、密着の後から硬化過程におい
て転写型と基板との密着状態を確保するようにする。こ
れにより硬化した隔壁素材（すなわち隔壁）と基板との
固着を極めて強固とすることができる。

【００３６】続くステップにおいて密着転写装置は、前
述の密着過程の逆の動作を行う。すなわち、図４（Ｄ）
→（Ｃ）→（Ｂ）→（Ａ）の順に剥離する動作を行う
（剥離過程）。この剥離過程は、転写型を反らせ隔壁長
手方向と直角方向に線状の剥離境界を形成し、さらに前
記転写型を反らせながら隔壁長手方向と平行方向に一方
の端から他方の端へ、または、両端から中心部に向けて
前記剥離境界を移動して剥離する過程である。この剥離
は、剥離境界においてローラによる案内を適用しながら
順次おこなわれる。図４に示す密着転写装置の構成の一
例においては、一方の端から他方の端へ向けて剥離が行
われるが、両端から中心部に向けて剥離するように構成
してもよい。

【００３７】上述の密着過程と剥離過程を模式図として
図８と図９に示す。図８、図９に基づきより判り易く密
着過程と剥離過程について説明する。図８、図９におい
て、８０１は充填済転写型、８０２は被転写基板、８０
３は初期密着領域、８０４は拡大途中の密着領域、８０
５は最終の密着領域、８０６は線状の剥離境界、８０７
は形成した隔壁である。まず、図８のに示すように、
充填済転写型８０１と被転写基板８０２との一部を密着
させることによって初期密着領域８０３を形成する。初
期密着領域８０３は隔壁長手方向と直角方向の線状の領
域である。

【００３８】次に、その形成した初期密着領域８０３を
拡大する。拡大途中の密着領域８０４を図８のに示
す。そして、図８のに示すように、最終的に充填済転
写型８０１と被転写基板８０２とにおける、所定の密着
すべき領域の全体を密着し密着過程を終了する。

【００３９】密着過程に続き硬化過程が行われる。その
後の剥離過程は、まず、（充填済）転写型８０１を反ら
せて被転写基板８０２との密着領域の一部を剥離させる
ことによって線状の剥離境界８０６を形成する。図９の
に示すように、さらに（充填済）転写型８０１を反ら
せながら形成した剥離境界８０３を移動する。この剥離
境界８０３の移動は、隔壁長手方向と平行方向に、密着
領域における一方の端から他方の端へ、または、両端か
ら中心部に向けて行われる。そして、図９のに示すよ
うに、最終的に（充填済）転写型８０１と被転写基板８
０２とを完全に剥離し剥離過程を終了する。

【００４０】上述の図４に示す密着過程の一例において
は、一団となっている密着ローラ３０７を使用する。こ
の密着ローラ３０７は直接的に転写型に接触して加圧し
密着が行われる。このとき密着ローラ３０７と転写型と
は線接触を行うこととなり、転写型の背面加圧における
加圧偏差（背面の各位置における圧力の偏差）は必ずし
も小さくならない。加圧偏差を小さくすることにより、
転写型の全面において極めて良好な密着状態が確保され
る。また、その密着状態を確保したまま硬化過程を行う
ことにより、硬化した隔壁素材（すなわち隔壁）と基板
との固着を極めて強固とすることができる。そこで圧力
拡散部材を適用して加圧偏差を小さくすることができる
密着過程の一例について、次に、説明する。

【００４１】圧力拡散部材を適用して加圧偏差を小さく
する密着転写装置の一例（その１）を図１０に示す。図
１０において、１１はベルト、１２ａ，１２ｂ，１２
ｃ，・・・はローラ、１３ａ，１３ｂはエアシリンダ
ー、１４はローラ支持体、８０１は充填済転写型、８０
２は被転写型である。ベルト１１には圧力拡散部材とな
る弾力性と可撓性を有するループベルトを使用する。ま
た、図１０に示すように、ローラ１２ａ，１２ｂ，１２
ｃ，・・・は平面に配列し回転軸が互いに平行に複数が
存在する。このローラはベルト１１を走行可能に巻き付
けるとともに平面に支持するバックアップローラであ
る。ローラ支持体１４はローラ１２ａ，１２ｂ，１２
ｃ，・・・を回転自在に支持する。

