JP4748071B2 - セラミックス焼結体の製造方法 - Google Patents
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50%体積粒度分布径(D50)が0.54μmの酸化インジウムと0.28μmの酸化スズを、組成が酸化インジウム:酸化スズ=90:10(wt%)となるように混合し、16時間乾式ボールミル混合してITO混合粉末を作製した。得られたITO混合粉末をプレス成形した後、3ton/cm2の圧力でCIPを行うことにより、平板状のITO成形体(380mm×1050mm×10mmt)を合計10枚準備した。次に、アルミナ平板に、φ3mmのアルミナビーズを配置し、その上に100mm角のアルミナ平板36枚を20mmの間隔で4×9列に配置し焼成治具を準備し、その上に前記ITO成形体を1枚設置して、以下の条件で焼成を実施した。使用したアルミナ平板の平均表面粗さは0.03mmであった。
焼成雰囲気:酸素雰囲気
昇温速度:50℃/hr、焼成温度:1600℃、焼成時間:5hr
降温速度:100℃/hr
得られた焼結体(約310mm×865mm×8mmt)10枚全てに、割れやクラックは認められなかった。
焼成治具に用いるアルミナビーズの径をφ1mmに変更した以外は、実施例1と同様の方法で10枚のITO焼結体を焼成した。
焼成治具に用いるアルミナビーズの径をφ10mmに変更した以外は、実施例1と同様の方法で10枚のITO焼結体を焼成した。
酸化アルミニウム粉末(D50:0.45μm)と酸化亜鉛粉末(D50:0.78μm)を16時間乾式ボールミル混合しAZO混合粉末を作製した。得られたAZO混合粉末をプレス成形した後、3ton/cm2の圧力でCIPを行うことにより、平板状のAZO成形体(380mm×1050mm×10mmt)を合計10枚準備し、100mm角のジルコニア平板36枚を配置してその上に成形体を設置した以外は、実施例1と同様の焼成治具を用いて、以下の条件で焼成を実施した。
焼成雰囲気:大気雰囲気
昇温速度:50℃/hr、焼成温度:1400℃、焼成時間:5hr
降温速度:100℃/hr
得られた焼結体(約335mm×925mm×9mmt)10枚全てに、割れやクラックは認められなかった。
実施例1で用いた酸化インジウム粉末と実施例4で用いた酸化亜鉛粉末を16時間乾式ボールミル混合しIZO混合粉末を作製した。得られたIZO混合粉末をプレス成形した後、3ton/cm2の圧力でCIPを行うことにより、平板状のIZO成形体(380mm×1050mm×10mmt)を合計10枚準備し、実施例1と同様の焼成治具を用いて、以下の条件で焼成を実施した。
焼成雰囲気:大気雰囲気
昇温速度:50℃/hr、焼成温度:1300℃、焼成時間:5hr
降温速度:100℃/hr
得られた焼結体(約310mm×860mm×8mmt)10枚全てに、割れやクラックは認められなかった。
実施例1で使用したと同じITO混合粉末を、上下に密閉できる蓋があり、円柱状の中子(心棒)を有する円筒形状のウレタンゴム型に、タッピングさせながら充填し、ゴム型を密閉後、3ton/cm2の圧力でCIPを行ってITO成形体を得た後、この成形体を旋盤にて所定の形状に整形して中空円筒形状のITO成形体(内径:160mm、外径:197mm、長さ:275mm)を準備した。次に、アルミナ平板上に、φ3mmのアルミナビーズを配置し、その上に、図3にその平面図を示すように、台形状のアルミナ平板12枚を円周上に配置した焼成治具を準備し、その上に円筒形ITO成形体を立てて設置して、実施例1と同じ条件で焼成を実施した。
実施例4で使用したと同じAZO混合粉末を、上下に密閉できる蓋があり、円柱状の中子(心棒)を有する円筒形状のウレタンゴム型に、タッピングさせながら充填し、ゴム型を密閉後、3ton/cm2の圧力でCIPを行ってAZO成形体を得た後、この成形体を旋盤にて所定の形状に整形して中空円筒形状のAZO成形体(内径:160mm、外径:195mm、長さ:275mm)を準備し、実施例6と同様に、台形状のジルコニア平板12枚を円周上に配置した焼成治具を準備し、その上に円筒形AZO成形体を立てて設置して、実施例4と同じ条件で焼成を実施した。
成形体より一回り大きいアルミナ平板の上に直接成形体を設置した以外は、実施例1と同様の方法で10枚のITO成形体を焼成した。
3mmφのアルミナビーズの上に直接成形体を設置した以外は、実施例6と同様の方法で円筒形ITO成形体を焼成した。
2 摺動層
3 セラミックス部材
4 成形体
5 セラミックス丸棒
Claims (5)
- 原料粉末の成形体を焼成してセラミックス焼結体を製造する方法において、前記成形体の形状が中空円筒形状であり、平面を有する基体と、独立して移動可能な複数の部材からなる成形体支持体と、前記基体と前記成形体支持体との間に介在して両者の相対移動を妨げる力を低減する摺動層を有する焼成治具を用い、前記成形体を、前記複数の部材からなる成形体支持体に立てて設置して焼成を行なうことを特徴とするセラミックス焼結体の製造方法。
- 原料粉末の成形体を焼成してセラミックス焼結体を製造する方法において、前記成形体の形状が中空円筒形状であり、基体となるセラミックス平板上に摺動層を設置し、該摺動層の上に複数のセラミックス部材からなる成形体支持体を配置した3層構造からなる焼成治具を用い、該焼成治具の前記成形体支持体の上に、前記成形体を立てて設置して焼成を行なうことを特徴とするセラミックス焼結体の製造方法。
- 前記摺動層が、少なくとも1つの断面が円形であるセラミックス材から構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のセラミックス焼結体の製造方法。
- 摺動層を構成する前記セラミックス材の円形断面の直径が、0.5mm以上であることを特徴とする請求項3記載のセラミックス焼結体の製造方法。
- 摺動層を構成する前記セラミックス材が、球状セラミックスであることを特徴とする請求項3又は請求項4記載のセラミックス焼結体の製造方法。
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