【００４２】エアシリンダ１３ａ，１３ｂはローラ支持
体１４に変位を伝達することによりベルト１１を充填済
転写型８０１の背面に押し当てる加圧位置とその背面か
ら離れる退避位置とに変位する。図１０には図示してい
ないが、移動ステージが存在する。その移動ステージは
ローラ支持体１４を前述の変位が可能となるように支持
する。また、移動ステージは充填済転写型８０１の隔壁
長手方向と平行方向に移動するようにしたものである。

【００４３】以上の構成において、次に、この図１０に
示す密着転写装置の動作を説明する。まず、移動ステー
ジは充填済転写型８０１の手前（図１０において左側）
に位置している。エアシリンダ１３ａ，１３ｂは加圧位
置に変位するが、この位置においてはベルト１１は充填
済転写型８０１に接触せず、したがって充填済転写型８
０１を加圧しない。次に、移動ステージは転写型８０１
は転写型８０１に向かって（図１０において右方向）に
移動を開始する。この移動により、ベルト１１は充填済
転写型８０１に接触し、充填済転写型８０１の型面の一
部を加圧し、充填済転写型８０１と被転写基板８０２と
の初期密着領域を形成する。図１０（Ａ）は初期密着領
域が形成された状態を示す。

【００４４】この後、移動ステージは充填済転写型８０
１に沿ってさらに前方に（図１０において右方向）移動
し、充填済転写型８０１と被転写基板８０２との密着領
域を拡大して行く。このとき、ベルト１１の充填済転写
型８０１に接触している部分には摩擦力が働き滑ること
がなく、ベルト１１はローラ１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，
・・・の周りをループを描いて回転移動する。図１０
（Ｂ）は密着領域を拡大する状態を示している。このよ
うに密着領域を拡大するから、空気を抱き込むようなこ
とがなく全体的に完全な密着領域を形成することができ
る。

【００４５】移動ステージは移動を続け密着領域をさら
に拡大して行き、充填済転写型８０１の全型面に密着領
域を拡大すると停止する。図１０（Ｃ）は所定の密着す
べき領域の全体を密着し密着過程を終了した状態を示
す。図１０（Ｃ）に示すように、ベルト１１が圧力拡散
部材となる弾力性と可撓性を有することと、ローラ１２
ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・がバックアップローラとし
てベルト１１を平面に支持することから、充填済転写型
８０１の背面加圧における加圧偏差を小さくすることが
できる。これにより、転写型の全面において極めて良好
な密着状態が確保される。また、この状態のまま硬化過
程を行うことにより、硬化した隔壁素材（すなわち隔
壁）と基板との固着を極めて強固とすることができる。

【００４６】次に、圧力拡散部材を適用して加圧偏差を
小さくする密着転写装置の別の一例（その２）を図１１
に示す。図１１において、２０はエアバック、２１はベ
ルト、２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，・・・はバックアップ
ローラ、２３はエアシリンダー、２４は密着ローラ、８
０１は充填済転写型、８０２は被転写基板である。エア
バック２０には圧縮空気の導入口が設けられており、そ
の導入口から圧縮空気を導入し膨張させることによりエ
アバック２０は圧力拡散部材として機能する。エアバッ
ク２０は密着ローラ２４によって領域を区分されてお
り、密着ローラ２４よりも導入口の側においてだけ圧縮
空気を導入し膨張させることができる。

【００４７】また、図１１に示すように、バックアップ
ローラ２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，・・・は平面に配列し
回転軸が互いに平行に複数が存在する。このバックアッ
プローラローラ２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，・・・はベル
ト２１を走行可能に巻き付けるとともに平面に支持す
る。バックアップローラローラ２２ａ，２２ｂ，２２
ｃ，・・・はベルト２１を介してエアバック２０を平面
に支持しバックアップする。

【００４８】エアシリンダ２３は密着ローラ２４に変位
を伝達することによりエアバック２０を転写型の背面に
押し当てる加圧位置とその背面から離れる退避位置とに
変位する。加圧位置において密着ローラ２４はエアバッ
ク２０に線状の密封境界を形成し、エアバック２０の領
域を区分する。密着ローラ２４による加圧力はエアシリ
ンダ２３に導入する圧縮空気の圧力によって適正に調節
することができる。図１０には図示していないが、移動
ステージが存在する。その移動ステージはバックアップ
ローラローラ２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，・・・を支持す
るとともに、密着ローラ２４を前述の変位が可能となる
ように支持する。また、移動ステージは充填済転写型８
０１の隔壁長手方向と平行方向に移動するようにしたも
のである。

【００４９】以上の構成において、次に、この図１１に
示す密着転写装置の動作を説明する。まず、移動ステー
ジは充填済転写型８０１の手前（図１１において左側）
の密着過程を開始する位置に移動する。その位置におい
て、エアシリンダ１３ａ，１３ｂは加圧位置に変位す
る。この変位により、密着ローラ２４は圧縮空気の導入
口の直近においてエアバック２０を加圧し線状の密封境
界を形成する。密封境界はエアバック２０の領域を２つ
に区分する。ここで導入口から圧縮空気をエアバック２
０に導入する。これにより、密封境界よりも導入口の側
の領域には圧縮空気が導入され膨張するが、導入口の反
対側の領域には圧縮空気は導入されない。次に、移動ス
テージは充填済転写型８０１に向かって（図１０におい
て右方向）に移動を開始する。移動中も圧縮空気が導入
されエアバック２０は膨張範囲を広げる。この移動によ
り、エアバック２０は充填済転写型８０１の背面から型
形成部分の一部を加圧し、初期密着領域を形成する。図
１１（Ａ）は初期密着領域が形成された状態を示す。

【００５０】この後、移動ステージは充填済転写型８０
１に沿ってさらに前方に（図１１において右方向）移動
し密着領域を拡大して行く。このとき、バックアップロ
ーラローラ２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，・・・はベルト２
１を介してエアバック２０をバックアップし、充填済転
写型８０１には背面加圧が行われる。ベルト２１のエア
バック２０に接触している部分には摩擦力が働き滑るこ
とがなく、ベルト２１はローラ２２ａ，２２ｂ，２２
ｃ，・・・の周りをループを描いて回転移動する。図１
１（Ｂ）は密着領域を拡大する状態を示している。この
ように密着領域を拡大するから、空気を抱き込むような
ことがなく全体的に完全な密着領域を形成することがで
きる。

【００５１】移動ステージは移動を続け密着領域をさら
に拡大して行き、充填済転写型８０１の全型面に密着領
域を拡大すると停止する。図１１（Ｃ）は所定の密着す
べき領域の全体を密着し密着過程を終了した状態を示
す。図１１（Ｃ）に示すように、エアバック２０が圧力
拡散部材となる弾力性と可撓性を有することと、ローラ
２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，・・・がベルト２１を介して
エアバック２０を平面に支持することから、充填済転写
型８０１の背面加圧における加圧偏差を小さくすること
ができる。これにより、転写型の全面において極めて良
好な密着状態が確保される。また、この状態のまま硬化
過程を行うことにより、硬化した隔壁素材（すなわち隔
壁）と基板との固着を極めて強固とすることができる。

【００５２】次に、本発明の密着転写方法および密着転
写装置について、さらに別の一例を説明する。前述の図
３において一例を示した密着転写装置の構成において
は、位置決め、密着、露光硬化、剥離の４つの必須工程
を１つのステーションで行うこととなるため、特に、隔
壁素材が硬化に時間を要するような材料である場合に
は、密着転写装置を専有する時間が長くなり密着転写装
置の稼動率が実質的に低下するという問題がある。そこ
で、次に説明する一例においては、位置決め、密着、露
光硬化、剥離の４つの必須工程の内で、すくなくとも露
光硬化を別のステーションに分離し、稼動率を実質的に
向上させるものである。

【００５３】この一例の密着転写装置におけるワーク架
台の構成の一例を図５に示す。図５に示すワーク架台は
前述の一例におけるワーク架台３０１に相当する。図５
において、５０１は密着装置（剥離装置）定盤、５０２
はハンドリングプレート、５０３はシール、５１１は真
空経路ａ、５１２は真空経路ｂ、５１３は真空経路ｃ、
５２０は被転写基板、５２１は転写型である。密着装置
（剥離装置）定盤５０１はガラス定盤３０３に、被転写
基板５２０はガラス基板３２０に、転写型５２１は転写
型に相当する。ただし、図３に示した一例においては、
ガラス基板３２０はガラス定盤３０３の上に直接載せら
れているが、図５に示す一例においてはハンドリングプ
レート５０２を介して被転写基板５２０が載せられてい
る。このハンドリングプレート５０２を有するところ
が、図５に示すワーク架台とワーク架台３０１との大き
な相違点である。

【００５４】ハンドリングプレート５０２は隔壁素材を
硬化するために露光する必要がある場合には、当然なが
ら光透過性を有する材料、たとえばガラス材料によって
構成する。真空経路ｂと真空経路ｃとは、図３に示す一
例におけるガラス基板３２０を固定する機構に相当す
る。真空経路ｃはハンドリングプレート５０２を固定す
る機構である。図５に示す一例においては、密着装置
（剥離装置）定盤５０１は光透過性を有する材料によっ
て構成する必要がない。したがって、固定する機構に関
しては制約が少ない。図３に示したクランプ機構の他
に、より確実で簡便に平面精度を得ることができる真空
固定機構を適用することができる。

【００５５】まず、真空経路ｃを真空として密着装置
（剥離装置）定盤５０１の所定位置にハンドリングプレ
ート５０２を固定する。また、真空経路ｂを真空として
ハンドリングプレート５０２の所定位置に被転写基板５
２０を固定する。次に、図３に一例を示した方法によ
り、被転写基板５２０と転写型５２１の位置決めを行
う。その位置決めの後に、図３に示したように、密着ロ
ーラ３０７を移動して（前進させて）被転写基板５２０
と転写型５２１とを密着する。さらに、真空経路ａを真
空とし、したがって空間ｄを真空として被転写基板５２
０と転写型５２１とを完全に密着するとともに、ハンド
リングプレート５０２と被転写基板５２０と転写型５２
１とを固定する。

【００５６】次に、密着ローラ３０７を移動し（後退さ
せ）押圧力を開放する。また、真空経路ｃだけを大気圧
に戻し、密着装置（剥離装置）定盤５０１と所定位置に
ハンドリングプレート５０２との固定を解き放ち、ハン
ドリングプレート５０２を移動可能とする。次に、ハン
ドリングプレート５０２と被転写基板５２０と転写型５
２１とを一組として、コロ、エア浮上方式、ロボットハ
ンド、等で密着部架台３０２から取り出し、露光ステー
ションへ搬送する。

【００５７】次に、露光ステーションについて説明を行
う。露光ステーションの構成の一例を絵図として図６に
示す。図６に示すように、密着ステーションから、一組
となったハンドリングプレート５０２と被転写基板５２
０と転写型５２１とからなるワーク架台が搬送され、搬
送されながら露光用光源から放射される光によって隔壁
素材が露光硬化される。さらに、そのワーク架台は剥離
ステーションへと搬送される。剥離ステーションにおい
ては、ワーク架台は剥離ステーションにセットされ、図
３に示す一例で説明したのと同様の方法で剥離を行うこ
とができる。剥離ステーションは密着ステーションと同
様に構成することができるが、当然ながら、位置決め機
構、密着保持機構、等は不要である。

【００５８】以上、本発明について実施の形態に基づい
て説明を行ったが、本発明はこの実施の形態だけに限定
されるものではなく、本発明の技術思想に基づいて様々
な形態で実施することができ、それらも本発明に含まれ
ることは言うまでもないことである。たとえば、露光ス
テーションは、一例として図６に示す形態を挙げたが、
個別の露光ステーションを１〜複数設けるようにするこ
とができる。また、図６に示す形態においては、密着ス
テーションや剥離ステーションの生産速度に合わせて、
露光ステーションの全長を決定することにより設備稼動
効率を最適化することができる。またたとえば、密着時
に転写される基板側の転写面と逆側にもクッション性を
与える素材を適用し、転写型側に押しつけるように構成
すると転写型と基板との密着性はさらに良好となる。ま
たたとえば、一団の密着ローラにおいて、先頭の密着ロ
ーラ以外は、密着保持が目的であるから、必ずしもロー
ラではなく、たとえば、流体を詰めた袋状のもので加圧
するように構成することができる。またたとえば、転写
型の材料としては金属は適正を有する典型的な材料とし
て示したものである。金属以外にも同様の可撓性を有
し、熱、力、等の外乱に対して変形を起こさず十分な寸
法精度が得られるものであれば、樹脂、ガラス繊維、セ
ラミック等の材料や、金属を含めてそれらの材料との複
合材料を使用することができる。またさらに、その表面
に離型層などを設けて離型性を向上させる、等の物性を
向上させる加工を行うことができる。

【００５９】

【発明の効果】以上のように、本発明の請求項１に係る
転写型によれば、転写型が基板の凹凸に追従できる可撓
性を有するから、特に密着性に優れる転写型が提供され
る。また本発明の請求項２に係る転写型によれば、基板
の凹凸に追従できる可撓性を有するとともに剥離の際に
加わる力によっては破壊しない強度を有する転写型が得
られる。また本発明の請求項３に係る転写型によれば、
前述の基板の凹凸に追従できる可撓性と、剥離の際に加
わる力によっては破壊しない強度とにおいてより優れた
転写型が得られる。

【００６０】また本発明の請求項４に係る密着転写方法
によれば、転写型が基板の凹凸に追従できる可撓性を有
することにより、大面積で高精細のものを品質的にも満
足できかつ簡単な方法で形成できる密着転写方法が提供
される。また本発明の請求項５に係る密着転写方法によ
れば、空気を抱き込むようなことがなく全体的に完全な
密着領域を形成することができる。また本発明の請求項
６に係る密着転写方法によれば、空気を抱き込むような
ことがなく全体的に完全な密着領域を形成することをよ
り完璧に行うことができる。また本発明の請求項７に係
る密着転写方法によれば、硬化過程において極めて良好
な密着状態が確保され、硬化した隔壁素材（すなわち隔
壁）と基板との固着を極めて強固とすることができる。
また本発明の請求項８に係る密着転写方法によれば、転
写型の全面において極めて良好な密着状態が確保され、
硬化した隔壁素材（すなわち隔壁）と基板との固着を極
めて強固とすることができる。また本発明の請求項９に
係る密着転写方法によれば、全体的に完全な剥離を容易
に行うことができる。また本発明の請求項１０に係る密
着転写方法によれば、全体的に完全な剥離をより容易か
つより完璧に行うことができる。

【００６１】また本発明の請求項１１に係る密着転写装
置によれば、転写型が基板の凹凸に追従できる可撓性を
有することにより、大面積で高精細のものを品質的にも
満足できかつ簡単な方法で形成できる密着転写装置が提
供される。また本発明の請求項１２に係る密着転写装置
によれば、空気を抱き込むようなことがなく全体的に完
全な密着領域を形成することができる。また本発明の請
求項１３に係る密着転写装置によれば、空気を抱き込む
ようなことがなく全体的に完全な密着領域を形成するこ
とをより完璧に行うことができる。また本発明の請求項
１４に係る密着転写装置によれば、硬化過程において極
めて良好な密着状態が確保され、硬化した隔壁素材（す
なわち隔壁）と基板との固着を極めて強固とすることが
できる。また本発明の請求項１５に係る密着転写装置に
よれば、転写型の全面において極めて良好な密着状態が
確保され、硬化した隔壁素材（すなわち隔壁）と基板と
の固着を極めて強固とすることができる。また本発明の
請求項１６に係る密着転写装置によれば、弾力性と可撓
性を有するループベルトを圧力拡散部材とする密着手段
により転写型の全面において極めて良好な密着状態を確
保できる。また本発明の請求項１７に係る密着転写装置
によれば、加圧空気を導入して膨張領域を形成するエア
バックを圧力拡散部材とする密着手段により転写型の全
面において極めて良好な密着状態を確保できる。また本
発明の請求項１８に係る密着転写装置によれば、全体的
に完全な剥離を容易に行うことができる。また本発明の
請求項１９に係る密着転写装置によれば、全体的に完全
な剥離をより容易かつより完璧に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写型の構成の一例を示す図である。

【図２】本発明の転写型または型本体の製造方法の一例
を示す図である。

【図３】本発明の密着転写装置の構成の一例を示す図で
ある。

【図４】本発明の密着転写装置の動作（密着動作）を示
す絵図である。

【図５】本発明の密着転写装置におけるワーク架台の構
成の別の一例を示す図である。

【図６】本発明の密着転写装置における露光ステーショ
ンの構成の一例を示す絵図である。

【図７】ＡＣ型ＰＤＰの構成の一例を示す構成図であ
る。

【図８】本発明の密着転写装置における密着過程を示す
模式図である。

【図９】本発明の密着転写装置における剥離過程を示す
模式図である。

【図１０】圧力拡散部材を適用して加圧偏差を小さくす
る密着転写装置の一例（その１）を示す図である。

【図１１】圧力拡散部材を適用して加圧偏差を小さくす
る密着転写装置の一例（その２）を示す図である。

【符号の説明】

１１ベルト１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・ローラ１３ａ，１３ｂエアシリンダー１４ローラ支持体２０エアバック２１ベルト２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，・・・バックアップローラ２３エアシリンダー２４密着ローラ１０２クッション層１０３型本体１０４隔壁形成用凹部２１０ベース電極２２０導電性薄膜２４０感光性レジスト層２５０電離放射線２７０導電性薄膜２８０電解めっき層３０１ワーク架台３０２密着部架台３０３ガラス定盤３０４露光用光源３０５位置検出用カメラ３０６位置決め機構３０７密着ローラ３２０ガラス基板３２１転写型端５０１密着装置（剥離装置）定盤５０２ハンドリングプレート５０３シール５２０被転写基板５２１転写型７１０ガラス基板（前面板）７２０ガラス基板（背面板）７３０隔壁（セル障壁、またはリブとも言う）７４０透明電極７５０金属電極７６０誘電体層７７０保護層（ＭｇＯ層）７８０アドレス電極７９０蛍光面８０１充填済転写型８０２被転写基板８０３初期密着領域８０４拡大途中の密着領域８０５最終の密着領域８０６線状の剥離境界８０７形成した隔壁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者中村剛東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 4F209 AH42 AJ02 AJ03 AJ09 PA02 PA06 PB01 PN06 PN09 PQ09 PQ11 PQ14 PQ16 5C027 AA09 5C040 GF19 JA19 JA20 JA28 JA31 LA17 MA23 MA24 MA25

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】隔壁素材を形成すべき形状に適合する凹部
を有するシート状の型であって、基板の凹凸に追従でき
る可撓性を有することを特徴とする転写型。
【請求項２】請求項１記載の転写型において、前記転写
型の主材料は金属材料で厚さが２００μｍ〜３ｍｍであ
ることを特徴とする転写型。
【請求項３】請求項１または２記載の転写型において、
前記転写型は補強層とクッション層を有することを特徴
とする転写型。
【請求項４】隔壁素材を形成すべき形状に適合する凹部
を有する転写型に充填する充填過程と、前記転写型を隔
壁を形成すべき基板上の密着する密着過程と、前記転写
型を密着した状態で前記隔壁素材を硬化させ前記基板上
に固定する硬化過程と、前記転写型を剥離して前記基板
上に所定の形状の隔壁素材を残す剥離過程とから成る密
着転写方法において、前記転写型は基板の凹凸に追従で
きる可撓性を有するシート状の型であることを特徴とす
る密着転写方法。
【請求項５】請求項４記載の密着転写方法において、前
記密着過程は、前記転写型の一部を前記基板に密着さ
せ、隔壁長手方向と直角方向に線状の初期密着領域を形
成し、その後に隔壁長手方向と平行な方向に密着領域を
広げて行く過程であることを特徴とする密着転写方法。
【請求項６】請求項５記載の密着転写方法において、前
記密着過程はローラによる加圧を適用する過程であるこ
とを特徴とする密着転写方法。
【請求項７】請求項４〜６のいずれか記載の密着転写装
置において、前記密着過程は、前記密着の後から前記硬
化過程において前記隔壁素材を硬化させ前記基板上に固
定する間において、前記転写型と前記基板との密着状態
を確保する過程であることを特徴とする密着転写方法。
【請求項８】請求項７記載の密着転写方法において、前
記密着状態の確保は、前記転写型の型形成面の反対側面
である背面を加圧する背面加圧により行われ、その背面
加圧において加圧偏差（背面の各位置における圧力の偏
差）を小さくする圧力拡散部材が適用されることを特徴
とする密着転写方法。
【請求項９】請求項４〜８のいずれか記載の密着転写方
法において、前記剥離過程は、前記転写型を反らせ隔壁
長手方向と直角方向に線状の剥離境界を形成し、さらに
前記転写型を反らせながら隔壁長手方向と平行方向に一
方の端から他方の端へ、または、両端から中心部に向け
て前記剥離境界を移動して剥離する過程であることを特
徴とする密着転写方法。
【請求項１０】請求項９記載の密着転写方法において、
前記剥離過程は、剥離境界においてローラによる案内を
適用しながら剥離することを特徴とする密着転写方法。
【請求項１１】隔壁素材を形成すべき形状に適合する凹
部を有する転写型に充填する充填手段と、前記転写型を
隔壁を形成すべき基板上の密着する密着手段と、前記転
写型を密着した状態で前記隔壁素材を硬化させ前記基板
上に固定する硬化手段と、前記転写型を剥離して前記基
板上に所定の形状の隔壁素材を残す剥離手段とから成る
密着転写装置において、前記転写型は基板の凹凸に追従
できる可撓性を有するシート状の型であることを特徴と
する密着転写装置。
【請求項１２】請求項１１記載の密着転写装置におい
て、前記密着手段は、前記転写型の一部を前記基板に密
着させ、隔壁長手方向と直角方向に線状の初期密着領域
を形成し、その後に隔壁長手方向と平行な方向に密着領
域を広げて行く手段であることを特徴とする密着転写装
置。
【請求項１３】請求項１１記載の密着転写装置におい
て、前記密着手段はローラによる加圧を適用する手段で
あることを特徴とする密着転写装置。
【請求項１４】請求項１１〜１３のいずれか記載の密着
転写装置において、前記密着手段は、前記密着の後から
前記硬化手段により前記隔壁素材を硬化させ前記基板上
に固定する間において、前記転写型と前記基板との密着
状態を確保する手段であることを特徴とする密着転写装
置。
【請求項１５】請求項１４記載の密着転写装置におい
て、前記密着状態の確保は、前記転写型の型形成面の反
対側面である背面を加圧する背面加圧により行われ、そ
の背面加圧において加圧偏差（背面の各位置における圧
力の偏差）を小さくする圧力拡散部材が適用されること
を特徴とする密着転写装置。
【請求項１６】請求項１５記載の密着転写装置におい
て、前記密着手段は、ベルトと、ローラと、、ローラ支
持体と、エアシリンダと、移動ステージとを有し、前記
ベルトは前記圧力拡散部材となる弾力性と可撓性を有す
るループベルトであり、前記ローラは平面に配列し回転
軸が互いに平行に複数が存在し、また前記ローラは前記
ベルトを走行可能に巻き付けるとともに平面に支持し、
前記ローラ支持体は前記複数のローラを回転自在に支持
し、前記エアシリンダは前記ローラ支持体に変位を伝達
することにより前記ベルトを前記転写型の背面に押し当
てる加圧位置とその背面から離れる退避位置とに変位
し、前記移動ステージは前記ローラ支持体を前記変位が
可能に支持するとともに前記転写型の隔壁長手方向と平
行方向に移動することを特徴とする密着転写装置。
【請求項１７】請求項１５記載の密着転写装置におい
て、前記密着手段は、バックアップローラと、ベルト
と、ローラ支持体と、密着ローラと、移動ステージと、
エアバックとを有し、前記バックアップローラは平面に
配列し回転軸が互いに平行に複数が存在し、前記ベルト
はループベルトであり前記バックアップローラに走行可
能に巻き付けられるとともに平面に支持され、前記ロー
ラ支持体は前記バックアップローラを回転自在に支持
し、前記密着ローラは前記ベルトに先行して前記転写型
を密着させ前記初期密着領域を形成するとともに前記エ
アバックの膨張領域を規制し、前記移動ステージは前記
ローラ支持体と密着ローラを支持するとともに前記転写
型の隔壁長手方向と平行方向に移動し、前記エアバック
は前記圧力拡散部材であって前記転写型の背面を被覆す
るように存在し、前記密着ローラの前方の非膨張領域に
おいては加圧せず、前記前記密着ローラの後方の膨張領
域においては加圧空気を導入して膨張し前記バックアッ
プローラに背後を支持されて前記転写型を加圧すること
を特徴とする密着転写装置。
【請求項１８】請求項１１〜１７のいずれか記載の密着
転写装置において、前記剥離手段は、前記転写型を反ら
せ隔壁長手方向と直角方向に線状の剥離境界を形成し、
さらに前記転写型を反らせながら隔壁長手方向と平行方
向に一方の端から他方の端へ、または、両端から中心部
に向けて前記剥離境界を移動して剥離する手段であるこ
とを特徴とする密着転写装置。
【請求項１９】請求項１８記載の密着転写装置におい
て、前記剥離手段は、剥離境界においてローラによる案
内を適用しながら剥離することを特徴とする密着転写装
置。